JP4045222B2 - 精密切欠き装置及びそれを用いた試験片の割断方法 - Google Patents

精密切欠き装置及びそれを用いた試験片の割断方法 Download PDF

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Description

本発明は、試験片(test piece)を正確に割断するためのノッチを形成する装置及びその装置を用いた試験片の割断方法に関するものである。
半導体基板は、空気中の粒子、製造装置の故障、操作エラーにより、常にダメージを受ける。歩留まり率を上昇し、コストを抑制するために、欠陥基板に対し、スキャンと分析を行い、問題の所在をはっきりさせる。
フォーカスイオンビーム(Focused ion beam、FIB)は、公知の断面分析に用いられる。図1(A)は、その断面図で、図1(B)は、図1(A)で示される試験片の上視図である。公知の分析方法は、図1(A)及び(B)に示すように、フォーカスイオンビーム21を用いて、欠陥P、或いは標的点を通過し、配線層12及び基板11を突き抜けるグルーブ(groove)13を形成する。その後、電子顕微鏡30が用いられて、標的点P近くの断面の微構造(microstructure)を間接的にスキャンする。しかし、公知のFIB法に用いられるイオンビーム生成器20は、非常に高価で、切断速度が遅く(約2〜5μm/hr)、20mm以上のグルーブを形成できない。
グルーブ13はイオンビーム21により形成され、イオンビーム21は試験片10を切断しないため、電子顕微鏡30により放たれる電子ビーム31は、所定幅(19°〜81°)で、傾斜した方向のみから、断面をスキャンすることが出来る。更に、スキャン方向は断面に対し垂直ではないので、受信したイメージは、各配線層を区別するのに十分な鮮明度ではない。
特開平11−273613号公報
本発明は、欠陥を有し、断面分析が必要とされ、半導体基板などのガラス試験片に適用するものであり、安価で、当該試験片を割断するための精密な切欠きを形成できる装置の提供を目的とする。また、本発明は、本発明の精密切欠き装置を用いてガラス試験片を割断する方法を提供することをもう一つの目的とし、割断した試験片における断面は、電子顕微鏡により垂直に観測され、鮮明なイメージを受信することができる。
本発明は、試験片を割断するためのノッチを形成する精密切欠き装置であって、支持アーム、開口を備え、前記支持アームに移動可能に接続されるとともに試験片を支持できるようにされた台座、前記支持アームの上部に設置されるとともに試験片の微構造を表示するレンズセット、を有する顕微鏡と、前記顕微鏡の台座の下に設置されるとともに前記開口を通過して試験片の表面上にノッチを形成するカッターと、を備えることを特徴とする。本発明は、一般的な安価な光学顕微鏡にも適用できるため、FIBなどの特別で高価な装置を要せずして、試験片を割断するためノッチを精密に形成することができる。
本発明に係る精密切欠き装置においては、顕微鏡の台座は、試験片を固定する留め具と、試験片を所定領域内で水平に移動させる第一位置調整器と、を備えるのが好ましい。そして、前記台座の下に設置されるとともに、カッターの垂直位置を調整する第二位置調整器をさらに備えるようにすることが望ましい。本発明におけるカッターは、ダイアモンドチップであるか、或いはホイールナイフを備えるものであることが好ましい。ダイアモンドチップやホイールナイフであれば、ガラス製の試験片にノッチ形成することが容易に行える。
そして、本発明に係る精密切欠き装置においては、レンズセット上に設置され、光学イメージを感知するとともに当該光学イメージを電気信号に転換するイメージセンサと、前記イメージセンサに電気的に接続され、前記電気信号を表示するモニターと、を備えるようにすることが好ましい。また、前記イメージセンサは、電荷結合カメラであることが望ましいものである。試験片の微構造をモニターに表示することで、より精密な切欠き加工が行えることになる。
さらに、本発明は、上記した精密切欠き装置を用いた試験片の割断方法を提供する。本発明に係る試験片の割断方法は、支持アーム、開口を備え、前記支持アームに移動可能に接続されるとともに試験片を支持できるようにされ、試験片を所定領域内で水平に移動させる第一位置調整器を備える台座、前記支持アームの上部に設置されるとともに試験片の微構造を表示するレンズセットを有した顕微鏡と、前記顕微鏡の台座の下に設置されたカッターと、を備える精密切欠き装置を用いた試験片の割断方法であって、表面に標的点を形成した試験片を提供する工程と、前記標的点を形成した表面を前記台座に接触させるとともに標的点を開口の範囲に位置するように試験片を台座に固定する工程と、前記レンズセットの拡大倍率を調整して、前記標的点の明瞭なイメージを表示する工程と、前記標的点を含む所定線上に配列されるとともに、試験片の端点から標的点の近傍までの第一距離を有する第一ノッチ及び第二ノッチを前記表面上に形成する工程と、前記試験片を、第一ノッチ及び第二ノッチを配列した所定線に沿って割断する工程と、を備えることを特徴とするものである。本発明の試験片の割断方法によれば、ノッチを形成した試験片を、その標的点を含む所定線に沿って試験片を割断することができるので、標的点の部分の断面を容易に且つ迅速得ることができる。この本発明に係る試験片の割断方法においては、前記第一距離は、50μm〜1mmであることが好ましい。
また、本発明に係る試験片の割断方法では、カッターの垂直位置を変化させて、標的点を形成した表面にカッターの先端を接触させる工程と、前記第一位置調整器により、台座上に設置された試験片を水平移動し、前記カッターの垂直位置を変化させて、標的点の近傍の第一ポイントに達する工程と、前記カッターを、ノッチの深さに対応する第二距離だけ上昇させて、試験片に切り込む工程と、前記第一位置調整器により試験片を水平移動させて、前記第一ノッチを形成する工程と、前記カッターを第二距離だけ降下させる工程と、前記第一位置調整器により試験片を水平移動させて、前記カッターの垂直位置を変化させ、標的点の近傍の第二ポイントに達する工程と、前記カッターをノッチの深さに対応する第二距離だけ上昇させ、前記試験片を切り込む工程と、前記第一位置調整器により、前記試験片を水平移動させて、前記第二ノッチを形成する工程と、からなるようにすることが望ましい。このようにすると、試験片を割断するためのノッチが精密に形成することが可能となる。そして、前記第一ポイントは、標的点の最近傍における第一ノッチの基端であり、前記第二ポイントは、標的点の最近傍における第二ノッチの基端であることが好ましい。さらに、第二距離は10μm〜50μmであることが望ましいものである。
本発明によると、安価な光学顕微鏡の使用して、ガラス試験片を容易に割断できる精密な切欠き形成することが可能となる。、本発明の精密切欠き装置を用いてガラス試験片を割断する方法を採用することにより、該試験片の割断工程時間が大幅に減少し、迅速に試験片の分析が可能となる。そして、精密な切欠きを形成して試験片を割断できるので、割断した試験片の断面は、電子顕微鏡により垂直に観測され、鮮明なイメージを受信することができる。
上述した本発明の目的、特徴、及び長所をいっそう明瞭にするため、以下に本発明の好ましい実施の形態を挙げ、図を参照にしながらさらに詳しく説明する。
図2は、本発明による精密切断装置である。精密切断装置40は、顕微鏡41、カッターアセンブリ44、からなる。顕微鏡41は、移動可能な台座43、調整可能なレンズセット42、及び光源45を備える。台座43は試験片10を支持する。レンズセット42は、接眼レンズ(eyepiece)421と対物レンズ(objective)422を備え、顕微鏡41の拡大倍率を変化させ、試験片10の微構造を表示する。顕微鏡41のベース49上に設置された光源は台座43の開口431に向かい合ったランプを備え、試験片10を照らす。
カッターアセンブリ44は、顕微鏡の台座下のベース49上に設置され、開口431と配列される。カッターアセンブリ44は、第二位置調整器442と可変長のカッター441を備える。第二位置調整器442は回転して、カッター441を垂直に上昇させるか、或いは、降下させる。カッター441のチップは、台座43上の試験片10の下部表面と接触する台座43の開口431を通過して、ノッチを形成する。本発明による精密切断装置40は、更に、イメージセンサ46とモニター47を備え、試験片10の鮮明なイメージを表示する。イメージセンサは、電荷結合カメラ(charge−couple camera)である。レンズセット42の接眼レンズ側に設置されたイメージセンサは、モニター47に電気的に接続し、受信した光学イメージを電気信号に転換し、試験片10の拡大図がモニター47に表示される。
図3は、台座に留められた試験片を示す図である。図3において、顕微鏡41の台座43は、上プレート43aと固定された下プレート43bとからなる。上プレート43aと固定下プレート43bは、それぞれ、開口431を備える。上プレート43aは、留め具432を備え、開口431を被覆する試験片10を固定する。標的点Pは、開口431の領域に配置される。第一位置調整器434は、X位置調整機434aとY位置調整器434bを備え、下プレート43bに対応して上プレート43aを移動させる。
図4(A)は、第一具体例によるダイアモンドチップを備えるカッターを示す図である。カッターアセンブリ44は、第二位置調整器442とカッター441とを備える。第一具体例のカッター441は、ダイアモンドチップ441aを備える。第二位置調整器442を回転させ、カッター441が上昇する時、ダイアモンドチップ441aは、上プレート43aに留められた試験片10の下表面に接触し、試験片10は、ダイアモンドチップ441aに対応して移動し、その後、割断するノッチを形成する。
図4(B)において、第二具体例のカッターアセンブリ44’のカッター441は、ホイールナイフ441bである。ホイールナイフ441bは、特定の回転方向であるので、所定方向にだけ用いられる。しかし、ホイールナイフ441bに形成されたノッチは一直線で、次の割断方法により形成された断面は、正確に標的点Pを横切っている。
図5は、ノッチを備える試験片を示す図で、図6は、本発明の試験片割断方法を示すフローチャートである。図2〜図3及び図5〜図6を参照すると、本発明は、精密切断装置40の操作方法を提供し、LCDパネルのガラス基板片などの、透明試験片を割断する。先ず、本方法は、適切なサイズの長方形試験片10を提供する(工程601)。試験片10は、断面分析が必要とされる標的点Pを有する配線層(ITO)を備える。次に、配線層の表面12が接触面となる。試験片10は、表面12が上プレート43aに接触するように、留め具432により台座43に固定される。(工程602)。標的点Pは開口431の範囲に位置する。レンズセット41が適切な拡大倍率になり、台座43の高さは、アーム48に設けられた焦点調整器433により修正されて、標的点Pの明確な図を表示する(工程603)。次に、カッター441が上昇し、カッター441のチップは開口431を通過し、試験片10の表面12に接触する(工程604)。同時に、カッター441のチップは顕微鏡41を通じて見える。次に、台座43上の試験片10は、X位置調整器434a及びY位置調整器434bにより、水平に移動し、カッター441のチップは第一ポイントRに達する(工程605)。カッター441は、第二距離d上昇し、試験片10の配線層12とガラス基板11を切り込む(工程606)。上基板43aに固定された試験片10はX方向に沿って、一直線に移動し、第一ノッチCを形成する(工程607)。カッター441は、第二距離d下降する(工程608)。更に、台座43上の試験片10は、再度水平に移動し、カッター441のチップは、第二ポイントRに達する(工程609)。カッター441は、第二距離d上昇し、試験片10の配線層12とガラス基板11を切り込む(工程610)。上プレート43a上に固定された試験片10はX方向に沿って、直線で移動し、第二ノッチCを形成する(工程611)。最後に、試験片10は、手動或いは所定の機器により、第一ノッチC及び第二ノッチCに沿って割断され、標的点Pを通るすっきりした断面が得られる。
図5において、第一ポイントRと第二ポイントQは、それぞれ、第一ノッチC及び第二ノッチCの標的点Pに最も近い点である。第一ポイントR、標的点P及び第二ポイントQは、同一線上に形成される。第一ポイントRと試験片10の端点との間、及び第二ポイントQと試験片10の端点との間の距離は、約50μm〜1mmの第一距離である。第一ノッチCと第二ノッチCの深さは、約10μm〜50μmの第二距離である。
本発明の精密切欠き装置及びそれを用いた試験片の割断方法によると、一般の安価な光学顕微鏡を修正することによりガラス試験片を容易に割断することが出来る。割断工程は、約10分で終了するので、時間が大幅に減少する。
また、本発明に係る精密切欠き装置によると、各試験片に存在する欠陥、或いは標的点を正確に通る断面を得ることができる。その断面は電子顕微鏡によりスキャンされ、各配線層のイメージは容易に識別することができるので、試験片の断面分析の精密度を改善することが可能となる。
本発明では、好ましい実施形態を上記のように開示したが、これらは決して本発明を限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えることができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
イオンビームによる試験片の断面分析概略図及びその上視図。 本発明に係る精密切欠き装置の概略図。 台座に留められた試験片を示す図。 ダイアモンドチップを備えるカッター概略図及びホイールナイフを備えるカッター概略図。 ノッチを備える試験片の斜視図。 本発明の試験片割断方法を示すフローチャート。
符号の説明
10 試験片
11 ガラス基板
12 配線層
13 ノッチ
20 イオンビーム生成器
21 イオンビーム
30 電子顕微鏡
31 電子ビーム
40 試験片の精密切欠き装置
41 顕微鏡
42 レンズセット
421 接眼レンズ
422 対物レンズ
43 台座
43a 上プレート
43b 下プレート
431 開口
432 留め具
433 焦点調整器
434 第一位置調整器
434a X位置調整器
434b Y位置調整器
44 カッターアセンブリ
441 カッター
442 第二位置調整器
441a ダイアモンドチップ
441b ホールナイフ
45 光源
46 イメージセンサ
47 モニター
48 アーム
49 ベース
P 標的点
Q 第二ポイント
R 第一ポイント
第一ノッチ
第二ノッチ
第一距離
第二距離

Claims (11)

  1. 試験片を割断するためのノッチを形成する精密切欠き装置であって、
    支持アーム、
    開口と試験片を固定する留め具と試験片を所定領域内で水平に移動させる第一位置調整器とを備え、前記支持アームに移動可能に接続されるとともに試験片を支持できるようにされた台座
    前記支持アームの上部に設置されるとともに試験片の微構造を表示するレンズセット、を有する光学顕微鏡と、
    前記光学顕微鏡の台座の下に設置されるとともに前記開口を通過して試験片の表面上にノッチを形成することができるカッターと、
    を備えることを特徴とする精密切欠き装置。
  2. 前記台座の下に設置されるとともに、前記カッターの垂直位置を調整する第二位置調整器を備える請求項1に記載の精密切欠き装置。
  3. 前記カッターはダイアモンドチップである請求項1又は請求項2に記載の精密切欠き装置。
  4. 前記カッターは、ホイールナイフを備える請求項3に記載の精密切欠き装置。
  5. 前記レンズセット上に設置され、光学イメージを感知するとともに当該光学イメージを電気信号に転換するイメージセンサと、
    前記イメージセンサに電気的に接続され、前記電気信号を表示するモニターと、
    を備える請求項1〜4いずれかに記載の精密切欠き装置。
  6. 前記イメージセンサは、電荷結合カメラである請求項5に記載の精密切欠き装置。
  7. 支持アーム、
    開口を備え、前記支持アームに移動可能に接続されるとともに試験片を支持できるようにされ、試験片を所定領域内で水平に移動させる第一位置調整器を備える台座、
    前記支持アームの上部に設置されるとともに試験片の微構造を表示するレンズセットを有した光学顕微鏡と、
    前記光学顕微鏡の台座の下に設置されたカッターと、を備える精密切欠き装置を用いた試験片の割断方法であって、
    表面に標的点を形成した試験片を提供する工程と、
    前記標的点を形成した表面を前記台座に接触させるとともに標的点を開口の範囲に位置するように試験片を台座に固定する工程と、
    前記レンズセットの拡大倍率を調整して、前記標的点の明瞭なイメージを表示する工程と、
    前記標的点を含む所定線上に配列されるとともに、試験片の端点から標的点の近傍までの第一距離を有する第一ノッチ及び第二ノッチを前記表面上に形成する工程と、
    前記試験片を、第一ノッチ及び第二ノッチを配列した所定線に沿って割断する工程と、
    を備えることを特徴とする試験片の割断方法。
  8. 前記第一距離は、50μm〜1mmである請求項7に記載の試験片の割断方法。
  9. 前記カッターの垂直位置を変化させて、標的点を形成した表面にカッターの先端を接触させる工程と、
    前記第一位置調整器により、台座上に設置された試験片を水平移動し、前記カッターの垂直位置を変化させて、標的点の近傍の第一ポイントに達する工程と、
    前記カッターを、ノッチの深さに対応する第二距離だけ上昇させて、試験片に切り込む工程と、
    前記第一位置調整器により試験片を水平移動させて、前記第一ノッチを形成する工程と、
    前記カッターを第二距離だけ降下させる工程と、
    前記第一位置調整器により試験片を水平移動させて、前記カッターの垂直位置を変化させ、標的点の近傍の第二ポイントに達する工程と、
    前記カッターをノッチの深さに対応する第二距離だけ上昇させ、前記試験片を切り込む工程と、
    前記第一位置調整器により、前記試験片を水平移動させて、前記第二ノッチを形成する工程と、
    からなる請求項7又は請求項8に記載の試験片の割断方法。
  10. 前記第一ポイントは、標的点の最近傍における第一ノッチの基端であり、前記第二ポイントは、標的点の最近傍における第二ノッチの基端である請求項9に記載の試験片の割断方法。
  11. 前記第二距離は10μm〜50μmであることを特徴とする請求項9又は請求項10に記載の試験片の割断方法。
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