JP4023470B2 - 電気光学装置、電気光学装置用基板、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶装置などの電気光学装置及び電子機器の技術分野に属する。また、本発明は、電子ペーパなどの電気泳動装置、さらにはＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置などの技術分野にも属する。

従来から、外光を利用した反射型表示と、バックライトなどの照明光を利用した透過型表示とのいずれをも視認可能とした半透過反射型の液晶表示パネルが知られている。この半透過反射型の液晶表示パネルは、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有し、バックライトからの照明光がその反射層を透過することができるように構成したものである。この種の反射層としては、液晶表示パネルの画素毎に所定割合の開口部を備えたものがある。

一般的に、半透過反射型のカラー液晶表示パネルは、液晶層を挟持してなる一対の透明基板の一方にカラーフィルタ及び金属反射膜が設けられる。外光は、液晶層及びカラーフィルタ層を通過した後、反射膜により反射され、再度カラーフィルタ及び液晶層を通過して観察者に至る。こうして反射型表示がなされる。

カラーフィルタ層の上には、液晶表示パネルの行方向又は列方向に配列された透明電極が設けられる。一方、反射領域を構成する反射膜は、一般にアルミなどの金属により構成される。よって、透明電極と金属反射膜との間にあるカラーフィルタ層などに例えばピンホールが存在したり、導電性の異物が存在する場合には、透明電極と金属反射膜とが導通してしまうという問題がある。また、カラーフィルタ層を構成する顔料レジストに高電圧が印加された場合などにも、顔料レジストが絶縁破壊を生じ、同じように透明電極と金属反射膜とが導通してしまうことがある。

通常、金属反射膜は複数の画素領域間に渡って連続して形成され、各画素領域の中央付近に透過表示用の開口部を設けて構成される。従って、ある１つの画素領域において、上記のように透明電極と金属反射膜との導通が生じると、その透明電極方向、即ち行又は列方向に配列された全ての画素の電圧レベルが低下し、液晶パネルに線状又は面状の表示不良（いわゆる線欠陥又は面欠陥）が生じてしまうという問題がある。

なお、反射型の液晶表示パネルにおいて、このような不具合を防止するために、金属反射膜を透明電極と同一パターンに形成し、かつ、隣接する金属反射膜を独立させて導通を防止する方法が知られている（例えば特許文献１を参照。）
特開平６−２３０３６４号公報

本発明は、半透過反射型の電気光学パネルにおいて、ある画素領域内で透明電極と金属反射膜との導通が生じた場合でも、線欠陥又は面欠陥となることを防止することを課題とする。

本発明の電気光学装置では、複数の画素領域が設けられた透明基板と、各々の前記画素領域内に設けられた反射領域及び透過領域を有する電気光学装置であって、複数の前記反射領域に形成された複数の島状の反射膜と、前記透明基板上の各々の前記透過領域に形成され、各々の前記反射膜の周囲を囲むように設けられた絶縁層と、前記絶縁層上及び前記反射膜上に設けられた絶縁性のカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層上に形成された電極と、を備え、前記透過領域は、各前記画素領域内において前記反射領域を囲むように設けられている。また、複数の画素領域が設けられた透明基板と、各々の前記画素領域内に設けられた反射領域及び透過領域を有する電気光学装置であって、前記透明基板上の各々の前記反射領域に形成され、表面に凹凸形状を有する散乱層と、前記散乱層上に形成された複数の島状の反射膜と、前記反射領域及び透過領域に形成され、各々の前記反射膜を覆う絶縁性のカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層上に形成された電極と、を備え、前記透過領域は、各前記画素領域内において前記反射領域を囲むように設けられており、前記透過領域には、前記散乱層が形成されておらず、前記散乱層が形成されていない透過領域に形成された前記カラーフィルタ層が、前記反射膜の周囲を囲み、前記透明基板上において、前記透過領域に形成された絶縁層を備え、前記カラーフィルタ層が、前記絶縁層上及び前記反射層上に形成されている。

また、同様の観点では、複数の画素領域が設けられた透明基板と、各々の前記画素領域内に設けられた反射領域を囲むように設けられた透過領域を有する電気光学装置の製造方法であって、複数の前記反射領域に複数の島状の反射膜を形成する工程と、前記透明基板上の各々の前記透過領域に、各前記反射膜の周囲を囲むように絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層上及び前記反射膜上に絶縁性のカラーフィルタ層を形成する工程と、前記カラーフィルタ層上に電極を形成する工程と、を備える。

上記の電気光学装置は、液晶表示パネルなどの電気光学パネルを構成する基板であり、ガラスなどの透明基板を利用して構成される。具体的には、反射領域に対応する金属反射膜が透明基板などの上に形成され、その金属反射膜の周囲にはアルミなどの金属による反射膜の周囲を囲むように絶縁層が形成される。そして、反射膜を覆うように、カラーフィルタ層が形成される。よって、各画素領域内において、反射膜は、絶縁層中に島状に設けられ、周囲の反射膜とは離隔されることになり、カラーフィルタ層にピンホールなどの欠陥が存在したり、金属などの導電性の異物が混入し、反射膜と透明電極との間が電気的に導通した場合でも、その影響は当該画素領域のみに抑制することができる。すなわち、ある画素領域内で電極と反射膜とが導通した場合に、電極の長さ方向と垂直な方向における電流のリークなどを防止することができ、不良の発生を低減することができる。よって、線欠陥又は面欠陥が生じることが防止され、電気光学パネルの歩留まりを向上させることができる。

前記絶縁層は、前記カラーフィルタ層の前記透過領域に対応する部分とすることができる。即ち、隣接する反射膜間に絶縁層としてカラーフィルタ層を設けることができる。また、その代わりに、反射膜間に絶縁性の樹脂層などを設けることもできる。

また、前記反射膜は、画素の列又は行ごとに形成された島状の反射膜や、Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ層の各々の１画素の集合である１カラー画素ごとに形成された島状の反射膜や、１画素ごとに形成された島状の反射膜とすることができる。これにより、ある画素領域において、透明電極と反射膜との間に異物が混入した場合に、その異物の存在により欠陥となる面積を透過領域と反射領域とで分散させることができる。

上記の電気光学装置は、透明基板と、前記透明基板上に設けられた散乱層とを備え、前記散乱層は前記反射膜に対応する領域に設けることができる。また、前記カラーフィルタ層上に設けられた電極を備えることができる。

上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。なお、以下の説明では、本発明を適用した電気光学パネルの一例として、液晶表示パネルについて説明する。

［カラーフィルタ基板］
まず、本発明による液晶表示パネルのカラーフィルタ基板について説明する。なお、カラーフィルタ基板とは、液晶層を挟持する一対の透明基板のうち、カラーフィルタが設けられた側の基板を指すものとする。

（第１実施形態）
図１（ａ）は本発明の第１実施形態にかかるカラーフィルタ基板の一部の平面図を示し、図１（ｂ）は図１（ａ）のＸ１−Ｘ２断面による断面図を示す。図示のように、カラーフィルタ基板１０は、ガラスなどの透明基板１１上に樹脂散乱層１２、金属反射膜１３、電気絶縁性のカラーフィルタ層１４及び透明電極１７が透明基板１１側からこの順序で積層されてなる。また、１つの画素領域を符号２０で示す。なお、カラー液晶表示パネルの場合、ＲＧＢの各色１画素の集合により１つのカラー画素が形成されることになる。本明細書では、各色の画素をその色を問わず「画素」と呼び、ＲＧＢ各々１画素の集合を「カラー画素」と呼んで両者を区別するものとする。

樹脂散乱層１２は例えばエポキシ、アクリルなどの樹脂により、表面に微少な凹凸形状を形成してなる。樹脂散乱層１２は、金属反射膜１３の背面（即ち、外光を反射する面と反対側の面）側に設けられ、金属反射膜１３により反射される反射光を散乱させるために設けられる。

金属反射膜１３は、例えばアルミ合金、銀合金などにより樹脂散乱層１２上に形成される。図示のように、金属反射膜１３は各画素領域２０の全体に形成されるのではなく、画素領域２０内の中央付近に島状（アイランド状）に形成される。つまり、各画素領域２０内の金属反射膜１３は、隣接する画素領域２０内の金属反射膜１３、即ち隣接する金属反射膜１３とは独立に、離隔して設けられる。各画素領域２０において、金属反射膜１３が形成された領域が反射領域であり、それ以外の領域が透過領域となる。

金属反射膜１３の上には、カラーフィルタ層１４が形成される。図１（ｂ）は１つのカラー画素を構成するＲＧＢ各色の画素領域２０を示しており、例えば、カラーフィルタ層１４は、左から赤色カラーフィルタ１４Ｒ、緑色カラーフィルタ１４Ｇ及び青色カラーフィルタ１４Ｂにより構成されている。

カラーフィルタ層１４上には、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）などの透明電極１７が形成される。図１の例では、透明電極１７は図中の横方向に形成されているが、縦方向に形成されていてもよい。また、カラーフィルタ層１４と透明電極１７との間に樹脂性の保護膜などが形成されていてもよい。

このように、本発明のカラーフィルタ基板１０においては、各画素領域２０内において、金属反射膜１３はその中央付近に島状に形成され、その周囲は絶縁層としてのカラーフィルタ層１４により取り囲まれている。つまり、各金属反射膜１３は、その間に絶縁層を介して電気的に絶縁されている。よって、１つの画素領域２０内で透明電極１７と金属反射膜１３とが上述したような何らかの原因で導通してしまった場合でも、その影響は当該画素領域２０内のみに止まり、隣接する画素領域２０にリーク電流が生じるなどの悪影響を及ぼすことがない。

この点について、図２を参照してさらに説明する。図２は、隣接する画素領域に連続して金属反射膜を設け、各画素領域の中央部付近に透過領域を規定する開口部を設けたカラーフィルタ基板の例を示す。図２（ａ）はそのカラーフィルタ５０の一部の平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）におけるＹ１−Ｙ２における断面図である。図２（ｂ）に示すように、透明基板５１上に樹脂散乱層５２が形成され、その上に金属反射膜５３が形成される。金属反射膜５３には、図２（ａ）に示すように開口部５６が設けられている。金属反射膜５３上にはカラーフィルタ層５４が形成され、さらにその上に透明電極５７が設けられる。

図２（ａ）及び（ｂ）において、透明電極５７と金属反射膜５３とが何らかの原因により導通部分５８で導通したと仮定する。なお、符号５８はそのような導通部分を模式的に示すものであり、特に異物の形状などを示すものではない。このように、ある画素領域６０内の一部に導通が生じると、図２（ａ）に示すように、その画素領域６０に対応する透明電極５７と、カラーフィルタ基板５０の全表示領域に渡って連続して形成されている金属反射膜５３とが導通してしまう。その結果、図２（ａ）の例では、導通部分５８を含む画素領域に対応する透明電極５７（上側の透明電極５７）と金属反射膜５３の全体において電流のリークが生じ、当該透明電極５７に対応する１列全体やさらに複数の列に渡って線欠陥や面欠陥が生じてしまうことになる。よって、１つの画素領域６０のみにおいて異物その他の原因により透明電極５７と金属反射膜５３との間に導通が生じると、その画素を含む線欠陥や面欠陥が生じてしまう。

図１（ａ）及び（ｂ）に同様の導通部分１８を示している。本発明の第１実施形態によるカラーフィルタ基板１０の場合、前述のように、金属反射膜１３は各画素領域２０ごとに独立して形成されており、隣接する画素領域２０内の金属反射膜１３から離隔している。よって、ある１つの画素領域２０内に導通部分１８が生じたとしても、電流のリークはその画素領域のみと透明電極１７との間に生じるだけであり、リークする電流値も小さい。よって、液晶表示パネルとしては、その１つの画素領域のみが表示不良となる可能性があるだけであり、線欠陥や面欠陥が生じることはない。

このように、第１実施形態では、金属反射膜１３を各画素領域内において島状に形成し、その周囲をカラーフィルタ層などの絶縁層により取り囲むこととしたので、１つの画素領域において導通が生じたとしても、液晶表示パネル全体の不良につながるような線欠陥や面欠陥が生じることを防止することができ、液晶表示パネルの歩留まりを向上させることが可能となる。

なお、図１の例では、金属反射膜１３の周囲の部分は、絶縁性のカラーフィルタ層により囲まれているが、その代わりに透明樹脂などにより絶縁層を形成し、その上にカラーフィルタ層を形成するように構成してもよい。

（第２実施形態）
次に、第２実施形態について説明する。図３に本発明の第２実施形態によるカラーフィルタ基板１０Ａの構成を示す。図３（ａ）はカラーフィルタ基板１０Ａの一部の平面図であり、図３（ｂ）はそのＸ１−Ｘ２における断面図である。第２実施形態は第１実施形態と同様に、各画素領域２０内に金属反射膜を島状に形成し、その周囲を絶縁層により覆う点では共通する。但し、第２実施形態では、図３（ａ）に示されるように、１つの画素領域２０内に複数の金属反射膜１３Ａを形成する。各画素領域２０内に複数の金属反射膜１３Ａが形成されている点以外は、第２実施形態は第１実施形態と同様である。よって、図１（ｂ）と図３（ｂ）を比較するとわかるように、カラーフィルタ基板１０Ａの断面の積層構造は、金属反射膜１３Ａの幅を除いて同一である。

このように、各画素領域２０内の金属反射膜１３Ａを複数個とすることで、透明電極１７と金属反射膜１３Ａの間に混入した異物などによる影響を軽減することができる。これについて、図４を参照して説明する。図４（ａ）は第１実施形態に係るカラーフィルタ基板１０の一部の平面図であり、図４（ｂ）は第２実施形態に係るカラーフィルタ基板１０Ａの平面図である。ここで、図示のように、異物３０が透明電極１７と金属反射膜１３Ａとの間に混入した場合を考えると、図４（ｂ）に示す場合の方が、図４（ａ）に示す場合に比べて、異物３０により覆われる金属反射膜の面積が小さくなる。即ち、図４（ｂ）に示す第２実施形態の場合は、同じ異物３０が混入した場合、異物３０の存在により生じる欠陥面積を、金属反射膜１３Ａの領域とそれ以外の領域、即ち、反射領域と透過領域とに分散させることができる。例えば、反射領域及び透過領域において欠陥面積が５０％を超えるものを不良と判定すると仮定すると、図４（ａ）の例では異物による反射領域の欠陥面積が６０％であり、このカラーフィルタ基板１０は不良と判定される。これに対して、図４（ｂ）の例では、反射領域及び透過領域の双方において、欠陥面積は３０％であるため、このカラーフィルタ基板１０は良品と判定される。また、このように金属反射膜を複数個に分割して形成した方が、透明電極１７と金属反射膜１３Ａとの間に生じるリーク電流も分散させることができ、それにより画素の駆動に対して生じる影響も分散させることができる。

このように、第２実施形態では、各画素領域内に形成する金属反射膜を複数個に分割して形成したので、異物などの混入による影響をより軽減することが可能となる。

なお、図３（ｂ）の例では樹脂散乱層１２を透明基板１１上に連続的に形成しているが、その代わりに、樹脂散乱層１２を金属反射膜１３Ａと同一パターンとし、金属反射膜１３Ａの下方にのみ形成することとしてもよい。また、金属反射膜１３の上に形成するカラーフィルタ層１４は、画素領域２０ごとに全体を均一に形成してもよいし、金属反射膜１３が存在する反射領域とそれ以外の透過領域とで異なる濃度や透過率となるように形成しても良い。また、透過領域に対応するカラーフィルタ層１４を無着色としてもよい。

また、図３の例では金属反射膜１３Ａを円形に形成しているが、その平面形状はいかなる形状であってもかまわない。例えば、図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、楕円又は矩形の平面形状としてもよい。また、１つの画素領域２０内に形成する金属反射膜１３Ａの数も、図３のように２個には限定されず、例えば図５（ｃ）に示すように３個とし、またはそれより多数としてもかまわない。なお、本実施形態では、金属反射膜１３Ａを複数個としているが、その合計の面積により反射領域の反射率が規定されることになる。よって、例えば図１に示す第１実施形態のカラーフィルタ１０と同じ反射率のカラーフィルタ１０Ａを製作する場合には、複数個の金属反射膜１３Ａの合計面積が図１に示す１つの金属反射膜１３の面積と同一になるようにすればよい。

さらに、図３の例では、金属反射膜１３Ａの周囲の部分は、絶縁性のカラーフィルタ層により囲まれている。その代わりに、図６に示すように、透明樹脂１２Ｂなどにより絶縁層を形成し、その上にカラーフィルタ層を形成するように構成してもよい。樹脂散乱層１２は金属反射膜１３Ａと同一パターンとし、金属反射膜１３Ａの下方にのみ形成されている。

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。図７（ａ）は第３実施形態によるカラーフィルタ基板４０の一部の平面図を示し、図７（ｂ）はＺ１−Ｚ２における断面図を示す。

本実施形態では、第１及び第２実施形態とは異なり、各画素領域４９内の外側領域に金属反射膜４３を形成し、中央付近に開口部４８を形成する。金属反射膜４３が形成された領域が反射領域であり、開口部４８の領域が透過領域である。断面の積層構造については、図７（ｂ）に示すように、透明基板４１上に樹脂散乱層４２、金属反射膜４３、カラーフィルタ層４４、透明電極４７の順に形成する。ここで、図７（ａ）に示すように、金属反射膜４３は、透明電極の長さ方向に隣接する画素領域４９間では連続して形成されるが、透明電極の長さ方向に垂直な方向に隣接する画素領域４９間では不連続に、即ち間隔４６を空けて形成される。

このように、透明電極４７の長さ方向に沿って金属反射膜４３の欠落部分４６を形成することにより、ある１つの画素領域４９内で透明電極４７と金属反射膜４３との導通が生じた場合でも、それにより生じる電流のリークは当該透明電極４７の範囲内にのみ限定される。さらに、金属反射膜４３の中央付近に開口部４８が形成されているので、開口部４８が無い場合と比べてリーク電流は小さくなる。これにより、図２に示した例などと比較して、１つの画素領域内で生じた導通により多数の線欠陥や面欠陥が生じる可能性を低減することができる。

また、他の実施形態としては、金属反射膜は、ＲＧＢの各々の１画素の集合である１カラー画素ごとに島状に形成してもよい。すなわち、金属遮光膜は１カラー画素ごとにカラーフィルタ層などの絶縁性の樹脂で電気的に絶縁されてもよい。

［液晶表示パネル］
次に、本発明のカラーフィルタ基板を適用した液晶表示パネルの実施形態について説明する。この実施形態は、図１に示したカラーフィルタ基板を半透過反射型の液晶表示パネルに適用した例であり、その断面図を図８に示す。なお、図８において、図１に示したカラーフィルタ基板１０における構成要素と同一の部分については同一の符号を付している。

図３において、液晶表示パネル１００は、ガラスやプラスチックなどからなる基板１１と基板１０２とがシール材１０３を介して貼り合わせられ、内部に液晶１０４が封入されてなる。また、基板１０２の外面上には位相差板１０５及び偏光板１０６が順に配置され、基板１０１の外面上には位相差板１０７及び偏光板１０８が順に配置される。なお、偏光板１０８の下方には、透過型表示を行う際に照明光を発するバックライト１０９が配置される。

基板１１は、図１を参照して説明したカラーフィルタ基板１０を構成する。具体的には、基板１１の上に例えばアクリル樹脂などにより透明な樹脂散乱層１２が形成される。また、樹脂散乱層１２の上には、反射領域において金属膜１３が形成される。そして、反射領域においては、金属反射膜１３の上に各色のカラーフィルタ１４Ｒ、１４Ｇ及び１４Ｂが形成される。

各色のカラーフィルタ１４Ｒ、１４Ｂ及び１４Ｂの境界には、ブラックマトリクスが形成されるが、ここでは図示を省略する。なお、ブラックマトリクスは、ＲＧＢ３色のカラーフィルタ部分を重ね合わせることにより形成することもできるし、ＲＧＢ３色のカラーフィルタ部分とは別個に樹脂を形成することもできる。

そして、カラーフィルタ層１４の上にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などの透明導電体からなる透明電極１７が形成される。この透明電極１７は本実施形態においては複数並列したストライプ状に形成されている。また、この透明電極１７は、基板１０２上に同様にストライプ状に形成された透明電極１２１に対して直交する方向に延び、透明電極１７と透明電極１２１との交差領域内に含まれる液晶表示パネル１００の構成部分が画素領域２０を構成するようになっている。

なお、カラーフィルタ層１４を覆うように図示しない保護層を形成してもよい。この保護層は、液晶表示パネルの製造工程中にカラーフィルタ層を薬剤などによる腐食や汚染から保護するなどの目的で設けられる。

一方、基板１０２の内面上には透明電極１２１が形成され、対向する基板１１上の透明電極１７と交差するように構成されている。なお、基板１１上の透明電極１７上、及び、基板１０２上の透明電極１２１上には、配向膜などが必要に応じて形成される。

この液晶表示パネル１００においては、反射型表示がなされる場合には、金属反射膜１３が形成されている領域に入射した外光は、図８に示す経路Ｒに沿って進行し、金属反射膜１３により反射されて観察者により視認される。一方、透過型表示がなされる場合には、バックライト１０９から出射した照明光が透過領域に入射し、経路Ｔに示すように進行し、観察者により視認される。

なお、上記の液晶表示パネル１００は第１実施形態によるカラーフィルタ基板１０を適用した例であったが、第２実施形態及び第３実施形態によるカラーフィルタ基板も同様に適用することができる。

［製造方法］
次に、上述の液晶表示パネル１００の製造方法について説明する。図９に、液晶表示パネルの製造方法を示す。

まず、基板１１の表面上に樹脂散乱層１２を形成する（工程Ｓ１）。樹脂散乱層１２の形成方法としては、例えば所定の膜厚のレジスト層をスピンコートにより形成した後プリベークし、次に所定のパターンが形成されたフォトマスクを配置して露光及び現像を行うことによりガラス基板表面に微細な凹凸形状を形成する。さらに、そうしてガラス基板上に形成された凹凸を熱処理することにより、凹凸形状の角を熱で変形させて滑らかな形状の凹凸形状が形成される。なお、樹脂散乱層１２の形成方法としては、これ以外の方法を採用することももちろん可能である。

次に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金などの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜し、これをフォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることによって、金属反射膜１３を形成する（工程Ｓ２）。この際、金属反射膜１３は、反射領域のみに形成される。次に、所定の色相を呈する顔料や染料などを分散させてなる着色された感光性樹脂（感光性レジスト）を塗布し、所定パターンにて露光、現像を行ってパターニングを行うことにより、カラーフィルタ層１４を形成する（工程Ｓ３）。

次に、透明導電体をスパッタリング法により被着し、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることにより、透明電極１７を形成する（工程Ｓ４）。その後、透明電極１７上にポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ５）。

一方、反対側の基板１０２を製作し（工程Ｓ６）、同様の方法で透明電極１２１を形成し（工程Ｓ７）、さらに透明電極１２１上に配向膜を形成し、ラビング処理などを施す（工程Ｓ８）。

そして、シール材１０３を介して上記の基板１１と基板１０２とを貼り合わせてパネル構造を構成する（工程Ｓ９）。基板１１と基板１０２とは、基板間に分散配置された図示しないスペーサなどによってほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせられる。その後、シール材１０３の図示しない開口部から液晶１０４を注入し、シール材１０３の開口部を紫外線硬化性樹脂などの封止材によって封止する（工程Ｓ１０）。こうして主要なパネル構造が完成した後に、上述の位相差板や偏光板などを必要に応じてパネル構造の外面上に貼着などの方法によって取り付け（工程Ｓ１１）、図８に示す液晶表示パネル１００が完成する。

なお、上記は第１実施形態によるカラーフィルタ基板を適用した液晶表示パネルの製造方法であったが、第２実施形態及び第３実施形態によるカラーフィルタ基板を適用した液晶表示パネルも同様に製造することができる。

［電子機器］
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の例について図１０を参照して説明する。

まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１０（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ４１は、キーボード４１１を備えた本体部４１２と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４１３とを備えている。

続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１０（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機４２は、複数の操作ボタン４２１のほか、受話口４２２、送話口４２３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部４２４を備える。

なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図１０（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図１０（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。

［変形例］
なお、上述の反射層及びカラーフィルタを有する基板及び液晶装置などは、上述の例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更が可能であることは勿論である。

以上説明してきた実施形態においてはパッシブマトリクス型の液晶表示パネルを例示しているが、本発明の電気光学装置としては、アクティブマトリクス型の液晶表示パネル（例えばＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル）、並びに電子放出素子（Filed Emission Display及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display等）にも同様に適用することが可能である。

本発明の第１実施形態によるカラーフィルタ基板の構成を示す。 比較例に係るカラーフィルタ基板の構成を示す。 本発明の第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成を示す。 異物が混入したカラーフィルタ基板の状態を示す。 第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の変形例を示す。 第２実施形態に係るカラーフィルタ基板の他の変形例を示す。 第３実施形態に係るカラーフィルタ基板の構成を示す。 本発明を適用した液晶表示パネルの構成を示す。 液晶表示パネルの製造方法を示す。 本発明を適用した電子機器の例を示す。

符号の説明

１０、１０Ａ、４０ カラーフィルタ基板、 １１ 透明基板、 １２ 樹脂散乱層、 １３、１３Ａ 金属反射膜、 １４ カラーフィルタ層、 １７ 透明電極、 １００ 液晶表示パネル。

Claims (6)

1. 複数の画素領域が設けられた透明基板と、各々の前記画素領域内に設けられた反射領域及び透過領域を有する電気光学装置であって、
   複数の前記反射領域に形成された複数の島状の反射膜と、
   前記透明基板上の各々の前記透過領域に形成され、各々の前記反射膜の周囲を囲むように設けられた絶縁層と、
   前記絶縁層上及び前記反射膜上に設けられた絶縁性のカラーフィルタ層と、
   前記カラーフィルタ層上に形成された電極と、を備え、
   前記透過領域は、各前記画素領域内において前記反射領域を囲むように設けられていることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記透明基板と前記反射膜との間で、少なくとも前記反射膜に対応する領域に散乱層を設けたことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 複数の画素領域が設けられた透明基板と、各々の前記画素領域内に設けられた反射領域及び透過領域を有する電気光学装置であって、
   前記透明基板上の各々の前記反射領域に形成され、表面に凹凸形状を有する散乱層と、
   前記散乱層上に形成された複数の島状の反射膜と、
   前記反射領域及び透過領域に形成され、各々の前記反射膜を覆う絶縁性のカラーフィルタ層と、
   前記カラーフィルタ層上に形成された電極と、を備え、
   前記透過領域は、各前記画素領域内において前記反射領域を囲むように設けられており、
   前記透過領域には、前記散乱層が形成されておらず、
   前記散乱層が形成されていない透過領域に形成された前記カラーフィルタ層が、前記反射膜の周囲を囲み、
   前記透明基板上において、前記透過領域に形成された絶縁層を備え、
   前記カラーフィルタ層が、前記絶縁層上及び前記反射層上に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
4. 請求項１乃至３のいずれかに記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
5. 複数の画素領域と、各々の前記画素領域内に設けられた反射領域及び透過領域を有する電気光学装置用基板であって、
   複数の前記反射領域に形成された複数の島状の反射膜と、
   前記透明基板上の各々の前記透過領域に形成され、各々の前記反射膜の周囲を囲むように設けられた絶縁層と、
   前記絶縁層上及び前記反射膜上に設けられた絶縁性のカラーフィルタ層と、
   前記カラーフィルタ層上に形成された導電膜と、を備え、
   前記透過領域は、各前記画素領域内において前記反射領域を囲むように設けられていることを特徴とする電気光学装置用基板。
6. 複数の画素領域が設けられた透明基板と、各々の前記画素領域内に設けられた反射領域を囲むように設けられた透過領域を有する電気光学装置の製造方法であって、
   複数の前記反射領域に複数の島状の反射膜を形成する工程と、
   前記透明基板上の各々の前記透過領域に、各前記反射膜の周囲を囲むように絶縁層を形成する工程と、
   前記絶縁層上及び前記反射膜上に絶縁性のカラーフィルタ層を形成する工程と、
   前記カラーフィルタ層上に電極を形成する工程と、
   を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。

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