JP3937311B2 - レーザ加工方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被覆層を有する加工対象物にレーザビームを照射し、被覆層に穴を開けるレーザ加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
下地部材上に形成された被覆層に、紫外線の波長領域のパルスレーザビームを集光させ、穴を開ける方法が知られている。被覆層がアブレーションされ下地部材がアブレーションされない大きさに、レーザビームのパルスエネルギを設定しておくと、下地部材にほとんどダメージを与えることなく、被覆層に貫通孔を形成することができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のアブレーション加工で大面積の穴を開けようとすると、厚さ50μmの樹脂層に直径50μm程度の穴を開けるのでも100ショット前後のパルスレーザビームが必要となり、加工に長時間を要していた。
【0004】
本発明の目的は、加工対象物の被覆層に、短時間で効果的に穴を開けるレーザ加工方法を提供することである。
また、加工対象物の被覆層に、様々な大きさの穴を開けるレーザ加工方法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、下地部材の表面上に、該下地部材の表層部の材料とは異なる材料からなる被覆層が形成された加工対象物の前記被覆層を透過し、該被覆層と前記下地部材との界面で反射し、反射位置の該被覆層を該下地部材から剥離させる性質を有する第1のパルスレーザビームを、該被覆層の表面から加工対象物の第1の位置に入射させて、該被覆層の一部を該下地部材から剥離させ、前記第1の位置に第1の穴を形成する工程と、前記第1のパルスレーザビームの波長と同一の第1の波長の成分及び該第1の波長の高調波成分を含むパルスレーザビームから高調波成分を分離し、分離された高調波成分を、下地部材の表面上に、該下地部材の表層部の材料とは異なる材料からなる被覆層が形成された加工対象物の被覆層の表面から加工対象物の第2の位置に入射させ、前記第2の位置の被覆層に、前記第1の穴よりも小さい第2の穴を形成する工程とを有するレーザ加工方法が提供される。
【0006】
該レーザ加工方法によれば、前記第1の波長のレーザビームで大きな穴を形成し、前記第1の波長の高調波成分で小さな穴を形成することができるので、短時間で、様々な大きさの穴を形成することが可能となる。
【0007】
【発明の実施の形態】
図1及び図2を参照して、本発明の第1の実施例について説明する。
図1は本発明の第1の実施例によるレーザ加工方法で用いられるレーザ加工装置の概略図である。全固体レーザ発振器1からパルスレーザビーム、たとえばNd:YAGレーザの基本波(波長1064nm)が、パルスエネルギ200μJで出射される。このパルスレーザビームを2倍波発生用非線形結晶(SHG,Second Harmonics Generator)2に通す。これによりNd:YAGレーザの2倍高調波(532nm)を作り出すことができるが、入射したすべての基本波が2倍高調波に変換されるわけではない。2倍波発生用非線形結晶(SHG)からは、基本波と2倍高調波との異なる二つの波長成分を含む混合波が出射される。
【0008】
出射された混合波は、3倍波発生用非線形結晶(THG,Third Harmonics Generator)3に入射し、Nd:YAGレーザの3倍高調波がつくられる。その周波数は、2倍波発生用非線形結晶(SHG)から出射された混合波に含まれる基本波と2倍高調波との和周波である。3倍波発生用非線形結晶(THG)から出射されるレーザビームには、必ず基本波が残る。すなわち3倍波発生用非線形結晶(THG)からは、基本波(波長1064nm)と2倍高調波(波長532nm)と3倍高調波(波長355nm)との異なる三つの波長成分を含むレーザビームが出射される。
【0009】
このレーザビームは、ダイクロイックミラー4に入射する。ダイクロイックミラー4は波長の異なる基本波と3倍高調波とを分岐させ、それぞれ光路A、光路Bに導く。このとき、2倍高調波は、ダイクロイックミラー4を通過し、基本波とともに光路Aに進む。
【0010】
光路Aを辿る基本波のパルスレーザビームのパルスエネルギは、たとえば0.9mJである。基本波のパルスレーザビームは、たとえばビーム断面の形状を円形に整形するマスク5a、基本波を反射し2倍高調波を透過させる反射ミラー6a、ガルバノスキャナ7a、レーザビームを加工対象物10a上に集束させるfθレンズ8aを経て、ステージ9上に据えられている加工対象物10aに照射される。加工対象物10aは、たとえば多層基板である。ガルバノスキャナ7aは一対の揺動可能な反射鏡を含んで構成され、レーザビームを2次元方向に高速で走査する。なお、反射ミラー6aは、入射する2倍高調波のほとんどを透過させるが、4%ほどを反射してしまう。したがって、2枚の反射ミラー6aにより、ダイクロイックミラー4を通過した2倍高調波の0.16%が加工対象物10aに照射されるが、この2倍高調波の加工への参与は無視できる。
【0011】
図2(A)は、第1の実施例によるレーザ加工方法で加工する多層基板の断面図である。
支持材料(補強材料)たとえばガラス繊維で強化されたエポキシ樹脂で形成された支持基板13、金属材料たとえば銅で作られた下地部材である金属層12、誘電体材料たとえばエポキシ樹脂で作られた樹脂被覆層11が、この順に下から積層されている。樹脂被覆層11の厚みはたとえば50μmである。
【0012】
樹脂被覆層11の誘電体材料の例としては、エポキシ樹脂の他、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、BTレジン、BCB(ベンゾシクロブテン)などがある。
【0013】
金属層12の金属材料の例としては、銅の他、アルミ、金、銀、パラジューム、ニッケル、チタン、タングステン、プラチナ、モリブデンなどがある。
支持基板13は、支持材料(補強材料)たとえばガラス繊維の他、アルミナ繊維、アラミド繊維、ケプラーなどで強化された誘電体材料で形成される。
【0014】
樹脂被覆層11の上面から、Nd:YAGレーザの基本波を入射させる。Nd:YAGレーザの基本波は樹脂被覆層11にほとんど吸収されることなく透過し、金属層12で大部分反射される性質をもつ。レーザビームは樹脂被覆層11と金属層12との界面に高圧力状態を引き起こし、その圧力によって、樹脂被覆層11の金属層12からの剥離を誘起し、樹脂被覆層11に穴を形成する。この現象を「リフティング現象」と呼び、「リフティング現象」を利用して行う加工を、「リフティング加工」と呼ぶことにする。リフティング加工の特徴の一つに、アブレーション加工に比べ、大きい穴を開けることができる、という点がある。
【0015】
図2(B)は、図2(A)に示した多層基板に、0.9mJ/パルスのNd:YAGレーザの基本波(波長1064nm)が1ショット入射した後の、該多層基板の断面図である。樹脂被覆層11に穴11aが形成されている。穴11aの形状がたとえば円形であるとき、たとえばその直径を90μmとすることができる。また、数ショットのビームを穴を広げるように照射し、少ないショット数で、しかも金属層12にほとんど損傷を与えずに、直径が90μmを超える任意の穴径の穴を開けることができる。もし、たとえばパルスエネルギを3mJに設定すれば、直径が1mmに達するような円形の穴も1ショットで作製することができる。
【0016】
ガルバノスキャナ7aの動作により、基本波のレーザビームの入射位置が多層基板10aの表面上を移動し、樹脂被覆層11の所定の位置に、直径90μm以上の所定の大きさの穴が、次々と開けられる。これらは、リフティング現象により形成された穴である。
【0017】
3倍波発生用非線形結晶(THG)3によって3倍高調波に変換され、ダイクロイックミラー4で基本波と分岐されたパルスレーザビームが光路Bを進む。このレーザビームのパルスエネルギは、たとえば100μJ/パルスである。3倍高調波のレーザビームは、たとえばビーム断面の形状を円形に整形するマスク5b、反射ミラー6b、レーザビームを高速で走査するガルバノスキャナ7b、レーザビームの焦点を加工対象物10b上に結ばせるfθレンズ8bを経て、ステージ9上に据えられている加工対象物10bに照射される。ガルバノスキャナ7bは一対の揺動可能な反射鏡を含んで構成され、レーザビームを2次元方向に高速で走査する。
【0018】
加工対象物10bは、たとえば下地層の表面に被覆層が形成されている多層基板である。加工対象物10aと同じである必要はない。ここでは、加工対象物10bを、下地層がたとえばアルミニウム層であり、被覆層がたとえば厚さ10μmのポリイミド樹脂層である多層基板とし、光路Bを辿ってきた3倍高調波をポリイミド樹脂層上面から入射させる。
【0019】
アブレーションにより、ポリイミド樹脂層に穴が形成される。ガルバノスキャナ7bの動作により、幾ショットものビームが1つの穴を深めたり広げたりするように照射され、たとえばポリイミド樹脂層を貫通する所定の大きさの穴が開けられる。たとえば形成される穴の形状が円形であるとき、その直径は、たとえば25μm以上90μm未満である。続いて、同様にして、所定の別の位置に所定の大きさの穴を開ける。
【0020】
パルスエネルギ100μJ/パルスの3倍高調波の照射で、たとえば直径が25μm以上90μm未満の円形の穴を開ける。直径90μm以上の円形の穴は、ショット数が多くなるため、アブレーション加工では非現実的である。
【0021】
1枚の多層基板の被覆層が、たとえば直径25μm以上90μm未満の円形の穴と、90μm以上の穴とを有するように加工することもできる。以下、第2の実施例でそのことを説明する。
【0022】
図1を参照する。第2の実施例によるレーザ加工方法で用いられるレーザ加工装置は、第1の実施例で用いたレーザ加工装置と同一である。なお、ステージ9は、その上に載置された加工対象物を移動させる移動機構を備えている。加工対象物は、第1の実施例でも用いた、たとえば銅で形成された金属層12表面に、厚さ50μmのエポキシ樹脂で形成された樹脂被覆層11が積層された、図2(A)に示す多層基板である。
【0023】
光路Aを進んできたNd:YAGレーザの基本波(波長1064nm)が、多層基板の樹脂被覆層11表面から入射する。基本波は、ガルバノスキャナ7aで高速走査され、ガルバノスキャナ7aで走査可能な領域内の樹脂被覆層11の所定の位置に、次々と、所定の大きさのたとえば円形の穴を開ける。リフティング加工である。直径が90μmの円形の穴を、1ショットの基本波で加工することができる。また、数ショットのビームを穴を広げるように照射し、直径90μmを超える任意の穴径の穴を形成することができる。
【0024】
ガルバノスキャナ7aによって走査可能な領域内の加工が終了すると、ステージ9により多層基板が移動し、他の領域の加工が行われる。ガルバノスキャナ7aによる走査とステージ9による多層基板の移動とを繰り返すことにより、たとえば直径が90μm以上の円形の穴を開けることが望まれる多層基板上のすべての位置に、穿孔がなされる。
【0025】
基本波により穿孔された多層基板が、ガルバノスキャナ7bの加工対象領域に搬送される。
光路Bを進んできたNd:YAGレーザの3倍高調波(波長355nm)が、基本波で穴を開けられた多層基板に入射し、基本波で加工された穴とは異なる位置の樹脂被覆層11に穴を形成する。幾ショットかのレーザビームが、ガルバノスキャナ7bの動作により、1つの穴を広げたり深めたりするように照射され、所定の位置に、所定の大きさの穴を形成する。ガルバノスキャナ7bで走査可能な領域内の穿孔が終了すると、ステージ9により多層基板が移動し他の領域の加工が行われる。ガルバノスキャナ7bによる走査とステージ9による多層基板の移動とを繰り返すことにより、たとえば直径が25μm以上90μm未満の円形の穴を開けることが望まれる多層基板上のすべての位置に、穿孔がなされる。
【0026】
このように、1枚の多層基板の被覆層が、たとえば直径25μm以上90μm未満の円形の穴と、直径90μm以上の円形の穴とを有するように加工することもできる。
【0027】
また、第2の実施例においては、ガルバノスキャナ7bの走査可能領域で3倍高調波を照射し、多層基板にたとえば直径25μm以上90μm未満の円形の穴を加工すると同時に、ガルバノスキャナ7aの走査可能領域では基本波を照射して、別の多層基板にたとえば直径90μm以上の円形の穴を加工する。したがって、作業の高速化が実現される。
【0028】
なお、第1及び第2の実施例においては、多くの場合、基本波を用いるリフティング加工よりも、3倍高調波を用いて行うアブレーション加工の方が、照射するレーザビームのショット数を必要とするであろう。この場合、ガルバノスキャナ7aの走査領域において基本波による加工が終了した後、ガルバノスキャナ7bの走査領域における3倍高調波による加工が終了するまでは、基本波のレーザビームを多層基板に入射させないように、ガルバノスキャナを調節する。また、たとえば、ビームを遮るシャッタを、ダイクロイックミラー4と多層基板の間の光路A上に設けてもよい。
【0029】
以上、第1及び第2の実施例においては、アブレーション加工にNd:YAGレーザの3倍高調波(355nm)を用いたが、2倍高調波(532nm)や4倍高調波(266nm)を用いることも可能である。2倍高調波を使用する場合は、図1の加工装置の3倍波発生用非線形結晶(THG)3が不要である。4倍高調波を使用する場合は、3倍波発生用非線形結晶(THG)3のかわりに、4倍波発生用非線形結晶(FHG,Forth Harmonics Generator)を使用すればよい。高調波成分としては、パルス幅が1ps以上1μs未満の紫外線の波長領域(波長4〜400nm)のパルスレーザビーム、パルス幅が1ps以上1ns未満の緑色の波長領域(波長492〜577nm)のパルスレーザビームを用いることができる。この範囲においては、加工が良好に行われる。なお、紫外線の波長領域のパルスレーザビームの場合、パルス幅が1μs以上の範囲では、入熱時間が長いことによる悪影響が出るため、良質の加工は難しい。緑色の波長領域のパルスレーザビームの場合、パルス幅が1ns以上の範囲では、樹脂被覆層の透過率が高くなり、銅の溶融が起こるため、良質の加工は難しい。
【0030】
全固体レーザ発振器としてNd:YAGレーザを用いたが、Nd:YLFレーザを使用してもよい。また、ガルバノスキャナのかわりにポリゴンミラーを用いたビーム走査光学系を使用してもよい。
【0031】
更に、ここでは直径が25μm以上90μm未満の円形の穴を3倍高調波で、直径90μm以上の円形の穴を基本波で加工したが、リフティング加工により形成される穴の直径は、照射するレーザビームのパルスエネルギ、加工対象物上に集光されるビームスポットのサイズ、加工対象物の特性等に応じて決定できるので、可能な限りリフティング加工となる基本波を用いることとし、リフティング加工では不可能な小径の穴の加工に3倍高調波を用いることとすれば、トータルの加工時間を最短にすることができる。
【0032】
なお、第1及び第2の実施例においては、円形の穴を加工したが、穴の形状は円形でなくてもよい。
一般に、アブレーションによる加工は、大きい穴を開けるのには適さない。したがって従来、大きい穴はたとえばCO2レーザで加工し、小さい穴はたとえばNd:YAGレーザ等の全固体レーザの高調波を用いて、アブレーションで加工を行っていた。また、アブレーションで加工を行う際、高調波発生時に含まれる基本波のビームは利用しないのが通常であった。第1及び第2の実施例に示したレーザ加工方法は、たとえば全固体レーザ発振器だけを用いて、大きい穴と小さい穴を効率よく開けることを可能にする。また、従来活用できていなかった、高調波発生時に含まれる基本波を、有効に活用することができる。
【0033】
以上、実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
【0034】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、加工対象物の被覆層に、短時間で、様々な大きさの穴を開けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1及び第2の実施例によるレーザ加工方法で用いられるレーザ加工装置の概略図である。
【図2】(A)は、第1及び第2の実施例によるレーザ加工方法で加工する多層基板の断面図であり、(B)は、第1及び第2の実施例によるレーザ加工方法で穴を開けられた多層基板の断面図である。
【符号の説明】
A、B 光路
1 全固体レーザ発振器
2 2倍波発生用非線形結晶(SHG)
3 3倍波発生用非線形結晶(THG)
4 ダイクロイックミラー
5a、b マスク
6a、b 反射ミラー
7a、b ガルバノスキャナ
8a、b fθレンズ
9 ステージ
10a、b 加工対象物
11 樹脂被覆層
11a 穴
12 金属層
13支持基板
Claims (6)
- 下地部材の表面上に、該下地部材の表層部の材料とは異なる材料からなる被覆層が形成された加工対象物の前記被覆層を透過し、該被覆層と前記下地部材との界面で反射し、反射位置の該被覆層を該下地部材から剥離させる性質を有する第1のパルスレーザビームを、該被覆層の表面から加工対象物の第1の位置に入射させて、該被覆層の一部を該下地部材から剥離させ、前記第1の位置に第1の穴を形成する工程と、
前記第1のパルスレーザビームの波長と同一の第1の波長の成分及び該第1の波長の高調波成分を含むパルスレーザビームから高調波成分を分離し、分離された高調波成分を、下地部材の表面上に、該下地部材の表層部の材料とは異なる材料からなる被覆層が形成された加工対象物の被覆層の表面から加工対象物の第2の位置に入射させ、前記第2の位置の被覆層に、前記第1の穴よりも小さい第2の穴を形成する工程と
を有するレーザ加工方法。 - 前記第1の穴と前記第2の穴とが、一個の加工対象物の異なる箇所に形成される請求項1に記載のレーザ加工方法。
- 前記高調波成分が、パルス幅が1ps以上1μs未満の紫外線の波長領域のパルスレーザビーム、またはパルス幅が1ps以上1ns未満の緑色の波長領域のパルスレーザビームである請求項1または2に記載のレーザ加工方法。
- 前記第1の穴を形成する工程において、前記第1のパルスレーザビームを加工対象物の前記第1の位置に、第1のショット数だけ入射させ、
前記第2の穴を形成する工程において、前記高調波成分を加工対象物の前記第2の位置に、前記第1のショット数より多い第2のショット数だけ入射させる請求項1〜3のいずれか1項に記載のレーザ加工方法。 - 下地部材の表面上に、該下地部材の表層部の材料とは異なる材料からなる被覆層が形成された加工対象物の前記被覆層を透過し、該被覆層と前記下地部材との界面で反射し、反射位置の該被覆層を該下地部材から剥離させる性質を有する第1のパルスレーザビームの波長と同一の第1の波長の成分、及び該第1の波長の高調波成分を含むパルスレーザビームから、前記第1のパルスレーザビームと高調波成分とを分離する工程と、
前記第1のパルスレーザビームを、該被覆層の表面から加工対象物の第1の位置に入射させて、該被覆層の一部を該下地部材から剥離させ、前記第1の位置に第1の穴を形成する工程と、
前記高調波成分を、下地部材の表面上に、該下地部材の表層部の材料とは異なる材料からなる被覆層が形成された加工対象物の被覆層の表面から加工対象物の第2の位置に入射させ、前記第2の位置の被覆層に、前記第1の穴よりも小さい第2の穴を形成する工程と
を有するレーザ加工方法。 - 前記第1の穴を形成する工程において、前記第1のパルスレーザビームを加工対象物の前記第1の位置に、第1のショット数だけ入射させ、
前記第2の穴を形成する工程において、前記高調波成分を加工対象物の前記第2の位置に、前記第1のショット数より多い第2のショット数だけ入射させる請求項5に記載のレーザ加工方法。
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