JP4050166B2 - マイクロ接点機構及びテストフィクスチャ - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子素子を伝送基板等の回路に接続するために用いられるマイクロ接点機構及び該マイクロ接点機構を用いたテストフィクスチャに係り、特に高周波デバイスに必要とされる整合部品と共に測定するためのテストフィクスチャに関する。
【0002】
【従来の技術】
実装技術の進展に伴い、IC素子は、ベアチップの状態、あるいはベアチップにおける回路部分が簡易パッケージ化された状態で、セラミック基板に多層配線される傾向にある。
【0003】
特に、システムLSI素子や超高周波用IC素子は、動作周波数や取り扱う周波数が高くなるにつれ、従来のセラミックパッケージに封入した状態では所定レベルの性能を確保することが困難なため、ベアチップ状、あるいは簡易樹脂パッケージ化された状態で用いられる。
【0004】
したがって、IC素子の性能評価を行う場合にも、このようなベアチップ状あるいは簡易樹脂パッケージ化された状態のIC素子に対する性能評価が必要となる。
【0005】
図17は、従来の一般的なIC素子を例示する外観斜視図である。このIC素子100は側面部から入出力用電極パッド(以下、「パッド」という)100aが引き出されている。
【0006】
図18は、このようなIC素子1の性能評価に利用する既存のコンタクトエレメントを例示する断面図であり、特許文献1にて開示されたものである。
【0007】
このコンタクトエレメント102は、基板105上に配置されるシートの孔内に設けられた屈曲した部材で、DUT(デバイスアンダーテスト:テスト用素子)103のパッド103aの位置に対応して設置される。
【0008】
コンタクトエレメント102は、一端側がDUT103のパッド103aと接触した場合に下方に押され、他端側が基板105のフットパターン105aと接触し、この他端側に設けたゴム104の作用で一端側の接触が確保される。
【0009】
これにより、DUT103のパッド103aと基板105のフットパターン105aとの間で電気信号の入出力が可能になり、DUT103の性能試験が行われる。
【0010】
また、コンタクトエレメント102がパッド103aによって下方に押し込まれて揺動することにより、DUT103のパッド103aとこのDUT103の他のパッドとの間の高さのばらつきが補正され、接触が確保される。
【0011】
図19は、図17に示したようなIC素子1を電子回路に接続させるためのソケットを示すものであり、特許文献2にて開示されたものである。
【0012】
このソケット200は、電子回路テスタにおいて、テストされるデバイス202と、テスタの固定ボードに組み込まれたテスト対象デバイス(DUT)ボード206とを接続するためのものである。
【0013】
ソケット200の絶縁性のハウジング208は、少なくとも1つの長手方向のスロット210A,210Bと2つの横断チャネル214,216を有する。各チャネル214,216には、スロット210A,210Bの幅の広がりを有する弾性部材218,220と、スロット内210A,210Bに配置され、弾性部材218,220とDUTボード206との間に挟まれた導電性接触フレーム222と、スライドした際に接触フレーム222と接触する導電性接点224が配置される。
【0014】
前記導電性接点224は、デバイス202のリード204Aに押されて導電性接触フレーム222に沿ってスライドすると弾性部材220と当接し、リード204Aとの当接部分に機械的なバイアスが加えられる。よって、デバイス202は導電性接点224と接触フレーム222を介してDUTボード206と接続される。このソケットは接続の繰り返し性と、電子回路テスタを用いた測定の正確度を向上させる。
【0015】
【特許文献1】
特開平11−162605号公報
【特許文献2】
特開平8−233900号公報
【0016】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年では、実装技術の進展により、IC素子で用いられる周波数は高くなり、IC素子の備えるパッドの数は増加し、パッドのサイズは小さくなり、各パッドの間隔は狭くなる傾向にあり、これに伴ってIC素子の形態も変化している。
【0017】
図20は、パッドを周状に配置したIC素子を例示する下方斜視図であり、平面短冊状のパッド300aがIC素子300の表面(ここでは下面)に周状に配置されている。
【0018】
なお、このIC素子300においても、その底面は必ずしも精密な平坦面ではなく、若干の反りがあるため、めっきで形成する格子状に並んだ複数の前記パッドの高さにはばらつきが生じる。このため、各パッド300a,300a間の高さは一定とは限らず、IC素子300の性能試験を行う場合には各パッド300a,300a間の高さのばらつきを補正する必要がある。
【0019】
図20に示したIC素子300のように、限られた面積の底面に複数のパッド300aを周状に配置するためには、各パッドの大きさを小さくし、その配置を密にしなければならない。そして、このIC素子の底面は必ずしも精密な平坦面ではなく、若干の反りがあるため、めっきで形成する周状に並んだ複数のパッドの高さには、前述したようにばらつきが生じる。
【0020】
図18に示したようなIC素子103に押されて揺動する構造のコンタクトエレメント102には、次のような解決すべき課題があった。
1.基板105のフットパターン105aと摺動を繰り返すため、接点のゴム104の寿命が短く、またフットパターン105aが摩耗した場合には基板105の総てを交換する必要がある。
2.基板105のフットパターン105aとの接触を繰返すため、安定した接触の寿命が短い。
3.ストロークは比較的大きく取れるが、コンタクトエレメント102が基板105に近い下側にある為十分ではない。
4.押圧がゴム104を用いているため細かな接圧設定ができない。
【0021】
また、図19に示したようなソケット200には、次のような解決すべき課題があった。
1.摺動量(すなわちストローク量)が大きく、構成部品の摩耗が多い。
2.スライド構造であり、内部での2点接触構造なので、接触が安定せず、ばらつきの要因となる。
3.デバイス202に押された導電性接点224はほぼ直進運動する為、狭い範囲では大きなストロークが取れない。取ろうとすると全体の寸法が更に大きくなり、基板との距離が長くなる。
4.デバイス端子204Aから基板までの長さが長い。
5.押圧が弾性部材218,220を用いているため細かな接圧設定ができない。
6.接点内部構造が多くの部品を用いた複雑でインピーダンス整合ができない。
【0022】
また、このソケット200では、ハウジング208内に2つの弾性部材218,220と、導電性接触フレーム222及び導電性接点224を設け、導電性接点224が導電性接触フレーム222に対してスライドするという多数の部品を複雑に組み立ててなる大掛かりな構造としたので、その全長は例えば1mm以下にできないなど、かなり大きくなり、図20に示したIC素子300のように、限られた面積の底面に並んだ複数のパッド300aのピッチの狭小化に対応できないという問題があった。また、このように小型化に対応できない構造では特に高周波デバイスを測定対象とする場合に測定時の高周波特性に好ましからぬ影響を与えるおそれがあった。
【0023】
さらに、このソケット200では、ハウジング208内の導電性接触フレーム222に沿って導電性接点224がスライドする構成なので、その移動量はさほど大きくとれず、デバイス202のリード204Aの位置のばらつきに対応しにくいという問題もあった。
【0024】
本発明は、小型にもかかわらず十分なストロークが取れ、小型・狭ピッチの電子素子の電極に確実に接触することができ、また、電子素子の電極から伝送基板上の導体パターンまでのインピーダンスが50Ωに整合され、かつ電子素子の電極から伝送基板上の導体パターンまでの距離をできる限り短くできる、長寿命のマイクロ接点機構および該マイクロ接点機構を用いたテストフィクスチャを提供することを目的とする。
【0025】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載されたマイクロ接点機構は、電子素子2の端子11,11a,11bに接触する接点部材50,50a,50b,55と、前記接点部材に接触するとともに前記電子素子2を試験するための伝送基板8,9の導体パターン7に接続される保持部材30,30aと、前記接点部材50,50a,50b,55を前記電子素子2に向けて弾性的に付勢する接圧補助手段60,65と、前記接点部材50,50a,50b,55、保持部材30,30a、接圧補助手段60,65を所定の位置関係に保持するためのホルダ10,80とからなり、前記電子素子2と前記伝送基板8,9とを電気的に接続するマイクロ接点機構であって、前記接点部材50,50a,50b,55と前記保持部材30,30aとが接触する支点Fと、前記接点部材50,50a,50b,55と前記電子素子2の端子11,11a,11bが接触する作用点Aとの略中間位置に、前記接圧補助手段60,65と前記接点部材50,50a,50b,55が接触する力点Eを配置することにより、前記電子素子2を前記接点部材50,50a,50b,55に押し付けた場合に前記接圧補助手段60,65の付勢力によりテコの原理が働き前記接点部材50,50a,50b,55が前記支点Fを中心に保持部材30,30aとの接触を維持しながら回動しかつ前記作用点Aを前記端子11,11a,11bに接触させるマイクロ接点機構において、
前記ホルダ10,80を金属製とし、前記ホルダ10,80に格納空間24,24aを形成し、前記保持部材30,30aに取り付けた絶縁性の装着部材40,70を前記格納空間24,24aに装着することによって前記保持部材30,30aと前記接点部材50,50a,50b,55を前記ホルダ10,80から絶縁して前記格納空間24,24aに取り付けることを特徴としている。
【0027】
請求項2に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1記載のマイクロ接点機構において、前記保持部材30,30aを挟んで前記保持部材30,30aの両面に取り付けられた一対の前記装着部材40,70と前記保持部材30,30aと前記接点部材50,50a,50b,55の組を、前記電子素子2の端子11,11a,11bの数に合わせて前記ホルダ10,80の一つの格納空間24,24a内に複数組取り付けることを特徴とする。
【0028】
請求項3に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1記載のマイクロ接点機構において、前記保持部材30を挟んで前記保持部材30の両面に取り付けられた一対の前記装着部材70,70と前記保持部材30と前記接点部材55の一つの組を、前記ホルダ80の格納空間24a内に取付け、前記電子素子2の端子11の数に合わせて前記ホルダ80の格納空間24aを独立して複数設けたことを特徴とする。
【0029】
請求項4に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1記載のマイクロ接点機構において、一つの前記装着部材70を前記保持部材30の片面に取り付けたことを特徴とする。
【0030】
請求項5に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1〜3に記載のマイクロ接点機構において、前記保持部材30,30aを挟んで前記保持部材30,30aの両面に取り付けられた前記装着部材40,70が一体構造であることを特徴とする。
【0031】
請求項6に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1〜5に記載のマイクロ接点機構において、前記電子素子2の端子11,11a,11bから前記伝送基板8,9の導体パターン7までの特性インピーダンスの整合がとれるように絶縁性の前記装着部材40,70の厚さを設定したことを特徴とする。
【0032】
請求項7に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1〜6に記載のマイクロ接点機構において、接圧補助手段がゴム60であることを特徴とする。
【0033】
請求項8に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1〜6に記載のマイクロ接点機構において、前記接圧補助手段65はコイルばね62と、接点部材50,50a,50b,55とコイルばね62とを絶縁するための絶縁キャップ64とを有していることを特徴とする。
【0034】
請求項9に記載されたマイクロ接点機構は、請求項1〜8に記載のマイクロ接点機構において、前記格納空間24,24a内に挿入した弾性固定部材61で前記保持部材30,30aを前記伝送基板8,9の前記導体パターン7に押圧保持することにより前記保持部材30,30aを前記伝送基板8,9の前記導体パターン7に接続させることを特徴とする。
【0035】
請求項11に記載されたテストフィクスチャは、複数の端子11,11a,11bを有する電子素子2の試験を行なうためのテストフィクスチャにおいて、
複数本の導体パターン7が形成された伝送基板8,9と、
少なくともその一部が前記伝送基板8,9の上に配置され、前記一部には前記導体パターン7の先端近傍で上下に貫通した格納空間24,24aが形成されたホルダ10,80と、
前記ホルダ10,80の格納空間24,24a内に1もしくは複数個配置され、前記伝送基板8,9の各導体パターン7に接続される一端部32と、該一端部32と一体に設けられた他端部34とを有する保持部材30,30aと、
前記ホルダ10,80の格納空間24,24a内に1もしくは複数個配置され、前記各保持部材30,30aの他端部34に係合する基部51と、該基部51と一体に設けられて前記電子素子2の各端子11,11a,11bに接触する接点部52とを有する接点部材50,50a,50b,55と、
前記接点部材50,50a,50b,55に関して前記電子素子2と反対の側に設けられて前記各接点部材50,50a,50b,55を前記電子素子2に向けて付勢する1もしくは複数個の接圧補助手段60,65と、
を有し、
前記保持部材30,30aの他端部34と前記接点部材50,50a,50b,55の基部51とが接触する支点Fと、前記接点部材50,50a,50b,55の接点部52と前記電子素子2の端子11,11a,11bが接触する作用点Aとの略中間位置に、前記接圧補助手段60,65と前記接点部材50,50a,50b,55が接触する力点Eを配置することにより、
前記電子素子2の各端子11,11a,11bを前記各接点部材50,50a,50b,55の接点部52に押し付けた場合に前記接圧補助手段60,65の付勢力によりテコの原理が働き前記各接点部材50,50a,50b,55が前記各支点Fを中心に各保持部材30,30aとの接触を維持しながら回動して前記各作用点Aを前記各端子11,11a,11bに接触させ、前記伝送基板8,9の各導体パターン7が前記電子素子2の各端子11,11a,11bに接続されるテストフィクスチャにおいて、
前記ホルダ10,80を金属製とし、前記保持部材30,30aに取り付けた絶縁性の装着部材40,70を前記格納空間24,24aに装着することによって前記保持部材30,30aと前記接点部材50,50a,50b,55を前記ホルダ10,80から絶縁して前記格納空間24,24aに取り付けることを特徴とする。
【0036】
また、別の発明のマイクロ接点機構は、電子素子の端子に接触する接点部材と、前記接点部材に接触するとともに前記電子素子を試験するための伝送基板の導体パターンに接続される保持部材と、前記接点部材を前記電子素子に向けて弾性的に付勢する接圧補助手段と、前記接点部材、保持部材、接圧補助手段を所定の位置関係に保持するためのホルダとから成り、前記電子素子の端子と前記伝送基板の導電パターンとを前記接点部材および前記保持部材を経由して電気的に接続するマイクロ接点機構であって、
前記保持部材は、所定長さを有する板状部材にして一端側に導電パターン接続部、他端側に係合部を有し、前記接点部材は、略U状部材にしてU状の一方の立ち上がり部に前記保持部材の係合部に係合する摺動部、U状の底部に基部、U状の他方の立ち上がり部に接点部を有し、前記接圧補助手段は、前記接点部材の基部であって、前記接点部材のU状の立ち上がり部の立ち上がり方向と反対方向の面で接しており、前記接点部材の摺動部と前記保持部材の係合部とが摺動自在に係合して電気的に接触する支点と、前記接点部材の接点部と前記電子素子の端子が接触する作用点との略中間位置に、前記接圧補助手段と前記接点部材の基部が接触する力点を配置することにより、前記電子素子の端子を前記接点部材の接点部に押し付けた場合に前記接圧補助手段の付勢力により前記支点、前記作用点、前記力点においてテコの原理が働き、前記接点部材の摺動部が前記支点を中心に前記保持部材の係合部と電気的に接触を維持しながら回動し且つ前記作用点を前記電子素子の端子に接触させることを特徴とする。
【0037】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態の第1の例を図1〜図5を参照して説明する。
本例のテストフィクスチャ1は、電子素子2の検査・測定等を行なうための手段と当該電子素子2とを接続するための装置である。図1及び図2に示すように、基台3に設けたブロック4には、その対向する一対の側面に、測定信号が入力される入力コネクタ5と、電子素子2からの出力信号を出力する出力コネクタ6がそれぞれ設けられている。ブロック4の上面には、入力コネクタ5に接続された導電パターン7を有する第1の伝送基板8が設けられている。また、ブロック4の上面には、この第1の伝送基板8と間隔をおいて第2の伝送基板9が設けられている。第2の伝送基板9の導電パターン7は、前記出力コネクタ6に接続されている。第1及び第2の伝送基板8,9の間には、各伝送基板8,9の各導電パターン7,7に接続される一対のマイクロ接点機構20,20を有するホルダ10が設けられている。このホルダ10の上には、測定すべき電子素子2が載置される。この電子素子2の入力端子は入力コネクタ5側のマイクロ接点機構20に接続され、出力端子は出力コネクタ6側のマイクロ接点機構20に接続され、これによって電子素子2には所要の測定信号が入力され、電子素子2からの出力信号は所要の測定装置に送られて電子素子2の特性が測定・判断される。このように、本例のテストフィクスチャ1は、入力端子と出力端子の2端子のみを有する電子素子2を対象としているので、一対のマイクロ接点機構20,20が設けられている。
【0038】
図3及び図4を参照して前記テストフィクスチャ1におけるマイクロ接点機構20の詳細を説明する。ここでは、一対のマイクロ接点機構20,20の一方のみを説明し、他方は対象形状・構造であるから説明を省略する。
【0039】
ブロック4の上面には、入力側の伝送基板8が設けられている。その上面には導電パターン7が形成されている。導電パターン7の一端は前記入力コネクタ5に接続され、他端にはマイクロ接点機構20が設けられている。このマイクロ接点機構20はホルダ10を基体としているが、この基体は、伝送基板8の導電パターン7の他端と、図3には示さない出力側の伝送基板9の導電パターン7の他端とを覆う金属等の導電材料からなる略矩形板状の部材である。
【0040】
ホルダ10は、入力側の伝送基板8と出力側の伝送基板9の間に入る矩形の中央部21と、伝送基板8の導電パターン7の他端に掛かる一対の縁部22と、縁部22の外縁に沿って設けられた凸板部23とを有する。縁部22の中の導電パターン7の他端に相当する部分には格納空間24が形成されている。格納空間24はエンドミルで形成することができ、その場合には図示のようにエンドミルの半円形の刃形が残る場合がある。格納空間24はホルダ10の上下面を貫通しており、従ってその底部には伝送基板8の導電パターン7が露見している。また、格納空間24は、凸板部23に形成された貫通孔25を介して後方に開口している。
【0041】
ホルダ10の格納空間24内には伝送基板8の導体パターン7に接続される絶縁性の保持部材30が設けられている。保持部材30は、図3に示すように全体としてクランク形を呈しており、前記伝送基板8の導体パターン7に接続される一対の突起31,31が設けられた棒板状の一端部32と、該一端部32から垂直な立ち上げ部33と、立ち上げ部34に一体に形成された棒板状の他端部34とを有している。他端部34の先端の下側には略円弧状の凹部35が形成されている。保持部材30は、絶縁性の材料で構成して表面を導電性材料で被覆してもよいし、全体を導電性材料で構成しても良い。
【0042】
前記保持部材30を挟むように、前記保持部材30の両側面には一対の絶縁性の装着部材40が取り付けられている。本例の装着部材40はセラミックよりなり、下縁に溝41が開口形成された略コ字状である。装着部材40は保持部材30の立ち上げ部33と他端部34近傍に対応する計3箇所の各部分に金メッキ等を設け、これを熱拡散で保持部材30と一体化することにより固定している。
【0043】
ホルダ10の格納空間24内において、保持部材30とこれを挟む一対の装着部材40,40との間には、接点部材50が設けられている。接点部材50は、前記保持部材30の他端部34の先端に係合する基部51と、該基部51と一体に設けられて電子素子2の各端子に接触する接点部52とを有している。接点部材50の基部51には、保持部材30の他端部34の凹部35に合わせた略円弧状の凸部53が形成されている。接点部材50の基部51と、保持部材30の他端部34とは、その円筒状の凹部35と凸部53が互いに係合し、電気的に十分な接触を保ちながら円滑に回動することができる。
【0044】
ホルダ10の格納空間24内において、前記接点部材50と伝送基板8の間には、接圧補助手段としてのゴム60が設けられている。ゴム60は負荷がなく変形していない場合には断面丸型の棒状 (円柱形)であり、装着部材40の溝41に係合して取り付けられている。
【0045】
ホルダ10の後端に開口した貫通孔25には、ゴムからなる弾性固定部材61が挿入されている。前記保持部材30は、弾性固定部材61によって格納空間24内に保持されると同時に伝送基板8の導体パターン7に接続した状態で固定されている。
【0046】
以上の構成によれば、保持部材30と接点部材50は、これらを挟んで設けられる一対の装着部材40,40が仕切り板となり、金属製の前記ホルダ10から絶縁されて格納空間24に取り付けられる。そして、図5に示すように、保持部材30の他端部34と接点部材50の基部51とが接触する点を支点Fとし、接点部材50の接点部52とホルダ10の中央部21に下向きに載置される電子素子2の端子が接触する点を作用点Aとし、接圧補助手段であるゴム60が接点部材50に接触する点を力点Eと考えれば、支点Fと作用点Aとの間に力点Eが配置される位置関係になる。即ち、支点Fと作用点Aの距離L1は、支点Fと力点Eの距離L2よりも長い。従って、てこの原理により、電子素子2をホルダ10の中央部21に下向きに載置し、電子素子2に力を加えて下方に押え、その端子11を接点部材50に押し付けた場合には、接点部材50は支点Fを中心に下方に回動してゴム60による反対方向の付勢力を受けるので、接点部材50は電子素子2の端子11に確実に接触することとなる。
【0047】
このように、本例では保持部材30に対して接点部材50が支点Fを中心に回動するので、コンパクトな構成でありながら、接点部材がスライド形式で移動する構造の場合に比べて接点部52の移動範囲が大きくとれ、小型でありながら十分なストロークが実現できる。従って、実装技術の進展に伴う電子素子の小型化にも十分対応できる。また、支点Fにおける周状の凹凸による摺動構造によれば電気的接触も安定しており、測定再現性が良い。さらに、その全長を例えば1mm以下等にできるなど、接点がスライド形式のものに比べてかなり小さく製作することができるので、図13に示したIC素子300のように、限られた面積の底面に並んだ複数の端子(パッド)300aのピッチの狭小化にも十分に対応できる。また、このように小型化に対応できる構造であり、接点部材50と保持部材30の寸法が、電子素子2の高周波特性の測定値になるべく影響を与えないようにするために測定周波数の1/4波長に対して十分に小さく設定されているので、特に高周波デバイスを測定対象とする場合に測定時の高周波特性が良好であるという利点もある。
【0048】
このように、本例のマイクロ接点装置を備えたテストフィクスチャ1によれば、電子素子2の端子11 (パッド)との接触において十分なストロークを得られるため確実な電気的接触を確保しつつ端子の高さのばらつきを適正に補正でき、当該電子素子2を安定して伝送基板8,9に搭載した状態で高周波特性を正確に測定することができる。
【0049】
なお、本例では、保持部材30を挟んで保持部材の両面に取り付けられた一対の装着部材40,40を適当な構造の連結部を介して一体とした構造としてもよい。このようにすれば、部品点数が削減され、組み立てが一層容易になり、製造コストが削減される。
【0050】
なお、本例では接点部材50と保持部材30を収納するホルダ10が金属製であるので、接点部材50と保持部材30を保持している絶縁性の装着部材40の厚さを適当に定めることにより、電子素子2の端子から伝送基板8,9の導体パターン7までのインピーダンスの整合がとれるように設定することが可能である。
【0051】
本発明の実施の形態の第2の例を図6を参照して説明する。
第1の例と実質的に同一の部分は第1の例と同一の符号を付して説明を省略する。本例では、ホルダ10が絶縁材料、例えば樹脂製であり、格納空間24内には接点部材50と保持部材30を装着するための装着部材40はない。また、第1の例では接圧補助手段がゴム60であったが、本例では、ブロック4内に円筒状のガイドが埋設され、このガイドに挿入されたコイルばね62と、このコイルばね62に付勢されて出没する金属製の棒63と、棒63の先端に設けられた絶縁性の押圧体(絶縁キャップ)64からなる機械的押圧装置65を有している。本例によっても、第1の例と略同一の効果を得ることができる。
【0052】
図6に示す第2の例の変形例を図7〜図9に示す。
図7は、図6に示す例において前記保持部材30よりも立ち上がり部の高さが低い保持部材30aを用いたものであり、接点部材50が下方に揺動して機械的押圧装置65が下がった状態を示している。この変形例によれば、保持部材30aの高さが低いので、電子素子2の端子11と伝送基板8の距離を短くでき高周波特性が改善する。
【0053】
図8は、図6に示す例において、異なる電子素子2aと異なる端子11aに対応して、前記接点部材50を形状・構造の異なる他の接点部材50aに交換したことを示している。本変形例では、電子素子2aの端子11aは電子素子2aのケースの角部にあり、交換した接点部材50aはかかる位置にある端子11aに確実に接触できるように斜面の接触面を有している。
【0054】
図9は、図6に示す例において、異なる電子素子2bと異なる端子11bに対応して、前記接点部材50を形状・構造の異なる他の接点部材50bに交換したことを示している。本変形例では、電子素子2bの端子11bは電子素子2bのケースの下面にある丸い凸状であり、交換した接点部材50bはかかる形状の端子11bに確実に接触できるように丸い凹状の接触面を有している。
【0055】
本発明の実施の形態の第3の例を図10〜図12を参照して説明する。
第1の例と実質的に同一の部分は第1の例と同一の符号を付して説明を省略する。図10に示すように、本例では、セラミックからなる装着部材70が、水平な上部の梁部71と垂直部72とを備えた略T字形をしており、金属製の保持部材30に金メッキパターン73との熱拡散法により接合されている。図11の平面図に示すように、装着部材70は1つの保持部材30について1つであり、装着部材70の梁部71はホルダ80の格納空間24の前後両縁に対で形成された係合凹部81,81にはめ込まれている。接点部材55は、隣接する2つの装着部材70,70と、自らが係合する保持部材30とによって保持されるので、ホルダ80外に外れることはない。接圧補助手段としてのゴム60は断面円形の棒状であり、並んだ複数のマイクロ接点機構について1本が共通の部材として格納空間24内に設けられている。
【0056】
このように、一の装着部材70を保持部材30の片面に取り付け、装着部材70と保持部材30と接点部材55の組を、ホルダ80の格納空間24に互いに平行に密着して並べて複数組取り付ける構成とすれば、細かいピッチで並んだ複数の端子を有する電子素子2に適用できるマイクロ接点機構及びこれを用いたテストフィクスチャを実現できる。この場合には、伝送基板8には複数の並設された複数の各マイクロ接点機構に対応して複数本の導電パターン7が設けられることは言うまでもない。
【0057】
図12は、本例の変形例を示す平面図である。この例では、1つの保持部材30の両側にそれぞれ同形の装着部材70,70が接合されている。すなわち第1の例と同様に、保持部材30と接点部材55が一対の装着部材70,70に挟まれており、これが互いに間隔をおいてホルダ80の格納空間24内に複数組取り付けられている。接点部材55は、保持部材30の両面に固定されて隣接する2つの装着部材70,70と該保持部材30とによって保持されるのでホルダ80外に外れることはない。
【0058】
本発明の実施の形態の第4の例を図13を参照して説明する。
第1の例と実質的に同一の部分は第1の例と同一の符号を付して説明を省略する。この例では、ホルダ80には、電子素子の端子の数に合わせて、互いに独立した複数の格納空間24aが所定間隔をおいて列設されている。各格納空間24a内には、保持部材30と、保持部材30を挟んで保持部材30の両面に取り付けられた一対の前記装着部材70,70と、保持部材30に係合して一対の前記装着部材70,70の間で揺動可能とされた接点部材55とからなる複合構成部品の組が設けられている。接点部材55は、保持部材30の両面に固定されて隣接する2つの装着部材70,70と該保持部材30とによって保持されるのでホルダ80外に外れることはない。なお、本例では、ホルダ80の格納空間24aの四隅と、これに対応する装着部材70,70の四隅には面取りが設けられており、格納空間24aに対する前記複合構成部品の組の挿入装着が円滑で装着後の保持状態が良好であるという効果がある。
【0059】
また、図14に示す、保持部材30及び接点部材55の厚さT、保持部材30及び接点部材55からホルダ80までの距離(すなわち装着部材70の厚さ)t、ホルダ80の格納空間24aの幅W、装着部材70の比誘電率εr、を適切な値に設定することにより、電子素子の端子から伝送基板の導体パターンまでの間の特性インピーダンスを整合させることができる。
例えば、保持部材30及び接点部材55の厚さTは約0.1mm、装着部材70の厚さtは約0.2mm、ホルダ80の格納空間24aの幅Wは約0.5mm、装着部材70の比誘電率εrは3〜10となっている。格納空間24aと装着部材70との間には隙間がほとんど無く、ガタつかない程度に両者がはまり合っている状態となっている。
図15に保持部材30及び接点部材55からホルダ80までの距離 (すなわち装着部材70の厚さ) tと特性インピーダンスの相関図を示す。本図に示すように、tを変化させることによって、電子素子の端子から伝送基板の導体パターンまでの間の特性インピーダンスを整合させることができる。
図16には、保持部材30及び接点部材55からホルダ80までの距離(すなわち装着部材70の厚さ)tとインダクタンス、キャパシタンスの相関表を示す。図15に示した特性インピーダンスの場合と同様、tを変化させることによって、電子素子の端子から伝送基板の導体パターンまでの間のインダクタンス及びキャパシタンスを所望の値に設定することができる。
なお、tの値を変化させる方法としては、W一定でTを大きくしても良いし、T一定としてWを小さくしても良い。
【0060】
以上説明した本発明の実施の形態の各例では、ホルダ10,80の格納空間24,24aを上面側に開口した構成としたので、保持部材30と装着部材40,70と接点部材50,55の各組み合わせ部品は、ホルダ10,80の上側の開口から格納空間24,24aに対して自由に出し入れできる。従って複数のマイクロ接点機構を有するテストフィクスチャにおいて一部のマイクロ接点機構が故障した場合には、ホルダ10,80の後面の貫通孔25から保持部材30を固定している弾性固定部材26を外せば、故障したマイクロ接点機構だけを容易に交換することができる。
【0061】
また、従来の技術で説明した接点機構によれば接点のストロークが0.1mm程度であるのに対し、てこの原理を利用した本発明の実施の形態の各例によれば0.2〜0.3mmもの大きなストロークを実現することができる。このため、テストフィクスチャ1において電子素子2の端子 (パッド)との接触において確実な電気的接触を確保しつつ端子の高さのばらつきを適正に補正でき、当該電子素子2の高周波特性を正確に測定することができる。
【0062】
また、従来の技術で説明した接点機構によれば、電子素子2の端子 (パッド)から整合回路部品までの距離が7mm程度と大きいのに対し、てこの原理を利用した本発明の実施の形態の各例によれば2mm程度と小さくすることができる。このため、コンパクトな構成においてインピーダンスの整合を実現し電子素子2の高周波特性を正確に測定することができる。
【0063】
【発明の効果】
本発明のマイクロ接点機構によれば、てこの原理を利用しており、電子素子を接点部材に押し付けた場合に接点部材が支点を中心に回動し、接圧補助手段の付勢力によって先端が作用点として端子に接触することとなる。従って、電子素子の端子との接触において十分なストロークが得られるため、確実な電気的接触を確保しつつ端子の高さのばらつきを適正に補正でき、コンパクトな構成でインピーダンス整合をとって電子素子の高周波特性を正確に測定することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例であるテストフィクスチャの正面図である。
【図2】本発明の実施の形態の一例であるテストフィクスチャの平面図である。
【図3】本発明の実施の形態の一例であるテストフィクスチャにおけるマイクロ接点機構の平面図である。
【図4】図3のA−A切断線における断面図である。
【図5】本発明の実施の形態の一例であるテストフィクスチャにおけるマイクロ接点機構の作動原理を示すための断面図である。
【図6】本発明の実施の形態の他の例であるテストフィクスチャにおけるマイクロ接点機構の断面図である。
【図7】図6に示す本発明の実施の形態の第1の変形例を示す断面図である。
【図8】図6に示す本発明の実施の形態の第2の変形例を示す断面図である。
【図9】図6に示す本発明の実施の形態の第3の変形例を示す断面図である。
【図10】本発明の実施の形態の他の例であるテストフィクスチャにおけるマイクロ接点機構の断面図である。
【図11】図10に示すテストフィクスチャにおいてマイクロ接点機構のホルダに対する保持構造を示す平面図である。
【図12】図10に示すテストフィクスチャにおいてマイクロ接点機構のホルダに対する保持構造の他の変形例を示す平面図である。
【図13】図10に示すテストフィクスチャにおいてマイクロ接点機構のホルダに対する保持構造の他の実施の形態を示す平面図である。
【図14】図13に示すテストフィクスチャにおけるマイクロ接点機構とホルダの寸法関係を示す平面図である。
【図15】保持部材及び接点部材からホルダまでの距離 (すなわち装着部材の厚さ) tと特性インピーダンスの相関を示す図である。
【図16】保持部材及び接点部材からホルダまでの距離(すなわち装着部材の厚さ)tとインダクタンス、キャパシタンスの相関を示す表図である。
【図17】従来の一般的なIC素子を例示する外観斜視図である。
【図18】従来の一般的なIC素子を接続することができる従来の接点機構の一例を示す断面図である。
【図19】従来の一般的なIC素子を接続することができる従来の接点機構の他の例を示す断面図である。
【図20】パッドを周状に配置した従来のIC素子を例示する下方斜視図である。
【符号の説明】
1…テストフィクスチャ
2…電子素子
7…導体パターン
8,9…伝送基板
10,80…ホルダ
11,11a,11b…配線パターン
20…マイクロ接点機構
24,24a…格納空間
30,30a…保持部材
32…保持部材の一端部
34…保持部材の他端部
40,70…装着部材
50,50a,50b,55…接点部材
51…接点部材の基部
52…接点部材の接点部
60…接圧補助手段としてのゴム
61…弾性固定部材
62…コイルばね
64…絶縁性の押圧体(絶縁キャップ)
65…接圧補助手段としての機械的押圧装置
F…支点
E…力点
A…作用点
Claims (10)
- 電子素子(2)の端子(11,11a,11b)に接触する接点部材(50,50a,50b,55)と、
前記接点部材に接触するとともに前記電子素子を試験するための伝送基板(8,9)の導体パターン(7)に接続される保持部材(30,30a)と、
前記接点部材を前記電子素子に向けて弾性的に付勢する接圧補助手段(60,65)と、
前記接点部材、保持部材、接圧補助手段を所定の位置関係に保持するためのホルダ(10,80)とからなり、前記電子素子と前記伝送基板とを電気的に接続するマイクロ接点機構であって、
前記接点部材と前記保持部材とが接触する支点(F)と、前記接点部材と前記電子素子の端子が接触する作用点(A)との略中間位置に、前記接圧補助手段と前記接点部材が接触する力点(E)を配置することにより、前記電子素子を前記接点部材に押し付けた場合に前記接圧補助手段の付勢力によりテコの原理が働き前記接点部材が前記支点を中心に保持部材との接触を維持しながら回動しかつ前記作用点を前記端子に接触させるマイクロ接点機構において、
前記ホルダを金属製とし、前記ホルダに格納空間(24,24a)を形成し、前記保持部材に取り付けた絶縁性の装着部材(40,70)を前記格納空間に装着することによって前記保持部材と前記接点部材を前記ホルダから絶縁して前記格納空間に取り付けることを特徴とするマイクロ接点機構。 - 前記保持部材(30,30a)を挟んで前記保持部材の両面に取り付けられた一対の前記装着部材(40,70)と前記保持部材と前記接点部材(50,50a,50b,55)の組を、前記電子素子(2)の端子(11,11a,11b)の数に合わせて前記ホルダ(10,80)の一つの格納空間(24,24a)内に複数組取り付けることを特徴とする請求項1記載のマイクロ接点機構。
- 前記保持部材(30)を挟んで前記保持部材の両面に取り付けられた一対の前記装着部材(70,70)と前記保持部材と前記接点部材(55)の一つの組を、前記ホルダ(80)の格納空間(24a)内に取付け、前記電子素子の端子(11)の数に合わせて前記ホルダの格納空間を独立して複数設けたことを特徴とする請求項1記載のマイクロ接点機構。
- 一つの前記装着部材(70)を前記保持部材(30)の片面に取り付けたことを特徴とする請求項1記載のマイクロ接点機構。
- 前記保持部材(30,30a)を挟んで前記保持部材の両面に取り付けられた前記装着部材(40,70)が一体構造であることを特徴とする請求項1〜3に記載のマイクロ接点機構。
- 前記電子素子(2)の端子(11,11a,11b)から前記伝送基板(8,9)の導体パターン(7)までの特性インピーダンスの整合がとれるように絶縁性の前記装着部材(40,70)の厚さを設定した請求項1〜5に記載のマイクロ接点機構。
- 接圧補助手段がゴム(60)である請求項1〜6に記載のマイクロ接点機構。
- 前記接圧補助手段(65)はコイルばね(62)と、接点部材(50,50a,50b,55)とコイルばねとを絶縁するための絶縁キャップ(64)とを有している請求項1〜6に記載のマイクロ接点機構。
- 前記格納空間(24,24a)内に挿入した弾性固定部材(61)で前記保持部材(30,30a)を前記伝送基板(8,9)の前記導体パターン(7)に押圧保持することにより前記保持部材を前記伝送基板の前記導体パターンに接続させることを特徴とした請求項1〜8に記載のマイクロ接点機構。
- 複数の端子(11,11a,11b)を有する電子素子(2)の試験を行なうためのテストフィクスチャにおいて、
複数本の導体パターン(7)が形成された伝送基板(8,9)と、
少なくともその一部が前記伝送基板の上に配置され、前記一部には前記導体パターン先端近傍で上下に貫通した格納空間(24,24a)が形成されたホルダ(10,80)と、
前記ホルダの格納空間内に1もしくは複数個配置され、前記伝送基板の各導体パターンに接続される一端部(32)と、該一端部と一体に設けられた他端部(34)とを有する保持部材(30,30a)と、
前記ホルダの格納空間内に1もしくは複数個配置され、前記各保持部材の他端部に係合する基部(51)と、該基部と一体に設けられて前記電子素子の各端子に接触する接点部(52)とを有する接点部材(50,50a,50b,55)と、
前記接点部材に関して前記電子素子と反対の側に設けられて前記各接点部材を前記電子素子に向けて付勢する1もしくは複数個の接圧補助手段(60,65)と、
を有し、
前記保持部材の他端部と前記接点部材の基部とが接触する支点(F)と、前記接点部材の接点部と前記電子素子の端子が接触する作用点(A)との略中間位置に、前記接圧補助手段と前記接点部材が接触する力点(E)を配置することにより、
前記電子素子の各端子を前記各接点部材の接点部に押し付けた場合に前記接圧補助手段の付勢力によりテコの原理が働き前記各接点部材が前記各支点を中心に各保持部材との接触を維持しながら回動して前記各作用点を前記各端子に接触させ、前記伝送基板の各導体パターンが前記電子素子の各端子に接続されるテストフィクスチャにおいて、
前記ホルダを金属製とし、前記保持部材に取り付けた絶縁性の装着部材(40,70)を前記格納空間に装着することによって前記保持部材と前記接点部材を前記ホルダから絶縁して前記格納空間に取り付けることを特徴とするテストフィクスチャ。
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