JP4054306B2 - 化学的機械研磨装置用のスラリー分配装置および該スラリー分配装置を用いる方法 - Google Patents
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Description
別の態様では、本発明は、研磨される基板を保持する研磨ヘッドの直径と略同一の長さかまたは研磨ヘッドの直径より長い長さを有する分配装置と、研磨工程中、前記分配装置と研磨面との間に位置し研磨面に接触するとともに研磨面に対して分配装置を位置決めするようになっている少なくとも一つのスペーサを備え、前記分配装置は面取りされた前縁を備え、研磨工程中、研磨ヘッドと研磨面との間に相対運動があるとき、前記分配装置は薬液またはスラリーを混合し、薬液またはスラリーを分配装置と研磨面との間に均一に分配する薬液またはスラリー分配装置に関するものである。
(i)研磨面へのスラリーの均一な分配によって平坦化の均一性を向上させる。
(ii)研磨面へのスラリーの整えられた又は集中した分配によって、最初に平坦でない堆積層を有した基板の平坦化の均一性を向上させる。
(iii)研磨面へのスラリーの整えられた又は集中した分配によってスラリーの消耗(むだ使い)を少なくする。
(iv)基板に損傷を与えるおそれのある固体の研磨副生成物の蓄積又は堆積の減少又は除去によって歩留まりを向上させる。
Company)から得られるようなパッド内に埋め込まれた固定砥粒であってもよい。固定砥粒を有した研磨面110を備えたCMP装置100の実施形態においては、研磨工程の間、研磨面に供給される化学物質(砥液)は水でよい。
Claims (15)
- 基板の表面から材料を除去する研磨装置であって、
研磨面を有したプラテンと、
研磨工程中、基板を研磨面に対して保持するようになっている研磨ヘッドと、
研磨工程中、研磨ヘッドと研磨面との間に相対運動を与えるプラテンの駆動機構と、
薬液を研磨面に供給するようになっているノズルを有した供給装置と、
供給装置のノズルと研磨ヘッドとの間に位置する分配装置とを備え、
前記分配装置は面取りされた前縁を備え、
研磨工程中、研磨ヘッドと研磨面との間に相対運動があるとき、分配装置は薬液を混合し、薬液を基板の表面と研磨面との間に均一に供給することを特徴とする研磨装置。 - 前記薬液を供給するノズルを複数有することを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記分配装置は研磨面の平面に対して所定の角度を形成するように所定の方向を向いており、所定の角度は研磨面上で薬液を向け直すように選択されることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 研磨面の上方に前記分配装置を位置決めするアクチュエータをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記アクチュエータは、重力アクチュエータ、液圧アクチュエータ、空気圧アクチュエータおよび電磁アクチュエータからなる群から選択されるアクチュエータからなることを特徴とする請求項4に記載の研磨装置。
- 前記分配装置は研磨面の半径方向に対して所定の角度を形成するように所定の方向を向いており、前記所定の角度は研磨ヘッドの軌道上に薬液を均一に分配するように選択されていることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記分配装置は研磨面の半径方向に対して約2°から約20°の角度を形成していることを特徴とする請求項6に記載の研磨装置。
- 前記分配装置は少なくとも一つのスペーサをさらに備え、この少なくとも一つのスペーサは、前記分配装置と研磨面との間に位置し、研磨工程中、研磨面に接触するとともに研磨面に対して分配装置を位置決めするようになっていることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
- 前記少なくとも一つのスペーサは前記分配装置の下面と研磨面との間の間隙を調整する調整機構からなり、基板から材料を除去する除去速度が可変になっていることを特徴とする請求項8に記載の研磨装置。
- 基板の表面から材料を除去する研磨装置であって、
研磨面を有したプラテンと、
研磨工程中、基板を研磨面に対して保持するようになっている研磨ヘッドと、
研磨工程中、研磨ヘッドと研磨面との間に相対運動を与えるプラテンの駆動機構と、
薬液を研磨面に供給するようになっているノズルを有した供給装置と、
供給装置のノズルと研磨ヘッドとの間に位置し、研磨工程中、薬液を混合し、薬液を均一に研磨面に分配する分配装置と、
研磨ヘッドと分配装置の間に位置し、薬液が研磨ヘッドの下を通過した後に、使用済みの薬液および研磨副生成物を研磨面から取り除くためのワイパーとを備え、
前記分配装置は面取りされた前縁を備えていることを特徴とする研磨装置。 - 前記ワイパーは研磨面の半径方向に対して所定の角度を形成するように所定の方向を向いており、前記所定の角度は使用済みの薬液および研磨副生成物をプラテンの外縁から外側に導くように選択されており、使用済みの薬液および研磨副生成物は研磨面から取り除かれることを特徴とする請求項10に記載の研磨装置。
- 前記ワイパーは研磨面の半径方向に対して約5°から約30°の角度を形成していることを特徴とする請求項11に記載の研磨装置。
- 前記ワイパーは、使用済みの薬液と研磨副生成物を研磨面から取り除くための真空ポートをさらに備えることを特徴とする請求項10に記載の研磨装置。
- 洗浄流体を研磨面に供給するためにワイパーの前又は後に位置する洗浄流体供給装置を含み、それによって研磨副生成物の蓄積が実質的に防止されることを特徴とする請求項10に記載の研磨装置。
- 研磨される基板を保持する研磨ヘッドの直径と略同一の長さかまたは研磨ヘッドの直径より長い長さを有する分配装置と、
研磨工程中、前記分配装置と研磨面との間に位置し研磨面に接触するとともに研磨面に対して分配装置を位置決めするようになっている少なくとも一つのスペーサを備え、
前記分配装置は面取りされた前縁を備え、
研磨工程中、研磨ヘッドと研磨面との間に相対運動があるとき、前記分配装置は薬液またはスラリーを混合し、薬液またはスラリーを分配装置と研磨面との間に均一に分配することを特徴とする薬液またはスラリー分配装置。
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