JP4026163B2 - 含フッ素化合物及びこれを重合してなる液晶ポリマー化合物 - Google Patents

含フッ素化合物及びこれを重合してなる液晶ポリマー化合物 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な含フッ素化合物およびこれを重合してなる液晶ポリマーに関する。
【0002】
【従来の技術】
含フッ素液晶化合物は、自発分極が大きく低粘度であることから、応答性の良い、すなわち、スイッチング特性に優れた液晶を作成する上で有用な化合物として注目されている。
【0003】
例えば、グレイらは、フッ素化された芳香環を含む液晶化合物について報告している(G.W.Gray et al. Liq. Cryst.,11, 531 (1992))。ウエンらも同様にフッ素化された芳香環を含む液晶化合物について報告している(J.Wen et al. J. Fluorine Chem.,66, 15 (1994))。また、ペルフルオロアルキル基を含む液晶化合物については多数の報告がある(D.Coates et al. J. Chem. Soc., Perkin Trans II, 300 (1976); A.C.Griffin et al. Mol. Cryst. liq. Cryst., 41, 141 (1978); S.Misaki et al. Mol. Cryst. liq. Cryst., 66, 123 (1981); A.V.Ivashchenko et al. Mol. Cryst. liq. Cryst., 67, 235 (1981); A.Sakaigawa et al. Mol. Cryst. liq. Cryst., 206, 147 (1991)等)。
【0004】
しかし、芳香環にフッ素を導入した液晶化合物では、合成に多段階を要するという問題がある。また、ペルフルオロアルキル基を含む液晶化合物では、従来、直鎖のペルフルオロアルキル基をもつものしか知られていない。
一方、近年、汎用プラスチック、エンジニアリングプラスチックの分野で、液晶ポリマー化合物の応用範囲が拡大しており、新たな要求に対応するべく従来知られてない液晶ポリマー化合物の開発が求められている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、液晶化合物における従来技術の問題点を解消し、新規な液晶ポリマー化合物及びその合成に有用な新規モノマー化合物の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、ペルフルオロ化された環状ジアルキルアミノ基をメソゲンに結合し、併せてアクリル基またはメタクリル基を導入することにより、嵩高なペルフルオロアルキル基を有する新規化合物の開発に成功した。また、この化合物をモノマーとして重合することにより新規な側鎖型液晶ポリマーが得られることを見出し本発明を完成するに至った。
【0007】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明は第一に、次式(I):
【化2】
Figure 0004026163
(式中、RはHまたはメチル基、Yはヘキシレン、nは1または2を表わす。)で表わされる含フッ素化合物を提供する。このような化合物は過去に報告例がなく新規化合物である。
【0008】
アルキレン鎖は通常、炭素数1〜12個程度である。一般に炭素数が大きくなると転移温度が低くなる傾向があり、炭素数が少ないと液晶化しにくくなる傾向がある。炭素数6個程度が好ましい。
nは1または2であるが、後述の通り、n=2の化合物が液晶ポリマーの原料(モノマー)として有用である。
【0009】
式(I)の化合物は、構成部分を連結するいずれの方法によっても合成することができるが、典型的には、次に示すスキームにより合成することができる。
【0010】
【化3】
Figure 0004026163
【0011】
【化4】
Figure 0004026163
【0012】
すなわち、はじめに、ペルフルオロ(2−ピロリジノプロピオニル フルオリド)(式(III))とヒドロキノンまたはビフェニルジオール(式(II)) とを反応させる。反応は、THF、ジエチルエーテル、1,4−ジオキサン等の溶媒にヒドロキノンまたはビフェニルジオールを溶解し、好ましくはピリジンのような塩基の存在下、上記溶液にペルフルオロ(2−ピロリジノプロピオニル フルオリド)を滴下して行なうことができる。ヒドロキノンまたはビフェニルジオールはフルオリドに対し、過剰に、好ましくはモル比で1〜3倍を用いる。モル比の下限値未満では副反応により収率が低下する。モル比は上限値を超えて用いても反応効率や収率に影響はなく、反応コストの上昇につながる。反応温度は、0℃〜室温程度が好ましい。反応温度は下限値未満では反応速度が低下する。反応温度の上限値を超えると副反応により収率が低下する。
【0013】
なお、ペルフルオロ(3−ピロリジノプロピオニル フルオリド)とヒドロキノンを用いて合成されるエステルはメタノール中でも直ちに加水分解するなど湿度に弱いが、ペルフルオロ(2−ピロリジノプロピオニル フルオリド)を用いて合成したエステル化合物は水分に対して安定であることが確認されている。
【0014】
反応終了後、未反応のヒドロキノンまたはビフェニルジオールを除去し、エステル(IV)を得て、これを4−アルキルオキシ安息香酸(V) と反応させる。4−アルキルオキシ安息香酸(V) は酸塩化物として用いることが好ましく、ヘキサン、ジエチルエーテル等の溶媒に溶解したエステル(IV)に、ピリジンのような塩基の存在下、酸塩化物を滴下して行なうことができる。酸塩化物は、エステル(IV)に対しモル比で1〜1.5 倍を用いる。下限値未満では反応が十分に進行しない。上限値を超えて用いても反応効率や収率に影響はなく、反応コストの上昇につながる。反応温度は、0℃〜室温程度が好ましい。下限値未満では反応速度が低下する。上限値を超えると副反応により収率が低下する。
【0015】
かくして得られた化合物は、液晶ポリマー化合物の合成に用いることができる。すなわち、本発明は第二に、前記化合物を重合してなる液晶ポリマーを提供する。但し、後述の試験例に示すように、n=1では、得られるポリマーがガラス状態から直ちに等方液体となってしまうため、ポリマー合成にはn=2の化合物を用いる。
【0016】
重合反応は、既知のアクリル系ポリマーの合成条件にしたがって行なうことができる。例えば、THF、ベンゼンあるいはトルエン等の溶媒中、0.1 〜5モル%程度のアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、過酸化ベンゾイル (BPO)等の開始剤を添加し、熱的または光化学的に重合を行なう。加熱温度は50〜80℃が好ましい。
ポリマーの重合度は目的に応じて変更することができるが、通常は、数平均分子量で1万〜100万程度が好ましい。下限値未満では相転移温度が低下し、それらのモノマー同様、液晶相が発現しないことがある。上限値を超えると溶媒への溶解性が低下する。
【0017】
【実施例】
以下、実施例および比較例によって本発明の構成および効果をより具体的に示すが、これらは例示であり本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1
(1) 4′−(ペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオニルオキシ)−4−ビフェニロール (Bp-Py)の合成
7.71g(41.4ミリモル)の4,4′−ビフェニルジオールと1.5 ミリリットルのピリジンをTHFに加えて全量30ミリリットルとし、この溶液に、アルゴン雰囲気下、0℃でペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオニル・フルオリド5.00g(13.8ミリモル)を滴下した。混合液を室温で30分間撹拌して反応を進行させた後、減圧して溶媒と過剰量のピリジンを除いた。カラムクロマトグラフにより生成物を分離し、ヘキサンから再結晶し、3.73gの標記化合物を得た(収率51%)。
IR(KBr):3560cm-1(O-H),1780cm-1(C=O)
1H-NMR(CDCl3 ; δ(TMS)):7.60(d,2H,J=8.8Hz ),7.44(d,2H,J=8.6 ),7.21(d,2H,J=8.8 ),6.91(d,2H,J=8.6 ),4.90(broad s,1H)
融点:129℃
【0018】
(2) 4′−[4−(6−アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]4−ビフェニリル・ペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオナート(Aa-Bp-Py)の合成
2.14g(7.32ミリモル)の4−(6−アクリロイルオキシヘキシルオキシ)安息香酸及び痕跡量の2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾールに9gの塩化チオニル及び触媒量のN,N−ジメチルホルムアミドを添加した。溶液をアルゴン雰囲気下、室温で1時間撹拌した。減圧により溶媒と未反応の塩化チオニルを除き、粘稠な酸塩化物を得た。(1) で調製した3.50g(6.64ミリモル)のBp-Py と1ミリリットルのピリジンを0℃に冷却した15ミリリットルのエーテルに溶解し、これに前記酸塩化物を22ミリリットルのヘキサンに溶解して滴下した。混合液を室温で30分間撹拌して反応を進行させた後、減圧して溶媒と過剰量のピリジンを除いた。カラムクロマトグラフにより生成物を分離し、メタノールから再結晶し、3.43gの標記化合物を得た(収率:64%)。
IR(KBr):2945cm-1(C-H),1795,1725cm-1(C=O)
1H-NMR(CDCl3 ):8.16(d,2H,J=8.8Hz ),7.64(d,2H,J=8.5 ),7.60(d,2H,J=8.6 ),7.30(d,2H,J=8.5 ),7.25(d,2H,J=8.6 ),6.98(d,2H,J=8.8 ),6.40(dd,1H,J1 =17.4,J2 =1.4 ),6.13(dd,1H,J1 =17.4,J2 =10.6),5.81(dd,1H,J1 =10.6,J2 =1.4 ),4.19(t,2H,J=6.3 ),4.06(t,2H,J=6.3 ),2.20−1.3 (m,8H)
融点:80℃
【0019】
実施例2
4′−[4−(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]4−ビフェニリル・ペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオナート(Ma-Bp-Py)の合成
実施例1において、工程(2) で4−(6−アクリロイルオキシヘキシルオキシ)安息香酸に代えて2.23gの4−(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)安息香酸を用いた他は同様の操作を繰り返して標記化合物を得た。
IR(KBr):2940cm-1(C-H),1790,1710cm-1(C=O),1640(C=C)
1H-NMR(CDCl3 ):8.16(d,2H,J=8.9Hz ),7.65(d,2H,J=8.6 ),7.60(d,2H,J=8.6 ),7.30(d,2H,J=8.6 ),7.26(d,2H,J=8.6 ),6.97(d,2H,J=8.9 ),6.10(s,1H),5.55(s,1H),4.17(t,2H,J=6.5 ),4.06(t,2H,J=6.1 ),1.95(m,3H),2.04−1.34(m,8H)
融点:83℃
【0020】
実施例3
(1) 4−(ペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオニルオキシ)フェノール(Hq-Py)の合成
1.67g(15.2ミリモル)のヒドロキノンと 1.5ミリリットルのピリジンをTHFに溶かして全量10ミリリットルとし、この溶液に、アルゴン雰囲気下、0℃でペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオニル・フルオリド5.00g(13.8ミリモル)を滴下した。混合液を室温で30分間撹拌して反応を進行させた後、減圧して溶媒と過剰量のピリジンを留去した。カラムクロマトグラフにより生成物を分離し、ヘキサンから再結晶し、3.43gの標記化合物を得た。なお、生成物の同定は、実施例1と同様にIRスペクトル及び 1HNMRにより行なった。
(2) 4−[4−(6−アクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]フェニル ペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオナート (Aa-Hq-Py)の合成
実施例1の(2) において、Bp-Py に代えて Hq-Pyを用いた他は同様の操作を行ない標記化合物を得た。
IR(KBr):2930cm-1(C-H),1790,1725cm-1(C=O)
1H-NMR(CDCl3 ):8.13(d,2H,J=9.0Hz),7.25(d,4H),6.97(d,2H,J=9.0 ),6.40(dd,1H,J1 =17.4,J2 =1.5 ),6.12(dd,1H,J1 =17.4,J2 =10.5),5.81(dd,1H,J1 =10.5,J2 =1.5 ),4.18(t,2H,J=6.4 ),4.06(t,2H,J=6.2 ),2.20−1.30(m,8H)
融点:47℃
【0021】
(3) 4−[4−(6−メタクリロイルオキシヘキシルオキシ)ベンゾイルオキシ]フェニル ペルフルオロ−2−ピロリジノプロピオナート (Ma-Hq-Py)の合成
実施例2において、Bp-Py に代えて Hq-Pyを用いた他は同様の操作を行ない標記化合物を得た。
IR(KBr):2950cm-1(C-H),1790,1730,1710cm-1(C=O),1645cm-1(C=C)
1H-NMR(CDCl3 ):8.11(d,2H,J=8.9Hz),7.24(m,4H),6.96(d,2H,J=8.9 ),6.08(s,1H),5.53(s,1H),4.16(t,2H,J=6.4),4.04(t,2H,J=5.8 ),1.93(m,3H),2.08−1.31(m,8H)
融点:54℃
【0022】
実施例4
実施例1(2) で得られたモノマー(Aa-Bp-Py)0.300 gを0.8 ミリリットルのTHFに溶解し、これに1.0 モル%の2,2′−アゾビスイソブチロニトリル[ラジカル開始剤]を添加し、十分に脱気した後、60℃で48時間重合させた。
重合反応の終了後、THFで希釈してメタノール中に注ぎ、析出したポリマーを真空乾燥し、さらにメタノールから再沈殿により精製して0.240 gのポリマーを得た。IRスペクトル、 1H−NMR及び 7H−NMRによりポリ(Aa-Bp-Py)が得られたことを確認した。
Ma-Bp-Py、Aa-Hq-Py及びMa-Hq-Pyについても同様にして、表1に示す条件で重合反応を行なった。
【0023】
【表1】
Figure 0004026163
【0024】
それぞれのポリマーについて、分子量及び相転移温度を測定した。結果を表2に示す。分子量はゲル透過クロマトグラフィーにより測定した。具体的には、トーソー製GMH6カラムを使用し、THFを溶離液として標準ポリスチレンに対して測定した値である。また、相転移温度の測定にはPerkin-Elmer社製DSC7走査型示差熱分析計を用い(昇温速度、降温速度はいずれも5℃/分)、偏光顕微鏡(ニコン製SMZ-1Bに直交ニコルを使用)でテクスチャーを観察して転移相の識別を行なった。ポリ(Aa-Bp-Py)及びポリ(Ma-Bp-Py)のスメクチック相では扇状のテクスチャーが観察され、ポリ(Aa-Hq-Py)及びポリ(Ma-Hq-Py)では液晶状態は観察されなかった
【0025】
【表2】
Figure 0004026163
この結果に示されるように、本発明の方法によれば広い温度範囲に亘って液晶状態を示す液晶ポリマーを製造することができる。
【0026】
【発明の効果】
本発明によれば、嵩高いペルフルオロアルキルとメソゲン及び重合性の官能基を有する新規な化合物が得られる。この化合物あるいはその中間体は水分に対し安定である。また、本発明による化合物のうちビフェニル構造を有する化合物をモノマーとして用いることにより、これまでにない良好な配向性が期待できるペルフルオロピロリジン構造を有する液晶ポリマー化合物を得ることができる。

Claims (2)

  1. 式(I):
    Figure 0004026163
    (式中、RはHまたはメチル基、Yはヘキシレン、nは1または2を表わす。)で表わされる含フッ素化合物。
  2. 請求項1に記載の化合物(但し、n=2)を重合してなる液晶ポリマー。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102024821B (zh) * 2009-09-18 2012-08-22 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 非易失性存储装置、非易失性存储器件及其制造方法

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