JP4010494B2 - 複合半透膜の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液体混合物の成分を選択的に分離するための複合半透膜及びその製造方法に関する。詳しくは、分離活性層とこれを支持する多孔質支持体とからなり、塩阻止性、及び耐塩素性に優れる複合半透膜及びその製造方法に関する。
【0002】
かかる複合半透膜は、超純水の製造、かん水または海水の脱塩などに好適であり、また染色排水や電着塗料排水などの公害発生原因である汚れなどから、その中に含まれる汚染源あるいは有効物質を除去・回収し、排水のクローズ化に寄与することができる。
【0003】
【従来の技術】
上記のごとき用途に使用される半透膜としては、多孔質支持体上に実質的に選択分離性を有する薄膜を形成してなる複合半透膜が知られている。このような複合半透膜は、一般に、多孔質支持体上に反応性基質を含有する水溶液を塗布した後、ヘキサンのような非水混和性の有機溶剤に溶解したトリレンジイソシアネート、塩化イソフタロイル、トリメシン酸クロライド等の多官能性架橋剤の溶液と接触させ、水相と有機相の界面で反応性基質を架橋剤と反応させる界面反応を利用して、多孔質支持体上に薄膜(緻密層又は分離活性層ともいわれる)を形成したものである。具体的には、多孔質支持体の基材としてポリスルホン限外濾過膜を用い、反応性基質としてポリエチレンイミンを用いた複合半透膜(特開昭49−133282号公報等)、アミン変性エピクロルヒドリンを用いた複合半透膜(特公昭55−38164号公報等)、ポリエチレンイミン等の水溶性重合体とポリアミノ化合物単量体混合物を用いた複合半透膜(特開昭57−27101号公報及び特開昭57−27102号公報等)、多官能芳香族アミンと多官能酸ハロゲン化物との界面重合によって得られるポリアミドからなる薄膜が多孔質支持体上に形成された複合半透膜(特開昭55−147106号公報、特開昭62−121603号公報、特開昭63−218208号公報、特公昭63−36808号公報、特開平2−187135号公報等)等が知られている。しかし、これら界面反応による従来の複合半透膜は、塩阻止性が十分でないか、あるいは優れた塩阻止性を有する膜でも殺菌等に用いる塩素に対する耐性が十分でないという間題がある。
【0004】
また、反応性2重結合をもつ化合物に紫外線、プラズマ、ガンマ線、及び電子線などの電磁波を照射して分離活性層を形成した複合半透膜の研究もなされてきた。例えば、特開2000−117077号公報には、アクリル酸、エチレングリコールジメタクリレート、及び光重合開始剤を含む溶液中に多孔質膜を浸漬し、引き上げ後、紫外線を照射して多孔質膜表面上に分離活性層を形成した複合半透膜の製造方法が記載されている。しかし、これらの方法により得られる複合半透膜は耐塩素性、透水性に優れるが、塩阻止性の面では満足できるものではなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、複合半透膜における上記した問題を解決するためになされたものであって、実用的な塩阻止性、透水性、及び耐塩素性を有する複合半透膜及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、下記の複合半透膜により上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち本発明は、アクリレート系化合物及び/又はメタクリレート系化合物を含有する反応性組成物の架橋重合体からなる分離活性層とこれを支持する多孔質支持体とからなる複合半透膜において、アクリレート系化合物及びメタクリレート系化合物が分子内に反応性の炭素炭素2重結合を少なくとも3つ有し、かつ、分離活性層の表面が高低差0.3μm以上の凹凸状構造になっていることを特徴とする複合半透膜、に関する。
【0008】
前記分離活性層を用いることにより、実用的な塩阻止性、透水性、及び耐塩素性を有する複合半透膜が得られるが、そのような顕著な効果が発現するのは下記の理由によるものと思われる。
【0009】
複合半透膜の塩阻止性を制御する主な要因として、分離活性層の分子の充填性と荷電性が挙げられる。このうち、分子の充填性は分離活性層の緻密性に関係があり、優れた塩阻止性を発現させるためは不可欠な因子である。
【0010】
すなわち、分離活性層の分子の充填性が過度に悪いと、分離活性層が静電効果によって塩イオンを阻止するのに有効な荷電性を帯びた場合であっても、塩イオンの透過を十分に阻止する空間を分子マトリックス中に形成することができず、塩阻止性は低下する。
【0011】
分子内に反応性の炭素炭素2重結合を少なくとも3つ有するアクリレート化合物及びメタクリレート化合物は重合反応により高度にネットワーク化された架橋構造を形成するため、そのような架橋構造を分離活性層に導入することによって分子の充填性を高めることができ、優れた塩阻止性が発現する。さらに、アクリレート化合物及び/又はメタクリレート化合物を用いることにより、塩素により切断されやすいアミド結合などの導入を避けることができ、塩素に対する耐性を高めることが可能となる。
【0012】
このように分子内に反応性の炭素炭素2重結合を少なくとも3つ有するアクリレート化合物及び/又はメタクリレート化合物を分離活性層の形成材料とすることにより塩阻止性および耐塩素性を向上させることができるが、該化合物の架橋構造により分子の充填性が高くなると透水抵抗が増大するため、透水性の低下を招く傾向にある。
【0013】
本発明はこのような透水性の低下を抑えるために、分離活性層の表面を高低差0.3μm以上の凹凸状構造にし、分離活性層の有効膜面積を大きくして透水性を向上させたことを特徴とする。
【0014】
前記凹凸状構造が形成される理由は明らかではないが、次のように考えられる。分離活性層を水溶性カルボン酸液に接触させることにより分離活性層の膨潤が起こり、次に少なくとも水を含有する液に接触させることにより水溶性有機酸液が水に置換され、分離活性層の収縮が起こる。その際、膨潤と収縮の体積変化率が異なるために不均一な応力が分離活性層に発生し、そのような応力が凹凸状構造を形成する要因となる。
【0015】
本発明による分離活性層の凹凸状構造は、高低差が0.3μm以上で、より好ましくは高低差が1μm以上である。
【0016】
また、本発明の複合半透膜は、前記分離活性層の表面が高低差0.3〜10μmの凹凸状構造になっており、かつ隣接する凸部分の頂点同士の間隔(以下、「凸部分間隔」という)が0.5〜15μmであることが好ましい。より好ましくは高低差が1〜6μm、凸部分間隔が1〜8μmである。
【0017】
本発明における凹凸状構造の高低差および前記凸部分間隔は、それぞれ該表面の任意10箇所における測定値の平均値を表すもので、公知の方法により測定することができる。例えば、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡を用いて倍率500〜50000倍の範囲で直接観察した写真を解析する方法や光干渉顕微鏡を用いて解析する方法などを採用することができる。
【0018】
高低差が0. 3μm未満あるいは凸部分間隔が15μmを超えるの場合は、分離活性層の有効膜面積が過度に減少し、透水性を低下させる傾向にある。また、高低差が10μmを超える場合あるいは凸部分間隔が0. 5μm未満の場合は分離活性層にピンホール等の欠陥を生じる傾向にある。
【0019】
また、本発明における分離活性層の厚さは、0.01〜5μmであることが好ましい。分離活性層の厚さの測定方法は特に限定されないが、よく知られているように走査型電子顕微鏡を用いて直接観察する方法が好ましく採用される。なお、分離活性層の厚さとは、分離活性層表面の任意10箇所における厚さの平均値をいう。
【0020】
本発明の複合半透膜は、1500ppmの塩化ナトリウム水溶液を溶液温度25℃、pH6.5、操作圧力1. 5MPaの条件下で逆浸透したときの塩阻止率が85%以上の性能を有することが好ましい。塩阻止率が85%未満であると、実用上必要とされる塩阻止性を満足できない傾向にある。
【0021】
また、本発明は、分子内に反応性の炭素炭素2重結合を少なくとも3つ有するアクリレート系化合物及び/又はメタクリレート系化合物を含有する反応性組成物の架橋重合体からなる分離活性層とこれを支持する多孔質支持体とからなる積層膜を、水溶性カルボン酸液と接触させ、次に少なくとも水を含有する液に接触させる工程を含む複合半透膜の製造方法、に関する。
【0022】
さらには、分子内に反応性の炭素炭素2重結合を少なくとも3つ有するアクリレート系化合物及び/又はメタクリレート系化合物を含有する反応性組成物に紫外線を照射して架橋重合させることにより分離活性層を形成する工程を含む複合半透膜の製造方法、に関する。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【0024】
本発明における複合半透膜は、分子内に反応性の炭素炭素2重結合を少なくとも3つ有するアクリレート系化合物及び/又はメタクリレート系化合物を含有する反応性組成物の架橋重合体からなる分離活性層とこれを支持する多孔質支持体とからなる。
【0025】
前記アクリレート系化合物及びメタクリレート系化合物は、公知のものを特に制限なく用いることができるが、エネルギー線の照射により重合可能なものであることが好ましい。エネルギー線としては、紫外線、電子線、γ線、X線、可視光線等を挙げることができる。なかでも装置及び取扱いの簡便さから紫外線を用いることが好ましい。紫外線により重合可能なものとしては、例えば、ECH変性グリセロールトリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(orヘキサ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、EO変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、HPA変性トリメチロールプロパントリメタクリレート等を挙げることができる。
【0026】
前記アクリレート系化合物及び/又はメタクリレート系化合物は、全モノマー中2〜80重量%程度であることが好ましく、特に5〜30重量%程度であることが好ましい。
【0027】
なお、重合に用いられる紫外線は、水銀灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハライドランプ、またはUVレーザーなどから発生させることができ、その強度は分離活性層の重合成分を重合させることができれば特に制限されないが、0. 2〜30J/cm2 であることが好ましい。また、重合速度を速めるために、場合によっては前記反応性組成物に光重合開始剤を添加して紫外線を照射してもよい。
【0028】
光重合開始剤は特に限定されるものではないが、例えば、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オンのようなアセトフェノン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルのようなベンゾイン類、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アリル化ベンゾフェノンのようなベンゾフェノン類、チオキサンソン、2−クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、2,4−ジメチルチオキサンソンのようなチオキサンソン類などが挙げられる。
【0029】
光重合開始剤は、反応性組成物中0.05〜10重量%程度であることが好ましく、特に0.2〜3重量%程度であることが好ましい。
【0030】
また、前記反応性組成物は、前記アクリレート化合物及び/又はメタクリレート化合物と共重合可能な化合物を含んでいても良い。そのような共重合可能な化合物としては、例えばヒドロキシメチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシペンチルアクリレートなどのヒドロキシアルキルアクリレート類、ヒドロキシメチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒドロキシペンチルメタクリレートなどのヒドロキシアルキルメタクリレート類、アクリル酸、メタクリル酸、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、2−アクルリアミド−2−フェニレンプロパンスルホン酸などの単官能有機酸類、アクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ペンチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、N,N−ジプロピルアクリルアミド、N,N−メチルエチルアクリルアミドなどのアクリルアミド類、メタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−イソプロピルメタクリルアミド、N−メタクリロイルピリジンなどのメタクリルアミド類、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、ポリブチレングリコールアクリレートなどのポリアルキレングリコールアクリレート類、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリプロピレングリコールメタクリレート、ポリブチレングリコールメタクリレートなどのポリアルキレングリコールメタクリレート類などを挙げることができる。
【0031】
これら共重合可能な化合物は、全モノマー中20〜98重量%程度であることが好ましく、特に70〜95重量%程度であることが好ましい。
【0032】
本発明における分離活性層の厚さは、分離活性層の製法等にもよるが、優れた塩阻止性、及び透水性を発現させるためには0.01〜5μmであることが好ましく、0.03〜1μmがより好ましい。0. 01μm未満であると分離活性層にピンホール等の欠陥が生じやすくなり、塩阻止性が低下する傾向にある。一方、5μmを超えると透過抵抗が大きくなり、透水性が低下する傾向にある。
【0033】
本発明において上記分離活性層を支持する多孔質支持体は、分離活性層を支持しうるものであれば特に限定されず、通常平均孔径10〜500Å程度の微孔を有する限外濾過膜が好ましく用いられる。多孔質支持体の形成材料としては、例えば、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンのようなポリアリールエーテルスルホン、ポリイミド、ボリフッ化ビニリデンなど種々のものをあげることができるが、特に化学的、機械的、熱的に安定である点からポリスルホン、ポリアリールエーテルスルホンが好ましく用いられる。かかる多孔質支持体の厚さは、通常約25〜125μm、好ましくは約40〜75μmであるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。なお、多孔質支持体は織布、不織布等による裏打ちにて補強されていてもよい。
【0034】
分離活性層を多孔質支持体上に形成させる方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。例えば、モノマー含有溶液や架橋前のポリマー含有溶液を多孔質支持体上に塗布して架橋重合させる方法などが挙げられる。中でも、前記反応性組成物の希釈溶液を多孔質支持体上に塗布した後、エネルギー線、特に紫外線を照射して分離活性層を多孔質支持体表面に形成する方法が好ましい。この場合、反応性組成物の希釈溶媒としては、多孔質支持体を劣化させず、反応性組成物を溶解するものであれば特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、トルエン、キシレン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、およびこれらの混合物などを挙げることができる。
【0035】
このようにして分離活性層とこれを支持する多孔質支持体とからなる積層膜を形成し、該積層膜の分離活性層表面を水溶性カルボン酸液と接触させ、次に少なくとも水を含有する液に接触させることにより分離活性層表面上に前記記載の凹凸状構造を形成し、本願発明の複合半透膜とする。
【0036】
前記水溶性カルボン酸液は、分離活性層および多孔質支持体を劣化させることがなく、少なくとも水と混合するものであれば特に限定されず、例えば、カルボン酸、その混合物、またはカルボン酸を有機溶媒または水で希釈した溶液等を挙げることができるが、カルボン酸を有機溶媒で希釈した溶液を用いることが好ましい。
【0037】
前記カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メサコン酸、プロピリデンマロン酸、シュウ酸、マロン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、グルタコン酸、メサコン酸などを挙げることができる。
【0038】
カルボン酸を有機溶媒または水で希釈した溶液の場合、カルボン酸の含有量は5〜90重量%であることが好ましく、特に10〜60重量%であることが好ましい。
【0039】
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、1−ブタノール、1−ペンタノール、1−へキサノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類やアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を挙げることができる。
【0040】
本発明において、分離活性層とこれを支持する多孔質支持体とからなる積層膜に水溶性カルボン酸液を接触させる方法としては浸漬、加圧通水、噴霧、塗布、シャワーなどあらゆる方法が例示されるが、かかる接触による十分な効果を付与せしめるためには常圧浸漬が好ましい。
【0041】
水溶性カルボン酸液の接触を行う際の接触温度は10〜100℃であることが好ましく、特に20〜70℃であることが好ましい。10℃より低い場合には、水溶性カルボン酸液の分離活性層への浸透が不十分になり、100℃より高い場合には積層膜の塩阻止性能が低下するなどの膜の劣化が生じるため好ましくない。
【0042】
また、接触時間は製造上の制約が許容する範囲であれば特に制限されるものではないが、0.5〜30分間程度が好ましい。
【0043】
水溶性カルボン酸液との接触後、分離活性層表面を少なくとも水を含有する液に接触させる。接触させる方法としては浸漬、噴霧、塗布、シャワーなどあらゆる方法が例示されるが、かかる接触による十分な効果を付与せしめるためには浸漬が好ましい。
【0044】
接触させる液は少なくとも水を含有していればよく、積層膜を劣化させず、前記記載の凹凸状構造を形成させることができれば、他の物質を含有していてもよい。接触させる液中の水の含有量は特に制限されないが、50重量%以上であることが好ましい。
【0045】
少なくとも水を含有する液の接触を行う際の接触温度は特に制限されないが10〜50℃であることが好ましく、特に20〜40℃であることが好ましい。10℃より低い場合には製造コスト上好ましくなく、50℃より高い場合には積層膜にピンホール等の欠陥が生じる恐れがあるため好ましくない。
【0046】
また、接触時間は前記記載の凹凸状構造を形成させることができれば特に制限されるものではないが、0.5〜60分間程度が好ましい。
【0047】
前記処理を行う際に、積層膜はその形状になんら制限を受けるものではない。すなわち、平膜状、スパイラルエレメント状など考えられるあらゆる膜形状において処理を施すことが可能である。
【0048】
また、多孔質支持体上に分離活性層を形成した後、その機械的強度や耐熱性を高める等を目的として、必要に応じて、分離活性層を加熱処理することもできる。この場合、その加熱温度は、通常、40〜180℃、好ましくは、60〜120℃であり、加熱時間は特に限定されないが、通常、1〜60分程度であり、好ましくは、2〜30分程度である。
【0049】
〔発明の効果〕
以上のように多孔質支持体上に分離活性層を形成した後、水溶性カルボン酸液及び少なくとも水を含有する液を用いて前記記載の処理を施すことによって、分離活性層の表面形状を特定の凹凸状構造にすることが可能であり、このような分離活性層を用いた複合半透膜は、実用的な塩阻止性、透水性、及び耐塩素性を有する。本発明の複合半透膜は、特にクリーンな水が要求される分野、例えば、かん水や海水等の脱塩による淡水化や、河川水の硬度調整、および半導体の製造に必要とされる超純水の製造等に好適に用いることができる。
【0050】
【実施例】
以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実施例等について説明する。なお、実施例等に記載の食塩の阻止率(%)は下記式により算出される値である。
【0051】
<食塩の阻止率>
阻止率(%)=(1−(膜透過液中の食塩濃度/原水中の食塩濃度))×100
実施例1
分子内に反応性の炭素炭素2重結合を3つ有するアクリレート系化合物として下記式(化1)
【化1】
で表されるアロニックスM−315(東亜合成(株)製)5.0重量部、アクリル酸2.5重量部、メタノール142重量部、および光重合開始剤としてイルガキュア2989(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.45重量部を混合して反応性組成物の希釈溶液を調製した。次に、この希薄溶液中にポリスルホン製多孔質支持体(アモコ社製、P−3500、平均孔径300Å)を1分間浸漬させて多孔質支持体上に反応性組成物を被覆した。その後、室温下で2分間放置して多孔質支持体上の希薄溶液を一部蒸発させた後、反応性組成物が被覆された多孔質支持体をコンベア式紫外線照射装置(Fusion社製、F600VPS)を用いて、高圧水銀ランプから発生した照度3. 1J/cm2の紫外線を4m/minの速度で2回照射し、反応性組成物を重合させ分離活性層を形成し、積層体を得た。そして、該積層体をメタクリル酸40重量部、およびメタノール60重量部から成る水溶性カルボン酸液に60℃で10分間浸漬させ、次に20℃の純水に浸漬させ、十分に洗浄して複合半透膜を得た。
【0052】
作製した複合半透膜の表面形態を走査型電子顕微鏡で観察した結果を図1に示す。表面の分離活性層(厚さ0.4μm)にミクロンオーダーの凹凸状構造(より具体的には皺状構造)の形成が認められる。また光干渉顕微鏡を用いて分離活性層表面の任意の10箇所における凹凸状構造の高低差、および凸部分間隔を測定し、その平均値を算出したところ、高低差は4.1μm、凸部分間隔は7.2μmであった。
【0053】
次に、作製した複合半透膜を用いて、1500ppmの塩化ナトリウム水溶液を溶液温度25℃、pH6.5、操作圧力1. 5MPaの条件下で逆浸透を行ったところ食塩の阻止率は95%、透過流束は0.24m3 /(m2 /日)であった。
【0054】
また、この複合半透膜を塩素濃度200ppmの次亜塩素酸ナトリウム水溶液に常温にて8日浸漬した後、前記と同様の条件にて逆浸透を行ったところ、食塩の阻止率は93%、透過流束は0.3m3 /(m2 /日)であった。
【0055】
実施例2
分子内に反応性の炭素炭素2重結合を3つ有するアクリレート系化合物として下記式(化2)
【化2】
で表されるアロニックスM−305(東亜合成(株)製)5.0重量部、アクリル酸2.2重量部、メタノール142重量部、および光重合開始剤としてイルガキュア2989(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.45重量部を混合して反応性組成物の希釈溶液を調製した以外は実施例1と同様の方法により複合半透膜を得た。
【0056】
作製した複合半透膜の分離活性層(厚さ0.3μm)表面の凹凸状構造の高低差、および凸部分間隔を前記と同様の方法により測定し、その平均値を算出したところ、高低差は1.7μm、凸部分間隔は2.1μmであった。
【0057】
次に、実施例1と同様にしてこの複合半透膜の逆浸透性能を調べたところ食塩の阻止率は89%、透過流束は0.31m3 /(m2 /日)であった。
【0058】
また、この複合半透膜を塩素濃度200ppmの次亜塩素酸ナトリウム水溶液に常温にて8日浸漬した後、前記と同様の条件にて逆浸透を行ったところ、食塩の阻止率は87%、透過流束は0.33m3 /(m2 /日)であった。
【0059】
前記記載から明らかなように、実施例1、2の複合半透膜はいずれも実用的な塩阻止性、透水性、及び耐塩素性を有している。
【0060】
比較例1
水溶性カルボン酸液に浸漬する工程、および20℃の純水で十分に洗浄する工程を省略した以外は実施例1と同様にして複合半透膜を得た。この膜の表面形態を走査型電子顕微鏡で観察した結果を図2に示す。分離活性層(厚さ0.5μm)の表面形状は平滑であり、凹凸状構造は形成されていなかった。
【0061】
次に、実施例1と同様にしてこの複合半透膜の逆浸透性能を調べたところ食塩の阻止率は95%、透過流束は0.09m3 /(m2 /日)であり、前記実施例の複合半透膜と比べて透水性に劣っていた。
【0062】
比較例2
m−フェニレンジアミン2. 0重量%、ラウリル硫酸ナトリウム0. 25重量%、トリエチルアミン2. 0重量%、及びカンファースルホン酸4. 0重量%を含む水溶液を前記ポリスルホン製多孔質支持体に数秒間接触させた後、余分の水溶液を除去した。次いで、かかる多孔質支持体の表面にトリメシン酸クロライド0. 3重量%を含むへキサン溶液を接触させ、その後120℃の熱風乾燥機中で5分間保持して、多孔質支持体上に重合体薄膜を形成し、複合半透膜を得た。この膜の表面形態を走査型電子顕微鏡で観察したところ、分離活性層(厚さ0.3μm)の表面形状は凹凸状構造であり、高低差を前記と同様の方法により測定し、その平均値を算出したところ、高低差は0.2μmであった。
【0063】
次に、実施例1と同様にしてこの複合半透膜の逆浸透性能を調べたところ食塩の阻止率は99.5%、透過流束は1.2m3 /(m2 /日)であった。
【0064】
また、この複合半透膜を塩素濃度200ppmの次亜塩素酸ナトリウム水溶液に常温にて8日浸漬した後、前記と同様の条件にて逆浸透を行ったところ、食塩の阻止率は9%、透過流束は55m3 /(m2 /日)であり、前記実施例の複合半透膜と比べて著しく耐塩素性に劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における複合半透膜の分離活性層表面と断面の電子顕微鏡写真である。
【図2】比較例1における複合半透膜の分離活性層表面と断面の電子顕微鏡写真である。
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