JP3928136B2 - Solder resist paint, cured product thereof and printed wiring board provided with coating - Google Patents

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Description

本発明は、二液タイプのソルダーレジスト塗料、その硬化物及びその硬化物の一形態である被膜を備えたプリント配線板に関する。更に詳しくは、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物を含有する第一液とアルコキシチタンを含有する第二液から構成される二液タイプのソルダーレジスト塗料において、第一液及び/又は第二液にチタン酸カリウム繊維を含有させた二液タイプのソルダーレジスト塗料、これらの二液タイプのソルダーレジスト塗料から形成される硬化物及びソルダーレジスト塗料から形成される硬化物の一形態である被膜を備えたプリント配線板に関する。該硬化物、該被膜は、鉛フリー半田による部品実装に耐える高耐熱性を有するものである。更に、アンチモン化合物、ハロゲン化合物及びリン化合物を含まないにもかかわらず、難燃性をも示すものである。  The present invention relates to a two-component type solder resist paint, a cured product thereof, and a printed wiring board provided with a film which is one form of the cured product. More specifically, in a two-component type solder resist coating composed of a first liquid containing a partial hydrolyzate of an alkoxysilane compound and a second liquid containing alkoxy titanium, the first liquid and / or the second liquid A two-part type solder resist paint containing potassium titanate fiber, a cured product formed from these two-part type solder resist paints, and a coating that is one form of a cured product formed from the solder resist paint The present invention relates to a printed wiring board. The cured product and the coating have high heat resistance to withstand component mounting with lead-free solder. Furthermore, although it does not contain an antimony compound, a halogen compound and a phosphorus compound, it also exhibits flame retardancy.

現在、一部の民生用プリント配線板及びほとんどの産業用プリント配線板のソルダーレジストには、アルカリ現像タイプの液状ソルダーレジストが多く使用されている。このような感光性・熱硬化性樹脂組成物からなるアルカリ現像タイプの液状ソルダーレジストとしては、特開昭61−243869号公報、特開平3−253093号公報、特開平4−281454号公報、特開平8−335767号公報等に、組成物が開示されている。  At present, alkali developing type liquid solder resists are widely used as solder resists for some consumer printed wiring boards and most industrial printed wiring boards. As an alkali development type liquid solder resist comprising such a photosensitive / thermosetting resin composition, JP-A-61-2243869, JP-A-3-253093, JP-A-4-281454, A composition is disclosed in Japanese Laid-Open Patent Application No. 8-335767.

また、ソルダーレジストに難燃性を付与する場合は、ハロゲン系難燃化剤、ハロゲン系難燃化剤とアンチモン化合物との併用が広く使用されている。このようなハロゲン系難燃化剤を用いるアルカリ現像型のソルダーレジストとしては、例えば特開平2−88615号公報に、組成物が開示されている。しかしながら、最近は、世界的な環境問題、人体に対する安全性への問題から、難燃性についても脱ハロゲン化、脱アンチモンへの要求が高まり、例えば、特開2003−277470号公報ではハロゲン化合物を使用しない有機リン化合物を含有する組成物が開示されている。  In addition, when flame retardancy is imparted to the solder resist, halogen flame retardants and combinations of halogen flame retardants and antimony compounds are widely used. As an alkali development type solder resist using such a halogen flame retardant, a composition is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-88615. However, recently, demands for dehalogenation and deantimony for flame retardancy have increased due to global environmental problems and safety problems for human bodies. For example, JP-A-2003-277470 discloses a halogen compound. A composition containing an unused organophosphorus compound is disclosed.

一方、アルカリ現像タイプの液状ソルダーレジストとは別に、もう一つのソルダーレジストとして古くから熱硬化タイプの液状ソルダーレジストが使用されており、特公昭57−49588号公報、特開昭56−15741号公報、特公平5−75032号公報、特開平11−158252号公報にその組成物が開示されている。組成物としては、主にエポキシ系樹脂が使用されている。最近でも、フルキシブルプリント配線板やICパッケージ用プリント配線板には主に、これらの熱硬化用の液状ソルダーレジストが使用されている。  On the other hand, apart from the alkali developing type liquid solder resist, a thermosetting type liquid solder resist has been used as another solder resist for a long time. Japanese Patent Publication Nos. 57-49588 and 56-15741. JP-B-5-75032 and JP-A-11-158252 disclose the composition. As the composition, an epoxy resin is mainly used. Recently, liquid solder resists for thermosetting are mainly used for flexible printed wiring boards and IC package printed wiring boards.

ところで、プリント配線板には色々な電子部品が実装されており、その大半は半田で接合されている。この半田も環境問題から、現在の錫と鉛の共晶半田から鉛フリー半田への切替が進められており、一段と高い半田付け温度が要求され、結果的にソルダーレジストの耐熱性も向上させねばならなくなっている。この耐熱性の向上等の目的で、半径十数nmから数μmのフィラーをソルダーレジストに添加する方法等が提案されているが、品質面や生産性の面で不充分である。このように、環境問題を解決するために、ハロゲン化合物やリン化合物それにアンチモン化合物を含まないもので、かつ、鉛フリー半田による部品実装に耐える高耐熱性を有するソルダーレジストが実用化に至っていないのが現状である。  By the way, various electronic components are mounted on the printed wiring board, and most of them are joined by solder. This solder is also being switched from the tin-lead eutectic solder to the lead-free solder due to environmental problems, and a higher soldering temperature is required. As a result, the heat resistance of the solder resist must be improved. Is no longer. For the purpose of improving the heat resistance, a method of adding a filler having a radius of several tens nm to several μm to the solder resist has been proposed, but it is insufficient in terms of quality and productivity. Thus, in order to solve environmental problems, solder resists that do not contain halogen compounds, phosphorus compounds, and antimony compounds and have high heat resistance that can withstand component mounting with lead-free solder have not been put into practical use. Is the current situation.

アルカリ現像タイプにしろ、熱硬化タイプにしろ従来のソルダーレジストは、有機ポリマーが主流であるため、耐熱性及び難燃性に限界があった。また、多くの場合、ソルダーレジストを基板全面に塗布後、乾燥、露光、現像及び硬化等の煩雑な操作を経て、基板等に被膜を形成している。そして、パターンに従って必要な箇所のみにソルダーレジストを塗布し、その後は熱硬化の操作のみで被膜を形成するというケースは極めて少ない状況にある。更に、前述のように有機系のソルダーレジストが主流で、無機系のソルダーレジストは極めて少ない状況にある。無機系のソルダーレジストが出現すれば、半田付けの際に、高温度に耐えるという特徴を有し、耐熱性の高いソルダーレジスト被膜を形成することができ、また、特に、ハロゲン化合物、アンチモン化合物、リン化合物等の難燃化剤を使用しなくても、難燃性が確保できるという効果も期待できる。また、パターンに従って必要な箇所のみにソルダーレジストを塗布し、その後は熱硬化の操作のみで被膜を形成するタイプのソルダーレジストにおいては、露光、現像のための設備が不要で、かつ、工程が少なくなり、製造コストの観点からも、有利なものである。  Regardless of whether it is an alkali development type or a thermosetting type, conventional solder resists have a limit in heat resistance and flame retardancy because organic polymers are mainstream. In many cases, after a solder resist is applied to the entire surface of the substrate, a coating is formed on the substrate or the like through complicated operations such as drying, exposure, development, and curing. And there are very few cases where a solder resist is applied only to a necessary portion according to a pattern, and then a film is formed only by a thermosetting operation. Furthermore, as described above, organic solder resists are mainstream, and inorganic solder resists are very few. If an inorganic solder resist appears, it has a feature that it can withstand high temperatures during soldering, and can form a solder resist film with high heat resistance, and in particular, halogen compounds, antimony compounds, Even if a flame retardant such as a phosphorus compound is not used, an effect of ensuring flame retardancy can be expected. In addition, a solder resist of a type in which a solder resist is applied only to a necessary portion according to a pattern and then a film is formed only by a thermosetting operation, no equipment for exposure and development is required, and the number of processes is small. This is also advantageous from the viewpoint of manufacturing cost.

本発明者らは、耐熱性に優れたコーティング剤を研究する中で、アルコキシ化合物、アルコキシチタン、コロイダルシリカの水分散液、シリカ粉末等からなる組成物が耐熱性に優れた被膜を形成することを見出し、放熱性、遮熱性に優れた組成物及び被膜として特許出願した(特願2003−159589(特許文献1))。本発明者は、このような放熱性、遮熱性に優れた組成物をソルダーレジストに応用することに着目し、ソルダーレジスト塗料の研究を行ってきた。  While the inventors have studied a coating agent having excellent heat resistance, a composition comprising an alkoxy compound, alkoxy titanium, an aqueous dispersion of colloidal silica, silica powder, and the like forms a film having excellent heat resistance. And applied for a patent as a composition and a film excellent in heat dissipation and heat shielding properties (Japanese Patent Application No. 2003-159589 (Patent Document 1)). The present inventor has been studying solder resist paints by paying attention to the application of such a composition having excellent heat dissipation and heat shielding properties to a solder resist.

アルコキシシラン化合物をソルダーレジスト組成物に応用したものとして、特開2001−40663号公報(特許文献2)に、ノボラックフェノール樹脂とアルコキシシラン部分縮合物とを部分的に脱アルコール縮合反応させて得られるアルコキシ基含有シラン変性フェノール樹脂をエポキシ樹脂とともに使用することが記載されている。しかしながら、このアルコキシ基含有シラン変性フェノール樹脂は、アルコキシシランの部分縮合度や脱アルコールによる縮合度を厳密にコントロールする必要があり、その製造が複雑になるという問題があり、更に、ノボラックフェノール樹脂及びエポキシ樹脂を基本とする組成物であるので、硬化物である被膜に、そりやクラックを生じやすく、また、耐熱性にも限界がある。  As an application of an alkoxysilane compound to a solder resist composition, it is obtained by partially subjecting a novolak phenol resin and an alkoxysilane partial condensate to a dealcoholization condensation reaction in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-40663 (Patent Document 2). It is described that an alkoxy group-containing silane-modified phenol resin is used together with an epoxy resin. However, this alkoxy group-containing silane-modified phenolic resin has a problem that it is necessary to strictly control the degree of condensation of alkoxysilane and the degree of condensation due to dealcoholization, and its production becomes complicated. Since the composition is based on an epoxy resin, the cured film is likely to be warped or cracked, and has a limited heat resistance.

部分的に加水分解したシラン化合物とアルコキシチタンとを反応させることにより無機系コーティング剤が得られることは、既に知られている(特開昭63−12671号公報(特許文献3))。そして、無機系コーティング剤にシリカ微粉末を投入した配合物がタイル目地材や充填セメントに使用されている事が特許文献3に記載されている。しかしながら、これらの混合物をソルダーレジストに使用したところ、比較例にて示したように、その被膜の硬度が低く、良好な被膜が得られないものである。  It has already been known that an inorganic coating agent can be obtained by reacting a partially hydrolyzed silane compound with alkoxytitanium (Japanese Patent Laid-Open No. 63-12671 (Patent Document 3)). And it is described in patent document 3 that the compound which put the silica fine powder into the inorganic type coating agent is used for the tile joint material and the filling cement. However, when these mixtures are used for solder resists, as shown in the comparative examples, the hardness of the coating is low and a good coating cannot be obtained.

:特願2003−159589号明細書: Japanese Patent Application No. 2003-159589 :特開2001−40663号公報: JP 2001-40663 A :特開昭63−12671号公報: JP-A 63-12671

本発明は、上記の有機系ソルダーレジストに係わる事情に鑑みなされたもので、無機系のソルダーレジストに着目し、耐熱性が高く、従って部品実装時には鉛フリー半田による高温度実装にも耐えることができ、特に難燃化剤を使用することなく高い難燃性を有し、かつ、工程的にも従来のものに比較し、設備が簡略され、コストの低減した無機系のソルダーレジスト塗料、該ソルダーレジスト塗料からなる硬化物及び該ソルダーレジスト塗料からなる被膜を備えたプリント配線板を提供しようとするものである。  The present invention has been made in view of the circumstances relating to the above-mentioned organic solder resist, and pays attention to the inorganic solder resist, has high heat resistance, and therefore can withstand high temperature mounting by lead-free solder when mounting components. Inorganic solder resist paint, which has high flame retardancy without using a flame retardant, and has a simplified process and reduced cost in comparison with conventional ones, An object of the present invention is to provide a cured product made of a solder resist paint and a printed wiring board provided with a film made of the solder resist paint.

本発明の要旨は、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物と有機溶剤からなる第一液及びアルコキシチタンと有機溶剤からなる第二液から構成される第一液と第二液とを混合し硬化させる二液タイプのソルダーレジスト塗料において、第一液及び/又は第二液にチタン酸カリウム繊維を含有させることを特徴とする二液タイプのソルダーレジスト塗料である。  The gist of the present invention is that a first liquid composed of a partial hydrolyzate of an alkoxysilane compound and an organic solvent and a first liquid composed of a second liquid composed of alkoxytitanium and an organic solvent are mixed and cured. In the two-component type solder resist coating, the first component and / or the second component contains potassium titanate fibers.

そして、第一液及び/又は第二液に、カオリン粉末、アルミナ粉末及びカップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末からなる群から選択された少なくとも一種を含有することができるし、第一液及び/又は第二液に、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末を含有することもできるし、第一液及び/又は第二液に、エチルセルロース粉末を含有することもできるし、第一液及び/又は第二液に、ハロゲン原子を含まない青色顔料及び/又はハロゲン原子を含まない黄色顔料を配合することができる。  The first liquid and / or the second liquid can contain at least one selected from the group consisting of kaolin powder, alumina powder, and coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, and the first liquid and / or The second liquid can contain a fumed silica powder that has been subjected to a surface hydrophobization treatment, the first liquid and / or the second liquid can also contain an ethylcellulose powder, the first liquid and / or A blue pigment containing no halogen atom and / or a yellow pigment containing no halogen atom can be added to the second liquid.

上記のソルダーレジスト塗料第一液と第二液とを混合することにより、ソルダーレジスト硬化物を得ることができる。更に、硬化物の一形態である被膜を同様に得ることができる。この被膜をプリント配線板にパターン形成することができる。この際、被膜の厚みは回路のエッジ部において、7μm〜40μmになることが好ましい。  A solder resist cured product can be obtained by mixing the above-described first and second liquids of the solder resist paint. Furthermore, a film which is one form of the cured product can be obtained in the same manner. This coating can be patterned on a printed wiring board. At this time, the thickness of the coating is preferably 7 μm to 40 μm at the edge of the circuit.

本発明者は、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物とアルコキシチタンとの反応で得られる無機系重合体の耐熱性、難燃性等に着目し、鋭意研究し本発明を完成させたものである。即ち、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物にチタン酸カリウム繊維を添加し、必要に応じて、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、顔料等を添加し、更には、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末を添加し、アルコキシチタンと反応させることにより、優れた性能をもつソルダーレジスト塗料、該塗料からなる硬化物及び該塗料からなる硬化物の一形態である被膜を備えたプリント配線板を提供するものである。この際、チタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、更には、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等は、アルコキシチタンを含む液に混合させることもできるし、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物を含む液とアルコキシチタンを含む液の両者に混合させることもできる。  The inventor has intensively researched and completed the present invention, paying attention to the heat resistance, flame retardancy, etc. of an inorganic polymer obtained by the reaction of a partially hydrolyzed product of an alkoxysilane compound and alkoxytitanium. . That is, potassium titanate fiber is added to the partially hydrolyzed product of alkoxysilane compound, and kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, pigment, etc. are added as necessary, and surface hydrophobicity is further added. It is a form of solder resist paint with excellent performance, cured product made of the paint, and cured product made of the paint by adding fumed silica powder or ethyl cellulose powder that has been subjected to a chemical treatment and reacting with alkoxy titanium. A printed wiring board provided with a coating is provided. At this time, potassium titanate fiber, kaolin powder, alumina powder, aluminum hydroxide powder treated with a coupling agent, fumed silica powder and ethyl cellulose powder subjected to surface hydrophobization treatment, pigment, etc. are contained in a liquid containing alkoxy titanium. It can also be mixed, and can also be mixed with both the liquid containing the partial hydrolyzate of an alkoxysilane compound, and the liquid containing an alkoxy titanium.

本発明のソルダーレジスト塗料はソルダーレジスト硬化物、被膜を形成するが、これらの硬化物、被膜は、耐熱性が高く、プリント配線板に種々の電子部品が実装される時に使用される半田の鉛フリー化に伴う実装温度の高温化に十分耐える高耐熱性を示し、実用上大きな利点がある。また、実質的に、アンチモンフリー、ハロゲンフリー、リンフリーであるので、従来の組成物に比較して、廃棄物の焼却によって人体や自然環境に悪影響を与えることなく、プリント配線板廃棄に伴う負担を低減できる。しかも、ソルダーレジスト塗料の製造が容易で、その硬化物、被膜の形成も複雑な設備を必要とせず工程も簡略化され、製造コストの安いものとなっている。  The solder resist paint of the present invention forms a hardened solder resist and a film, but these hardened and coated films have high heat resistance and lead for solder used when various electronic components are mounted on a printed wiring board. It exhibits high heat resistance that can withstand the increased mounting temperature associated with the free operation, and has a great practical advantage. In addition, since it is substantially free of antimony, halogen and phosphorus, compared to conventional compositions, the burden associated with the disposal of printed wiring boards without adversely affecting the human body or the natural environment due to incineration of waste. Can be reduced. In addition, the solder resist coating is easy to manufacture, and the cured product and film formation do not require complicated equipment, the process is simplified, and the manufacturing cost is low.

本発明の基本は、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物と有機溶剤とからなる第一液及びアルコキシチタンと有機溶剤とからなる第二液とから構成される第一液と第二液とを混合して硬化させる二液タイプのソルダーレジスト塗料において、第一液及び/又は第二液にチタン酸カリウム繊維等を含有せしめた二液タイプのソルダーレジスト塗料にある。第一液と第二液とを混合して、その混合液(この混合液をソルダーレジスト液と称する)を例えば、被覆体に塗布し、必要に応じて加熱することにより、被覆体上に無機系の硬化物を形成する。膜状に塗布した場合は、被膜が形成される。ここで、チタン酸カリウム繊維は第一液に添加することもできるし、第二液にも添加することもできる。第一液と第二液の両者に添加することもできる。第一液及び/又は第二液には、チタン酸カリウム繊維に加えて、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、更には、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等を適宜添加することができる。以下、本発明をアルコキシシラン化合物の部分加水分解物を含有する第一液に、チタン酸カリウム繊維等を混合することを中心に説明するが、チタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、更には、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等はアルコキシチタンを含有する第二液に混合して使用することもできる。また、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等を第一液と第二液とに分けて混合使用することもできる。  The basis of the present invention is that a first liquid composed of a partial hydrolyzate of an alkoxysilane compound and an organic solvent and a first liquid composed of a second liquid composed of an alkoxy titanium and an organic solvent are mixed with the second liquid. In the two-component type solder resist paint to be cured, the first solution and / or the second solution is a two-component type solder resist paint containing potassium titanate fibers and the like. The first liquid and the second liquid are mixed, and the mixed liquid (this mixed liquid is referred to as a solder resist liquid) is applied to the coated body, for example, and heated as necessary, so that it is inorganic on the coated body. Form a cured product of the system. When applied in the form of a film, a film is formed. Here, the potassium titanate fiber can be added to the first liquid, and can also be added to the second liquid. It can also be added to both the first liquid and the second liquid. In addition to potassium titanate fiber, the first liquid and / or the second liquid include kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, and fumed silica powder and ethyl cellulose subjected to surface hydrophobization treatment. Powders, pigments, and the like can be added as appropriate. Hereinafter, the present invention will be mainly described by mixing potassium titanate fibers and the like into the first liquid containing the partial hydrolyzate of alkoxysilane compound. However, potassium titanate fibers, kaolin powder, alumina powder, coupling The agent-treated aluminum hydroxide powder, fumed silica powder, ethyl cellulose powder, pigments and the like subjected to surface hydrophobization treatment can also be used by mixing with a second liquid containing alkoxy titanium. In addition, kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, surface hydrophobized fumed silica powder, ethyl cellulose powder, pigments, etc. may be used separately in the first and second liquids. it can.

例えば、第一液にチタン酸カリウム繊維を添加し、第二液にカオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、更には、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等を添加してもよいし、第一液にチタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、顔料等を添加し、第二液に表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末等を添加してもよいし、第二液にチタン酸カリウム繊維を添加し、第一液にチタン酸カリウム繊維に加えてカオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、更には、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等を添加してもよいし、第二液にチタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末等を添加し、第一液にチタン酸カリウム繊維に加えて表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等を添加してもよい。また、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、更には、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等は、第一液と第二液とに分けて添加混合すること、例えば、添加すべきこれらの無機物の80%は第一液に添加し、残りの20%は第二液に添加することができる。いずれにしても、第一液と第二液とを混合したソルダーレジスト液において、所定量のチタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等を含有しておればよい。  For example, potassium titanate fiber is added to the first liquid, kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder is added to the second liquid, and fumed silica powder or ethyl cellulose powder subjected to surface hydrophobization treatment, Pigment etc. may be added, potassium titanate fiber, kaolin powder, alumina powder, coupling agent treated aluminum hydroxide powder, pigment etc. are added to the first liquid, and surface hydrophobic treatment is applied to the second liquid Fumed silica powder or ethyl cellulose powder may be added, potassium titanate fiber is added to the second liquid, and kaolin powder, alumina powder, coupling agent treated water is added to the first liquid in addition to the potassium titanate fiber. Add aluminum oxide powder, fumed silica powder with hydrophobized surface, ethyl cellulose powder, pigment, etc. It is also possible to add potassium titanate fiber, kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, etc. to the second liquid, and to the first liquid in addition to the potassium titanate fiber to make the surface hydrophobic. Dosilica powder, ethyl cellulose powder, pigments and the like may be added. In addition, kaolin powder, alumina powder, aluminum hydroxide powder treated with coupling agent, fumed silica powder with surface hydrophobic treatment, ethyl cellulose powder, pigment, etc. are added separately in the first and second liquids For example, 80% of these minerals to be added can be added to the first liquid and the remaining 20% can be added to the second liquid. In any case, a predetermined amount of potassium titanate fiber, kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, and surface hydrophobization treatment were performed in a solder resist solution obtained by mixing the first solution and the second solution. It only has to contain fumed silica powder, ethyl cellulose powder, pigment, or the like.

アルコキシチタンは単独で使用してもよいが、有機溶剤で希釈して使用する。即ち、第二液は、少なくとも、アルコキシチタンと有機溶剤とを混合した状態で使用する。これは、第一液との混合を均一に行うためにも、また、チタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末、更には、表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末やエチルセルロース粉末、顔料等を均一に混合するためにも好ましい。アルコキシチタンの有機溶剤としては、アルコキシチタンを安定に保持し得るものであればよい。第一液の有機溶剤と同じ溶剤を使用できることはいうまでもない。  Alkoxy titanium may be used alone, but diluted with an organic solvent. That is, the second liquid is used in a state where at least alkoxy titanium and an organic solvent are mixed. In order to uniformly mix with the first liquid, potassium titanate fiber, kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, and fumed silica that has been surface-hydrophobized. It is also preferable for uniformly mixing powder, ethylcellulose powder, pigment and the like. As the organic solvent for alkoxy titanium, any organic solvent may be used as long as it can stably hold alkoxy titanium. Needless to say, the same solvent as the organic solvent of the first liquid can be used.

第一液のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物と第二液のアルコキシチタンは、これらを混合すると直ちに反応を開始し硬化を始めるので、ソルダーレジスト塗料は使用直前によく混合した上で使用するのがよい。そして、第一液と第二液とは混合した後は、使い切り、長時間混合した状態で放置しないことが奨められる。また、第一液と第二液とを混合した後は、高温度に曝すことなく、できるだけ低温度に保持するのがよい。  The partial hydrolyzate of the alkoxysilane compound of the first solution and the alkoxytitanium of the second solution start to react immediately when they are mixed. Therefore, the solder resist paint should be used after mixing well immediately before use. Is good. And after mixing the 1st liquid and the 2nd liquid, it is recommended not to leave it in the state which used up and mixed for a long time. Moreover, after mixing the first liquid and the second liquid, it is preferable to keep the temperature as low as possible without exposing it to a high temperature.

第一液と第二液とを混合すると、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物とアルコキシチタンとが反応し、硬化する。これは、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物とアルコキシチタンとが反応する際に、脱アルコールして、Si−O−Ti結合ないしSi−O−Si結合が生じ、三次元網目構造の重合体になるからである。そして、形成された重合体、即ち、硬化物ないし被膜は実質的に無機系物質から構成される。硬化物ないし被膜は、重量で80%以上が無機物から構成される。本発明のソルダーレジスト塗料における有機基は、珪素原子及びチタン原子に結合していたアルコキシ基(アルコール成分)及び珪素原子に直接結合しているアルキル基などの有機基であるが、アルコキシ基はアルコキシシラン化合物の部分加水分解物とアルコキシチタンとが反応する際に、Si−O−Ti結合ないしSi−O−Si結合が生じ、アルコキシ基のアルコール成分が脱離する。但し、珪素原子に直結するアルキル基などの有機基はそのまま残存する。  When the first liquid and the second liquid are mixed, the partially hydrolyzed product of the alkoxysilane compound and the alkoxytitanium react to be cured. This is because when a partially hydrolyzed product of an alkoxysilane compound reacts with an alkoxytitanium, dealcoholization occurs to form a Si—O—Ti bond or a Si—O—Si bond, resulting in a three-dimensional network structure polymer. Because it becomes. The formed polymer, that is, the cured product or film is substantially composed of an inorganic substance. The cured product or film is composed of inorganic material by 80% or more by weight. The organic group in the solder resist paint of the present invention is an organic group such as an alkoxy group (alcohol component) bonded to a silicon atom and a titanium atom and an alkyl group bonded directly to a silicon atom. When the partial hydrolyzate of the silane compound reacts with the alkoxytitanium, a Si—O—Ti bond or a Si—O—Si bond is generated, and the alcohol component of the alkoxy group is eliminated. However, an organic group such as an alkyl group directly bonded to the silicon atom remains as it is.

本発明のソルダーレジスト塗料の第一液及び/又は第二液にはチタン酸カリウム繊維を混合しているが、これを使用する理由を以下に述べる。プリント配線板は回路部分と基板部分とからなり、その表面の凹凸は一般に30〜100μmの段差となっている。それ故回路被覆用ソルダーレジストは凹の部分で20〜80μm、凸の部分で10〜30μmの厚さが必要である。また、プリント配線板は、電子部品が実装されるので、ソルダーレジストは例えば、260℃の半田に耐える必要がある。アルコキシシラン化合物の部分加水分解物とアルコキシチタンからなる硬化物のみでは厚い被膜の形成が困難であり、かつ、例えば、260℃の半田でクラックが入りやすい。これらの塗料にチタン酸カリウム繊維を添加することにより、被膜の厚さが確保でき、かつ、例えば、260℃の半田に耐える被膜を形成することができるようになる。  The first liquid and / or the second liquid of the solder resist paint of the present invention are mixed with potassium titanate fiber. The reason for using this is described below. A printed wiring board consists of a circuit part and a board | substrate part, and the unevenness | corrugation of the surface is a level | step difference of 30-100 micrometers generally. Therefore, the solder resist for circuit coating needs to have a thickness of 20 to 80 μm at the concave portion and 10 to 30 μm at the convex portion. Also, since electronic components are mounted on the printed wiring board, the solder resist needs to withstand solder at 260 ° C., for example. It is difficult to form a thick film only with a cured product composed of a partially hydrolyzed product of an alkoxysilane compound and an alkoxytitanium, and cracks are likely to occur with, for example, 260 ° C. solder. By adding potassium titanate fibers to these paints, the thickness of the coating can be secured, and for example, a coating that can withstand solder at 260 ° C. can be formed.

また、第一液及び/又は第二液には、チタン酸カリウム繊維以外にカオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニウム粉末からなる群から選択された少なくとも一種を添加することができる。これらの化合物の添加により、凹凸のある被覆体表面上に厚い被膜を形成することができるとともに、ムラのない被膜を形成することができる効果がある。一方、部分加水分解したシラン化合物とアルコキシチタンとを反応させる際に、シリカ粉末を混合することが特許文献3(特開昭63−12671号公報)に記載されているが、本発明者等が、各種カップリング剤処理シリカ粉末も含めて種々検討したものの、熱硬化後の鉛筆硬度が極端に低く実用化できる硬化物ないし被膜を得ることができなかった。  Moreover, at least 1 type selected from the group which consists of kaolin powder, an alumina powder, and a coupling agent process aluminum hydroxide powder other than a potassium titanate fiber can be added to a 1st liquid and / or a 2nd liquid. By adding these compounds, a thick film can be formed on the uneven surface of the coated body, and there is an effect that a film without unevenness can be formed. On the other hand, when the partially hydrolyzed silane compound and alkoxytitanium are reacted, mixing of silica powder is described in Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 63-12671). Although various studies were made including various coupling agent-treated silica powders, it was impossible to obtain a cured product or film that had extremely low pencil hardness after thermosetting and could be put to practical use.

その他、第一液及び/又は第二液に、疎水化処理されたフュームドシリカ粉末を添加することにより、第一液と第二液と混合した後のソルダーレジスト液の粘度が増粘ができ、ソルダーレジスト液のスクリーン印刷やフレキソ印刷の印刷性を向上させることができる。また、第一液及び/又は第二液に含有するチタン酸カリウム繊維、更には、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニウム等の沈降を防止するという効果が認められた。更に、これらの塗料にエチルセルロース粉末を添加することにより、プリント配線板の製造加工時のワークボードからの外形打ち抜き性を改善することができる。  In addition, the addition of hydrophobized fumed silica powder to the first liquid and / or the second liquid can increase the viscosity of the solder resist liquid after mixing with the first liquid and the second liquid. Further, it is possible to improve the printability of screen printing or flexographic printing of a solder resist solution. Moreover, the effect of preventing sedimentation of potassium titanate fibers contained in the first liquid and / or the second liquid, and further kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide and the like was recognized. Furthermore, by adding ethyl cellulose powder to these paints, it is possible to improve the external punching ability from the work board during the manufacturing process of the printed wiring board.

ソルダーレジスト塗料、即ち、第一液と第二液とを混合したソルダーレジスト液を構成する有機溶剤の配合比率について以下説明する。第一液と第二液とを混合したソルダーレジスト液における有機溶剤は、その配合量は特に限定されるものでないが、非常に少ない、例えば、ソルダーレジスト液全量に対し、重量で30%以下になると第一液と第二液とを混合した際の混合液の硬化時間が短くなり使用上好ましくない。また非常に多い、例えば、ソルダーレジスト液全量に対し、重量で55%以上になると被膜が薄くなり、安定した被膜の形成が困難になる。  The blending ratio of the organic solvent constituting the solder resist paint, that is, the solder resist liquid obtained by mixing the first liquid and the second liquid will be described below. The amount of the organic solvent in the solder resist solution obtained by mixing the first solution and the second solution is not particularly limited, but is very small, for example, 30% or less by weight based on the total amount of the solder resist solution. If it becomes, the hardening time of the liquid mixture at the time of mixing a 1st liquid and a 2nd liquid will become short, and it is unpreferable on use. Also, if the amount is very large, for example, 55% or more by weight with respect to the total amount of the solder resist solution, the coating becomes thin and it becomes difficult to form a stable coating.

チタン酸カリウム繊維は、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物100重量部に対して、18重量部から80重量部使用するのがよい。この範囲の添加量で、良好な被膜を得ることができる。18重量部未満では被膜の厚さを確保するのが困難になり、例えば、260℃の半田付けに耐性が乏しくなる。また、80重量部を超えると、例えば、スクリーン印刷により被膜を形成する際、印刷性が悪くなり、均一でムラのない被膜が得られにくくなり実用上好ましくない。  The potassium titanate fiber is preferably used in an amount of 18 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound. A good film can be obtained with the addition amount in this range. If it is less than 18 parts by weight, it is difficult to ensure the thickness of the coating, and for example, resistance to soldering at 260 ° C. becomes poor. On the other hand, when it exceeds 80 parts by weight, for example, when a film is formed by screen printing, the printability is deteriorated, and it is difficult to obtain a uniform and non-uniform film, which is not preferable in practice.

第二液の主要成分であるアルコキシチタンの使用量は、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物100重量部に対して、5重量部から30重量部使用することにより、良好な被膜性能を得ることができる。5重量部未満では、被膜の鉛筆硬度等が低くなり実用に耐えないものとなり、30重量部を超えると例えば、260℃の半田槽でのフロート試験で被膜にクラック等が入りやすくなり実用に耐えないものとなる。ここでの使用量はあくまでも、有機溶剤を含まない、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物、アルコキシチタンをベースにおいている。アルコキシチタンの実際の添加量は、使用するアルコキシチタン化合物の種類(例えば、チタンテトラブトキシドであるかチタンテトラプロポキシドであるか等)、アルコキシシラン化合物の種類とその使用量(特に、トリアルコキシシランやテトラアルコキシシランの使用量)によって異なる。アルコキシシランのうち、トリアルコキシシランやテトラアルコキシシランの使用量が多いと、アルコキシチタンの添加量は、少なくてよい。また、チタンテトラブトキシドはその分子量が大きいので、添加量はチタンテトラプロポキシドよりは多めに添加することになる。  The amount of alkoxytitanium used as the main component of the second liquid is 5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound, so that good film performance can be obtained. it can. If it is less than 5 parts by weight, the pencil hardness etc. of the coating will be low and it will not be practical, and if it exceeds 30 parts by weight, for example, it will be easy to crack in the coating in a float test in a solder bath at 260 ° C. It will not be. The amount used here is based on alkoxytitanium, a partially hydrolyzed alkoxysilane compound that does not contain an organic solvent. The actual amount of alkoxytitanium added depends on the type of alkoxytitanium compound used (for example, titanium tetrabutoxide or titanium tetrapropoxide), the type of alkoxysilane compound and the amount used (especially trialkoxysilane) And the amount of tetraalkoxysilane used). If the amount of trialkoxysilane or tetraalkoxysilane used is large among the alkoxysilanes, the amount of alkoxytitanium added may be small. In addition, since titanium tetrabutoxide has a large molecular weight, it is added in a larger amount than titanium tetrapropoxide.

アルコキシチタンの添加量は、珪素元素に対するチタン元素の割合で表して、0.010〜0.15の範囲にするのがよい。チタンの添加量が珪素元素の対して0.010より少ないと、網目構造の硬化物、被膜の形成が困難になり、一方、チタンの添加量が珪素元素の対して0.15より大きいと、ソルダーレジスト液の硬化速度が速すぎたり、形成した硬化物や被膜の性能が十分でなく、例えば、半田付け時にクラックが入りやすくなる。  The amount of alkoxytitanium added is preferably in the range of 0.010 to 0.15, expressed as the ratio of titanium element to silicon element. When the addition amount of titanium is less than 0.010 with respect to silicon element, it becomes difficult to form a cured product having a network structure and a coating, while when the addition amount of titanium is more than 0.15 with respect to silicon element, The curing rate of the solder resist solution is too high, or the performance of the formed cured product or film is not sufficient, for example, cracks are likely to occur during soldering.

次に、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニウム粉末等の添加量であるが、その添加量の上限は被膜のチョウキング(粉末が被膜表面に露出している現象)が発生しない範囲でよい。  Next, the addition amount of kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, etc., but the upper limit of the addition amount does not cause film choking (a phenomenon in which the powder is exposed on the film surface). Range may be sufficient.

表面疎水化処理されたフュームドシリカ粉末は、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物100重量部に対して19重量部以下が好ましい。この添加量を超えると、第二液と混合した混合液の貯蔵中の粘度上昇が速くなったり、被膜に小径の粒が発生しやすくなり実用上好ましくない。エチルセルロース粉末は、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物100重量部に対して、13重量部以下が好ましい。この添加量を超えると被膜の難燃性が低下するからである、また、顔料については、ハロゲン原子を含まない青色顔料とハロゲン原子を含まない黄色顔料を使用するが、これらは、被膜を目視で緑色に見える量の青色顔料と黄色顔料の割合でよい。  The fumed silica powder subjected to the surface hydrophobization treatment is preferably 19 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound. If this amount is exceeded, the viscosity increase during storage of the mixed liquid mixed with the second liquid is accelerated, and small-diameter grains are likely to be generated in the coating film, which is not practically preferable. The ethyl cellulose powder is preferably 13 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the partially hydrolyzed product of the alkoxysilane compound. This is because if the amount exceeds this amount, the flame retardancy of the coating will decrease, and as for the pigment, a blue pigment containing no halogen atom and a yellow pigment containing no halogen atom are used. The ratio of blue pigment and yellow pigment in the amount of green can be used.

次に、本発明のソルダーレジスト塗料の中心成分である、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物について説明する。アルコキシシラン化合物の部分加水分解物は、一般式化1で表せるアルコキシシラン化合物を部分的に加水分解、縮合して得られるオリゴマーである。化1におけるRとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アミノエチル基、グリシジルプロピル基(化2参照)等、また、Rとしては、メチル基、エチル基等を例示することができる。ここで、nは0〜3の整数である。Next, the partial hydrolyzate of the alkoxysilane compound, which is the central component of the solder resist paint of the present invention, will be described. The partially hydrolyzed product of the alkoxysilane compound is an oligomer obtained by partially hydrolyzing and condensing the alkoxysilane compound represented by the general formula 1. Examples of R 1 in Chemical Formula 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an aminoethyl group, a glycidylpropyl group (see Chemical Formula 2), and examples of R 2 include a methyl group and an ethyl group. be able to. Here, n is an integer of 0-3.

Figure 0003928136
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アルコキシシラン化合物として、上記化1で表される物質の中から、少なくとも一種を適宜選択して使用する。通常二種ないし三種の化合物を混合使用する。これらのアルコキシシラン化合物を酸触媒の存在下で、アルコキシシランを完全に加水分解するに要する水の量(計算値)よりも少ない量の水と反応することにより部分加水分解物を得ることができる。トリアルコキシシランやテトラアルコキシシランが存在すると、塗料の硬化によって得られる被膜は、3次元構造を有するものとなる。  As the alkoxysilane compound, at least one selected from the substances represented by Chemical Formula 1 is appropriately used. Usually, two to three compounds are mixed and used. A partial hydrolyzate can be obtained by reacting these alkoxysilane compounds with an amount of water smaller than the amount of water (calculated value) required to completely hydrolyze the alkoxysilane in the presence of an acid catalyst. . When trialkoxysilane or tetraalkoxysilane is present, the coating obtained by curing the coating has a three-dimensional structure.

第一液又は第二液で使用する有機溶剤としては、以下の溶剤を使用することができる。メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール、ジアセトンアルコール、酢酸ブチル、酪酸ブチル、プロピレングルコールモノメチルエーテル、ジアセトンアルコール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、乳酸ブチル、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、イソホロン、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールn−プロピルエーテル、プロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシブタノール、3−メトキシブチルアセテート等の溶剤である。しかしこれらの溶剤に限定されるものでないし、また、溶剤は1種類又は2種類以上を混合使用することもできる。  As the organic solvent used in the first liquid or the second liquid, the following solvents can be used. Methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, 1-butanol, 2-butanol, diacetone alcohol, butyl acetate, butyl butyrate, propylene glycol monomethyl ether, diacetone alcohol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, butyl lactate, ethyl Carbitol, ethyl carbitol acetate, isophorone, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol n-propyl ether, propylene glycol n-butyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diacetate, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate , Solvents such as 3-methoxybutanol and 3-methoxybutyl acetate A. However, it is not limited to these solvents, and the solvent can be used alone or in combination of two or more.

チタン酸カリウム繊維は、六チタン酸カリウムの繊維である。繊維の直径は1μm以下であり、繊維の平均長さは20μm以下、最大長さで100μm以下が好ましい。繊維の直径や平均長さそれに最大長さがこれらの数値より大きくなるとスクリーン印刷やフレキソ印刷時被膜にムラができ、安定した印刷ができなくなり適さなくなる。  Potassium titanate fiber is a potassium hexatitanate fiber. The fiber diameter is preferably 1 μm or less, the average fiber length is preferably 20 μm or less, and the maximum length is preferably 100 μm or less. If the diameter, average length, and maximum length of the fiber are larger than these values, the coating becomes uneven during screen printing or flexographic printing, and stable printing cannot be performed, making it unsuitable.

アルコキシチタンは、式化3で表されるものである。式中のRとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を例示することができる。反応速度から、Rとして、プロピル基、ブチル基のものが好適に使用できる。  Alkoxytitanium is represented by Formula 3. Examples of R in the formula include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. From the reaction rate, those having a propyl group or a butyl group can be suitably used as R.

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カオリン粉末は、平均粒径が5μm以下、最大粒径が25μm以下の粉末であり、付着水分は0.8重量%以下のものが好ましい。粒径がこれらの数値より大きくなると被膜に斑が生じやすくなり、均一性に欠けるようになるので適さない。付着水分が0.8重量%を超えると、被膜の鉛筆硬度が極端に小さくなり適さない。アルミナ粉末は、平均粒径が5μm以下、最大粒径が25μm以下のものが好ましく、酸化ナトリウム(NaO)が0.06重量%以下の粉末が好適に使用できる。粒径がこれらの数値より大きくなると、被膜に斑が生じやすくなり、均一な被膜が得られないので適さない。酸化ナトリウム(NaO)の量が0.06重量%を超えると、ソルダーレジスト液の硬化を阻害するので適さない。The kaolin powder is preferably a powder having an average particle size of 5 μm or less and a maximum particle size of 25 μm or less, and a moisture content of 0.8% by weight or less. If the particle size is larger than these values, spots are likely to occur on the film, and it is not suitable because it becomes less uniform. If the adhering moisture exceeds 0.8% by weight, the pencil hardness of the coating becomes extremely small, which is not suitable. The alumina powder preferably has an average particle size of 5 μm or less and a maximum particle size of 25 μm or less, and a powder having a sodium oxide (Na 2 O) content of 0.06 wt% or less can be suitably used. If the particle size is larger than these values, spots are likely to occur on the film, and a uniform film cannot be obtained, which is not suitable. If the amount of sodium oxide (Na 2 O) exceeds 0.06% by weight, curing of the solder resist solution is inhibited, which is not suitable.

カップリング剤処理水酸化アルミニウム粉末は、平均粒径が3μm以下、最大粒径が25μm以下のものが好ましく、可溶性酸化ナトリウムは0.06重量%以下のものが好ましい。更に、エポキシシラン系やチタネート系カップリング剤で表面コーティングしたものが好適に使用できる。エポキシシラン系カップリング剤で表面コーティングしたものが、プリント配線板の回路銅との密着性で優れている。粒径や可溶性酸化ナトリウム(NaO)に対する数値の制限はアルミナ粉末の場合と同じ理由である。また、カップリング処理剤で表面コーティングしないと、被膜にはじきが出て適さない。The coupling agent-treated aluminum hydroxide powder preferably has an average particle size of 3 μm or less and a maximum particle size of 25 μm or less, and soluble sodium oxide preferably has a content of 0.06% by weight or less. Furthermore, those whose surface is coated with an epoxysilane or titanate coupling agent can be suitably used. What was surface-coated with an epoxysilane coupling agent is excellent in adhesion to printed circuit board copper. The limitation of numerical values for particle size and soluble sodium oxide (Na 2 O) is the same reason as for alumina powder. In addition, if the surface is not coated with a coupling treatment agent, the coating film will shed and is not suitable.

表面疎水化処理されたフュームドシリカ粉末は、一次粒子の平均径が20nm以下のものが好ましい。ジメチルジクロロシランやヘキサメチルジシラザン等で表面の疎水化処理を行ったものが好適に使用できる。特に、ヘキサメチルジシラザン処理品がソルダーレジスト液(第一液と第二液の混合液をソルダーレジスト液と称している)の増粘に効果がある。表面疎水化処理されないとソルダーレジスト液の増粘効果がないので適さない。また一次粒子の平均径が20nmを超えると、硬化後の被膜上に円形突起が生じ好ましくない。エチルセルロース粉末は、例えば、米国ハーキュレス社のN−タイプ(無水グルコース一単位あたりのエトキシ基置換度2.41から2.51のもの)を好適に使用することができる。N−タイプのうち粘度別グレードでは、N−50、N−100が特に、溶解性と被膜品質のバランスの観点から好ましい。ハロゲン原子を含まない青色顔料とハロゲン原子を含まない黄色顔料については、青色顔料としては、銅フタロシアニンブルー、鉄フタロシアニンブルー、インジゴなどが例示できる。黄色顔料としては、アントラキノンイエロー、ベンツイミダゾロンイエロー、酸化鉄などが好適に使用できる。  The fumed silica powder subjected to surface hydrophobization treatment preferably has an average primary particle diameter of 20 nm or less. Those whose surfaces have been subjected to hydrophobic treatment with dimethyldichlorosilane, hexamethyldisilazane, or the like can be suitably used. In particular, the hexamethyldisilazane-treated product is effective in increasing the viscosity of the solder resist solution (the mixed solution of the first solution and the second solution is called the solder resist solution). If the surface is not hydrophobized, it is not suitable because there is no thickening effect of the solder resist solution. On the other hand, if the average diameter of the primary particles exceeds 20 nm, circular protrusions are generated on the cured film, which is not preferable. As the ethylcellulose powder, for example, N-type (having an ethoxy group substitution degree of 2.41 to 2.51 per unit of anhydrous glucose) manufactured by Hercules, USA can be suitably used. Among the N-types, N-50 and N-100 are particularly preferable from the viewpoint of the balance between solubility and coating quality in the grades classified by viscosity. As for the blue pigment containing no halogen atom and the yellow pigment containing no halogen atom, examples of the blue pigment include copper phthalocyanine blue, iron phthalocyanine blue, and indigo. As the yellow pigment, anthraquinone yellow, benzimidazolone yellow, iron oxide and the like can be suitably used.

次に、第一液と第二液とを混合してソルダーレジスト液を調製し、このソルダーレジスト液をプリント配線板等に塗布して硬化物ないし被膜を形成する手順について説明する。アルコキシシラン化合物の部分加水分解物を溶解した有機溶剤にチタン酸カリウム繊維を添加し、混合する。必要に応じて、更に、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニウム粉末や表面疎水化処理されたフュームドシリカ粉末、エチルセルロース粉末、更には、ハロゲン原子を含まない青色顔料とハロゲン原子を含まない黄色顔料を添加し、プロペラ型又は櫂型の回転翼を有する撹拌槽で、これら繊維や粉末が液体に充分に練りこなれるまで撹拌混合する。当然、この方式以外の撹拌方式を使用することもできる。この時の混合温度は40℃以下が好ましい。40℃を越えると、混合液に皮張り(ソルダーレジスト液の表面に生成する薄い膜状のもの)等が発生しやすくなり好ましくない。更に、必要に応じて、混合液をボールミルや3本ロール等に移し、粉末や繊維が充分に分散するまで混合、混練する。この際、前述と同じ理由で、混合、混練時の液温は40℃以下が好ましい。このようにして、第一液が得られる。  Next, a procedure for preparing a solder resist solution by mixing the first solution and the second solution and applying the solder resist solution to a printed wiring board or the like to form a cured product or film will be described. Potassium titanate fiber is added to an organic solvent in which a partial hydrolyzate of an alkoxysilane compound is dissolved and mixed. If necessary, kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, surface-hydrophobized fumed silica powder, ethyl cellulose powder, and blue pigment and halogen atoms that do not contain halogen atoms. A yellow pigment not contained is added, and the mixture is stirred and mixed in a stirring tank having a propeller-type or saddle-type rotary blade until these fibers and powder are sufficiently kneaded into the liquid. Of course, a stirring method other than this method can also be used. The mixing temperature at this time is preferably 40 ° C. or less. When the temperature exceeds 40 ° C., it is not preferable because the mixed solution is likely to be covered with a thin film (thin film formed on the surface of the solder resist solution). Further, if necessary, the mixed solution is transferred to a ball mill, a three-roller or the like, and mixed and kneaded until the powder and fibers are sufficiently dispersed. At this time, the liquid temperature during mixing and kneading is preferably 40 ° C. or lower for the same reason as described above. In this way, the first liquid is obtained.

一方、アルコキシチタンを有機溶剤に溶解した第二液を準備する。前記の第一液と第二液とをプロペラ型あるいは櫂型の回転翼を有する撹拌槽で、両方の液が充分に混合されるまで、一般に10分間以上撹拌する。この時の撹拌液温度は30℃以下が好ましい。30℃を越えると被膜外観に不均一な斑点等が発生し好ましくない。  On the other hand, a second liquid in which alkoxy titanium is dissolved in an organic solvent is prepared. The first liquid and the second liquid are generally stirred for 10 minutes or more in a stirring tank having a propeller type or saddle type rotary blade until both liquids are sufficiently mixed. The stirring liquid temperature at this time is preferably 30 ° C. or less. If it exceeds 30 ° C., uneven spots and the like are generated on the appearance of the film, which is not preferable.

ソルダーレジスト液の調製に当たっては、第一液及び第二液の粘度を混合直前に互いにほぼ同じ粘度とするのが好ましい。また、ソルダーレジスト液調製時、不十分な混合による局部的な反応の進行を防止するために、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物の有機溶剤溶液に添加する、チタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニウム粉末や表面疎水化処理されたフュームドシリカ粉末、エチルセルロース粉末、顔料等の一部をアルコキシチタンの有機溶剤溶液に添加し、ボールミルや3本ロールで充分混合、混練してもよい。この場合の混合、混練時の液温も、前述と同じ理由で40℃以下が好ましい。また、第一液と第二液は混合すると、直ちに反応し硬化を始めるので、第一液と第二液とを混合した後は、長時間放置することなく、速やかに対象物に塗布するのがよい。また、第一液と第二液とを混合したソルダーレジスト液は、残さずに使い切るのがよい。ソルダーレジスト液が残った場合は、廃棄し再使用しないことが奨められる。ソルダーレジスト液は、第一液と第二液とを別々に調製しておき、二者を混合して得ることもできるし、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物の有機溶剤溶液にチタン酸カリウム繊維、カオリン粉末、アルミナ粉末、カップリング剤処理水酸化アルミニウム粉末や表面疎水化処理されたフュームドシリカ粉末、エチルセルロース粉末、顔料等を混合し、しかる後にアルコキシチタンの有機溶剤溶液を混合することによっても得ることもできる。  In preparing the solder resist solution, it is preferable that the viscosities of the first liquid and the second liquid are substantially equal to each other immediately before mixing. In addition, when preparing a solder resist solution, potassium titanate fiber, kaolin powder, alumina added to the organic solvent solution of the partial hydrolyzate of alkoxysilane compound to prevent the progress of local reaction due to insufficient mixing Part of powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, surface-hydrophobized fumed silica powder, ethyl cellulose powder, pigment, etc. are added to an organic solvent solution of alkoxy titanium, and mixed well with a ball mill or three rolls. You may knead. In this case, the liquid temperature during mixing and kneading is preferably 40 ° C. or lower for the same reason as described above. Also, when the first liquid and the second liquid are mixed, they immediately react and begin to cure, so after mixing the first liquid and the second liquid, it can be quickly applied to the object without leaving for a long time. Is good. Also, it is preferable to use up the solder resist solution obtained by mixing the first solution and the second solution without leaving them. If the solder resist solution remains, it is recommended that it be discarded and not reused. The solder resist solution can be obtained by preparing the first solution and the second solution separately, and mixing the two. Alternatively, the potassium titanate fiber is added to the organic solvent solution of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound. Also, by mixing kaolin powder, alumina powder, coupling agent-treated aluminum hydroxide powder, surface hydrophobized fumed silica powder, ethyl cellulose powder, pigment, etc., and then mixing an organic solvent solution of alkoxy titanium It can also be obtained.

基板に被膜を形成するには、先に調製した第一液と第二液の混合液であるソルダーレジスト液を基板に塗布し、乾燥、熱処理する。基板は、回路がサブトラクテイブ法、セミアデテイブ法やアデテイブ法等で形成されたプリント配線板等である。プリント配線板表面にソルダーレジスト液を塗工しパターンを形成する方法としては、スクリーン印刷法やフレキソ印刷法が適用できる。  In order to form a film on the substrate, a solder resist solution, which is a mixed solution of the first solution and the second solution prepared above, is applied to the substrate, dried and heat-treated. The substrate is a printed wiring board in which a circuit is formed by a subtractive method, a semi-additive method, an additive method, or the like. As a method of applying a solder resist solution on the surface of the printed wiring board to form a pattern, a screen printing method or a flexographic printing method can be applied.

回路表面に塗工された被膜の乾燥、硬化は、最高で200℃、最低で100℃の範囲で室温から徐徐に昇温するプロファイルで乾燥、硬化する。また硬化後の室温までの冷却は、急冷は避け、徐徐に冷却するプロファイルで行う。昇温や冷却のプロファイルは、プリント配線板の基板の厚さや回路の厚さ等により品質や生産性を考慮して決定する。最高温度が200℃を越えると、プリント配線板の熱劣化や内部応力の発生により好ましくない。また最高温度が100℃未満では、本発明のソルダーレジスト塗料の硬化(乾燥)が実用上必要な時間で終了しないので好ましくない。  Drying and curing of the coating applied to the circuit surface is performed by drying and curing with a profile in which the temperature is gradually raised from room temperature in the range of 200 ° C. at the maximum and 100 ° C. at the minimum. Cooling to room temperature after curing is performed with a profile that gradually cools, avoiding rapid cooling. The temperature rise and cooling profiles are determined in consideration of quality and productivity depending on the thickness of the printed wiring board substrate and the circuit thickness. When the maximum temperature exceeds 200 ° C., it is not preferable due to thermal deterioration of the printed wiring board and generation of internal stress. Moreover, when the maximum temperature is less than 100 ° C., the curing (drying) of the solder resist coating of the present invention does not end in a practically necessary time, which is not preferable.

硬化後の被膜の厚さは、プリント配線板上の回路のエッジ部で7μm以上が必要である。7μm未満では、長期使用時の回路の保護の劣化を起こし好ましくない。  The film thickness after curing needs to be 7 μm or more at the edge of the circuit on the printed wiring board. If it is less than 7 μm, the protection of the circuit is deteriorated during long-term use, which is not preferable.

ジメチルジメトキシシラン2000g、メチルトリメトキシシラン4000g及び式化4で表されるエポキシ基を含むアルコキシシラン(化4参照)1000gからなるアルコキシシラン混合物を、純水1000gと酢酸100gの混合液中に滴下し、室温で反応させた。反応は発熱を伴って進行し、数十分間で終了した。これに、プロピレングリコールモノメチルエーテルを加え、アルコキシシラン化合物の加水分解物の溶液を得た。プロピレングリコールモノメチルエーテルの添加量は、アルコキシシラン化合物の加水分解物の溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形分基準で、45重量%になる量とした。  An alkoxysilane mixture composed of 2000 g of dimethyldimethoxysilane, 4000 g of methyltrimethoxysilane and 1000 g of an alkoxysilane containing an epoxy group represented by formula 4 (see formula 4) is dropped into a mixture of 1000 g of pure water and 100 g of acetic acid. And reacted at room temperature. The reaction proceeded with exotherm and was completed in tens of minutes. To this was added propylene glycol monomethyl ether to obtain a hydrolyzate solution of an alkoxysilane compound. The amount of propylene glycol monomethyl ether added was 45% by weight based on the solid content after the alkoxysilane compound hydrolyzate solution was dried at 105 ° C. for 120 minutes.

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次いで、上記のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液1000gに、六チタン酸カリウム繊維(繊維の平均直径が0.5μmのもので、平均長さが15μmのもの)240gを加え、液温20℃から30℃で30分間プロペラ型回転翼を有する撹拌槽で撹拌した。次いで、この混合液をボールミルに移し、120分間混合した。混合時の液温が20℃から30℃になるように制御した。ボールミルの途中簡単に脱泡した。このようにして第一液を調製した。第二液として、テトラブトキシチタンのプロピレングリコールモノメチルエーテルの50重量%溶液を調製した。第一液に第二液を、アルコキシシラン化合物の加水分解物の溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形物100重量部に対して36重量部となる割合で加え、プロペラ型撹拌機で25℃で15分間混合し、液状ソルダーレジスト液とした。  Next, 240 g of potassium hexatitanate fibers (fibers having an average diameter of 0.5 μm and an average length of 15 μm) are added to 1000 g of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound solution, and the liquid temperature is 20 ° C. To 30 ° C. for 30 minutes in a stirring tank having a propeller rotor. Next, this mixed solution was transferred to a ball mill and mixed for 120 minutes. The liquid temperature at the time of mixing was controlled to be 20 ° C to 30 ° C. Defoaming was easy during the ball mill. In this way, a first liquid was prepared. As a second liquid, a 50 wt% solution of propylene glycol monomethyl ether of tetrabutoxytitanium was prepared. The second liquid is added to the first liquid at a ratio of 36 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid after the hydrolyzate solution of the alkoxysilane compound is dried at 105 ° C. for 120 minutes. Mixing was performed at 25 ° C. for 15 minutes to obtain a liquid solder resist solution.

実施例1のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液1000gにカオリン粉末(粉末の平均粒径が3.0μmのもので、付着水分が0.6重量%のもの)100gとアルミナ粉末(粉末の平均粒径が2.0μmのもので、酸化ナトリウムが0.03重量%のもの)460gと六チタン酸カリウム繊維(繊維の平均直径が0.5μmのもので、平均長さが15μmのもの)120gを加え、液温20℃から30℃で30分間プロペラ型回転翼を有する撹拌槽で撹拌した。次いで、この混合液をボールミルに移し、120分間混合した。混合時の液温が20℃から30℃になるように制御した。ボールミルの途中簡単に脱泡した。このようにして第一液を得る。第二液として、テトラブトキシチタンのプロピレングリコールモノメチルエーテルの50重量%溶液を調製した。第一液に第二液を、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物の溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形物100重量部に対して36重量部となる割合で加え、プロペラ型撹拌機で25℃で15分間混合し、液状ソルダーレジスト液とした。  1000 g of the partially hydrolyzed product of the alkoxysilane compound of Example 1 and 100 g of kaolin powder (with an average particle size of the powder of 3.0 μm and an attached moisture of 0.6% by weight) and alumina powder (average of the powder) 460 g with a particle size of 2.0 μm and sodium oxide of 0.03% by weight) and 120 g of potassium hexatitanate fiber (with an average fiber diameter of 0.5 μm and an average length of 15 μm) The mixture was stirred at a liquid temperature of 20 ° C. to 30 ° C. for 30 minutes in a stirring tank having a propeller rotor. Next, this mixed solution was transferred to a ball mill and mixed for 120 minutes. The liquid temperature at the time of mixing was controlled to be 20 ° C to 30 ° C. Defoaming was easy during the ball mill. In this way, the first liquid is obtained. As a second liquid, a 50 wt% solution of propylene glycol monomethyl ether of tetrabutoxytitanium was prepared. The second liquid is added to the first liquid at a ratio of 36 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid after the solution of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound is dried at 105 ° C. for 120 minutes. At 25 ° C. for 15 minutes to obtain a liquid solder resist solution.

実施例1のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液1000gに、カオリン粉末(粉末の平均粒径が3.0μmのもので、付着水分が0.6重量%のもの)100gとアルミナ粉末(粉末の平均粒径が2.0μmのもので、酸化ナトリウムは0.03重量%のもの)460gと六チタン酸カリウム繊維(繊維の平均直径が0.5μmのもので、平均長さが15μmのもの)120gと表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末(一次粒子の平均径が7nmで、ヘキサメチルジシラザンで表面処理されたもの)50gを加え、液温20℃から30℃で30分間プロペラ型回転翼を有する撹拌槽で撹拌した。次いで、この混合液をボールミルに移し、120分間混合した。混合時の液温が20℃から30℃になるように制御した。ボールミルの途中簡単に脱泡して、第一液を得た。第二液として、テトラブトキシチタンのプロピレングリコールモノメチルエーテルの50重量%溶液を調製した。第一液に第二液を、アルコキシシラン化合物の加水分解物の溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形物100重量部に対して36重量部となる割合で加え、プロペラ型撹拌機で25℃で15分間混合し、液状ソルダーレジスト液とした。  Into 1000 g of the partial hydrolyzate solution of the alkoxysilane compound of Example 1, 100 g of kaolin powder (with an average particle size of the powder of 3.0 μm and an attached water content of 0.6% by weight) and alumina powder (of the powder) 460g and potassium hexatitanate fiber (fiber average diameter is 0.5μm, average length is 15μm) 120 g and 50 g of fumed silica powder whose surface has been hydrophobized (the average particle size of the primary particles is 7 nm and surface-treated with hexamethyldisilazane) are added, and the propeller rotor blades at a liquid temperature of 20 ° C. to 30 ° C. for 30 minutes It stirred in the stirring tank which has. Next, this mixed solution was transferred to a ball mill and mixed for 120 minutes. The liquid temperature at the time of mixing was controlled to be 20 ° C to 30 ° C. The first liquid was obtained by simply defoaming during the ball mill. As a second liquid, a 50 wt% solution of propylene glycol monomethyl ether of tetrabutoxytitanium was prepared. The second liquid is added to the first liquid at a ratio of 36 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid after the hydrolyzate solution of the alkoxysilane compound is dried at 105 ° C. for 120 minutes. Mixing was performed at 25 ° C. for 15 minutes to obtain a liquid solder resist solution.

実施例1のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液1000gに、カオリン粉末(粉末の平均粒径が3.0μmのもので、付着水分が0.6重量%のもの)100gとアルミナ粉末(粉末の平均粒径が2.0μmのもので、酸化ナトリウムは0.03重量%のもの)460gと六チタン酸カリウム繊維(繊維の平均直径が0.5μmのもので、平均長さが15μmのもの)120gと表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末(一次粒子の平均径が7nmで、ヘキサメチルジシラザンで表面処理されたもの)50gと米国ハーキュレス社のN−50タイプのエチルセルロース粉末30gとを加え、液温20℃から30℃で30分間プロペラ型回転翼を有する撹拌槽で撹拌した。次いで、この混合液をボールミルに移し、120分間混合した。混合時の液温が20℃から30℃になるように制御した。ボールミルの途中簡単に脱泡して、第一液を得た。第二液として、テトラブトキシチタンのプロピレングリコールモノメチルエーテルの50重量%溶液を調製した。第一液に第二液を、アルコキシシラン化合物の加水分解物の溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形物100重量部に対して36重量部となる割合で加え、プロペラ型撹拌機で25℃で15分間混合し、液状ソルダーレジスト液とした。  Into 1000 g of the partial hydrolyzate solution of the alkoxysilane compound of Example 1, 100 g of kaolin powder (with an average particle size of the powder of 3.0 μm and an attached water content of 0.6% by weight) and alumina powder (of the powder) 460g and potassium hexatitanate fiber (fiber average diameter is 0.5μm, average length is 15μm) Add 120 g and 50 g of fumed silica powder with surface hydrophobization treatment (average particle size of primary particles 7 nm, surface treatment with hexamethyldisilazane) and 30 g of N-50 type ethyl cellulose powder from Hercules, USA The mixture was stirred at a liquid temperature of 20 ° C. to 30 ° C. for 30 minutes in a stirring tank having a propeller-type rotary blade. Next, this mixed solution was transferred to a ball mill and mixed for 120 minutes. The liquid temperature at the time of mixing was controlled to be 20 ° C to 30 ° C. The first liquid was obtained by simply defoaming during the ball mill. As a second liquid, a 50 wt% solution of propylene glycol monomethyl ether of tetrabutoxytitanium was prepared. The second liquid is added to the first liquid at a ratio of 36 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid after the hydrolyzate solution of the alkoxysilane compound is dried at 105 ° C. for 120 minutes. Mixing was performed at 25 ° C. for 15 minutes to obtain a liquid solder resist solution.

実施例1のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液1000gに、六チタン酸カリウム繊維(繊維の平均直径が0.5μmのもので、平均長さが15μmのもの)240g、カップリング剤処理した水酸化アルミニウム粉末(粉末の平均粒径が2.3μmのもので、可溶性酸化ナトリウムは0.05重量%で、エポキシシラン系カップリング剤で表面コーティングしてあるもの)550gと表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末(一次粒子の平均径が7nmでヘキサメチルジシラザンで表面処理されたもの)60gと黄色顔料(アントラキノンイエロー)4gと青色顔料(銅フタロニシアンブルー)4gとを加え、液温20℃から30℃で30分間プロペラ型回転翼を有する撹拌槽で撹拌した。次いで、この混合液をボールミルに移し、180分間混合した。混合時の液温が20℃から30℃になるように制御した。このようにして第一液を調製した。第二液として、テトラブトキシチタンの酪酸ブチルの50重量%溶液を調製した。第一液に第二液を、アルコキシシラン化合物の加水分解物の溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形物100重量部に対して40重量部となる割合で加え、プロペラ型撹拌機で25℃で15分間混合し、液状ソルダーレジスト液とした。  1000 g of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound solution of Example 1, 240 g of potassium hexatitanate fibers (fibers having an average diameter of 0.5 μm and an average length of 15 μm), water treated with a coupling agent 550 g of aluminum oxide powder (powder having an average particle size of 2.3 μm, soluble sodium oxide of 0.05% by weight, and surface-coated with an epoxysilane coupling agent) and surface hydrophobized. 60 g of fumed silica powder (with an average primary particle diameter of 7 nm and surface-treated with hexamethyldisilazane), 4 g of yellow pigment (anthraquinone yellow) and 4 g of blue pigment (copper phthalonic cyan blue) are added, and the liquid temperature The mixture was stirred at 20 to 30 ° C. for 30 minutes in a stirring tank having a propeller rotor. Next, this mixed solution was transferred to a ball mill and mixed for 180 minutes. The liquid temperature at the time of mixing was controlled to be 20 ° C to 30 ° C. In this way, a first liquid was prepared. As a second solution, a 50% by weight solution of tetrabutoxytitanium butyl butyrate was prepared. The second liquid is added to the first liquid at a ratio of 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid after the hydrolyzate solution of the alkoxysilane compound is dried at 105 ° C. for 120 minutes. Mixing was performed at 25 ° C. for 15 minutes to obtain a liquid solder resist solution.

実施例1〜3のソルダーレジスト液を、常法のサブトラクティブ法によりパターン形成されたFR−4グレードの銅張積層板の銅箔上及び全面エッチングされたFR−4グレードの基板上にアプリケーター塗工し、最高温度180℃の温度プロファイルで徐々に昇温して全乾燥時間で120分間熱風乾燥し、その後60分間で徐々に室温まで冷却した。また、実施例4、5のソルダーレジスト液については、常法のサブトラクティブ法によりパターン形成されたFR−4グレードの銅回路板上にアプリケーター塗工し、最高温度180℃の温度プロファイルで徐々に昇温して全乾燥時間で120分間熱風乾燥し、その後60分間で徐々に室温まで冷却した。尚、硬化(乾燥)後の被膜の厚さは銅回路のエッジ部で10μmになるようにした。  The solder resist solutions of Examples 1 to 3 were applied to an applicator on the copper foil of an FR-4 grade copper clad laminate patterned by a conventional subtractive method and on the FR-4 grade substrate etched on the entire surface. The temperature was gradually raised with a temperature profile of a maximum temperature of 180 ° C., hot air drying was performed for 120 minutes in the total drying time, and then gradually cooled to room temperature in 60 minutes. For the solder resist solutions of Examples 4 and 5, an applicator was applied on a FR-4 grade copper circuit board patterned by a conventional subtractive method, and gradually increased in a temperature profile of a maximum temperature of 180 ° C. The temperature was raised and hot air drying was performed for 120 minutes in the total drying time, and then gradually cooled to room temperature in 60 minutes. The thickness of the coating after curing (drying) was 10 μm at the edge of the copper circuit.

実施例1〜5で得たソルダーレジスト硬化物(被膜)について、プリント配線板としての性能試験を行った。結果を実施例1、2及び3については表1に、実施例4、5については表2に示す。また、表中の各性能試験の評価方法は、別途示した通りである。  About the solder resist hardened | cured material (film) obtained in Examples 1-5, the performance test as a printed wiring board was done. The results are shown in Table 1 for Examples 1, 2, and 3, and Table 2 for Examples 4, 5. The evaluation method for each performance test in the table is as shown separately.

Figure 0003928136
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実施例1のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液1000gに、六チタン酸カリウム繊維(繊維の平均直径が0.5μmのもので、平均長さが15μmのもの)240gを加え、液温20℃から30℃で30分間プロペラ型回転翼を有する撹拌槽で撹拌した。次いで、この混合液をボールミルに移し、180分間混合した。混合時の液温が20℃から30℃になるように制御した。このようにして、第一液を得た。別途、第二液として、テトラブトキシチタンのプロピレングリコールモノメチルエーテルの50重量%溶液を調製した。第一液に第二液を、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物の溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形物100重量部に対して、10、16、30、40、48、60重量部になる割合で配合・混合し、プロペラ型撹拌機で25℃で15分間混合し、この液剤を、常法のサブトラクティブ法によりパターン形成されたFR−4グレードの銅張積層板の銅箔上及び全面エッチングされたFR−4グレードの基板上にアプリケーター塗工し、最高温度180℃の温度プロファイルで徐々に昇温して全乾燥時間で120分間熱風乾燥し、その後60分間で徐々に室温まで冷却した。尚、硬化(乾燥)後の被膜の厚さはエッチング基板上で10μmになるようにした。その硬化物の物性等を表3に示した。表3から、この実施例におかるアルコキシシラン化合物とアルコキシチタン化合物との関係においては、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物の固形分100重量部に対してアルコキシチタン正味の混合量は8〜24重量部が好ましい被膜を与えることがわかる。これをチタン元素と珪素元素との元素比で表すと、0.029〜0.087の値となる。  To 1000 g of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound solution of Example 1, 240 g of potassium hexatitanate fibers (fibers having an average diameter of 0.5 μm and an average length of 15 μm) are added, and the liquid temperature is 20 ° C. To 30 ° C. for 30 minutes in a stirring tank having a propeller rotor. Next, this mixed solution was transferred to a ball mill and mixed for 180 minutes. The liquid temperature at the time of mixing was controlled to be 20 ° C to 30 ° C. In this way, a first liquid was obtained. Separately, a 50 wt% solution of tetrabutoxy titanium in propylene glycol monomethyl ether was prepared as the second liquid. The second liquid is used as the first liquid, and 10, 16, 30, 40, 48, 60 weights with respect to 100 parts by weight of the solid after drying the solution of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound at 105 ° C. for 120 minutes. The mixture is mixed and mixed at a ratio of parts, mixed at 25 ° C. for 15 minutes with a propeller-type stirrer, and this liquid agent is copper foil of an FR-4 grade copper-clad laminate patterned by a conventional subtractive method The applicator is coated on the FR-4 grade substrate that has been etched on the top and the entire surface. The temperature is gradually raised with a temperature profile of a maximum temperature of 180 ° C., and the whole is dried for 120 minutes with hot air. Until cooled. The film thickness after curing (drying) was set to 10 μm on the etching substrate. The physical properties of the cured product are shown in Table 3. From Table 3, in the relationship between the alkoxysilane compound and the alkoxytitanium compound in this Example, the net mixing amount of alkoxytitanium is 8 to 24 wt% with respect to 100 parts by weight of the solid content of the partial hydrolyzate of the alkoxysilane compound. It can be seen that the part provides a preferred coating. When this is expressed by the elemental ratio of titanium element to silicon element, the value is 0.029 to 0.087.

Figure 0003928136
比較例1
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Comparative Example 1

実施例1のアルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液1000gにシリカ粉末(粉末の平均粒径が4.8μmのもの)470gと表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末(一次粒子の平均径が7nmでヘキサメチルジシラザンで表面処理されたもの)60gとを加え、液温20℃から30℃で30分間プロペラ型回転翼を有する撹拌槽で撹拌した。次いで、この混合液をボールミルに移し、180分間混合した。混合時の液温が20℃から30℃になるように制御した。このようにして、第一液を調製した。一方、テトラブトキシチタンの酪酸ブチルの50重量%溶液を第二液として調製した。第一液に第二液を、アルコキシシラン化合物の部分加水分解物溶液を105℃で120分間乾燥した後の固形物100重量部に対して40重量部の割合で加え、プロペラ型撹拌機で25℃で15分間混合し、液状ソルダーレジスト液とした。ソルダーレジスト液を、常法のサブトラクティブ法によりパターン形成されたFR−4グレードの銅張積層板の銅箔上及び全面エッチングされたFR−4グレードの基板上にアプリケーター塗工し、最高温度180℃の温度プロファイルで徐々に昇温して全乾燥時間で120分間熱風乾燥し、その後60分間で徐々に室温まで冷却した。尚、硬化(乾燥)後の被膜の厚さは銅回路のエッジ部で10μmになるようにした。
比較例2
1000 g of the partially hydrolyzed alkoxysilane compound solution of Example 1 and 470 g of silica powder (with an average particle size of 4.8 μm) and fumed silica powder subjected to surface hydrophobization treatment (average particle size of primary particles is 7 nm) 60 g of the surface treated with hexamethyldisilazane) was added, and the mixture was stirred at a liquid temperature of 20 ° C. to 30 ° C. for 30 minutes in a stirring tank having a propeller rotor. Next, this mixed solution was transferred to a ball mill and mixed for 180 minutes. The liquid temperature at the time of mixing was controlled to be 20 ° C to 30 ° C. In this way, the first liquid was prepared. On the other hand, a 50% by weight solution of butyl butyrate of tetrabutoxytitanium was prepared as the second liquid. The second liquid is added to the first liquid at a ratio of 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid after the partial hydrolyzate solution of the alkoxysilane compound is dried at 105 ° C. for 120 minutes. The mixture was mixed at 15 ° C. for 15 minutes to obtain a liquid solder resist solution. The solder resist solution is applied on the copper foil of the FR-4 grade copper clad laminate patterned by the conventional subtractive method and the FR-4 grade substrate etched on the entire surface, and the maximum temperature is 180. The temperature was gradually raised with a temperature profile of 0 ° C., hot air drying was performed for 120 minutes in the total drying time, and then gradually cooled to room temperature in 60 minutes. The thickness of the coating after curing (drying) was 10 μm at the edge of the copper circuit.
Comparative Example 2

比較例1のシリカ粉末470gの代わりに、疎水化されたシリカ粉末(粉末の平均粒径が5.0μmのもので、含水ケイ酸に有機ケイ素化合物を化学的に反応結合させたもので、その表面は有機基で覆われている)470gを配合し、比較例2と同様に処理した。
比較例3
Instead of 470 g of the silica powder of Comparative Example 1, a hydrophobized silica powder (the powder has an average particle size of 5.0 μm and is formed by chemically reacting an organic silicon compound with hydrous silicic acid. The surface was covered with an organic group (470 g), and the same treatment as in Comparative Example 2 was performed.
Comparative Example 3

比較例1のシリカ粉末470gの代わりに、カオリン粉末(粉末の平均粒径が2.3μmのもので、付着水分が0.9重量%のもの)360gを配合し、比較例1と同様に処理した。
比較例4
In place of 470 g of silica powder of Comparative Example 1, 360 g of kaolin powder (with an average particle diameter of 2.3 μm and a moisture content of 0.9% by weight) was blended and treated in the same manner as Comparative Example 1. did.
Comparative Example 4

実施例3の表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末60gの代わりに、表面疎水化処理されていないフュームドシリカ粉末(一次粒子の平均粒径が12nmのもの)60gを配合し、比較例2と同様に処理した。  In place of 60 g of the surface-hydrophobized fumed silica powder of Example 3, 60 g of fumed silica powder that has not been surface-hydrophobized (with an average primary particle size of 12 nm) was blended, and Comparative Example 2 and Treated in the same way.

実施例1は添加物として六チタン酸カリウム繊維を添加した系、実施例2は添加物として六チタン酸カリウム繊維の他にカオリン粉末とアルミナ粉末を添加した系、実施例3は添加物として六チタン酸カリウム繊維の他にカオリン粉末、アルミナ粉末及びヘキサメチルジシラザンで表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末を添加した系、である。いずれの系も、表2に示したように、被膜外観が良好で、被膜の硬度も6Hで充分な硬度を有し、耐熱性も半田耐熱性が260℃20秒フロートで問題はなく、耐酸性も問題のないものであった。  Example 1 is a system in which potassium hexatitanate fibers are added as an additive, Example 2 is a system in which kaolin powder and alumina powder are added in addition to potassium hexatitanate fibers as additives, and Example 3 is a system in which six additives are added. This is a system in which fumed silica powder surface-hydrophobized with kaolin powder, alumina powder and hexamethyldisilazane is added in addition to potassium titanate fibers. As shown in Table 2, each of the systems has a good coating appearance, a coating hardness of 6H, sufficient hardness, heat resistance and solder heat resistance at 260 ° C. for 20 seconds, no problem, and acid resistance. There was no problem with sex.

実施例4は六チタン酸カリウム繊維の他にカオリン粉末、アルミナ粉末、表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末及びエチルセルロース粉末を添加した系であり、実施例5は六チタン酸カリウム繊維の他にカップリング剤処理した水酸化アルミニウム粉末、表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末及び黄色顔料(アントラキノンイエロー)と青色顔料(銅フタロニシアンブルー)を添加した系である。いずれの系の被膜も、表3に示したように、表面外観、表面硬度、半田耐熱性、耐酸性、電気絶縁性、電気耐電圧性、耐酸性、難燃性等に問題なく、また、ハロゲン、アンチモンやリンの含有量の少ないものであった。  Example 4 is a system in which kaolin powder, alumina powder, fumed silica powder subjected to surface hydrophobization treatment and ethyl cellulose powder are added in addition to potassium hexatitanate fiber, and Example 5 is a cup in addition to potassium hexatitanate fiber. This is a system in which a ring agent-treated aluminum hydroxide powder, a surface-hydrophobized fumed silica powder, and a yellow pigment (anthraquinone yellow) and a blue pigment (copper phthalonic cyan blue) are added. As shown in Table 3, any type of coating film has no problem in surface appearance, surface hardness, solder heat resistance, acid resistance, electrical insulation, electrical voltage resistance, acid resistance, flame resistance, etc. The content of halogen, antimony and phosphorus was small.

比較例1〜4で得たソルダーレジスト硬化物(被膜)について、プリント配線板としての性能試験を行った。結果を表4に示す。また、表中の各性能試験の評価方法は別途記載した通りである。  About the soldering resist hardened | cured material (coating) obtained by Comparative Examples 1-4, the performance test as a printed wiring board was done. The results are shown in Table 4. Moreover, the evaluation method of each performance test in the table is as described separately.

Figure 0003928136
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比較例1はシリカ粉末及び表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末を添加した系、比較例2は比較例1におけるシリカ粉末の代わりに疎水化されたシリカ粉末を添加した系、比較例3は比較例1におけるシリカ粉末代わりにカオリン粉末を添加した系、比較例4は実施例3の表面疎水化処理したフュームドシリカ粉末の代わりに表面疎水化処理されていないフュームドシリカ粉末を添加した系である。いずれの系も、チタン酸カリウム繊維は含まず、シリカ粉末を含む系であり、特に、比較例4は表面疎水化処理をしていないフュームドシリカ粉末を含む系である。表4から、チタン酸カリウム繊維は含まず、単にシリカ粒子を添加した系、表面疎水化処理をしていないフュームドシリカ粉末を添加した系は、その被膜の硬度が低く、良好な被膜が得られないことがわかる。  Comparative Example 1 is a system in which a silica powder and a surface-hydrophobized fumed silica powder are added, Comparative Example 2 is a system in which a hydrophobized silica powder is added instead of the silica powder in Comparative Example 1, and Comparative Example 3 is a comparison A system in which kaolin powder was added instead of silica powder in Example 1, and Comparative Example 4 was a system in which fumed silica powder not subjected to surface hydrophobization was added instead of fumed silica powder subjected to surface hydrophobization in Example 3. is there. Any of these systems does not contain potassium titanate fibers and contains silica powder. In particular, Comparative Example 4 is a system containing fumed silica powder not subjected to surface hydrophobization treatment. From Table 4, the system that does not contain potassium titanate fiber, simply added silica particles, and the system added fumed silica powder that has not been subjected to surface hydrophobization treatment has a low hardness and a good coating is obtained. I can't understand.

表中における各性能試験における、試験方法は以下の通りである。
鉛筆硬度:JISK5600の試験方法に従い、評価は被膜の破れで評価する。評価する場所は銅回路上と銅回路の無い基板上で行う。
半田耐熱性:JISC5012の試験方法で行う。260℃の半田槽に20秒間フロートさせ、被膜のクラックの有無や被膜と基材ならびに銅回路との間の剥離の有無を目視で観察する。
耐酸性:試験片を0.5%硫酸水溶液に30℃で10分間浸漬し、水洗後120℃で120分乾燥し、室温まで放冷後前述の鉛筆硬度試験と目視による被膜のクラックや剥離を観察する。
耐塩水噴霧性:JISK5600の試験方法で行い、5%食塩水で35℃で96時間噴霧し、水洗乾燥した後目視による被膜のクラックや剥離を観察する。また、セロテープ(登録商標)による被膜の剥離を観察する。
電気絶縁性:JISC5012の試験方法で行う。試験片を60℃/90%/DC30V/500時間処理後の回路間絶縁抵抗を測定する。試験片の回路はライン/スペース=125μm/125μmとした。
電気耐電圧性:JISC5012の試験方法で行う。回路のライン/スペース=125μm/125μmの回路間に250V、1分間印加し、漏れ電流0.5mA以下を合格とする。
耐燃性:米国の難燃性試験規格UL94の試験方法で行う。1.6mm厚さのFR−4グレードガラスエポキシ銅張積層板(UL94でV−0グレードに認定されている品種)の全面エッチングされた基板の両面に、硬化(乾燥)後の厚さで約20μmの被膜を形成したもので、垂直法で耐燃焼試験を行い、V−0に合格するかどうかを判定する。
アンチモン、ハロゲン、リン含有量:アンチモンは原子吸光法、ハロゲンはイオンクロマト法、リンは吸光光度法による。
The test method in each performance test in the table is as follows.
Pencil hardness: According to the test method of JISK5600, the evaluation is based on the tearing of the film. The location to be evaluated is on a copper circuit and on a substrate without a copper circuit.
Solder heat resistance: JISC5012 test method. Float in a solder bath at 260 ° C. for 20 seconds and visually observe the presence or absence of cracks in the coating and the presence or absence of separation between the coating and the substrate and the copper circuit.
Acid resistance: The test piece is immersed in a 0.5% sulfuric acid aqueous solution at 30 ° C for 10 minutes, washed with water, dried at 120 ° C for 120 minutes, allowed to cool to room temperature, and then subjected to the above-mentioned pencil hardness test and visual cracking and peeling. Observe.
Salt spray resistance: JISK5600 test method, sprayed with 5% saline solution at 35 ° C. for 96 hours, washed with water and dried, and then visually observed for cracks and peeling. In addition, the peeling of the film with cello tape (registered trademark) is observed.
Electrical insulation: Performed in accordance with JIS C5012 test method The insulation resistance between circuits after a test piece is processed at 60 ° C./90%/DC 30 V / 500 hours is measured. The circuit of the test piece was set to line / space = 125 μm / 125 μm.
Electric withstand voltage: JISC5012 test method. A line / space of the circuit = 125 μm / 125 μm is applied between the circuits at 250 V for 1 minute, and a leakage current of 0.5 mA or less is regarded as acceptable.
Flame resistance: Performed by the test method of the flame retardancy test standard UL94 of the United States. About 1.6mm thick FR-4 grade glass epoxy copper clad laminate (V94 grade certified by UL94) on both sides of the entire etched substrate, with thickness after curing (drying) A film having a thickness of 20 μm is formed, a flame resistance test is performed by a vertical method, and it is determined whether or not V-0 is passed.
Antimony, halogen and phosphorus contents: Antimony is measured by atomic absorption method, halogen is measured by ion chromatography, and phosphorus is measured by spectrophotometry.

以上詳述したように、本発明は、二液タイプのソルダーレジスト塗料及びそのソルダーレジスト塗料からなる硬化物、その硬化物である被膜を備えたプリント配線板に関するものであり、硬化物、被膜は重量で8割以上の成分が無機物であることを特徴としている。従って、耐熱性が高く、プリント配線板に種々の電子部品の実装時に使用される半田の鉛フリー化に伴う実装温度の高温化に十分耐えるものであり、また、アンチモン化合物、ハロゲン化合物やリン化合物を実質的に含まないので、それ自体高い難燃性を有すると共に、従来のソルダーレジスト硬化物、被膜に比較して廃棄物の焼却によって人体や自然環境に悪影響を与えないという特徴を有する。更に、露光、現像工程を必要としないので、工程が簡略化され、製造コストも低くなるという特徴もある。このような特徴を備えた本発明は、プリント配線板を使用する、広い産業分野で、有効に利用できるものである。  As described in detail above, the present invention relates to a two-component type solder resist paint and a cured product comprising the solder resist paint, and a printed wiring board provided with a film that is the cured product. More than 80% of the components by weight are inorganic. Therefore, it has high heat resistance, and can withstand high mounting temperatures due to lead-free solder used when mounting various electronic components on printed wiring boards. Also, antimony compounds, halogen compounds and phosphorus compounds Is substantially flame retardant per se, and has the characteristics that it does not adversely affect the human body and the natural environment by incineration of waste compared to conventional solder resist cured products and coatings. Furthermore, since exposure and development processes are not required, the process is simplified and the manufacturing cost is reduced. The present invention having such a feature can be effectively used in a wide industrial field using a printed wiring board.

Claims (8)

アルコキシシラン化合物の部分加水分解物と有機溶剤からなる第一液及びアルコキシチタンと有機溶剤からなる第二液で構成される第一液と第二液とを混合し硬化させる二液タイプのソルダーレジスト塗料において、第一液及び/又は第二液にチタン酸カリウム繊維を含有させることを特徴とする二液タイプのソルダーレジスト塗料。A two-component type solder resist in which a first liquid composed of a partial hydrolyzate of an alkoxysilane compound and an organic solvent and a first liquid composed of a second liquid composed of an alkoxy titanium and an organic solvent are mixed and cured. In the paint, a two-part type solder resist paint characterized in that the first liquid and / or the second liquid contains potassium titanate fibers. 第一液及び/又は第二液に、カオリン粉末、アルミナ粉末及びカップリング剤処理水酸化アルミニュウム粉末からなる群から選択された少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項1に記載のソルダーレジスト塗料。2. The solder resist according to claim 1, wherein the first liquid and / or the second liquid contains at least one selected from the group consisting of kaolin powder, alumina powder, and coupling agent-treated aluminum hydroxide powder. paint. 第一液及び/又は第二液に、表面疎水化処理をしたフュームドシリカ粉末を含有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のソルダーレジスト塗料。The solder resist paint according to claim 1 or 2, wherein the first liquid and / or the second liquid contains fumed silica powder subjected to surface hydrophobization treatment. 第一液及び/又は第二液に、エチルセルロース粉末を含有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のソルダーレジスト塗料。The solder resist paint according to any one of claims 1 to 3, wherein the first liquid and / or the second liquid contains ethylcellulose powder. 第一液及び/又は第二液に、ハロゲン原子を含まない青色顔料及び/又はハロゲン原子を含まない黄色顔料を配合したことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のソルダーレジスト塗料。The first liquid and / or the second liquid are blended with a blue pigment containing no halogen atom and / or a yellow pigment containing no halogen atom. Solder resist paint. 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の二液タイプのソルダーレジスト塗料から形成させたソルダーレジスト硬化物。Solder resist hardened | cured material formed from the two-component type solder resist coating material of any one of Claims 1-5. 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の二液タイプのソルダーレジスト塗料からパターン形成硬化させた被膜を備えたプリント配線板。The printed wiring board provided with the film | membrane by which pattern formation hardening was carried out from the two-component type solder resist coating material of any one of Claims 1-5. 前記被膜の厚みが回路のエッジ部において、7μm〜40μmになることを特徴とする請求項7に記載のプリント配線板。The printed wiring board according to claim 7, wherein a thickness of the coating is 7 μm to 40 μm at an edge portion of the circuit.
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