JP4035116B2 - Exposure equipment - Google Patents
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Description
本発明は、プリント基板の製造工程の中の露光工程で使用される露光装置に係り、特に外層基板を効率よく露光処理でき、さらに作業者(オペレーター)の1回の操作によって両面を露光処理できるよう簡易にしかも能率的に作業ができると共に、コスト削減に資することができるようにした露光装置に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus used in an exposure process in a printed circuit board manufacturing process. In particular, an outer layer substrate can be efficiently exposed, and both surfaces can be exposed by a single operation of an operator (operator). The present invention relates to an exposure apparatus that can work easily and efficiently and contribute to cost reduction.
従来、この種のプリント基板の露光装置は、例えば外層基板又はソルダーレジスト塗布された基板(以下、基板という。)に、原版フィルムが貼付されたアクリル樹脂等からなる透光性に優れた板状のフィルム保持版を当接してセットすると共に、このフィルム保持版の上から露光ランプで紫外線を照射して露光処理するようにしているのである。 Conventionally, this type of printed circuit board exposure apparatus is, for example, a plate-like material having excellent translucency made of an acrylic resin or the like having an original film attached to an outer layer substrate or a substrate coated with a solder resist (hereinafter referred to as a substrate). The film holding plate is abutted and set, and exposure processing is performed by irradiating ultraviolet rays from above the film holding plate with an exposure lamp.
そして、この露光処理のために従来から提案されている手動操作式の露光装置は、整合部において露光処理すべき基板に対して、原版フィルムが貼付されている上面用、下面用の各一対の計2組のアクリル板製のフィルム保持版を交換しながら順番に整合させて配置、固定し、これを露光部に移動させ、露光部で露光処理しているのである。このときの露光部では、露光部の上部に設けられた露光ランプによって基板上に整合固定したフィルム保持版上方から露光処理するものとなっている。また、整合部で整合した後に露光部に基板を移動させて基板の一面を露光処理し、それが終了すると基板を一旦は整合部に戻し、整合部において基板を反転させると共に上面用、下面用のいずれかのフィルム保持版を順番に交換して当接整合後にもう一度露光部に基板を送り込み、他面を露光処理するものとなっているのである。
しかしながら、上記従来の手動操作式の露光装置において、上下面用のフィルム保持版が整合固定された基板を整合部と露光部との間で交互に2度往復させる必要があると共に、それらの往復移動等の作業は必然的に作業者が基板の出し入れを2度行うものとなるために極めて面倒なものである。そればかりでなく、基板の挿入、取り出しの度に上下面用のフィルム保持版を順番に交換する必要があるから、それも作業上の大きな負担となっているのである。 However, in the conventional manual operation type exposure apparatus, it is necessary to alternately reciprocate the substrate on which the upper and lower surface film holding plates are aligned and fixed twice between the alignment unit and the exposure unit. Work such as movement is extremely troublesome because the operator inevitably needs to insert and remove the substrate twice. In addition, it is necessary to exchange the upper and lower film holding plates in order each time the substrate is inserted and removed, which is a heavy work burden.
そこで本発明は叙上のような従来存した諸事情に鑑み創出されたもので、その目的は、基板の上下面の露光処理に際しての従来のような2度のフィルム保持版の整合固定、基板の出し入れ作業をすることなく、1度の出し入れ作業によって基板の上下面に対する整合及び露光を処理できるものとし、作業員は処理すべき基板の投入、露光後の基板の取り出しその関連操作を行うのみの簡便な作業で機器を取り扱うことができ、しかも、低コストで露光処理ができるのであり、特に1度の操作によって基板の両面露光が可能となる露光装置を提供することにある。 Therefore, the present invention was created in view of the conventional circumstances as described above, and its purpose is to align and fix the film holding plate twice, as in the past, during the exposure processing of the upper and lower surfaces of the substrate. Alignment and exposure to the upper and lower surfaces of the substrate can be processed by a single loading / unloading operation, and the worker only performs operations related to loading of the substrate to be processed and removal of the substrate after exposure. It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus that can handle an apparatus with a simple operation and that can perform exposure processing at low cost, and in particular, can perform double-sided exposure of a substrate by one operation.
上述した課題を解決するため、本発明に係る露光装置1にあっては、所定の上側原版フィルムF1を貼設した透光性材からなる一つの上側保持板10と、この上側保持板10に対して相互に交換されて対状に組み合わせられるように所定の下側原版フィルムF2をそれぞれ貼設した透光性材からなる第1下側保持板20A及び第2下側保持板20Bと、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに載置された基板Kの上に上側保持板10を載置し、整合機構50によって整合位置決めして積層体Sを生成する整合室2と、生成された積層体Sに露光ランプ5からの光線を照射して露光処理を行うよう整合室2に隣接して設けられた露光室3と、整合室2及び露光室3間に設けられ、生成された積層体S、上側保持板10、第1下側保持板20A及び第2下側保持板20Bそれぞれを案内移動させるガイド部30と、整合時の基板Kを持ち上げる基板持上機構40とからなり、第1下側保持板20A及び第2下側保持板20Bはいずれか一方が整合室2で基板Kに対して整合中であるとき、いずれか他方は露光室3で基板Kに対して露光中であると共に、露光室3での露光終了後の上側保持板10は基板Kから分離して露光室3から整合室2に後退移動して戻り、新たな積層体Sを生成するようになっていることを特徴とする。
このような構成からなる露光装置1は、整合室2において上側保持板10と2枚の下側保持板20A,20Bのうちの一方の下側保持板、例えば第1下側保持板20Aとで基板Kを挟んで、しかも基板Kの上下面では上側原版フィルムF1、下側原版フィルムF2それぞれが整合位置決めされた状態での積層体Sを生成させる。このような整合室2での積層体Sの生成中においての露光室3ではここに送り込まれた積層体Sに対してその上下面を露光処理させている。その露光処理後では基板Kから分離した上側保持板10が露光室3から整合室2に後退移動して戻り、整合室2では、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bの下側原版フィルムF2が整合位置決めされた基板Kに対して上側保持板10の上側原版フィルムF1が整合位置決めされ、密着されて新たな積層体Sを生成させる。そして、整合処理後では積層体Sを整合室2から露光室3に前進移動させる一方、露光処理が終了し、上側保持板10が分離された後の基板K及び第2下側保持板20B又は第1下側保持板20Aが露光室3から整合室2に後退移動する。然る後、露光室3では新たな露光処理が開始される一方、整合室2では基板持上機構40の一時的な上昇退避と共に露光後の基板Kの取り出し、新たな基板Kの第2下側保持板20B又は第1下側保持板20A上への投入載置が行われ、再度新たな積層体Sを生成すべく、整合処理が行われる。この整合処理時では、新たな基板Kを載置した第2下側保持板20B又は第1下側保持板20Aに対し、積層体Sが露光処理を終了した後に露光室3から後退移動されて戻る上側保持板10とで新たな積層体Sを生成させる。
In order to solve the above-described problem, in the exposure apparatus 1 according to the present invention, one
The exposure apparatus 1 having such a configuration includes the
また、整合機構50は、整合室2で整合テーブル52に吸着固定した第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに載置された基板Kを基板持上機構40によって持ち上げた状態で下側原版フィルムF2を基板Kに位置合わせさせ、また位置合わせ後の下側原版フィルムF2上に載置した基板Kを、露光室3からの後退移動で整合室2に戻った上側保持板10の上側原版フィルムF1に整合テーブル52によって位置合わせさせ、この位置合わせ後に基板K及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを上側保持板10に密着させることで積層体Sを生成するようにしている。
ガイド部30は、整合室2で生成された積層体Sを露光室3に前進移動させ、露光室3で露光終了後の上側保持板10を整合室2に後退移動させる上側保持板案内レール30Bと、露光終了後の第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bが基板Kと共に載置される移動台車21を整合室2と露光室3との間で前進後退移動させる下側保持板案内レール30Aとを備えており、これらの上側保持板案内レール30B、下側保持板案内レール30Aそれぞれは、前者30Bを後者30Aより高い位置に設定して整合室2、露光室3相互間で同一レベル面に設定されているのである。
また、移動台車21は、整合室2では整合テーブル52の昇降作動によって、露光室3では昇降シリンダ65の昇降動作によって第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを着脱自在に載置させるようにしてある。
これによって、整合後においての、上側保持板10に対して第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bによって吸着させることで基板Kを挟んだ状態で生成された積層体Sを上側保持板案内レール30Bで整合室2から露光室3に円滑に前進移動させ、また露光処理後で基板Kから分離された上側保持板10のみを露光室3から整合室2に円滑に後退移動させ、新たな積層体Sの生成の準備をさせる。一方、露光処理後の積層体Sから上側保持板10を分離した後の基板K及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bは移動台車21上に載置されて、下側保持板案内レール30Aで露光室3から整合室2に後退移動して戻り、基板Kの取り出し、新たな基板Kの載置を準備させる。
In addition, the
The
The
As a result, the stacked body S generated in a state where the substrate K is sandwiched by adsorbing the
さらに、露光室3における露光ランプ5から照射される光線を反射鏡6を用いて屈曲させて積層体Sの両面を露光処理させるものであることができ、積層体Sの両面を積層体Sを反転させることなく、あるいは反転させて露光処理する。
また、露光ランプ5からの光線を特定方向に反射させる反射鏡102と、反射された露光線の露光線路を上下方向のいずれかに切り換えるよう進退する切換反射板104と、搬入された積層体Sに対してその上下方向から露光線を反射照射するよう放物面状の反射面を有する上下に配置された上下部露光反射板105A,105Bとを備えて成ることで、積層体Sの両面を積層体Sを反転させることなく、1個の露光ランプ5で積層体Sを上下で反転させることなく、切換反射板104の進退によってその両面を露光させる。
露光処理する露光ランプ5は1個からなり、積層体Sを反転させてその積層体Sの両面を露光処理させるものであるとしたり、露光ランプ5は積層体Sの上下面をそれぞれ各別に露光させる複数にしてあることで、積層体Sを反転させることなく、両面を露光処理させるものであるとしたりできる。
Furthermore, the light beam emitted from the exposure lamp 5 in the
In addition, the
The exposure lamp 5 to be exposed is composed of one piece, and the laminate S is inverted to expose both surfaces of the laminate S. The exposure lamp 5 exposes the upper and lower surfaces of the laminate S individually. It can be said that both sides are exposed to each other without reversing the stacked body S by having a plurality.
そしてまた、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに載置された基板Kは、基板固定機構70を用いて第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bにその非露光部分で固定されるもので、この基板固定機構70は、基板Kを第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bの非露光部分へ押圧する押え片73を有し、この押え片73は、弾性体71により常時第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B側に付勢され、弾性体71に抗して押え片73が第1下側保持板20A又はその第2下側保持板20Bから離れる方向に移動されたときに所定角度で回動退避するものである。
更に、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに載置される基板Kは、基板固定機構70を用いて第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに固定される前に、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに載置された基板Kを基板持上機構40を用いて第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上から持ち上げた状態で、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを整合機構50を用いて基板Kと第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bそれぞれに貼設した下側原版フィルムF2との位置関係が所定の位置となるように整合位置調整が行われるのである。
そしてこの整合位置調整である、基板Kに対する上側保持板10すなわち上側原版フィルムF1、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bすなわち下側原版フィルムF2の位置決め整合は、基板Kに対する上側あるいは下側原版フィルムF1,F2の位置合わせマークを基板カメラ60によって撮像し、基板Kに対する下側原版フィルムF2の位置合わせは第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを、また基板Kに対する上側原版フィルムF1の位置合わせは基板Kをそれぞれで対応合致させるように整合機構50の整合テーブル52によってX方向、Y方向、θ角度で移動させて行うようにしてあるのである。
In addition, the substrate K placed on the first
Further, the substrate K placed on the first
The alignment of the
本発明に係る露光装置1は、上側保持板10と第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bとで基板Kを挟んで積層体Sを生成する整合室2と、この整合室2で生成された積層体Sを露光ランプ5を用いて露光処理する露光室3とを有するとともに、生成された積層体Sは整合室2から露光室3に、露光処理後で基板Kから分離された上側保持板10のみを露光室3から整合室2に、その露光、分離後の基板K及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを露光室3から整合室2にそれぞれガイド部30で案内移動することができるので、作業員イによる1度の基板Kの投入、取り外しに関連して整合室2と露光室3との1往復で基板Kの両面を露光処理できるのである。
The exposure apparatus 1 according to the present invention includes an alignment chamber 2 that generates a laminate S with a substrate K sandwiched between an
また、ガイド部30を下側保持板案内レール30A、上側保持板案内レール30Bで構成しているので、ガイド部30を簡単に構成できるとともに、生成された積層体Sを上側保持板10の吸着保持による前進移動で整合室2から露光室3に簡単に移動でき、また、上側保持板10のみの露光室3から整合室2への戻り作業も円滑に行えるのである。そればかりでなく、露光分離後の基板K及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bの露光室3から整合室2への移動を下側保持板案内レール30A上で移動する移動台車21によって簡単に行うことができ、露光処理後の基板Kの露光室3から整合室2への取り出し、新たな基板Kの載置、整合等を確実に行うことができる。しかも、整合室2では、露光室3からの後退移動で、露光処理後の基板Kが第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに載置された状態で戻るから、それを取り出し、また新たな基板Kを第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上に載置し、その後の整合のための操作を行うのみの1度の操作で一連の工程を終了でき、また準備できるから、作業能率を大きく向上できる。
Further, since the
そして、露光室3内における基板Kに対する露光処理は、反射鏡102、切換反射板104、上下部露光反射板105A,105Bから成る露光機構とすることで、切換反射板104の進退によって積層体Sを反転させることなく積層体Sの両面を1個の露光ランプ5で露光できるのである。また、露光室3内で積層体Sを上下で反転させることでも、1個の露光ランプ5で露光処理ができコストの削減を図ることができる。
The exposure process for the substrate K in the
また、基板Kは基板固定機構70を用いて第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに固定されるようになっているので、基板Kに対する第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bの相対的な移動を効果的に防止できるばかりでなく、整合機構50による整合後での固定を確実にし、また非露光部分を押え片73で押さえていることで、露光処理時に邪魔になることもない。しかも、この押え片73は、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに対する上下動に伴い、基板Kの上方位置における押え作動、側方位置における回動退避作動とが行われるので、整合室2内での第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに対する基板Kの固定、あるいは取り外し等の着脱操作を簡単に行うことができる。
Further, since the substrate K is fixed to the first
さらに、整合機構50は、基板Kと上側保持板10、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bとの位置決め整合に際し、基板Kに対する上側あるいは下側の原版フィルムF1,F2の位置合わせマークを基板カメラ60によって撮像し、それらを対応合致させるように整合テーブル52によってX方向、Y方向、θ角度で、先ずは基板持上機構40によって持ち上げている基板Kに対して第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを整合位置決めし、次いでその位置合わせ後の基板Kを上側保持板10に対して移動させて行うようにしてあるので、基板Kと上側あるいは下側の原版フィルムF1,F2とを所定位置で簡単に合わせることができる。また露光後で、基板Kから分離される上側保持板10が上側保持板案内レール30Bによって露光室3から整合室2に戻すように移動された後の上側保持板10に対する基板K及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bの位置合わせ整合も整合テーブル52の所定方向への、所定角度での移動調整によって容易、確実に行うことができるのである。
Further, the
また、基板持上機構40は、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上に載置された基板Kを一旦は持ち上げることで、整合機構50においての整合テーブル52による下側原版フィルムF2が貼付されている第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを移動させての基板Kに対する整合作動を行わせることができると共に、この整合位置決め後で第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上に位置決めされた基板Kと上側保持板10の上側原版フィルムF1を整合させるときは上昇退避していることで、上側保持板案内レール30Bによって戻ってくる上側保持板10に対する基板K等の整合テーブル52による整合作動を行わせることができる。更には整合室2の奥部側すなわち露光室3側に前進退避することで、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上方を大きく開放でき、基板Kの投入あるいは取り出しを円滑に作業できるものとなる。
Further, the
なお、この発明の効果の項及び上記課題を解決するための手段の項において使用された符号は、図面中の該当構成部分と参照させて本発明の理解を容易にするためのものであって、本発明を限定するものではない。 Note that the reference numerals used in the section of the effect of the present invention and the section of means for solving the above-mentioned problems are for making it easy to understand the present invention by referring to the corresponding components in the drawings. The present invention is not limited to this.
以下、本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明に係る手動操作式の露光装置1の概略構成図であり、作業員(オペレーター)イが位置する側の手前に、作業員イが処理すべき基板Kを投入し、また露光処理後の基板Kを取り出すための整合室2が設けられ、この整合室2における作業員イが位置する側と反対側である奥部には、順に露光室3及びランプ室4が設けられている。これらの整合室2、露光室3、ランプ室4は、所定断面の鋼材その他のフレーム躯体によって所定の容積を有するものとして区画構成されており、整合室2の手前部分には、作業員イによって露光装置1を種々に操作するためのスイッチ類、メーターその他が配置されている操作盤が設けられている(図示せず)。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a manually operated exposure apparatus 1 according to the present invention, in which a substrate K to be processed by an operator (i) is placed in front of the side where the operator (operator) is located. An alignment chamber 2 for taking out the substrate K after the exposure processing is provided, and an
整合室2は、後述する上側保持板10と2枚の第1、第2の下側保持板20A,20Bのうちのいずれか一方の下側保持板20A(20B)とで基板Kを挟んで積層体Sを生成するとき、基板Kと上側保持板10に貼付の上側原版フィルムF1、いずれかの下側保持板20A,20Bに貼付の下側原版フィルムF2とを整合位置決めさせるようにしている。また、露光室3は、ランプ室4に配置されている露光ランプ5から照射される紫外線からなる露光線をランプ室4に設けられた反射鏡102あるいは6及び露光室3に配置された上下の露光反射板105A.105Bあるいは7を用いて照射して露光処理するに十分な所定の容積を有する室に構成されている。なお、この最良の実施の形態を説明するにあたり、基板Kは整合室2において精密な位置決めが必要な外層基板又はソルダーレジスト基板として説明する。
The alignment chamber 2 sandwiches the substrate K between an
次に、図2乃至図7を用いて整合室2における積層体Sの生成のための構成要素と、生成された積層体Sを整合室2から露光室3に移動させるための構成要素について説明する。積層体Sを生成する上側保持板10及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bは、共に平面形状が所定の面積を有する四角形を呈し、かつ所定の厚さを有するアクリル樹脂板等の透光性に優れたプレート状の材料から作られている。そして、これら各板10,20A,20Bには、従来と同様な露光装置における同様な電気回路等の各種パターンが印刷表示された上側原版フィルムF1が上側保持板10に、下側原版フィルムF2が第1下側保持板20A及び第2下側保持板20Bそれぞれに貼設(貼付)されている。すなわち、上側保持板10の下面(第1下側保持板20Aあるいは第2下側保持板20Bに対向する面)に上側原版フィルムF1が貼設され、第1下側保持板20A及び第2下側保持板20Bの上面(上側保持板10に対向する面)に下側原版フィルムF2,F2がそれぞれ貼設されている。なお、第1下側保持板20A及び第2下側保持板20Bにそれぞれ貼設される下側原版フィルムF2,F2は同一形態の原版フィルムである。また、これら原版フィルムF1,F2の厚さは、各板10,20A,20Bの厚さに比べて極めて薄いが、図示では誇張して示されている。
Next, components for generating the stacked body S in the alignment chamber 2 and components for moving the generated stacked body S from the alignment chamber 2 to the
また上側保持板10は、これの周囲が例えばSUS等からなる鋼製の枠体11で囲まれることで補強されていて、この枠体11は後述するガイド部30における上側保持板案内レール30B上で移動走行するように構成されているのであり、この上側保持板案内レール30Bによって案内されることで整合室2と露光室3との間で前進、後退するように移動される。
Further, the
一方、第1下側保持板20A及び第2下側保持板20Bは、図7に示すように平面から見て、整合室2側が開放されているコ字形の移動台車21に着脱自在に載置されるようになっている。なお、この移動台車21は後述するガイド部30における下側保持板案内レール30Aによって整合室2と露光室3との間で前進、後退するのであり、この前進後退移動に伴い第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bも整合室2と露光室3との間で移動し、更に後述の整合機構50の整合テーブル52の昇降作動によって整合室2内で、昇降シリンダ65の昇降作動によって露光室3内で移動台車21から分離して昇降されるようになっている。
On the other hand, as shown in FIG. 7, the first
図中、30は、本発明における基板K、上側保持板10、第1下側保持板20A、第2下側保持板20Bそれぞれを移動案内させるためのガイド部であって、整合室2、露光室3相互間に渡って設けられている。そして、上述した上側保持板10の枠体11、第1下側保持板20A、第2下側保持板20Bそれぞれを載置させる移動台車21の両側を載置できる所定の間隔を保って平行にしてフレーム躯体上で左右一対にして配置されており、フレーム躯体の内方側では低く、外方側では高くした内外側方での2段構成に形成されている。そして、このガイド部30には、左右の内方側の低い部分には、移動台車21の移動案内を行なう下側保持板案内レール30Aが、左右の外方側の高い部分には上側保持板10の枠体11の移動案内を行なう上側保持板案内レール30Bがそれぞれ敷設されている。なお、これらの各レール30A,30B等によって上側保持板10、移動台車21それぞれを移動させるときには、それぞれスイッチ操作例えば作業員イによるフットスイッチで機械的に走行移動するようになっている。
In the figure,
また、このガイド部30における下側保持板案内レール30Aの外側方の高い部分の、フレーム躯体の左右の外側縁部における整合部2部分には後述する基板持上機構40を、基板Kの取り出し、載置時に露光室3側に退避させるために移動案内する退避案内レール30Cが敷設されている。
In addition, a substrate lifting mechanism 40 (to be described later) is taken out at a portion of the alignment portion 2 at the left and right outer edges of the frame housing at the outer portion of the lower holding
基板持上機構40は、作業員イによって整合室2に位置する第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上に載置された基板Kを、整合機構50によって下側原版フィルムF2と整合位置決めさせるために一旦持ち上げるもので、フレーム躯体の整合部2における左右の外側縁部に敷設した退避案内レール30C上に跨いで配装される持上フレーム41の下面の一部に吸着板42を設けて構成され、平面から見て左右に長くして構成されている(図7参照)。吸着板42は、真空ポンプ又は真空タンク等の図示しない減圧源にバルブ(図示せず)を介して接続されているとともに、吸着板42の下面には、基板Kの平面形状内の範囲で所定の間隔を保って複数の吸引孔42Aが設けられている(図7参照)。したがって、吸着板42に基板Kが当接されると、吸引孔42Aの吸引作用で基板Kを吸着板42に吸着固定することができる。また、この基板持上機構40の持上フレーム41には照明用のランプ43が設けられていて、基板Kに光線を照射できるように構成されている。したがって、ランプ43で基板Kに光線が照射されると、基板Kに設けられているスルーホールから光線が通過するので、基板Kの下方に設けられている後述する基板カメラ60で、基板Kのスルーホール位置と、下側及び上側の原版フィルムF2,F1のフィルムマークとを位置合わせするためにこれらを的確に把握することができるようにしてある。さらに、この基板持上機構40の持上フレーム41自体は、退避案内レール30C上で走行させる走行ベース上に配置したエアシリンダ44によって上下動できるように構成されており(図2における左右位置の矢印参照)、また図示を省略した走行駆動機構によって、基板Kの取り出し、載置時に露光室3側に退避移動されるものとなっている。
The
図1,図2及び図5中、50は、基板Kと上側原版フィルムF1、下側原版フィルムF2とを整合位置決めさせるために位置調整する整合機構であって、エアシリンダ51で上下動(図2の矢印ロ参照)される整合テーブル52を上部に有し、この整合テーブル52をX軸方向及びY軸方向に移動させることができるとともに、整合テーブル52を所定のθ角度で水平方向で回転(揺転)できるように構成されている。また、整合テーブル52の上面には、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bの平面形状内の範囲で所定の間隔を保って複数の吸引孔(図示せず)が設けられているとともに、後述する基板カメラ60によって、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上におおよその位置で一旦は載置され、その後に基板持上機構40によって持ち上げられた基板Kと、整合テーブル52上の第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bとの位置合わせのためのマーク等を撮像するための切欠状の開口53が例えば側縁の一部に形成されている(図6参照)。したがって、この整合テーブル52上に第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bが当接され、図示しないバルブが開かれて整合テーブル52内が真空ポンプ又は真空タンク等の図示しない減圧源に接続されると、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを整合テーブル52に吸引固定することができる。そして、この吸引固定した状態で基板カメラ60による位置検出とともに整合機構50が制御されると、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20BをX方向、Y方向、θ角度での位置調整を行うことが可能となる。なお、整合テーブル52の上下動は、整合テーブル52自体を上下動させる他に、整合機構50全体を上下動させて行うことも可能である。
1, 2 and 5,
この整合機構50においての整合テーブル52は、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを昇降させることでこれに貼付の下側原版フィルムF2の上下位置を設定させる。すなわちこの下側原版フィルムF2は、基板Kの投入時、取り出し時では移動台車21上に下側保持板20A,20Bが載置されているときが最も低い準備位置(L0)にあり、基板Kあるいは上側原版フィルムF1に対して整合する整合位置にあるときは移動台車21上方に持ち上げられた整合位置(L1)にあり、上側保持板10に基板Kを挟み込んで積層体Sを生成するときには最も高い位置に持ち上げられた生成位置(L2)にあるのであり、これらの上下位置は整合テーブル52を昇降させるサーボモータ51によって、位置決め設定されるようになっている。なお、これらの上下の位置決めは、図10乃至図12に示されているも、これらの準備位置、整合位置、生成位置等に特に限定されることなく、適位置で停止保持されるものとしてある。、
The alignment table 52 in the
次に、図5乃至図7を参照して整合機構50を用いた基板Kと第1下側保持板20Aに貼設されている原版フィルムF2との位置合わせについて説明する。なお、第1下側保持板20、第2下側保持板20Bそれぞれが交互に整合室2、露光室3で出入りされるのに伴い、第2下側保持板20Bについても同様に基板Kに対して位置決めされるのであり、したがって、第2下側保持板20Bにおける位置合わせについても同様に行われるので、特に指示しない限り、第1下側保持板20Aについての位置合わせとして説明する。なお、基板Kが原版フィルムF1,F2と精密な位置合わせが必要ない内層基板の場合は、整合機構50を用いた位置合わせは省略されることもある。
Next, the alignment between the substrate K using the
図5は、処理すべき基板Kが第1下側保持板20Aに載置された後、基板持上機構40によってその第1下側保持板20A上から一旦、少し持ち上げられた状態を示している。すなわち第1下側保持板20Aは、整合テーブル52に吸引固定されている状態では整合テーブル52の上昇によって下側保持板案内レール30A上にある移動台車21から持ち上げられている。したがって、この第1下側保持板20Aは整合機構50によってX方向及びY方向に移動自在で更にθ角度で回動自在に置かれている(図5及び図7のXYθ参照)。この状態において、基板Kの下面がCCDカメラの如き基板カメラ60により撮像されると、基板持上機構40によって持ち上げられている状態の基板Kに対する第1下側保持板20Aの位置関係がどのような状態にあるかが撮像される。
FIG. 5 shows a state in which the substrate K to be processed is slightly lifted from the first
上記基板カメラ60は、整合テーブル52の下方で図示しないフレーム躯体に固定されて例えば左右で一対にした複数台(図示の例では2台)にして配設されている。そして、基板カメラ60は整合テーブル52に設けられている切欠状の開口53を経て基板持上機構40に持ち上げ固定されている基板Kの下面を撮像できるように構成されている。この基板カメラ60で撮像された画像データは、図示しない画像処理器に入力されて基板Kの基準位置、つまり所定のスルーホール位置に対しての第1下側保持板20Aに貼設されている原版フィルムF2(この原版フィルムF2は、第1下側保持板20Aの所定位置に正確に貼設されている)のズレが検出される。
The
なお、基板カメラ60は整合テーブル52の下方に、また撮像のための照明用のランプ43は整合テーブル52の上方に位置する上記基板持上機構40における持上フレーム41にそれぞれ配置してあるも、これらの上下位置関係を逆にしてもよいのであり、基板カメラ60を上方位置に、ランプ43を下方位置にそれぞれ位置させて設けてもよいのである。また、液状レジストの場合には、基板カメラ60、ランプ43を、反射式にして位置合わせできるように上下に設置することもある。
The
整合機構50を駆動制御するCPUを中心に構成された図示しない制御器は、基板Kに対する第1下側保持板20Aの位置ズレが検出されると、そのズレを解消するように整合機構50を駆動制御するのである。この整合機構50の駆動によって基板Kに対する第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bに貼付の下側原版フィルムF2が所定の正確な位置に対応合致すると、基板持上機構40の持上フレーム41が降下して基板Kが下側原版フィルムF2上、すなわち第1下側保持板20Aに載置される。そして、その載置された基板Kは、以下に説明する基板固定機構70によって第1下側保持板20A上に固定される。
When a position shift of the first lower holding plate 20 </ b> A with respect to the substrate K is detected, a controller (not shown) configured around a CPU that drives and controls the
この基板固定機構70は、図3及び図4に示されるように、例えば第1下側保持板20Aの一辺側(図1においての作業員イ側)、すなわち非露光部分である下側原版フィルムF2の外方位置で所定の間隔を保って複数組、例えば2組にして設けられている。すなわち、この基板固定機構70は、第1下側保持板20A自体に貫通して設けられ、その第1下側保持板20Aの下側に設けられたコイルばねからなる弾性体71で常時下側に付勢されるも、例えば整合室2内に配置のエアシリンダ80との当接によって上方に持ち上げられるようになっている支軸72を有している。そして、この支軸72の第1下側保持板20Aの上面側に位置する先端部には、基板Kにおける非露光部分である余白部分を押さえるようにしてある押え片73が設けられているとともに、支軸72の一部には、螺旋条74が設けられている。また、第1下側保持板20Aには、この螺旋条74に螺合する螺旋溝75が、支軸74が貫挿される貫挿孔の内周面に設けられている。したがって、支軸72が弾性体71の弾発力に抗してエアシリンダ80で持ち上げられると、押え片73は第1下側保持板20Aの上面から離れるに伴い平面上で回動することができる(図3の矢印参照)。螺旋条74及び螺旋溝75の関係は、支軸72が弾性体71に抗して少し持ち上げられてから回転を開始し、その回転作用は基板K上方から側方に退避されるように、平面上で例えばほぼ90度で行われるように決められている。このような基板固定機構70は、第2下側保持板20Bにも設けられている。なお、図4において、12は上側保持板10の下面に設けられた窪みであり、第1下側保持板20Aと上側保持板10とが吸着固定されることで積層体Sを生成するときに押え片73が障害とならないように回避するための逃げである。
As shown in FIGS. 3 and 4, the
なお、この基板固定機構70は図示を省略したが、基板Kの縁部を弾発的に上方から押圧挟持するように基板K側に常時付勢されている弾性体からなる押さえ片を、この押さえ片の下方から押し上げて基板Kに対する押圧作用を解除するようにしたエアシリンダを設けてもよい。いずれにしても基板Kの縁部である非露光部分の余白部分を押さえることで基板Kを保持すれば足りるから、これらの構造、形状等に限定されるものではない。
Although the
次に、図2、図5を用いて積層体Sの生成について説明する。上述のように整合室2において、移動台車21上から僅かに上昇された第1下側保持板20Aが基板Kに対しての整合位置合わせが終了すると、第1下側保持板20Aが上昇して第1下側保持板20A上に基板Kを載置した状態で基板固定機構70によって両者K,20A相互が固定され、その状態で移動台車21位置まで下降されると共に、基板持上機構40は上昇し、基板K上方を開放する。すると、露光室3内での露光処理が終了することで基板Kから分離した上側保持板10が露光室3から整合室2に後退移動して、整合室2にある基板Kの上方位置で、そのおおよその位置で復帰停止する。
Next, the production | generation of the laminated body S is demonstrated using FIG. 2, FIG. As described above, in the alignment chamber 2, when the alignment of the first
そして、整合室2内では、上側保持板案内レール30B上で位置決めされている上側保持板10に対して、第1下側保持板20A上で固定されていることでこれと一体状となっている基板Kを第1下側保持板20Aと共に整合テーブル52によって移動台車21上から持ち上げ、整合テーブル52の整合位置決め動作によって上側保持板10の上側原版フィルムF1に対して基板Kを整合位置決めさせるのである。このとき、上側原版フィルムF1の位置合わせマークに対して、基板Kのスルーホール等が対応合致しているかどうかを基板カメラ60によって撮像しており、位置合わせマークと所定のスルーホール位置等とがぴったりと合致していることが撮像されると、これらの位置が整合位置にあるとされ、その状態では、上側保持板10に対して基板K及び第1下側保持板20Aを上昇させる。次いで後述するように上側保持板10、第1下側保持板20A相互間を減圧状態にすることで上側保持板10に対して基板Kを挟んだ状態で第1下側保持板20Aを吸着固定させることで積層体Sとして生成するのである。なお、この積層体Sの生成後では、移動台車21上から第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bが分離したものとなっており、この空の状態にある移動台車21は下側保持板案内レール30Aに案内されて整合室2から露光室3内に前進移動し、露光終了後の基板K等を載置するようにその載置位置で待機するものとなっている。
In the alignment chamber 2, the
なお、位置合わせマークは、例えば基板Kにおける一定位置のスルーホール、吸引テーブルにおける前記開口53を通過するランプ43の位置合わせ用の光が、基板Kに対して位置合わせさせるに必要な部位で原版フィルムF1,F2それぞれに表示されており、基板カメラ60によってこれらを撮像することで位置合わせされるのである。このときの位置合わせマークは、基板Kの上下に位置される上側あるいは下側の原版フィルムF1,F2それぞれに大小がある例えば円形マークとして表示されている。なお、上側原版フィルムF1、下側原版フィルムF2それぞれにおける位置合わせマークは、基板カメラ60が下方から撮像して位置合わせさせるとき、下側原版フィルムF2における位置合わせマークは、上側原版フィルムF1における位置合わせマークに対して小さくされることで、原版フィルムF1,F2両者の基板Kに対する位置決めを確実、容易に設定できるようにしてある。
The alignment mark is, for example, a part necessary for aligning the light for alignment of the
また、これらの位置合わせ、整合に際しての前記位置合わせマークは、通常は適当な間隔で離れている一対にして表示されるものとし、これに対して基板カメラ60も一対にして固定的に配置されるも、複数の位置合わせマークに対して基板カメラ60を移動式にしてこれらをそれぞれ撮像することで整合処理を行うようにすることもできる。
In addition, the alignment marks at the time of alignment and alignment are usually displayed as a pair separated by an appropriate interval, and the
そして上側保持板10、第1下側保持板20A(又は第2下側保持板20B、以下同様)の上下の間隙における周縁間には、基板Kの高さに比し小さくはない高さのパッキン部材22を介在させてある。すなわち、上側保持板10又は第1下側保持板20Aもしくは第2下側保持板20Bのいずれか一方(本実施の形態では上側保持板10)にパッキン部材22が設けられているので、パッキン部材22よりも内側の空間部分の空気が吸引されると、上側保持板10、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B相互が接近して、上側保持板10、上側原版フィルムF1、基板K、下側原版フィルムF2、第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bによって積層構造となる積層体Sが生成される。なお、上側保持板10又は第1下側保持板20Aもしくは第2下側保持板20Bには、パッキン部材22よりも内側の室の空気を吸引するための真空ポンプ又は真空タンク等の図示しない減圧源に接続されたバルブを有する接続孔が設けられているが、ここでは省略されている。このような積層体Sの生成は、第2下側保持板20Bを用いても同様に行われるのは勿論である。
The height between the peripheral edges of the upper and lower gaps of the
また露光室3は図1に示すように、積層体Sを反転させることなく両面を露光処理できるようにした両面露光機構のものとして構成されているものである。すなわち、この露光機構においては、露光室3の前方に構成したランプ室4内に配置された露光ランプ5からの紫外線等を特定方向に反射させる反射鏡102と、反射された紫外線等の露光線を集光する集光レンズ103と、集光された露光線の露光線路を上下方向のいずれかに切り換えるよう進退する切換反射板104と、搬入された積層体Sに対してその上下方向から露光線を反射照射するよう放物面状の反射面を有する上下に配置された上下部露光反射板105A,105Bとを備えて成るものである。この露光機構によれば、積層体Sを上下方向で反転させる必要がなく、搬入された状態の姿勢のままで露光処理でき、しかも構成を簡素化することができるとともに、放物面状の反射面を利用することで積層体Sに対して平行光を形成でき、基板Kに対する露光処理に好適なものとできる。なお、反射鏡102、切換反射板104等はランプ室4に設けられるも、露光室2内に設けるも任意に選定できるものである。
Further, as shown in FIG. 1, the
尚、図においての露光ランプ5は、積層体S位置における上方に配置されていて、下方に照射される紫外線等を反射鏡102によって上方に反射するものとしてある。そして、切換反射板104はその下面が反射面となっていることで、積層体S側に前進したときには紫外線等を反射して下部露光反射板105Bによって上方に反射させることで積層体Sの下面側を露光し、逆に切換反射板104が後退したときには反射鏡102からの紫外線等をそのまま上部露光反射板105Aによって下方に反射させることで積層体Sの上面側を露光するようになっている。もとより、この露光機構において、露光ランプ5、反射鏡102、集光レンズ103、切換反射板104等を上下位置を反転させることで構成することも可能である。
Note that the exposure lamp 5 in the drawing is disposed above the position of the stacked body S, and reflects the ultraviolet rays or the like irradiated downward by the reflecting
したがって、反射鏡102が実線位置に位置しているときは、上部露光反射板105Aを介して積層体Sの上面を露光処理することができ、反射鏡102が鎖線位置に位置しているときは、下部露光反射板105Bを介して積層体Sの下面を露光処理することができる。このように、上下部露光反射板105A,105B及び可動する反射鏡102を用いたときは、積層体Sを反転させる必要がなく、したがって反転に伴う露光室3の機構を簡素化することができる。
Therefore, when the reflecting
また図8、図9においては別の実施の形態が示されており、整合室2で生成された積層体Sが、図8に示すように1個の露光ランプ5によって露光処理される場合の露光室3に移動されてきたときに反転される状態を示している。すなわち、積層体Sは、上側保持板案内レール30Bに案内されて露光室3に移動してくると、その上側保持板案内レール30Bから離れると同時にその積層体Sを形成する上側保持板10の両側部の中央部にそれぞれ設けられている揺転支軸90が露光室3に設けられている揺転溝91に受けられるように構成されている。また、積層体Sが揺転支軸90を中心に回転可能に成った時点で露光室3に設けられているマグネットチャック92で保持されるように構成されている。このマグネットチャック92は、積層体Sを整合室2側(図9においての左側)に引くと積層体Sの固定を解除できるので、積層体Sを180°回転させて(反転させて)、再度、マグネットチャック92で保持させることができる。このように、積層体Sを反転させることができるので、積層体Sの両面を交互に露光反射板7側に容易に位置させることができる。また、この積層体Sの反転は、作業員イが行ってもよく、自動的に行うようにしてもよいのであり、自動回転の場合は、例えば揺転支軸90にピニオンを設け、このピニオンをラックで回転させることで行うことができる。
8 and 9 show another embodiment, in which the laminate S generated in the alignment chamber 2 is subjected to exposure processing by one exposure lamp 5 as shown in FIG. A state in which it is reversed when it is moved to the
更にこの露光室3には、露光処理後の積層体Sにおける第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを基板Kと共に保持して下降させ、移動台車21上に載置させる昇降シリンダ65が設けられている。この昇降シリンダ65は、露光処理中の積層体Sが、その上側保持板10によって上側保持板案内レール30Bに支持されているとき、その露光処理が終了したときに上側保持板10を分離させるべく、積層体Sにおける減圧状態の解除されるときに上昇し、基板K及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを保持した状態で下降するのである。その下降後では、その前に整合室2から前進移動で露光室3内に位置している移動台車21に基板K及び第1下側保持板20A又は第2下側保持板20Bを載置し、移動台車21の後退移動で露光室3から整合室2に露光処理後の基板Kを戻すようにしてある。
Further, in this
次に、図10乃至図12を用いて本発明に係る露光装置1の使用例・動作について説明するに、基板持上機構40、整合機構50、基板固定機構70、露光室3における露光処理等は作業員にイによっての操作盤におけるスイッチ類、フットスイッチ等によって、特に断らない限り、機械的に作動されるものとなっているのである。すなわち作業員イは露光装置1の手前側である整合室2の前方に位置して操作盤を操作して作業を行うのであり、今、露光装置1の奥部に配置されている露光室3では前回生成された積層体Sが露光処理中であり、露光装置1の前部に配置されている整合室2では第1下側保持板20Aを用いることで積層体Sの構成の準備中であるとする。先ず、作業員イによって移動台車21上に載置されている第1下側保持板20Aに貼設されている下側原版フィルムF2上のおおよその所定位置に基板Kを載置する(図10(A)における左端の鎖線矢印参照)。このときの基板持上機構40は、図10(A)の実線位置に退避された状態にあって、整合テーブル52がセットされている第1下側保持板20A又は第2下側保持板20B上方は大きく開放されていることで基板Kの投入を容易にしている。
Next, a usage example / operation of the exposure apparatus 1 according to the present invention will be described with reference to FIGS. 10 to 12. The
基板Kを第1下側保持板20A上におおよその位置で載置すると、基板持上機構40が手前側(図10(B)において左側)に後退移動することで引き寄せられるようになる(図10(B)の矢印a参照)。そして、この引き寄せ後、基板持上機構40を降下すると共に(図10(B)の矢印b参照)、第1下側保持板20Aを整合機構50によって移動台車21から分離させて持ち上げ(図10(B)の矢印c参照)、基板Kを基板持上機構40の吸着板42に当接させてこの吸着板42によって基板Kを吸着支持する。
When the substrate K is placed on the first
基板Kが基板持上機構40に吸引固定されると、整合機構50の整合テーブル52が降下して第1下側保持板20Aも降下させ、第1下側保持板20Aを基板Kから分離させる(図10(C)参照)。そして、第1下側保持板20Aに対して第1下側保持板20Aの下側原版フィルムF2を、基板カメラ60が撮像した画像データに基づいて整合機構50の整合テーブル52を用いて基板Kに対する位置合わせを行う(図11(A)参照)。この位置合わせによって基板持上機構40に吸引固定させてある基板Kに対して第1下側保持板20Aに貼設されている下側原版フィルムF2の位置関係が所定位置(整合終了)になると、その所定位置を保ったまま第1下側保持板20Aを整合機構50の上昇によって移動台車21から分離させて持ち上げ(図11(B)の矢印d参照)、第1下側保持板20Aを基板Kに当接させる。そして、この当接後で、基板Kが基板固定機構70によって第1下側保持板20Aに固定される。このときの空になった移動台車21は整合室2から露光室3に前進移動し、露光処理後の基板K等を載置させる位置で待機する。
When the substrate K is sucked and fixed to the
基板Kが整合テーブル52上で第1下側保持板20Aに基板固定機構70によって固定されると、基板持上機構40の吸着板42による吸着を解除して基板持上機構40を上昇させる(図11(C)の矢印e参照)。そして、基板Kを固定した第1下側保持板20Aが、整合機構50が位置調整を行う前の所定のホームポジションに復帰された後、降下され(図11(C)の矢印f参照)、この状態では基板Kの上方が開放されることで、露光室3内で露光が終了したときの上側保持板10が整合室2に後退移動する前の待ち状態になるようにする(図11(C)参照)。
When the substrate K is fixed to the first
一方、この間、露光室3では、積層体Sを露光処理しており、その露光処理が終了すると、基板Kの上下面が上側保持板10、第2下側保持板20Bによって基板Kが挟まれるようにすることで生成されていた積層体Sにおいては減圧真空状態から解除され、昇降シリンダ65によって第2下側保持板20Bが基板Kと共に降下して、下側保持板案内レール30Aで支持されている移動台車21上に載置される(図11(C)の矢印g参照)。一方、基板K、第2下側保持板20Bを分離した上側保持板10は、上側保持板案内レール30Bによって後退移動するよう案内されて露光室3から整合室2に戻される(図12(A)の矢印h参照)。
On the other hand, in the
こうして上側保持板10が整合室2の所定位置まで後退移動して、基板Kを固定している第1下側保持板20A上のおおよその位置で停止する。このとき、整合機構50の整合テーブル52が上昇して上側保持板10と所定の間隔を保持した状態にあるとき、基板カメラ60によって上側保持板10に貼設されている上側原版フィルムF1の位置合わせマークを撮像して、上側原版フィルムF1に対する基板Kを整合する所定位置(整合終了)に位置合わせ設定する。整合終了後では整合機構50によって基板Kを第1下側保持板20Aと共に上昇させて(図12(B)の矢印i参照)、上側保持板10に当接させる(図12(B)参照)。この当接によって当接後では、基板Kを挟んだ状態で上側保持板10、第1下側保持板20Aそれぞれがパッキン部材22を介して接合状態にあり、その内側の空間部分内の空気を吸引して新たな積層体Sを生成する。
Thus, the
このようにして新たに生成された積層体Sは、上側保持板案内レール30Bによって案内されて露光室3に前進移動されて露光処理が行われると共に(図12(C)の矢印j参照)、露光室3で上側保持板10とは分離されていた露光処理済みの基板Kを第2下側保持板20Bと共に載置した移動台車21を、下側保持板案内レール30Aによって整合室2に後退移動させて引き寄せる(図12(C)の矢印k参照)。
The laminate S newly generated in this manner is guided by the upper holding
露光室3における露光処理開始前には、移動台車21が露光室3から整合室2への後退移動によって戻り、この後退移動で第2下側保持板20Bと共に基板Kを整合室2に引き寄せた後、その第2下側保持板20Bに設けられている基板固定機構70によって固定されている露光処理済みの基板Kを、その基板固定機構70による固定を解除して作業員イによって第2下側保持板20B上から取り出すのである(図12(C)における左端の鎖線矢印参照)。そして、その第2下側保持板20B上に新たな基板Kを作業員イによっておおよその位置で載置して(図10(A)における左端の鎖線矢印参照)、同様に作業を行うのである。
Before the exposure process in the
イ…作業員
K…基板 S…積層体
1…露光装置 2…整合室
3…露光室 4…ランプ室
5…露光ランプ 6…反射鏡
7…露光反射板
10…上側保持板 11…枠体
12…窪み F1…上側原版フィルム
20A…第1下側保持板 20B…第2下側保持板
21…移動台車 22…パッキン部材
F2…下側原版フィルム
30…ガイド部 30A…下側保持板案内レール
30B…上側保持板案内レール 30C…退避案内レール
40…基板持上機構 41…持上フレーム
42…吸着板 42A…吸引孔
43…ランプ 44…エアシリンダ
50…整合機構 51…サーボモータ
52…整合テーブル 53…開口
60…基板カメラ 65…昇降シリンダ
70…基板固定機構 71…弾性体
72…支軸 73…押え片
74…螺旋条 75…螺旋溝
80…エアシリンダ
90…揺転支軸 91…揺転溝
92…マグネットチャック
102…反射鏡 103…集光レンズ
104…切換反射板 105A…上部露光反射板
105B…下部露光反射板
A ... Worker K ... Substrate S ... Laminate 1 ... Exposure device 2 ...
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