JP3930032B2 - 排ガス処理方法 - Google Patents
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Description
RT≧1.5×106/(SV×CHCl) (1式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。
RT≧1.5×106/(SV×CHCl) (1式)
RT≦5.0×106/(SV×CHCl) (2式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
H:移動層の高さ (m)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。
RT≧1.5×106/(SV×CHCl) (1式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。
RT≧1.5×106/(SV×CHCl) (1式)
RT≦5.0×106/(SV×CHCl) (2式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。
RT≧1.5×106/(SV×CHCl)(1式)
RT≦5.0×106/(SV×CHCl)(2式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
とすることを特徴とする排ガス処理方法。
RT≧1.5×106/(SV×CHCl)(1式)
RT≦5.0×106/(SV×CHCl)(2式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
とすることを特徴とする排ガス処理方法。
本発明者らは、硫黄酸化物及びダストの含有量が少なく、窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類の除去を目的とする排ガス処理について研究した結果、排ガス中に含まれる塩化水素が窒素酸化物の除去に影響を与えることを発見した。
従って、排ガス中に含まれる硫黄酸化物及びダストが少ない場合でも、排ガス中に塩化水素が含まれるときは、単純に反応塔内における炭素質材の滞留時間を短くすることが好ましいとされていた。
RT≧1.5×106/(SV×CHCl) (1式)
塩化水素の除去に好ましい炭素質材の反応塔内滞留時間RT
RT≦5.0×106/(SV×CHCl) (2式)
ここで、RT:炭素質材の反応塔内滞留時間 (h)
SV:反応塔における排ガスの空塔速度(h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
従って、少なくとも窒素酸化物と塩化水素とを含む排ガスを処理する際に、窒素酸化物の除去のみを目的とする場合には、前記の(1式)を満たす滞留時間とする。
RT≧6.7H (3式)
ということになる。
Vav=ΣVnTn/ΣTn
RTav=H/Vav
の式から求められる。
炭素質材を充填した移動層による排ガス処理の試験を、図4に示す構成の排ガス処理装置を用いて行った。
(排ガス)
排ガス量 8000 Nm3/h
排ガス温度 150 ℃
窒素酸化物 100 ppm
アンモニア添加量 100 ppm 相当
塩化水素 100 ppm
ダイオキシン類 0.13 ng−TEQ/Nm3
排ガス条件はいずれも多少変動したので平均値を示す。
反応塔 SV値 500 h-1
温度 150 ℃
移動層高さ 9.0 m
塔断面積 1.8 m2
炭素質材 活性コークス
平均粒径 6.2 mm
再生塔 温度 450 ℃
滞留時間を変化させて窒素酸化物及び塩化水素の除去率を測定した。その結果を図1に示す。滞留時間が30時間から100時間の間で高い除去率が得られた。
炭素質材を充填した移動層による排ガス処理の試験を、図3に示す構成の排ガス処理装置を用いて行った。
(排ガス)
排ガス量 8000 Nm3/h
排ガス温度 150 ℃
窒素酸化物 100 ppm
アンモニア添加量 100 ppm 相当
塩化水素 100 ppm
ダイオキシン類 0.13 ng−TEQ/Nm3
排ガス条件はいずれも多少変動したので平均値を示す。
反応塔 SV値 500 h-1
温度 150 ℃
移動層高さ 9.0 m
塔断面積(上流側) 0.9 m2
塔断面積(下流側) 0.9 m2
塔断面積(合計) 1.8 m2
炭素質材 活性コークス
平均粒径 6.2 mm
再生塔 温度 450 ℃
上流側反応室及び下流側反応塔室において、それぞれ以下のように、定期的に炭素質材の滞留時間の設定変更を行い、窒素酸化物、塩化水素、及びダイオキシン類の除去率を測定した。
上流側反応室における滞留時間設定変更第1期
設定時間 20 h
滞留時間 30 h
上流側反応室における滞留時間設定変更第2期
設定時間 5 h
滞留時間 200 h
上流側反応室における滞留時間設定変更第3期
設定時間 20 h
滞留時間 無限大 h
上流側反応室における滞留時間設定変更第4期
設定時間 5 h
滞留時間 200 h
上流側反応室における1周期(第1〜4期)全体
設定時間(合計) 50 h
平均滞留時間 69.8 h
下流側反応室における滞留時間設定変更第1期
設定時間 20 h
滞留時間 無限大 h
下流側反応室における滞留時間設定変更第2期
設定時間 5 h
滞留時間 200 h
下流側反応室における滞留時間設定変更第3期
設定時間 20 h
滞留時間 30 h
下流側反応室における滞留時間設定変更第4期
設定時間 5 h
滞留時間 200 h
下流側反応室における1周期(第1〜4期)全体
設定時間(合計) 50 h
平均滞留時間 69.8 h
なお、上流側反応室の第1期の開始時刻と下流側反応室の第1期の開始時刻は同時刻に設定し、且つ、上流側反応室の第4期の終了時刻と下流側反応室の第4期の終了時刻も同時刻に設定した。
4 上流側反応室
6 下流側反応室
10 塔頂
8、12、14 塔底
20 未処理の排ガス
22 処理済ガス
24 放出ガス
30 反応塔
32 再生塔
40 反応塔
42 再生塔
44 排ガス
46、48 塔頂
50 処理済ガス
52 放出ガス
Claims (9)
- 流下する炭素質材からなる移動層を内部に形成してなる反応塔に、少なくともダイオキシン類を含む排ガスを前記移動層に対して直交流で供給して処理する排ガス処理方法において、ダイオキシン類の除去を目的として、前記反応塔における炭素質材の滞留時間を下記(3式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
H:移動層の高さ (m)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。 - 流下する炭素質材からなる移動層を内部に形成してなる反応塔に少なくとも窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類を含む排ガスを前記移動層に対して直交流で供給して処理する排ガス処理方法において、窒素酸化物及びダイオキシン類の除去を目的として、前記反応塔における炭素質材の滞留時間を下記(1式)及び(3式)
RT≧1.5×106/(SV×CHCl) (1式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。 - 流下する炭素質材からなる移動層を内部に形成してなる反応塔に少なくとも窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類を含む排ガスを前記移動層に対して直交流で供給して処理する排ガス処理方法において、窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類の除去を目的として、前記反応塔における炭素質材の滞留時間を下記(1式)、(2式)及び(3式)
RT≧1.5×106/(SV×CHCl) (1式)
RT≦5.0×106/(SV×CHCl) (2式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
を満たす範囲とすることを特徴とする排ガス処理方法。 - 流下する炭素質材からなる移動層を内部に形成してなる反応塔に少なくとも窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類を含む排ガスを前記移動層に対して直交流で供給して処理する排ガス処理方法において、窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類の除去を目的として、前記移動層を排ガスの通過方向に複数個の室に区画し、少なくとも1つの室における炭素質材の滞留時間(但し、定期的に炭素質材の滞留時間の設定変更を行う場合は平均滞留時間)を下記(1式)及び(2式)を満たす範囲とし、他の少なくとも1つの室における炭素質材の滞留時間を下記(3式)を満たす範囲
RT≧1.5×106/(SV×CHCl)(1式)
RT≦5.0×106/(SV×CHCl)(2式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
とすることを特徴とする排ガス処理方法。 - 2つ以上の室で、定期的に各室の炭素質材の滞留時間の設定変更を行う場合であって、炭素質材の滞留時間の設定値を、少なくとも1つの室と他の少なくとも1つの室との間で定期的に交替する請求項4に記載の排ガス処理方法。
- 定期的に炭素質材の滞留時間の設定変更を行う場合であって、炭素質材の滞留時間の設定値の少なくとも1つが無限大値(炭素質材の降下速度が0m/h)である請求項4又は5に記載の排ガス処理方法。
- 流下する炭素質材からなる移動層を内部に形成してなる複数の反応塔に少なくとも窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類を含む排ガスを前記移動層に対して直交流で供給して処理する排ガス処理方法において、窒素酸化物、塩化水素及びダイオキシン類の除去を目的として、前記反応塔を排ガスの通過方向に複数個連設し、少なくとも1つの反応塔における炭素質材の滞留時間(但し、定期的に炭素質材の滞留時間の設定変更を行う場合は平均滞留時間)を下記(1式)及び(2式)を満たす範囲とし、他の少なくとも1つの反応塔における炭素質材の滞留時間を下記(3式)を満たす範囲
RT≧1.5×106/(SV×CHCl)(1式)
RT≦5.0×106/(SV×CHCl)(2式)
RT≧6.7H (3式)
ここで、RT:滞留時間 (h)
SV:排ガス空塔速度 (h-1)
CHCl:塩化水素濃度 (ppm)
H:移動層の高さ (m)
とすることを特徴とする排ガス処理方法。 - 2つ以上の反応塔で、定期的に各反応塔の炭素質材の滞留時間の設定変更を行う場合であって、炭素質材の滞留時間の設定値を、少なくとも1つの反応塔と他の少なくとも1つの反応塔との間で定期的に交替する請求項7に記載の排ガス処理方法。
- 定期的に炭素質材の滞留時間の設定変更を行う場合であって、炭素質材の滞留時間の設定値の少なくとも1つが無限大値(炭素質材の降下速度が0m/h)である請求項7又は8に記載の排ガス処理方法。
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