JP4044505B2 - 光酸発生剤 - Google Patents

光酸発生剤 Download PDF

Info

Publication number
JP4044505B2
JP4044505B2 JP2003338664A JP2003338664A JP4044505B2 JP 4044505 B2 JP4044505 B2 JP 4044505B2 JP 2003338664 A JP2003338664 A JP 2003338664A JP 2003338664 A JP2003338664 A JP 2003338664A JP 4044505 B2 JP4044505 B2 JP 4044505B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
iridium
hydride complex
complex
iridium hydride
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003338664A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005104880A (ja
Inventor
俊一 福住
誠司 小江
知義 末延
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Science and Technology Agency
National Institute of Japan Science and Technology Agency
Original Assignee
Japan Science and Technology Agency
National Institute of Japan Science and Technology Agency
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Science and Technology Agency, National Institute of Japan Science and Technology Agency filed Critical Japan Science and Technology Agency
Priority to JP2003338664A priority Critical patent/JP4044505B2/ja
Priority to EP04773521A priority patent/EP1674473A4/en
Priority to US10/573,780 priority patent/US7550246B2/en
Priority to PCT/JP2004/014433 priority patent/WO2005030784A1/ja
Publication of JP2005104880A publication Critical patent/JP2005104880A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4044505B2 publication Critical patent/JP4044505B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/89—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F17/00—Metallocenes
    • C07F17/02—Metallocenes of metals of Groups 8, 9 or 10 of the Periodic System
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Description

本発明は、光酸発生剤に関する。さらに詳しくは、光を照射すると効率よく酸を発生する光酸発生剤に関する。光酸発生剤は、化学増幅フォトレジスト、液晶カラーフィルタなどに好適に使用しうるものである。
化学増幅型フォトレジストや、液晶用カラーフィルタに用いられる光酸発生剤としては、従来、パラメトキシスチリルトリアジンが知られている（例えば、非特許文献１参照）。
しかし、パラメトキシスチリルトリアジンは、高感度であるが、溶媒に対する溶解性や相溶性が悪いという欠点がある。
ジー・ポーラーズ(G. Pohlers)ら「ケミストリー・オブ・マテリアルズ(Chem. Mater.)」1997年９巻６号1353-1361 頁
本発明は、前記従来技術に鑑みてなされたものであり、可視光に対して高感度であるとともに、有機溶媒や水に対する溶解性に優れた光酸発生剤を提供することを課題とする。
本発明は、
式(I):
Figure 0004044505
（式中、Ｘは、金属原子を示す）
で表される金属ヒドリド錯体からなる光酸発生剤
に関する。
本発明の光酸発生剤は、可視光に対して高感度であるとともに、有機溶媒や水に対する溶解性に優れるという効果を奏する。
本発明の光酸発生剤は、式(I) で表される金属ヒドリド錯体〔以下、単に「金属ヒドリド錯体」という〕からなる。式(I) において、Ｘは、金属原子を示す。好適な金属原子の例としては、イリジウム、ルテニウム、ロジウムおよびコバルトが挙げられるが、これらの中では、イリジウムが好ましい。
金属ヒドリド錯体は、可視光に対して高感度であるとともに、優れた有機溶媒や水に対する溶解性を呈するものである。したがって、本発明の光酸発生剤は、金属ヒドリド錯体のみからなるものであってもよく、あるいは金属ヒドリド錯体を有機溶媒や水に溶解させたものであってもよい。
有機溶媒の例としては、アセトニトリル；メタノール、エタノールなどに代表される１級アルコール；イソプロピルアルコールなどに代表される２級アルコール、t-ブチルアルコールなどに代表される３級アルコール、エチレングリコールなどに代表される多価アルコール、ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；酢酸エチルなどの極性有機溶媒が挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。
本発明の光酸発生剤が金属ヒドリド錯体の溶液である場合、その溶液における金属ヒドリドの濃度は、特に限定されないが、通常、0.1 〜５重量％、好ましくは0.5 〜３重量％であることが望ましい。
なお、金属ヒドリド錯体は、例えば、ワタナベ(Watanabe)ら「ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(J.Am.Chem.Soc.)2003年, 125(14) 巻, 4149-4154 頁の4150頁に記載の方法にしたがって容易に合成し、容易に入手しうる化合物である。
以下に、本発明の金属ヒドリド錯体を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明は、かかる実施例のみに限定されるものではない。
製造例１
ワタナベ(Watanabe)ら「ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(J.Am.Chem.Soc.)2003年, 125(14) 巻, 4149-4154 頁の4150頁に記載の方法にしたがって、イリジウムヒドリド錯体を調製した。
得られた化合物がイリジウムヒドリド錯体であることは、得られた化合物の1H-NMRデータが前記文献の4150頁に記載の1H-NMRデータと一致することによって確認された。
実施例１
製造例１で得られたイリジウムヒドリド錯体を脱気されたメタノールに溶解させ、イリジウムヒドリド錯体の濃度が2.4 ×10-4Ｍの溶液を調製した。
得られた溶液に波長λが430nm であるレーザー光線を10mJ／パルスで照射してイリジウムヒドリド錯体を励起させ、レーザー光線の照射から10μｓ、４msまたは12ms経過後の波長300 〜800nm における過渡吸収スペクトルを調べた。その結果を図１に示す。
図１において、○印は、レーザー光線の照射から10μｓ経過後のデータ、△印はレーザー光線の照射から４ms経過後のデータ、□印はレーザー光線の照射から１２ms経過後のデータである。これらの過渡吸収スペクトルは、文献〔エム・ラドウィッグ(M.Ladwig)ら「ジャーナル・オブ・オルガノメタリック・ケミストリ(J.Organomet. Chem.)」1992年439 巻１号79-90 頁〕に記載の吸収スペクトルと対比した結果、式(II):
Figure 0004044505
で表されるイリジウム錯体（以下、単に「イリジウム錯体」という）であることが確認された。
また、図１に示された結果から、イリジウムヒドリド錯体の脱プロトンは、その励起状態で起こり、このイリジウムヒドリド錯体は、以下のスキーム１：
Figure 0004044505
で表されるように、レーザー光線を照射すると効率よく酸を発生するので、光酸発生剤として効率よく作用するものであることがわかる。
実施例２
製造例１で得られたイリジウムヒドリド錯体を脱気されたメタノールまたはCH3OD に溶解させ、イリジウムヒドリド錯体の濃度が2.4 ×10-4Ｍの溶液を調製した。
得られた溶液に波長430nm のレーザー光線を10mJ／パルスで照射してイリジウムヒドリド錯体を励起させ、波長490nm における吸光度の経時変化を調べた。その結果を図２に示す。
図２には、脱気されたメタノール（図中、○印）およびCH3OD(図中、黒色○印）中で、レーザー光線をイリジウムヒドリド錯体に照射することによって生成したイリジウム錯体の過渡吸収スペクトルにおける波長490nm における減衰が示されている。この減衰は、二次反応速度論に従っている。
図２に示された結果から、メタノール(CH3OH) の代わりにCH3OD を用いた場合には、イリジウム錯体の減衰速度は、いちじるしく遅くなることがわかる。
なお、図２において、右上に挿入されている図は、イリジウムヒドリド錯体にレーザー光線を照射したときの吸光度の２次プロット（吸光度の逆数の時間依存性）を示す図である。図２に示された２次プロットの傾きから、大きな速度論的重水素同位体効果（κH ／κD ＝8.2)が求められた。
実施例３
実施例１と同様にして、イリジウムヒドリド錯体を脱プロトン化させることによってイリジウム錯体およびプロトンを生成させた後、このイリジウム錯体をメタノール中でトリフルオロメタンスルホン酸によってプロトン化させたところ、基底状態のイリジウムヒドリド錯体が生成した。
種々の濃度(3.0×10-5M, 3.9×10-5M, 4.8×10-5M または 5.6×10-5M)のトリフルオロメタンスルホン酸の存在下で、イリジウムヒドリド錯体2.4 ×10-4Ｍの波長490nm における過渡吸収スペクトルの吸光度減衰の経時変化を調べた。その結果を図３(a) に示す。また、この吸光度減衰の経時変化から求めた１次反応速度定数のトリフルオロメタンスルホン酸の濃度依存性を図３(b) に示す。
図３(a) に示されるように、イリジウムヒドリド錯体の過渡吸収スペクトルの減衰は、トリフルオロメタンスルホン酸 (3.0 ×10-5M, 3.9×10-5M, 4.8×10-5M または 5.6×10-5M)の存在下では、１次反応速度論に従うようになることがわかる。
また、図３(b) に示された結果から、１次反応速度定数は、トリフルオロメタンスルホン酸の濃度の増大に対して直線的に増加することがわかる。
これらの結果から、イリジウムヒドリド錯体に可視光を照射すれば、イリジウムヒドリド錯体の脱プロトン化およびイリジウム錯体のプロトン化が生じることがわかる。
実施例４
イリジウムヒドリド錯体を脱気されたメタノールに溶解させ、イリジウムヒドリド錯体の濃度が1.5 ×10-4Ｍの溶液を調製した。
次に、得られた溶液に波長355nm のレーザー光線を1.5mJ ／パルスで照射してイリジウムヒドリド錯体を励起させ、イリジウムヒドリド錯体の励起状態の生成およびその光酸発生をピコ秒レーザー閃光分解による過渡吸収スペクトル変化によって観測した。その結果を図４に示す。なお、図４において、各過渡吸収スペクトルは、それぞれ、図中の矢印の方向に経過した時間における結果を示す。
図４に示されたピコ秒時間分解過渡吸収スペクトルの結果から、レーザー光線の照射から100ps までは、波長500nm に吸収極大を持つイリジウムヒドリド錯体の励起状態の生成に由来する吸収帯の増大が認められることがわかる。
実施例５
実施例４と同様にして、イリジイウムヒドリド錯体のピコ秒時間分解過渡吸収スペクトルの波長500nm における吸光度の増大の経時変化を200ps まで調べた。その結果を図５に示す。
図５に示された結果から、この吸光度変化は、一次速度論に従い、一次反応速度定数が1.4 ×1010s -1であると決定された。
実施例６
実施例４と同様にして、イリジイウムヒドリド錯体のピコ秒時間分解過渡吸収スペクトルの波長575nm における吸光度の増大の経時変化を光線照射から4000psまで調べた。その結果を図６に示す。なお、図６において、その右下に記載の挿入図において、ａはイリジイウムヒドリド錯体の場合の吸光度の経時変化の一次プロット、ｂはイリジイウムヒドリド錯体の重水素化体の場合の吸光度の経時変化の一次プロットを示す。
図６に示された結果から、光線照射から4000ps経過時には、イリジイウムヒドリド錯体の励起状態からの光酸発生により、イリジウムヒドリド錯体からプロトンが脱離したイリジウム錯体の生成に由来する過渡吸収スペクトルが増大していることがわかる。また、この吸光度変化は一次速度論に従い、一次プロットの傾きから求められたイリジイウムヒドリド錯体の励起状態からの光酸発生速度が8.1 ×108s-1であると決定された。
実施例７
イリジウムヒドリド錯体を脱気されたCD3 ODに濃度が8.2 ×10-3Ｍとなるように溶解させた溶液0.6mL に、波長430nm の単色可視光線を照射し、イリジウムヒドリド錯体の水素と重水素との光誘起交換反応におけるイリジウムヒドリド錯体濃度の仕込み濃度との比（[1]/[1]0）の経時変化を調べた。その結果を図７に示す。
図７に示された結果から、イリジウムヒドリド錯体のCH3OD 溶液に定常状態で光線を照射したときには、図７の領域ａに示されるように、イリジウムヒドリド錯体の水素化物のプロトンによる−10.7ppm における1H-NMRシグナルが光線照射時間の経過とともに消失することがわかる。
次に、光線を照射した溶液0.6mL に、水〔H2O ／CD3 OD＝１：４（容量比）〕0.15mLを添加し、暗所で保ったところ、図７の領域ｂに示されるように、1H-NMRのシグナルに変化が生じなかった。
さらに、前記溶液に波長430nm の単色可視光線をサンプルに照射すると、図７の領域ｃに示されるように、イリジウムヒドリド錯体の水素化物のプロトンが再度現れた。
さらに、前記溶液0.75mLに、水〔H2O ／CD3OD ＝１：２（容量比）〕0.15mLを添加し、波長430nm の単色可視光線をサンプルに照射すると、図７の領域ｄに示されるように、式(I) で表されるイリジウムヒドリド錯体仕込量の80％まで、その水素化物のプロトンのシグナルが増大した。
以上の結果から、CD3OD 中で定常状態でイリジウムヒドリド錯体の水素と重水素との交換が、以下のスキーム２：
Figure 0004044505
で表されるように、効率よく起こることがわかる。
実施例８
8.2 ×10-3Ｍのイリジウムヒドリド錯体CD3OD 溶液0.6mL にキセノンランプから微弱な単色光（波長:430nm、光強度：約10-9einstein・ｓ-1）を照射した場合、図７(a) に示されるのと同様に、速やかに光水素・重水素(H/D) 交換反応が進行することが認められた。
このことから、イリジウムヒドリド錯体は、非常に高感度な光酸発生剤として作用することが確認された。
実施例９
イリジウムヒドリド錯体を２５℃の水に溶解させたところ、その溶解度は、90mg／水3.5mL(2.6 重量％）以上であった。このことから、イリジウムヒドリド錯体は、水に対して高い溶解性を呈することが確認された。また、同様にして、メタノールおよびアセトニトリルに対しても溶解性を調べたが、いずれの溶媒に対しても、水と同様に、高い溶解性を有することが確認された。
本発明のイリジウムヒドリド錯体は、高感度な光酸発生剤として機能し、水や有機溶媒などに対する溶解性に優れるので、化学増幅型フォトレジスト、液晶カラーフィルタ用の酸発生剤として用いることができるほか、写真関連や印刷関連分野などにも幅広く応用しうるものである。
イリジウムヒドリド錯体の過渡吸収スペクトルの吸光度と波長との関係を示す図である。 イリジウム錯体の吸光度の経時変化を示す図である。 (a) はイリジウムヒドリド錯体の過渡吸収スペクトルの吸光度減衰の経時変化を示す図、(b) は(a) から求められた１次反応速度定数のトリフルオロメタンスルホン酸の濃度依存性を示す図である。 イリジウムヒドリド錯体のピコ秒時間分解過渡吸収スペクトルを示す図である。 イリジウムヒドリド錯体のピコ秒時間分解過渡吸収スペクトルの波長500nm における吸光度の増大の経時変化を示す図である。 イリジウムヒドリド錯体のピコ秒時間分解過渡吸収スペクトルの波長575nm における吸光度の増大の経時変化を示す図である。 イリジウムヒドリド錯体の濃度の仕込み濃度との比（[1]/[1]0) の経時変化を示す図である。

Claims (2)

  1. 式(I):
    Figure 0004044505
     （式中、Ｘは、金属原子を示す）
    で表される金属ヒドリド錯体からなる光酸発生剤。
  2. 式(I) において、Ｘがイリジウム、ルテニウム、ロジウムまたはコバルトである請求項１記載の光酸発生剤。
JP2003338664A 2003-09-29 2003-09-29 光酸発生剤 Expired - Fee Related JP4044505B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003338664A JP4044505B2 (ja) 2003-09-29 2003-09-29 光酸発生剤
EP04773521A EP1674473A4 (en) 2003-09-29 2004-09-24 GENERATOR OF PHOTO ACID
US10/573,780 US7550246B2 (en) 2003-09-29 2004-09-24 Photoacid generator
PCT/JP2004/014433 WO2005030784A1 (ja) 2003-09-29 2004-09-24 光酸発生剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003338664A JP4044505B2 (ja) 2003-09-29 2003-09-29 光酸発生剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005104880A JP2005104880A (ja) 2005-04-21
JP4044505B2 true JP4044505B2 (ja) 2008-02-06

Family

ID=34386165

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003338664A Expired - Fee Related JP4044505B2 (ja) 2003-09-29 2003-09-29 光酸発生剤

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7550246B2 (ja)
EP (1) EP1674473A4 (ja)
JP (1) JP4044505B2 (ja)
WO (1) WO2005030784A1 (ja)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4572393B2 (ja) 2006-11-17 2010-11-04 国立大学法人大阪大学 ギ酸分解用触媒、ギ酸の分解方法、水素製造方法、ギ酸製造および分解用装置、水素貯蔵および発生方法
MX350841B (es) 2013-02-12 2017-09-18 Carbon3D Inc Método y aparato para fabricación tridimensional.
BR112015017976A2 (pt) 2013-02-12 2017-07-11 Carbon3D Inc impressão de interfase líquida contínua
JP6195552B2 (ja) * 2014-02-21 2017-09-13 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及び、パターン形成方法、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法
US10232605B2 (en) 2014-03-21 2019-03-19 Carbon, Inc. Method for three-dimensional fabrication with gas injection through carrier
EP3134250B1 (en) 2014-04-25 2023-11-15 Carbon, Inc. Continuous three dimensional fabrication from immiscible liquids
US10471699B2 (en) 2014-06-20 2019-11-12 Carbon, Inc. Three-dimensional printing with reciprocal feeding of polymerizable liquid
US10569465B2 (en) 2014-06-20 2020-02-25 Carbon, Inc. Three-dimensional printing using tiled light engines
US10661501B2 (en) 2014-06-20 2020-05-26 Carbon, Inc. Three-dimensional printing method using increased light intensity and apparatus therefor
EP3158399B1 (en) 2014-06-23 2022-10-26 Carbon, Inc. Polyurethane resins having multiple mechanisms of hardening for use in producing three-dimensional objects
US11390062B2 (en) 2014-08-12 2022-07-19 Carbon, Inc. Three-dimensional printing with supported build plates
WO2016109550A1 (en) 2014-12-31 2016-07-07 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing of objects with breathing orifices
WO2016112084A1 (en) 2015-01-06 2016-07-14 Carbon3D, Inc. Build plate for three dimensional printing having a rough or patterned surface
WO2016112090A1 (en) 2015-01-07 2016-07-14 Carbon3D, Inc. Microfluidic devices and methods of making the same
EP3245044B1 (en) 2015-01-13 2021-05-05 Carbon, Inc. Three-dimensional printing with build plates having surface topologies for increasing permeability and related methods
WO2016123499A1 (en) 2015-01-30 2016-08-04 Carbon3D, Inc. Build plates for continuous liquid interface printing having permeable base and adhesive for increasing permeability and related methods, systems and devices
EP3250368A1 (en) 2015-01-30 2017-12-06 Carbon, Inc. Build plates for continuous liquid interface printing having permeable sheets and related methods, systems and devices
WO2016126779A1 (en) 2015-02-05 2016-08-11 Carbon3D, Inc. Method of additive manufacturing by fabrication through multiple zones
US11000992B2 (en) 2015-02-20 2021-05-11 Carbon, Inc. Methods and apparatus for continuous liquid interface printing with electrochemically supported dead zone
WO2016140891A1 (en) 2015-03-05 2016-09-09 Carbon3D, Inc. Continuous liquid interface production with sequential patterned exposure
WO2016140888A1 (en) 2015-03-05 2016-09-09 Carbon3D, Inc. Fabrication of three dimensional objects with variable slice thickness
US10391711B2 (en) 2015-03-05 2019-08-27 Carbon, Inc. Fabrication of three dimensional objects with multiple operating modes
WO2016145050A1 (en) 2015-03-10 2016-09-15 Carbon3D, Inc. Microfluidic devices having flexible features and methods of making the same
WO2016145182A1 (en) 2015-03-12 2016-09-15 Carbon3D, Inc. Additive manufacturing using polymerization initiators or inhibitors having controlled migration
WO2016149097A1 (en) 2015-03-13 2016-09-22 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing with reduced pressure build plate unit
WO2016149151A1 (en) 2015-03-13 2016-09-22 Carbon3D, Inc. Three-dimensional printing with concurrent delivery of different polymerizable liquids
US10792856B2 (en) 2015-03-13 2020-10-06 Carbon, Inc. Three-dimensional printing with flexible build plates
WO2017048710A1 (en) 2015-09-14 2017-03-23 Carbon, Inc. Light-curable article of manufacture with portions of differing solubility
US11220051B2 (en) 2015-09-25 2022-01-11 Carbon, Inc. Build plate assemblies for continuous liquid interphase printing having lighting panels and related methods, systems and devices
WO2017059082A1 (en) 2015-09-30 2017-04-06 Carbon, Inc. Method and apparatus for producing three-dimensional objects
US10647873B2 (en) 2015-10-30 2020-05-12 Carbon, Inc. Dual cure article of manufacture with portions of differing solubility
CN108139665B (zh) 2015-12-22 2022-07-05 卡本有限公司 用于用双重固化树脂的增材制造的双重前体树脂系统
WO2017112483A2 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Accelerants for additive manufacturing with dual cure resins
US10538031B2 (en) 2015-12-22 2020-01-21 Carbon, Inc. Dual cure additive manufacturing of rigid intermediates that generate semi-rigid, flexible, or elastic final products
JP6944935B2 (ja) 2015-12-22 2021-10-06 カーボン，インコーポレイテッド 二重硬化樹脂を用いた積層造形による複数の中間体からの複合生産物の製作
WO2017112521A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 Carbon, Inc. Production of flexible products by additive manufacturing with dual cure resins
JP7056936B2 (ja) 2016-05-31 2022-04-19 ノースウェスタン ユニバーシティ ３次元物体の製作のための方法および同方法のための装置
EP3423257B1 (en) 2016-07-01 2020-08-05 Carbon, Inc. Three-dimensional printing with build plates having channels
CN110023056B (zh) 2016-11-21 2021-08-24 卡本有限公司 通过递送反应性组分用于后续固化来制造三维物体的方法
US10239255B2 (en) 2017-04-11 2019-03-26 Molecule Corp Fabrication of solid materials or films from a polymerizable liquid
US11616302B2 (en) 2018-01-15 2023-03-28 Rogers Corporation Dielectric resonator antenna having first and second dielectric portions
US11552390B2 (en) 2018-09-11 2023-01-10 Rogers Corporation Dielectric resonator antenna system
TWI820237B (zh) 2018-10-18 2023-11-01 美商羅傑斯公司 聚合物結構、其立體光刻製造方法以及包含該聚合物結構之電子裝置
GB2594171A (en) 2018-12-04 2021-10-20 Rogers Corp Dielectric electromagnetic structure and method of making the same
NL2022372B1 (en) 2018-12-17 2020-07-03 What The Future Venture Capital Wtfvc B V Process for producing a cured 3d product
AU2020271078A1 (en) 2019-04-09 2021-11-04 Azul 3D, Inc. Methodologies to rapidly cure and coat parts produced by additive manufacturing
CN113906066A (zh) 2019-05-30 2022-01-07 罗杰斯公司 用于立体光刻的可光固化组合物、使用所述组合物的立体光刻方法、通过立体光刻方法形成的聚合物组件、以及包含所述聚合物组件的装置
US11482790B2 (en) 2020-04-08 2022-10-25 Rogers Corporation Dielectric lens and electromagnetic device with same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6534033B1 (en) * 2000-01-07 2003-03-18 Millennium Cell, Inc. System for hydrogen generation
JP3589160B2 (ja) * 2000-07-07 2004-11-17 日本電気株式会社 レジスト用材料、化学増幅型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法
JP3968431B2 (ja) * 2003-01-21 2007-08-29 独立行政法人産業技術総合研究所 二酸化炭素と水素から蟻酸を製造する方法及び二酸化炭素の固定化方法および光を照射させることによってこれらを促進させる方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005104880A (ja) 2005-04-21
WO2005030784A1 (ja) 2005-04-07
US7550246B2 (en) 2009-06-23
EP1674473A1 (en) 2006-06-28
US20070059633A1 (en) 2007-03-15
EP1674473A4 (en) 2008-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4044505B2 (ja) 光酸発生剤
Shen et al. Photosensitized reduction of benzil by heteroatom-containing anthracene dyes
Ogilby et al. Chemistry of singlet oxygen. 36. Singlet molecular oxygen (1. DELTA. g) luminescence in solution following pulsed laser excitation. Solvent deuterium isotope effects on the lifetime of singlet oxygen
Nakagaki et al. Spectroscopic and kinetic studies of the photochromism of N-salicylideneanilines and related compounds.
Thorat et al. Congeners of pyrromethene-567 dye: perspectives from synthesis, photophysics, photostability, laser, and TD-DFT theory
Obondi et al. Photoinduced charge separation in wide-band capturing, multi-modular bis (donor styryl) BODIPY–fullerene systems
JPH0725846A (ja) アルキルスルホニウム塩
Das et al. Photochemistry of squaraine dyes. 6. Solvent hydrogen bonding effects on the photophysical properties of bis (benzothiazolylidene) squaraines
Sullivan et al. Photoelectrochemical cell based on the ion pair 1, 1'-dimethyl-4, 4'-bipyridinium bis (tetraphenylborate). Photocurrents from the direct irradiation of a donor-acceptor complex
Richoux et al. Influence of electrostatic forces upon the efficiency of charge separation for the zinc porphyrin/methyl viologen system
Gut et al. Visible‐Light Photoactive, Highly Efficient Triplet Sensitizers Based on Iodinated Aza‐BODIPYs: Synthesis, Photophysics and Redox Properties
Ngoy et al. Photophysical studies of 2, 6-dibrominated BODIPY dyes substituted with 4-benzyloxystyryl substituents
CN104267578A (zh) 一类含芴的硫鎓盐类光生酸剂、制备方法及其应用
CN111718320B (zh) 卤代荧光素弱光上转换体系及其制备方法与应用
Del Giacco et al. Photo‐oxidation of some benzylic alcohols sensitized by colloidal TiO2 in CH3CN. A kinetic mechanistic study through quantum yield determinations
Fanni et al. Photochemically induced isomerisation of ruthenium polypyridyl complexes
JP2005145853A (ja) 光触媒
Sabuzi et al. Zinc porphyrin-anthraquinonylimidazole supramolecular dyads
Bettucci et al. Tailoring the Optical Properties of Organic D‐π‐A Photosensitizers: Effect of Sulfur Introduction in the Acceptor Group
Sabatini Excited state dynamics, molecular interactions, and electron transfer in systems for the photochemical production of hydrogen
Chen Amplification of fragmentation and photooxidation reactions through tandem chain processes initiated by photoinduced electron transfer
Heaney et al. Electron-transfer from excited carboxyalkylferrocenes to nitrous oxide
Tarumoto et al. Diphenyliodonium salts with diazoxide group for a photo-acid generator
Yoichi et al. Excited state dynamics for visible-light sensitization of a photochromic benzil-subsituted phenoxyl-imidazolyl radical
Seena et al. Photophysical and singlet oxygen generation studies of a few water soluble triazatriangulenium salts

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20071107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071115

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101122

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees