JP3999329B2 - 半導体製品の表面への層形成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 44
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 88
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 55
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 23
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 2
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 40
- 239000000047 product Substances 0.000 description 40
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 2
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N tungsten disilicide Chemical compound [Si]#[W]#[Si] WQJQOUPTWCFRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021342 tungsten silicide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/71—Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
- H01L21/768—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
- H01L21/76838—Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the conductors
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0209—Pretreatment of the material to be coated by heating
- C23C16/0218—Pretreatment of the material to be coated by heating in a reactive atmosphere
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/42—Silicides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4405—Cleaning of reactor or parts inside the reactor by using reactive gases
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面への層形成方法、特に半導体製品の表面への層形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製品、特に集積半導体製品の製造は複雑に連続して行われる個別工程を必要とする。その場合、半導体製品の表面に物質層を形成する製造工程は重要な位置を占めている。
【0003】
物質層の形成のための一連の方法が知られているが、その場合形成すべき層を気相から析出させる方法がしばしば使用される。特に、化学蒸着法(CVD=Chemical Vapour Deposition)は層形成のための重要な方法である。この場合、CVDの基本原理は所望の層を析出すべき半導体製品の加熱された表面に選択されたプロセスガスを導くことにある。加熱された表面ではプロセスガスの反応が起こり、それにより反応生成物として一方では所望の層が形成され、他方では排出されなければならない残留ガスが形成される。
【0004】
化学蒸着法は通常反応室内で微小な圧力の下に実施される。このために、加工すべき半導体製品は反応室内へ導入され、反応室内で予め定められた温度に加熱される。1つ又は複数のガス供給装置によってプロセスガスが半導体製品の表面へ導かれ、プロセスガスの反応によって形成された残留ガスが反応室から排気される。
【0005】
新しい半導体製品が層形成のために反応室内へ導入されると、反応室内には前回の層形成プロセスに使用された攻撃性のガスがまだ存在しているという問題がしばしば生ずる。この攻撃性のガスは層形成のために使用されたプロセスガスの残り、又はプロセスガスの反応によって形成された残留ガスの残りである。この攻撃性のガスによって半導体製品の表面では半導体製品を傷付ける不所望な反応が起こり得る。
【0006】
例えば、タングステン層を形成する際プロセスガスの1つとしてWF6 が使用される。しかしながら、このWF6 がシリコンとタングステンとの間の接触層及び障壁層として使われるTi/TiN層の表面へ当たると、次の反応式に基づいてWF6 とチタンとの不所望な反応が起こる。
【0007】
【化1】
WF6 +Ti → W+TiFx
【0008】
WF6 とチタンとのこの種の反応はTi/TiN層を溶解させるか又は電気特性(例えば接触抵抗)を悪化させ、それによって半導体製品の機能性を危うくすることがある。WF6 がシリコン表面へ当たる場合にも同様に、シリコン表面を傷付ける不所望な反応が次の反応式に基づいて起こり得る。
【0009】
【化2】
2WF6 +3Si → 2W+3SiF4
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明の課題は、攻撃性のガスによる表面の損傷が防止されるような表面への層形成方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
この課題は本発明によれば、表面が予め定められた温度に加熱され、少なくとも1つの第1のガスと、この第1のガスと反応する少なくとも1つの第2のガスとが層析出のために加熱された表面に導かれる表面への層形成方法において、表面の加熱前及び/又は加熱時に少なくとも1つの保護ガスが表面に導かれることによって解決される。
【0012】
本発明の有利な実施態様は請求項2以降に記載されており、以下での説明及び添付の図面から明らかになる。
【0013】
本発明による表面への層形成方法によれば、表面が予め定められた温度に加熱され、少なくとも1つの第1のガスと、この第1のガスと反応する少なくとも1つの第2のガスとが層析出のために加熱された表面に導かれ、その場合表面の加熱前及び/又は加熱時に少なくとも1つの保護ガスが表面に導かれる。
【0014】
この保護ガスによって、一方では反応室内にまだ残存する攻撃性のガスが希薄になり、他方では保護ガスの一部が冷たい表面に吸着し、それにより表面では優先的に攻撃性のガスと保護ガスとの反応が起こり、それによって表面層自体は殆ど傷付けられずにいる。その際、保護ガスは被覆すべき表面の原子又は分子に比較して攻撃性のガスとの高い反応度を有するように選定される。
【0015】
本発明は層形成方法における表面保護方法と見なすこともできる。この表面保護方法は表面の加熱前及び/又は加熱時に保護ガスを表面に導くことを特徴とする。
【0016】
保護ガスはキャリヤガス、特にアルゴンと共に表面に導かれることが好ましい。
【0017】
さらに、この層形成方法を用いて金属層、特にタングステン層又はモリブデン層が析出されることが好ましい。
【0018】
第1のガスとして少なくとも1つのガスは金属ハロゲン化物のグループから選ばれることが好ましい。
【0019】
さらに、第2のガスとして少なくとも1つのガスはシラン又は水素(H2 )のグループから選ばれると好ましい。
【0020】
保護ガスとして1つのガスはシランのグループから選ばれ、特にシラン(SiH4 )を使用すると好ましい。
【0021】
通常、層形成方法は反応室内で実施される。その際、保護ガスが被覆すべき製品を反応室内へ導入する個所で表面に導かれると有利である。これによって、方法全体についての生産速度を遅らすことなく、この場所での攻撃性のガスの濃度を減少させることができる。
【0022】
【実施例】
次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
【0023】
図1は本発明による方法のために使用されるCVD反応室の概略図を示す。処理すべき半導体製品(通常ウエハ)は反応室10の前の移送領域15からロック室20を介して反応室10内へ導入される。そこで半導体製品はステーション21上に置かれる。このステーション21の上方にはガス入口22(図2参照)が設けられており、このガス入口22を通って保護ガスとキャリヤガスが半導体製品のまだ冷たい表面(ほぼ室温)に導かれる。ロック室20の後ろの第1のステーション21から半導体製品は図示されていない搬送装置によってステーション23へ移動させられる。層形成のさらに続く過程において、半導体製品はこのステーション23から時計方向に反応室内の他のステーション24〜27に搬送される。その際、半導体製品は所定の温度に加熱される。個々のステーション23〜27の上方には層形成のためのプロセスガスを半導体製品の表面へ導くガス入口が同様に設けられている。半導体製品がステーション27にあり、層析出のプロセスが終了すると、この半導体製品はステーション27からステーション21に搬送され、ロック室20を通って反応室10から導出される。同時に、ステーション23〜26にある別の半導体製品がそれぞれ時計方向にステーションをさらに先へ移動させられる。その後再び新しい半導体製品がロック室20を通って反応室10内へ導かれ、ステーション21を経てステーション23に至る。
【0024】
例えば、この種の反応室10によってタングステン層をTi/TiN層上に析出させることができる。ステーション23にある半導体製品はその場合約440℃の温度に加熱される。ステーション23の上方に配置されたガス入口30(図2参照)を通って、タングステン核形成層の析出のために必要であるプロセスガスWF6 、SiH4 が半導体製品の表面に導かれる。このプロセスガスは次の反応式に基づいて反応する。
【0025】
【化3】
2WF6 +3SiH4 → 2W+3SiF4 +6H2
【0026】
製品の表面上に十分な核形成層が形成されると、半導体製品は次のステーション24へ搬送される。このステーション24の上方には同様にガス入口が配置されており、このガス入口を通ってタングステンバルク層の析出のために必要であるプロセスガスWF6 、H2 が半導体製品の表面に導かれる。このプロセスガスは次の反応式に基づいて反応する。
【0027】
【化4】
WF6 +3H2 → W+6HF
【0028】
タングステンバルク層のこの析出はステーション25〜27で繰り返され、それにより十分に厚いタングステン層を形成することができる。
【0029】
反応室内でのステーションの配置を選定することによって、攻撃性のガスWF6 、HFがステーション21上の反応室内へ新たに導入されたばかりの冷たい半導体製品に達するようにすることも勿論可能である。この攻撃性のガスはその場合冷たい半導体製品の表面層と反応し、それによって表面を傷つけるおそれがある。このことを十分に阻止するために、ステーション21の上方には、アルゴン(Ar)とシラン(SiH4 )とから成る混合ガスを冷たい半導体製品の表面へ導くガス入口22が配置されている。このガスによって、一方では反応室内に現存する攻撃性のガスWF6 、HFはステーション21の位置では希薄にされ、他方ではシランの一部が冷たい表面に吸着し、それにより表面では優先的に攻撃性のガスとシラン(SiH4 )との反応が起こり、表面層自体は殆ど傷付けられずにいる。WF6 とシラン(SiH4 )との反応の際に形成される数ナノメータの薄さのタングステン層もしくはケイ化タングステン層は除去される必要がない。タングステン層の引き続いて行われる析出はこの薄い中間層によって阻止されない。
【0030】
ステーション21の上方への付加的なシランの導入によって、反応室内での他の化学反応は影響を受けず、それゆえ保護ガスは反応室10による半導体製品の生産速度に不利に影響しないことが分かる。
【0031】
図3は本発明による方法を実施するための別の反応室の概略図を示す。この図3でも同様に、処理すべき半導体製品(通常ウエハ)は反応室40の前の移送領域45からロック室50を介して反応室40内へ導入される。ロック室50からステーション51に至る経路において、半導体製品は保護ガスを半導体製品の表面へ導くガス入口52の下を通る。ステーション51で半導体製品は所定の温度に加熱される。ステーション51の上方には半導体製品の表面にプロセスガスを導く別のガス入口(図示されていない)が設けられている。図1に示された反応室10とは異なり、反応室40は常にこの反応室40内の1つの半導体製品のみを加工し得るように設計されている。この図3でも同様に保護ガスによって一方では反応室内に現存する攻撃性のガス、例えばWF6 、HFはロック室50の後ろの位置では希薄にされ、他方では保護ガスの一部が冷たい表面に吸着し、それにより表面では優先的に攻撃性のガスと保護ガスとの反応が起こり、表面層自体は殆ど傷付けられずにいる。保護ガスのための付加的に設けられたガス入口によって反応室40の場合もこの反応室40による半導体製品の生産速度は不利な影響を受けない。
【0032】
半導体製品はステーション51において冷たい状態でもしくは加熱中に保護ガスを与えることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による方法のために使用されるCVD反応室の概略図。
【図2】図1に示されたCVD反応室の概略側面図。
【図3】本発明による方法を実施するための別の反応室の概略図。
【符号の説明】
10 反応室
15 移送領域
20 ロック室
21 ステーション
22 ガス入口
23〜27 ステーション
30 ガス入口
40 反応室
45 移送領域
50 ロック室
51 ステーション
52 ガス入口
Claims (6)
- 半導体製品を反応室内に導入し、該製品の表面を予め定めた温度に加熱し、少なくとも1つの第1のガスと、この第1のガスと反応する少なくとも1つの第2のガスとを層析出のために加熱された表面に導き、
この際、前記予め定めた温度への加熱に先立って前記表面に保護ガスを吸着させる
半導体製品の表面への層形成方法において、
半導体製品をロック室(50)を経て反応室に導き、
低温状態で前記表面に吸着せるべき保護ガスを半導体製品に、ロック室(50)から反応室への経路において供給することを特徴とする半導体製品の表面への層形成方法。 - 保護ガスとキャリヤガスを表面に導くことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 第1のガスとして少なくとも1つのガスを金属ハロゲン化物のグループから選ぶことを特徴とする請求項1又は2記載の方法。
- 第2のガスとして少なくとも1つのガスをシラン又は水素(H2 )のグループから選ぶことを特徴とする請求項1乃至3の1つに記載の方法。
- 保護ガスとして1つのガスをシランのグループから選ぶことを特徴とする請求項1乃至4の1つに記載の方法。
- 層形成方法を反応室内で実施し、保護ガスを、被覆すべき製品を反応室内へ導入する個所で表面に導くことを特徴とする請求項1乃至5の1つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19704533.2 | 1997-02-06 | ||
DE19704533A DE19704533C2 (de) | 1997-02-06 | 1997-02-06 | Verfahren zur Schichterzeugung auf einer Oberfläche |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10223564A JPH10223564A (ja) | 1998-08-21 |
JP3999329B2 true JP3999329B2 (ja) | 2007-10-31 |
Family
ID=7819515
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03658198A Expired - Lifetime JP3999329B2 (ja) | 1997-02-06 | 1998-02-04 | 半導体製品の表面への層形成方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6194314B1 (ja) |
EP (1) | EP0857795B1 (ja) |
JP (1) | JP3999329B2 (ja) |
KR (1) | KR100353210B1 (ja) |
DE (2) | DE19704533C2 (ja) |
TW (1) | TW462994B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6294468B1 (en) * | 1999-05-24 | 2001-09-25 | Agere Systems Guardian Corp. | Method of chemical vapor depositing tungsten films |
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-
1997
- 1997-02-06 DE DE19704533A patent/DE19704533C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-01-30 EP EP98101629A patent/EP0857795B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-30 DE DE59804614T patent/DE59804614D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-04 TW TW087101405A patent/TW462994B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-02-04 JP JP03658198A patent/JP3999329B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-05 KR KR1019980003194A patent/KR100353210B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-02-06 US US09/019,612 patent/US6194314B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10223564A (ja) | 1998-08-21 |
TW462994B (en) | 2001-11-11 |
EP0857795B1 (de) | 2002-07-03 |
DE19704533A1 (de) | 1998-08-13 |
DE59804614D1 (de) | 2002-08-08 |
EP0857795A1 (de) | 1998-08-12 |
DE19704533C2 (de) | 2000-10-26 |
KR19980071092A (ko) | 1998-10-26 |
US6194314B1 (en) | 2001-02-27 |
KR100353210B1 (ko) | 2002-10-19 |
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A621 | Written request for application examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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A602 | Written permission of extension of time |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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|
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|
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|
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|
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