JP4050971B2 - ダイアフラムを用いフィルタ機能を有するバルブ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばμTAS(Micro Total Analysis Systems)分野のような、チップ上で微量な試料を用いて化学分析や化学反応を行う際に、微量な試料の流れを制御するために用いられるバルブに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、微量流体を対象としたマイクロバルブについて、いくつかの研究グループにより開発が行われており、特に近年多くの発表がなされている。
ダイアフラムを用いたものとしては、シリコンゴム製のダイアフラム部を平らな面に押し当てて液体を完全に止める構造のもの(非特許文献1参照。)、シリコン製のダイアフラム部をシリコン製の台座に押し当てて液体を完全に止める構造のもの(非特許文献2参照。)等がある。
また、微小なボールを円形のシリコンの台座に押し当てて液体を完全に止める構造のもの(非特許文献3参照。)もある。
【0003】
【非特許文献1】
Micro Total Analysis Systems 2000, pp.335-338
【非特許文献2】
Transducers '01, pp.924-927
【非特許文献3】
Micro Total Analysis Systems '98, pp.399-402
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来開発されてきたバルブは試料流体を完全に止めてしまうことを目的に設計されている。例えば細胞を含んだ試料流体を扱う場合、細胞周囲の培養液は絶えず置換することが好ましいが、従来のバルブを用いた場合バルブを閉じた状態では培養液の置換は行われず、細胞の活動に悪影響を及ぼしてしまう。
【0005】
そこで、本発明は開いたときには試料流体全体を流し、閉じたときには試料流体のうち細胞のような所定以上の大きさをもった固形物を止め培養液のような液体は常に流すことができるバルブを提供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明のバルブは流体の流入口と流出口をもつバルブキャビティと、前記バルブキャビティの内壁に対し離されるか押し当てられるかにより前記流入口と流出口間の開閉を行うダイアフラムと、前記バルブキャビティの内壁に設けられて前記流入口と流出口間を接続するとともに、少なくとも一部の断面形状が所定の大きさ以下となっており、前記ダイアフラムが前記バルブキャビティの内壁に押し当てられた閉状態においても前記ダイアフラムによって閉じられることのない溝とを備えている。
【0007】
溝の断面形状を規定する所定の大きさとは、扱う流体に含まれる固体物質で、このバルブにより通過させるか否かを制御しようとする固体物質の大きさにより定まる大きさのことである。また溝の断面とは溝を流れる流体の流れ方向に対して直交する方向での断面を指している。
【0008】
【作用】
ダイアフラムがバルブキャビティの内壁から離された開状態においては、流体は流入口からバルブキャビティに入リ、流出口から出て流れていく。
一方、ダイアフラムがバルブキャビティの内壁に押し当てられた閉状態においては、前記溝の断面形状以上の大きさの物質はバルブキャビティを通過できないが、溝の断面形状より小さな物質はバルブキャビティを通過する。
このように、ダイアフラムにより溝の断面形状以上の大きさの物質のみの通過を制御し、溝の断面形状より小さな物質は常に通過される機能を、本発明ではフィルタ機能と呼ぶ。
【0009】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の主要部を示したものであり、(A)は斜視図、(B)はそのA−A線位置での断面図、(C)はそのB−B線位置での断面図である。
2はバルブキャビティであり、基台4に凹部として形成されている。バルブキャビティ2の互いに離れた位置には流体の流入口6と流出口8が形成されている。バルブキャビティ2の上部開口部を被ってダイアフラム10が設けられており、ダイアフラム10はバルブキャビティ2の内壁に対し離されるか押し当てられるかにより流入口6と流出口8間の開閉を行う。
【0010】
バルブキャビティ2の内壁には流入口6と流出口8間を接続するとともに、少なくとも一部の断面形状が所定の大きさ以下となっており、ダイアフラム10がバルブキャビティ2の内壁に押し当てられた閉状態においてもダイアフラム10によって閉じられることのない溝12が設けられている。
【0011】
図2はこのバルブにより流体14を流すときの状態を示したものであり、(A)はバルブが“開”の状態、(B)はバルブが“閉”の状態を表している。いずれの状態も図1(A)におけるA−A線位置での断面図とB−B線位置での断面図により示されている。
【0012】
流体14は細胞を含む培養液のように液16に固体18を分散させたものであり、その固体18の大きさは溝12の最も狭い部分の断面形状より大きい。
バルブが“開”の状態(A)では、固体18を含む流体14全体が流れる。一方、バルブが“閉”の状態(B)では、ダイアフラム10がバルブキャビティ2の内壁に押し当てられているが、溝12は閉じられてはいない。そのため、溝12の断面形状よりも大きな固体18はせき止められるが、液16は流れ続けるため、流体14が細胞溶液の場合には細胞の流れを止めるが培養液は置換し続けることができる。
【0013】
バルブが“閉”の状態での液の流れを多くするためには、溝12は複数本が並列に設けられていることが好ましい。
このバルブの1つの好ましい用途は、細胞を含む培養液を扱うバルブであって、溝12の最も狭い部分の断面形状がその培養液に含まれる細胞より小さく設定されているものである。
【0014】
【実施例】
以下に、本発明を実施例に基づいてさらに具体的に説明する。
図3(A)は培養液に細胞を分散させた細胞溶液を流すために使用する一実施例のバルブの斜視図、(B)はそのA−A線位置での断面図、(C)はそのB−B線位置での断面図である。
【0015】
基台は上部基板20と下部基板22を張り合わせた構造になっており、上部基板20にはバルブキャビティ2となる貫通穴が形成されており、下部基板22には溝12と、その溝12の両端の貫通穴6,8が形成されている。溝12は中央部の培養液通過流路12aと両端部の試料流路12bとからなっており、液の流通方向に対して直交する方向の断面形状は、試料流路12bでは大きく、培養液通過流路12aではそれより小さく、細胞の大きさよりも小さく設定されている。試料流路12bは幅が10μm〜1000μm、深さが10μm〜1000μm、培養液通過流路12aは幅が1μm〜20μm、深さが0.1μm〜5μmである。培養液通過流路12aは複数本に分岐して並列に設けられており、バルブキャビティ2内に位置している。貫通穴6,8はバルブキャビティ2の外側に位置して一方が試料流入口、他方が試料流出口となる。
【0016】
上部基板20にはバルブキャビティ2の上部開口を閉じるようにテフロン(商標)製のダイアフラム10が取りつけられている。ダイアフラム10はアクチュエータ(図示略)により駆動されて、バルブキャビティ2の底面に押しつけらて閉じた状態にされたり、図示のようにバルブキャビティ2の底面から離されて開の状態にされたりすることができる。
【0017】
次に、図4〜図6により本発明のバルブの製造方法の一例について説明する。図4は上部基板20の加工工程、図5は下部基板22の加工工程、図6はバルブの組立て工程をそれぞれ示している。図4〜図6の(a)〜(i)は図3中のB−B線位置での断面図として表したものであり、(f')と(g')は図3中のA−A線位置での断面図として表したものである。上部基板20と下部基板22の加工には、半導体製造で一般的に用いられている方法を使用する。
【0018】
上部基板20の加工について図4に基づいて説明する。
(a,b)下部基板となる石英ガラス基板20の表面にシリコン膜30をスパッタ成膜により成膜する。
【0019】
(c)シリコン膜30上にフォトリソグラフイによりバルブキャビティ用のレジストパターン32を形成し、そのレジストパターン32をマスクとしてRIE(Reactive Ion Etching)によりシリコン膜30をエッチングしてパターニングする。
【0020】
(d)シリコン膜30をマスクとして石英ガラス基板20をエッチングしバルブキャビティ2を形成する。石英ガラス基板20のエッチングには、例えば50%のフッ酸溶液を用いて等方的にウエットエッチングする。
(e)その後、フォトレジスト32とシリコン膜30を除去する。シリコン膜の除去には、例えば90℃に加熱した25%TMAH(tetra methyl ammonium hydroxide:テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド)溶液を用いる。
【0021】
下部基板22の加工について図5に基づいて説明する。
(a,b)上部基板となる石英ガラス基板22の表面にシリコン膜40をスパッタ成膜により成膜する。
(c)シリコン膜40上にフォトリソグラフイにより試料流路となる溝用のレジストパターン42を形成し、そのレジストパターン42をマスクとしてRIEによりシリコン膜40をエッチングしてパターニングする。
【0022】
(d)シリコン膜40をマスクとして石英ガラス基板22を例えば50%のフッ酸溶液を用いてエッチングし、試料流路12bを形成する。
(e)一旦フォトレジスト42とシリコン膜40を除去した後、再度シリコン膜44をスパッタ法により成膜し、その上にフォトレジスト46を塗布する。
【0023】
(f)フォトレジスト46にフォトリソグラフイにより培養液通過流路となる細い溝用のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとしてRIEによりシリコン膜44をエッチングしてパターニングする。(f')はパターンを示すために、図3中のA−A線位置での断面図として表している。
【0024】
(g')シリコン膜44をマスクとして石英ガラス基板22をエッチングして培養液通過流路12aを形成する。
このときのエッチング深さ、及び細溝パターン幅によってせき止める物質の大きさを制御することができる。
【0025】
(h)フォトレジスト46とシリコン膜44を除去する。
(i)溝12a,12b側を上面側として、超音波加工により石英ガラス基板22の下面から試料流路12bの端部位置に貫通穴6,8を形成することにより下部基板22が完成する。
【0026】
上部基板20と下部基板22を接合してバルブとする工程を図6に示す。
(a)上部基板20と下部基板22を位置合わせし、接合する。
位置合わせは基板20,22の外形であわせてもよいし、あらかじめ両基板20,22に位置合わせ用の目印をいれておいてもよい。
【0027】
接合には、例えば希フッ酸を用いた接合法(フッ酸接合法)を用いることができる。フッ酸接合法では、例えば1%のフッ酸水溶液を接合しようとする両基板20,22の界面に介在させ、必要に応じて1MPa程度の荷重を印加しつつ、室温で24時間程度放置する。
【0028】
(b)接合した基板20,22の下部基板22の下面に保護テープ52を貼りつける。続いて上部基板20側からバルブキャビティ2内に犠牲層50となるフォトレジスト又はワックスを滴下する。
【0029】
(c)犠牲層50が固化するのを待って、フッ素アモルファス樹脂(CYTOP、旭硝子株式会社製)をスピンコートする。その後ホットプレート上で加熱しフッ素アモルファス樹脂を乾燥させてダイアフラム10とする。ここでの加熱の条件は120℃、1時間である。
【0030】
次に、保護テープ52を剥がし、犠牲層50を除去する。犠牲層50の除去には、例えば犠牲層50としてフォトレジストを用いた場合はアセトン等の有機溶媒、犠牲層50としてワックスを用いた場合は専用の除去液等を用いる。
以上の工程で本発明のバルブが完成する。
【0031】
本実施例では、上部基板20のバルブキャビティ2を上部基板20の貫通穴加工により作製しているので、バルブキャビティ2の深さは上部基板20の厚みと等しくなる。
【0032】
しかし、バルブキャビティを上部基板20が貫通しない深さの底をもつ凹部として形成することにより、バルブキャビティの深さを上部基板20の厚みよりも浅く形成することも可能である。その場合、試料流入口、試料流出口からバルブキャビティに通じる貫通穴は上部基板下面より貫通穴加工を行うことにより形成することができ、バルブキャビティ内壁の溝はバルブキャビティの形成とは別のエッチング工程により形成することができる。そのような貫通穴加工は、例えばスパッタ成膜したアルミニウム膜をマスクとしてICP−RIE(誘導結合プラズマRIE)によって行うことができる。
【0033】
また、本実施例のバルブのダイアフラムの駆動には、空気圧や外部アクチュエータを用いる。しかし駆動カはこれらに限らたものではなく、例えばバルブキャビティの底面及びダイアフラム上面に電極を形成し、静電気カによってダイアフラムを駆動させてもよい。
【0034】
【発明の効果】
本発明のバルブでは、ダイアフラムにより開閉されるバルブキャビティの内壁に少なくとも一部の断面形状が所定の大きさ以下で、ダイアフラムがバルブキャビティの内壁に押し当てられた閉状態においてもダイアフラムによって閉じられることのない溝を形成したので、バルブが閉じた状態でも一定の大きさ以下の物質が通過できるため、例えば、細胞を含む培養液を扱う場合、細胞の流れを止め、かつ培養液の置換を行うことが可能になる。
また、扱う物質の大きさに応じて溝の大きさや形状を最適化することにより、物質の振り分け等のフィルタリングが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の主要部を示したものであり、(A)は斜視図、(B)はそのA−A線位置での断面図、(C)はそのB−B線位置での断面図である。
【図2】本発明のバルブにより流体を流すときの状態を示したものであり、(A)はバルブ開の状態、(B)はバルブ閉の状態を表す断面図であり、図1(A)におけるA−A線位置での断面図とB−B線位置での断面図である。
【図3】(A)は培養液に細胞を分散させた細胞溶液を流すために使用する一実施例のバルブの斜視図、(B)はそのA−A線位置での断面図、(C)はそのB−B線位置での断面図である。
【図4】上部基板の加工工程を示す工程断面図である。
【図5】下部基板の加工工程
【図6】 バルブの組立て工程を示す工程断面図である。
【符号の説明】
2 バルブキャビティ
4 基台
6 液流入口
8 液流出口
10 ダイアフラム
12 溝
12a 培養液通過流路
12b 試料流路
14 流体
16 液
18 固体
20 上部基板
22 下部基板
Claims (3)
- 固体物質を分散させた溶液を扱うチップにおけるマイクロバルブであって、
流体の流入口と流出口をもつバルブキャビティと、
前記バルブキャビティの内壁に対し離されるか押し当てられるかにより前記流入口と流出口間の開閉を行うダイアフラムと、
前記バルブキャビティの内壁に設けられて前記流入口と流出口間を接続するとともに、少なくとも一部の断面形状が前記固体物質よりも小さくなっており、前記ダイアフラムが前記バルブキャビティの内壁に押し当てられた閉状態においても前記ダイアフラムによって閉じられることのない溝とを備えたことを特徴とするマイクロバルブ。 - 前記溝は複数本が並列に設けられている請求項1に記載のマイクロバルブ。
- 前記溶液は細胞を含む培養液であって、前記溝の断面形状がその培養液に含まれる細胞より小さく設定されている請求項1又は2に記載のマイクロバルブ。
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