JP3993141B2 - 透明な結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は潜像として貯蔵されるX線像の貯蔵のための刺激性燐光体を有する結合剤のない貯蔵燐光体スクリーン、及びかかるスクリーンの製造方法に関する。
貯蔵燐光体スクリーンはX線源によって放出される放射線エネルギーを吸収及び貯蔵する媒体として刺激性燐光体を利用するときにX線潜像が貯蔵されるスクリーンとして知られている。かかるX線は対象物(例えば人体)を通過するとスクリーン中の燐光体粒子に“潜像”を与え、それは“潜像”を可視化し内科医による検査に供せるようにするために読み出されることができる。X線像の読み出しは(長い波長の)刺激放射線で燐光体を励起し、それによって燐光体を刺激して検出器によって捕獲されるべき短い波長の放射線を放出することによって達成される。かかる発光貯蔵スクリーンは例えばEP−A 0174875に開示されている。
本発明の目的は優れた変調伝達関数、高い像形成シャープネスを伴って高いX線量吸収を有する貯蔵燐光体スクリーンを生成し、かつ容易に製造できる上述のタイプの結合剤のない貯蔵スクリーンを製造するための方法を提供することである。
図1は燐光体層を読み出した後、X線捕獲及び貯蔵媒体として凝固された単一結晶CsBr:Eu燐光体層で得られた像のシャープネスを説明するためのグリルの形の鉛スクリーンからのX線像を示す。
支持体及び100μm〜1000μmの範囲の層厚さを有する刺激性燐光体層を含む結合剤のない貯蔵燐光体スクリーンの製造方法であって、前記燐光体層が350nm〜750nmの波長範囲の放射線に対して少なくとも50%の透明性を有する場合において、前記透明性が、構造化された層中に構造化された形で存在する燐光体又は粉末燐光体を溶融して液体燐光体層を得た後、前記液体燐光体層を凝固することによって与えられることを特徴とする方法が提供される。より好ましい例では少なくとも70%、最も好ましくは少なくとも90%の層の透明性である。
M1+X.aM2+X′2bM3+X″3:cZ
式中、M1+はLi,Na,K,Cs及びRbからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、M2+はBe,Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Cu,Pb及びNiからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、M3+はSc,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Al,Bi,In及びGaからなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、ZはGa1+,Ge2+,Sn2+,Sb3+及びAs3+からなる群から選択された少なくとも一つの要素であり、X,X′及びX″は同じであっても異なってもよく、各々はF,Br,Cl,Iからなる群から選択されたハロゲン原子を表し、0≦a≦1、0≦b≦1及び0<c≦0.2である。
− EuOX′,EuX′2及びEuX′3(但し、X′はF,Cl,Br及びIからなる群から選択された一つの要素である)からなる群から選択されたユーロピウム化合物の10−3〜5mol%と前記CsXを混合する;
− 前記混合物を450℃以上の温度で燃焼する;
− 前記混合物を冷却する;そして
− CsX:Eu燐光体を回収する。
− 支持体(好ましくは非晶質炭素フィルム)を与える;
− 前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体上に同じ化学組成(好ましくはCsBr:Eu)を有する隣接する構造化及び非構造化燐光体層から構成される貯蔵燐光体層を蒸着する;
− 所望により、前記燐光体によってカバーされない前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体の側上にポリマーフィルムを積層する。
− 支持体(好ましくは非晶質炭素フィルム)を与える;
− 前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体上に正反射層を適用する;
− 前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体上に同じ化学組成(好ましくはCsBr:Eu)を有する隣接する構造化及び非構造化燐光体層から構成される貯蔵燐光体層を蒸着する;
− 所望により、前記燐光体によってカバーされない前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体の側上にポリマーフィルムを積層する。
− 支持体(好ましくは非晶質炭素フィルム)を与える;
− 前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体上に正反射層(好ましくはアルミニウム層)を適用する;
− 前記正反射層の上部にパリレン層を化学蒸着する;
− 前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体上に同じ化学組成を有する隣接する構造化及び非構造化燐光体層から構成される貯蔵燐光体層を蒸着する;
− 所望により、前記燐光体によってカバーされない前記(好ましい非晶質炭素フィルム)支持体の側上にポリマーフィルムを積層する。
− 70keV以下のエネルギーを有するX線を放出するために装備されたX線管、及び光タイマーに到達するX線量に従って前記管をオン及びオフに切り換えるための前記X線管に結合された光タイマーを含むX線装置を与える;
− 前記X線管と前記光タイマーの間に対象物を置く;
− 前記対象物と前記光タイマーの間に本発明による結合剤のない貯蔵燐光体パネル又はスクリーンを置く;及び
− 前記光タイマーが前記X線管をオフに切り換えるまで前記対象物、前記カセット及び前記光タイマーを露光するために前記X線管を活性化する。
本発明をその好ましい例と関連して以下記載するが、本発明をそれらの例に限定することを意図しないことは理解されるだろう。
後で走査装置に装着するために深さを減少させた酸化アルミニウムのるつぼにおいて、0.5グラムのCsBr:Eu燐光体を炉中に置いた。汚染を避けるために窒素を環境全体にわたってフラッシし、一方るつぼ中の燐光体材料を極めてゆっくりと760℃の溶融温度を最大10℃まで越える温度まで加熱した。
Claims (2)
- 支持体及び100μm〜1000μmの範囲の層厚さを有する刺激性燐光体層を含む結合剤のない貯蔵燐光体スクリーン又はパネルの製造方法であって、前記燐光体層が350nm〜750nmの波長範囲の光に対して少なくとも50%の透明性を有する場合において、前記透明性が、構造化された層中に構造化された形で存在する燐光体又は粉末燐光体を溶融して液体燐光体層を得た後、前記液体燐光体層を凝固することによって与えられること、及び構造化された燐光体層中に存在する燐光体の溶融が前記燐光体層の片側又は両側上の前記層の加熱によって行われることを特徴とする方法。
- 溶融が構造化された燐光体層の一つの表面において制御された条件下で層厚さの10〜90%の範囲の深さまで前記表面を加熱することによって行われる請求項1に記載の方法。
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