JP2007180262A - Adhesive composition for printed wiring board, flexible copper-plated laminate, adhesive film, cover lay, and printed wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、接着性、耐折性及び難燃性に優れるプリント配線板用の接着剤組成物、それを用いたフレキシブル銅張積層板、カバーレイ及び接着剤フィルム並びにこれらを用いて製造されたプリント配線板に関する。 The present invention is an adhesive composition for a printed wiring board having excellent adhesion, folding resistance and flame retardancy, a flexible copper-clad laminate using the same, a coverlay, an adhesive film, and the like. The present invention relates to a printed wiring board.
近年、電子機器の小型・軽量化、高機能化に伴い、それらの機器に使用されるプリント配線板やパッケージ・モジュール基板においてファインピッチパターン化、小型化が急速に進んでいる。さらに、世界的な環境問題、人体に対する安全性についての関心の高まりに伴って、ハンダ処理での鉛無使用、非ハロゲン系難燃剤の使用など、有害性の低減や、より高い安全性を確保する要求が増大している。 In recent years, with the reduction in size, weight and functionality of electronic devices, fine pitch patterns and downsizing are rapidly progressing in printed wiring boards and package / module boards used in such devices. In addition, with the growing concern about global environmental issues and human safety, the use of lead-free soldering and the use of non-halogen flame retardants reduces hazards and ensures higher safety. The demand to do is increasing.
従って、フレキシブル配線板に用いられる絶縁材料には高耐熱でかつ高密度実装が可能であることが要求され、このため、はんだ耐熱性や銅箔引剥し強さに対する要求レベルがより厳しいものになった。 Therefore, the insulating material used for the flexible wiring board is required to have high heat resistance and high-density mounting, which makes the required level of solder heat resistance and copper foil peel strength more severe. It was.
プリント配線板に用いる接着剤組成物には、難燃性を確保する際に、作業性、特性、コストの観点から水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水和物が多く使用されている。しかしながら、その難燃性を確保するためには金属水和物を多量に添加せざるを得ないため、それに伴う作業性の低下、強度、耐熱性、耐湿性の低下が問題となっている。特に、昨今のハロゲンフリー、鉛フリー対応には、より高い信頼性が要求されているため、金属水和物にもその特性向上の必要性が出てきている。 In adhesive compositions used for printed wiring boards, metal hydrates such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide are often used from the viewpoint of workability, characteristics and cost when ensuring flame retardancy. However, in order to ensure the flame retardancy, a large amount of metal hydrate must be added, and accordingly, workability, strength, heat resistance, and moisture resistance are accompanied by problems. In particular, since higher reliability is required for the recent halogen-free and lead-free compatibility, there is a need to improve the characteristics of metal hydrates.
そこで、水酸化アルミニウム粒子の表面に、ステアリン酸からなる第1層と、有機シランカップリング剤からなる第2層とを順に積層して表面処理を行った金属水和物を難燃剤として用いることにより、難燃性、接着性及び耐マイグレーション性に優れたノンハロゲン難燃性接着剤組成物とする技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
本発明は、難燃性、耐熱性、耐湿性、絶縁性に優れ、高い信頼性を有するプリント配線板の製造に用いることができるプリント配線板用接着剤組成物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an adhesive composition for a printed wiring board that is excellent in flame retardancy, heat resistance, moisture resistance, and insulation and can be used for the production of a highly reliable printed wiring board. .
さらに、本発明は、このプリント配線板用接着剤組成物を用いた、銅張積層板、カバーレイ及び接着剤フィルム並びにこれらを用いて製造されたプリント配線板を提供することをも目的とする。 Another object of the present invention is to provide a copper-clad laminate, a cover lay, an adhesive film, and a printed wiring board produced using these using the adhesive composition for printed wiring boards. .
本発明者らは、上記の目的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、接着剤組成物にガラスマトリックス形成用前駆体で処理してなる金属水和物を用いることによって、難燃性、絶縁性、耐熱性、耐湿性等の特性が向上し、上記自的が達成されることを見いだし、本発明を完成させたものである。 As a result of intensive research aimed at achieving the above object, the inventors of the present invention have achieved flame retardancy and insulation by using a metal hydrate obtained by treating the adhesive composition with a precursor for forming a glass matrix. The present invention has been completed by finding that the above-mentioned self-sufficiency is achieved by improving properties such as heat resistance, heat resistance and moisture resistance.
すなわち、本発明のプリント配線板用接着剤組成物は、(A)少なくとも一種類のエポキシ樹脂と、(B)エポキシ樹脂用硬化剤と、(C)硬化促進剤と、(D)合成ゴムと、(E)金属水和物と、を必須成分とし、(E)金属水和物が、ガラスマトリックス形成用液状前駆体で処理して得られる金属水和物であることを特徴とするものである。 That is, the printed wiring board adhesive composition of the present invention comprises (A) at least one epoxy resin, (B) a curing agent for epoxy resin, (C) a curing accelerator, and (D) a synthetic rubber. , (E) a metal hydrate as an essential component, and (E) the metal hydrate is a metal hydrate obtained by processing with a liquid precursor for forming a glass matrix. is there.
また、本発明のフレキシブル銅張積層板は、ポリイミドフィルムと、このポリイミドフィルムの片面又は両面に本発明のプリント配線板用接着剤組成物を介して接着した銅箔と、からなることを特徴とするものである。 The flexible copper-clad laminate of the present invention comprises a polyimide film and a copper foil bonded to one or both sides of the polyimide film via the adhesive composition for printed wiring boards of the present invention. To do.
また、本発明のカバーレイは、ポリイミドフィルムと、このポリイミドフィルムの表面に本発明のプリント配線板用接着剤組成物により形成された樹脂層と、からなることを特徴とするものである。 Moreover, the coverlay of this invention consists of a polyimide film and the resin layer formed in the surface of this polyimide film with the adhesive composition for printed wiring boards of this invention, It is characterized by the above-mentioned.
また、本発明の接着剤フィルムは、本発明のプリント配線板用接着剤組成物を、フィルム状に形成してなることを特徴とするものである。 Moreover, the adhesive film of this invention forms the adhesive composition for printed wiring boards of this invention in a film form, It is characterized by the above-mentioned.
また、本発明のプリント配線板は、本発明のフレキシブル銅張積層板の銅箔に回路を形成して得られることを特徴とするものである。 The printed wiring board of the present invention is obtained by forming a circuit on the copper foil of the flexible copper-clad laminate of the present invention.
また、本発明の他のプリント配線板は、形成された回路の表面に、本発明のカバーレイを貼り合わせてなることを特徴とするものである。 Another printed wiring board of the present invention is characterized in that the cover lay of the present invention is bonded to the surface of the formed circuit.
さらに、本発明のプリント配線板は、本発明のフレキシブルプリント配線板と、その表面に接着剤フィルムを介して接着した補強板と、からなることを特徴とするものである。 Furthermore, the printed wiring board of the present invention comprises the flexible printed wiring board of the present invention and a reinforcing plate bonded to the surface of the printed wiring board through an adhesive film.
本発明のプリント配線板用接着剤組成物によれば、その硬化物は、難燃性、耐熱性、耐湿性、絶縁性に優れているため、高い信頼性を有するプリント配線板の製造に用いることができる。 According to the adhesive composition for a printed wiring board of the present invention, the cured product is excellent in flame retardancy, heat resistance, moisture resistance, and insulation, and thus is used for producing a highly reliable printed wiring board. be able to.
また、本発明のフレキシブル銅張積層板、カバーレイ及び接着剤フィルムは、本発明のプリント配線板用接着剤組成物を用いているため、これらは難燃性、耐熱性、耐湿性、絶縁性に優れ、これらを部品として用いることにより高い信頼性を有するプリント配線板を製造することができる。 Moreover, since the flexible copper-clad laminate, the coverlay and the adhesive film of the present invention use the adhesive composition for printed wiring boards of the present invention, they are flame retardant, heat resistant, moisture resistant, and insulating. By using these as components, a printed wiring board having high reliability can be manufactured.
さらに、本発明のプリント配線板は、難燃性、耐熱性、耐湿性、絶縁性に優れており、高い信頼性を有するものである。 Furthermore, the printed wiring board of the present invention is excellent in flame retardancy, heat resistance, moisture resistance, and insulation, and has high reliability.
以下、本発明を詳細に説明する。まず、本発明のプリント配線板用接着剤組成物の各構成要素について説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, each component of the adhesive composition for printed wiring boards of this invention is demonstrated.
まず、本発明に用いる(A)エポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であればよく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル系の変性エポキシ樹脂及びその臭化物などのエポキシ樹脂が挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。また、シロキサン及びリン化合物変性することによりハロゲンフリーで難燃性を付与することもできる。 First, the (A) epoxy resin used in the present invention may be any compound having two or more epoxy groups in one molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin , Glycidyl ether type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, heterocyclic type epoxy resin, modified glycidyl ether type epoxy resin and its bromide epoxy resin, etc., these may be used alone or in combination of two or more. Can do. In addition, flame retardant properties can be imparted without halogen by modifying siloxane and phosphorus compounds.
本発明に用いる(B)エポキシ樹脂用硬化剤としては、一般的なエポキシ樹脂用の硬化剤が使用することができ、例えば、ジシアンジアミド(DICY)及びその誘導体、ノボラック型フェノール樹脂、アミノ変性ノボラック型フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、有機酸ヒドラジッド、ジアミノマレオニトリルとその誘導体、メラミンとその誘導体、アミンイミド、ポリアミン塩、モレキュラーシーブ、アミン、酸無水物、ポリアミド、イミダゾール等が挙げられ、これらは単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 As the curing agent for (B) epoxy resin used in the present invention, a curing agent for general epoxy resin can be used. For example, dicyandiamide (DICY) and its derivatives, novolac type phenol resin, amino-modified novolac type Examples include phenol resin, polyvinyl phenol resin, organic acid hydrazide, diaminomaleonitrile and derivatives thereof, melamine and derivatives thereof, amine imide, polyamine salt, molecular sieve, amine, acid anhydride, polyamide, imidazole, and the like. It can be used in combination of more than one species.
本発明に用いる(B)エポキシ樹脂用硬化剤の配合量は、(A)エポキシ樹脂 100質量部に対して、(B)エポキシ樹脂用硬化剤は2〜50質量部の範囲であることが好ましい。このとき、さらに(B)エポキシ樹脂用硬化剤の配合量は、(A)エポキシ樹脂と(B)エポキシ樹脂用硬化剤の当量比、すなわち、エポキシ基の数に対する、硬化剤のエポキシ基と反応する官能基(アミン基、水酸基等)の数の比が0.5〜1.5の範囲であることが特に好ましい。 The blending amount of (B) epoxy resin curing agent used in the present invention is preferably in the range of 2 to 50 parts by mass of (B) epoxy resin curing agent with respect to 100 parts by mass of (A) epoxy resin. . At this time, the blending amount of the curing agent for (B) epoxy resin is equivalent to the equivalent ratio of (A) epoxy resin and (B) curing agent for epoxy resin, that is, the epoxy group of the curing agent reacts with the number of epoxy groups. It is particularly preferable that the ratio of the number of functional groups (amine groups, hydroxyl groups, etc.) to be in the range of 0.5 to 1.5.
本発明に用いる(C)硬化促進剤としては、通常のエポキシ樹脂用の硬化促進剤として用いられる第三級アミン、イミダゾール化合物、芳香族アミン、三フッ化ホウ素アミン錯体、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。これらの効果促進剤は単独又は2種以上混合して用いることができる。 Examples of the (C) curing accelerator used in the present invention include tertiary amines, imidazole compounds, aromatic amines, boron trifluoride amine complexes, and triphenylphosphine that are used as curing accelerators for ordinary epoxy resins. It is done. These effect promoters can be used alone or in combination of two or more.
本発明に用いる(C)硬化促進剤の配合量は、(A)エポキシ樹脂 100質量部に対して、0.01〜5質量部の範囲であることが好ましい。 It is preferable that the compounding quantity of (C) hardening accelerator used for this invention is the range of 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) epoxy resins.
次に、本発明に用いる(D)合成ゴムとしては、アクリルゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンメチルアクリレートアクリロニトリルゴム、ブタジエンゴム、カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム、ビニル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム、シリコーンゴム、ウレタンゴム、ポリビニルブチラール等が挙げられ、これらゴムは単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Next, (D) synthetic rubber used in the present invention includes acrylic rubber, acrylonitrile butadiene rubber, styrene butadiene rubber, butadiene methyl acrylate acrylonitrile rubber, butadiene rubber, carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber, vinyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber, silicone. Examples thereof include rubber, urethane rubber, polyvinyl butyral, and the like. These rubbers can be used alone or in combination of two or more.
この(D)合成ゴムの配合量は、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して10〜900質量部であることが好ましく、20〜150質量部であることがより好ましい。900質量部を超えると耐熱性が低下してしまい、10質量部未満になると引き剥がし強度が低下してしまう。 The compounding amount of the (D) synthetic rubber is preferably 10 to 900 parts by mass, more preferably 20 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin. When it exceeds 900 parts by mass, the heat resistance is lowered, and when it is less than 10 parts by mass, the peeling strength is lowered.
本発明に用いる(E)金属水和物は、ガラスマトリックス形成用液状前駆体で処理して得られるものであって、通常、難燃性を付与する充填剤として用いられている金属水和物に、ガラスマトリックス形成用液状前駆体でその表面を被覆し、これをガラス化する処理を行って得られるものである。すなわち、ここで処理により得られたものは、金属水和物の表面にガラスの膜が被覆されたものである。 The metal hydrate (E) used in the present invention is obtained by processing with a liquid precursor for forming a glass matrix, and is usually a metal hydrate used as a filler for imparting flame retardancy. Further, it is obtained by coating the surface with a liquid precursor for forming a glass matrix and vitrifying it. That is, what was obtained by the treatment here is one in which the surface of the metal hydrate is coated with a glass film.
ここで用いる金属水和物としては、通常、難燃性を付与する充填材として用いられるものであれば特に制限されずに用いることができるが、その平均粒径が0.5〜20μmであることが好ましい。金属水和物の種類としては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムが、作業性、特性、コストに優れることから好ましいものとして挙げられる。また、これらは単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 The metal hydrate used here can be used without particular limitation as long as it is usually used as a filler imparting flame retardancy, but its average particle size is 0.5 to 20 μm. It is preferable. As the types of metal hydrates, aluminum hydroxide and magnesium hydroxide are preferable because they are excellent in workability, characteristics, and cost. Moreover, these can be used individually or in combination of 2 or more types.
本発明に用いる水酸化アルミニウムとしては、具体的には、H−42M(昭和電工株式会社製、商品名;平均粒径1.0μm)、H−32(昭和電工株式会社製、商品名;平均粒径8.0μm)等が挙げられ、水酸化マグネシウムとしては、キスマ5(協和化学工業株式会社製、商品名;平均粒径1.0μm)等が挙げられる。 Specifically, as the aluminum hydroxide used in the present invention, H-42M (manufactured by Showa Denko KK, trade name; average particle size 1.0 μm), H-32 (manufactured by Showa Denko KK, trade name: average) Examples of the magnesium hydroxide include Kisuma 5 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., trade name; average particle size: 1.0 μm).
次に、本発明に用いるガラスマトリックス形成用液状前駆体について説明する。このガラスマトリックス形成用液状前駆体は、熱処理により無機ガラスとなるものであって、熱処理に際しては金属水和物の分解、すなわち脱水が生じることなく無機ガラスへと変換することができるものであればよい。 Next, the liquid precursor for glass matrix formation used for this invention is demonstrated. This liquid precursor for forming a glass matrix is converted to inorganic glass by heat treatment, and can be converted to inorganic glass without decomposition of metal hydrate, that is, dehydration during heat treatment. Good.
このようなガラスマトリックス形成用液状前駆体は、例えば無機ガラスを形成する方法として良く知られたゾル・ゲル法を用いて調製することができる。 Such a liquid precursor for forming a glass matrix can be prepared by using, for example, a sol-gel method well known as a method for forming an inorganic glass.
例えば、シリコン・アルコキシド、加水分解に必要な水、及び、触媒としての酸あるいはアルカリを添加することによって得られる溶液を室温〜80℃程度で攪拌し、加水分解及び重合を起こさせゾルとした後、さらに反応を進めてゲルとすることにより調製することができる。ゲル化させることにより得られたガラスマトリックス形成用液状前駆体は、加熱することにより無機ガラスとすることができるものである。 For example, a solution obtained by adding silicon alkoxide, water necessary for hydrolysis, and acid or alkali as a catalyst is stirred at room temperature to about 80 ° C. to cause hydrolysis and polymerization to obtain a sol. Further, the gel can be prepared by further proceeding the reaction. The liquid precursor for glass matrix formation obtained by making it gelatinize can be made into inorganic glass by heating.
ゾル・ゲル法に用いられるシリコン・アルコキシドとしては、オルトケイ酸エステル又はそれを化学的に重合させたり修飾したりしたものが挙げられ、好ましくはオルトケイ酸エステルであり、さらに好ましくはSi(OR)4(但し、Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で表されるオルトケイ酸エステルであり、具体的にはテトラメチルオルトシリケート、テトラエチルオルトシリケートが好ましく用いられる。また、触媒としての酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、その他の酸を用いることができる。 Examples of the silicon alkoxide used in the sol-gel method include orthosilicate esters or those obtained by chemically polymerizing or modifying them, preferably orthosilicate esters, and more preferably Si (OR) 4. (Wherein R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). Specifically, tetramethyl orthosilicate and tetraethyl orthosilicate are preferably used. Moreover, as an acid as a catalyst, hydrochloric acid, a sulfuric acid, nitric acid, an acetic acid, and other acids can be used, for example.
また、このようなゾル・ゲル法に代えて、水を添加せずにガラスマトリックス形成用液状前駆体を調製する方法を用いてもよい(以下、非水型の調製方法と呼ぶ。)。このような非水型の調製方法としては、シリコン・アルコキシド及び揮発性の有機酸を含む混合物を、例えば、100〜160℃で20〜1000分間加熱して、粘性のある液体(ガラスマトリックス形成用液状前駆体)とする方法が挙げられる。 Further, instead of such a sol-gel method, a method of preparing a liquid precursor for forming a glass matrix without adding water may be used (hereinafter referred to as a non-aqueous preparation method). As such a non-aqueous preparation method, for example, a mixture containing silicon alkoxide and a volatile organic acid is heated at 100 to 160 ° C. for 20 to 1000 minutes to form a viscous liquid (for glass matrix formation). And a liquid precursor).
このような非水型の調製方法により得られた粘性のある液体は、例えば200℃以下といった比較的低温で固化させることにより、金属水酸化物の分解を誘発すること無しに無機ガラスを形成することが可能であり、プリント配線板用接着剤組成物への応用が可能となる。 The viscous liquid obtained by such a non-aqueous preparation method solidifies at a relatively low temperature, for example, 200 ° C. or less, thereby forming an inorganic glass without inducing decomposition of the metal hydroxide. Therefore, application to an adhesive composition for printed wiring boards is possible.
このような非水型の調製方法に用いられるシリコン・アルコキシドとしては、オルトケイ酸エステル又はそれを化学的に重合させたり修飾したりしたものが挙げられ、好ましくはオルトケイ酸エステルであり、さらに好ましくはSi(OR)4(但し、Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で表されるオルトケイ酸エステルであり、具体的にはテトラメチルオルトシリケート、テトラエチルオルトシリケートが好ましく用いられる。 Examples of the silicon alkoxide used in such a non-aqueous preparation method include orthosilicate esters or those obtained by chemically polymerizing or modifying them, preferably orthosilicate esters, more preferably An orthosilicate ester represented by Si (OR) 4 (wherein R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), specifically, tetramethyl orthosilicate and tetraethyl orthosilicate are preferably used.
非水型の調製方法に用いられる揮発性の有機酸は、シリコン・アルコキシドと混合、加熱したときに液体を与え、200℃以下で揮発するものであれば好ましく、例えば酢酸、無水酢酸、ギ酸等が挙げられ、好ましくは酢酸又は無水酢酸である。揮発性の有機酸は、シリコン・アルコキシド100質量部に対して、20〜150質量部の範囲で用いることが好ましい。 The volatile organic acid used in the non-aqueous preparation method is preferably one that gives a liquid when mixed and heated with silicon alkoxide and volatilizes at 200 ° C. or lower. For example, acetic acid, acetic anhydride, formic acid, etc. And preferably acetic acid or acetic anhydride. The volatile organic acid is preferably used in the range of 20 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicon alkoxide.
また、非水型の調製方法では、上述したようなシリコン・アルコキシド及び揮発性の有機酸に加え、揮発性の非水有機溶媒を用いることが好ましい In the non-aqueous preparation method, it is preferable to use a volatile non-aqueous organic solvent in addition to the silicon alkoxide and the volatile organic acid as described above.
このようなシリコン・アルコキシド及び揮発性の有機酸と共に用いられる揮発性の非水有機溶媒としては、水を含まないものであって、シリコン・アルコキシド及び揮発性の有機酸と均一に混合することができ、例えば、200℃以下で揮発するものが好ましく、具体的にはヘキサン、シクロへキサン、ベンゼン等が挙げられ、好ましくはヘキサン、シクロヘキサンである。 Volatile non-aqueous organic solvents used with such silicon alkoxides and volatile organic acids are those that do not contain water and can be uniformly mixed with silicon alkoxides and volatile organic acids. For example, those that volatilize at 200 ° C. or lower are preferred, and specific examples include hexane, cyclohexane, benzene, and the like, preferably hexane and cyclohexane.
このような揮発性の非水有機溶媒は、シリコン・アルコキシド100質量部に対して、100〜500質量部の範囲で用いることが好ましい。 Such a volatile non-aqueous organic solvent is preferably used in the range of 100 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicon alkoxide.
非水型の調製方法において揮発性の非水有機溶媒を用いる場合の具体的な調製方法としては、シリコン・アルコキシドと揮発性の有機酸とからなる混合物を、例えば、100〜160℃、好ましくは120〜130℃で、例えば、10〜180分、好ましくは40〜80分加熱して液体とした後、これに揮発性の非水有機溶媒を加え、例えば、100〜160℃、好ましくは120〜130℃で、例えば、10〜1000分、好ましくは200〜500分加熱して透明な粘性のある液体(ガラスマトリックス形成用液状前駆体)とする調製方法が挙げられる。この場合、揮発性の非水有機溶媒の添加を数回に分けて、添加と加熱とを繰り返し行ってもよい。 As a specific preparation method in the case of using a volatile non-aqueous organic solvent in the non-aqueous preparation method, a mixture comprising a silicon alkoxide and a volatile organic acid is, for example, 100 to 160 ° C., preferably At 120 to 130 ° C., for example, for 10 to 180 minutes, preferably 40 to 80 minutes, after heating to a liquid, a volatile nonaqueous organic solvent is added thereto, for example, 100 to 160 ° C., preferably 120 to 120 ° C. For example, a method for preparing a transparent viscous liquid (a liquid precursor for forming a glass matrix) by heating at 130 ° C. for 10 to 1000 minutes, preferably 200 to 500 minutes can be mentioned. In this case, the addition of the volatile non-aqueous organic solvent may be divided into several times, and the addition and heating may be repeated.
また、このようにシリコン・アルコキシドと揮発性の有機酸とからなる混合物を加熱した後に揮発性の非水有機溶媒を加えて熱処理する調製方法の他に、例えば、シリコン・アルコキシド、揮発性の有機酸及び揮発性の非水有機溶媒を混合して2時間〜10日間放置した後、必要に応じて濾過して得た液体を、例えば、100〜160℃、好ましくは120〜130℃で、例えば20〜1000分、好ましくは100〜400分加熱して透明な粘性のある液体(ガラスマトリックス形成用液状前駆体)とする調製方法を用いてもよい。 In addition to the preparation method in which a mixture of silicon alkoxide and volatile organic acid is heated and then heat-treated by adding a volatile non-aqueous organic solvent, for example, silicon alkoxide, volatile organic A liquid obtained by mixing an acid and a volatile non-aqueous organic solvent and allowing to stand for 2 hours to 10 days and then filtering as necessary is, for example, 100 to 160 ° C, preferably 120 to 130 ° C. You may use the preparation method which heats for 20 to 1000 minutes, Preferably it is 100 to 400 minutes, and is set as a transparent viscous liquid (liquid precursor for glass matrix formation).
本発明において、ガラスマトリックス形成用液状前駆体で処理とは、このようにして得られた水酸化アルミニウムと金属水和物とを、混合あるいは混練し、金属水和物の表面にガラスマトリックスの被膜を形成し、その後に熱処理して、最終的には無機ガラスで覆われた金属水和物とするものである。 In the present invention, the treatment with the liquid precursor for forming the glass matrix is to mix or knead the aluminum hydroxide thus obtained and the metal hydrate, and coat the surface of the metal hydrate with the glass matrix. After that, heat treatment is performed to finally form a metal hydrate covered with inorganic glass.
上述した非水型の調製方法により得られたガラスマトリックス形成用液状前駆体は、例えば200℃以下といった比較的低温で固化させることにより無機ガラスとなるため、本発明ではガラスマトリックス形成用液状前駆体としてこのような非水型の調製方法により得られたものを用いることで、金属水和物の分解を誘発すること無しに無機ガラスを形成することが可能である。したがって、熱処理は、200℃以下の温度で加熱することにより行うものであり、100〜160℃の温度で加熱することが好ましい。 The liquid precursor for forming a glass matrix obtained by the above-described non-aqueous preparation method becomes an inorganic glass by solidifying at a relatively low temperature, for example, 200 ° C. or lower. Therefore, in the present invention, the liquid precursor for forming a glass matrix is used. As described above, it is possible to form an inorganic glass without inducing the decomposition of the metal hydrate by using one obtained by such a non-aqueous preparation method. Therefore, heat processing is performed by heating at the temperature of 200 degrees C or less, and it is preferable to heat at the temperature of 100-160 degreeC.
本発明のマトリックス形成用液状前駆体で処理した金属水和物を用いることで、プリント配線板材料の難燃性、強靭性、耐熱性等に優れ、従来の樹脂組成物を用いたものに比べ、プリント配線板材料及び配線板の信頼性向上をなしうることができる。 By using the metal hydrate treated with the liquid precursor for matrix formation of the present invention, the printed wiring board material is excellent in flame retardancy, toughness, heat resistance, etc., compared with those using conventional resin compositions The reliability of the printed wiring board material and the wiring board can be improved.
この(E)金属水和物の配合量は、樹脂組成物中に1〜30質量%の範囲で含有することが好ましく、1質量%未満では、難燃性が低下し、30質量%を超えると作業性の低下、強度及び耐湿性が低下してしまう。 The blending amount of this (E) metal hydrate is preferably contained in the resin composition in the range of 1 to 30% by mass, and if it is less than 1% by mass, the flame retardancy decreases and exceeds 30% by mass. In addition, workability, strength and moisture resistance are reduced.
さらに、本発明には無機充填剤を配合することもでき、ここで無機充填材は、難燃性を付与する等の補助添加剤として使用するものであり、樹脂組成物の接着剤としての諸特性を阻害しない範囲で添加可能である。これら無機充填剤には、タルク、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等が含まれ、これらは単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Furthermore, an inorganic filler can also be blended in the present invention, and the inorganic filler is used as an auxiliary additive for imparting flame retardancy, and is used as an adhesive for a resin composition. It can be added as long as the properties are not impaired. These inorganic fillers include talc, silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.
この無機充填剤の配合量は、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して5〜50質量部であることが好ましく、20〜40質量部であることがより好ましい。50質量部を超えると樹脂の流動性が低下するため作業性が低下してしまい、5質量部未満になると難燃性が低下してしまう。 The blending amount of the inorganic filler is preferably 5 to 50 parts by mass and more preferably 20 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin. When the amount exceeds 50 parts by mass, the fluidity of the resin decreases, so that the workability decreases.
本発明の接着剤組成物は、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、合成ゴム及び金属水和物を必須成分とするが、本発明の目的に反しない限度において、また必要に応じて、顔料、その他難燃剤等を添加配合することができる。 The adhesive composition of the present invention contains an epoxy resin, a curing agent for epoxy resin, a curing accelerator, a synthetic rubber and a metal hydrate as essential components, but as long as it does not contradict the purpose of the present invention and as necessary. In addition, pigments and other flame retardants can be added and blended.
また、本発明の樹脂組成物は、ブロム等のハロゲンを樹脂骨格にもつエポキシ樹脂や添加型ブロム化合物で樹脂等を変性することにより難燃性を付与することができる。また、樹脂等をシロキサン及びリン化合物変性することによりハロゲンフリーで難燃性を付与することもできる。 In addition, the resin composition of the present invention can impart flame retardancy by modifying the resin or the like with an epoxy resin having halogen such as bromo in the resin skeleton or an additive-type bromo compound. Further, by modifying the resin or the like with siloxane and phosphorus compounds, it is possible to impart flame retardancy without halogen.
この場合のリン化合物としては、縮合型リン酸エステル、リン酸エステルアミド及びホスファゼン化合物が最適であり、例えば、ホスファゼン化合物としては、実質的にハロゲンを含まないもので、耐熱性、耐湿性、難燃性、耐薬品性等の観点から、融点が80℃以上であるホスファゼン化合物を好ましく使用できる。具体的な例としては、次式に示されるようなシクロホスファゼンオリゴマー
以上述べた本発明の接着剤組成物は、これをプロピレングリコールモノメチルエーテル等の好適な有機溶剤で希釈して、ポリイミドフィルム上に塗布し、加熱乾燥し、熱ロールで銅箔をポリイミドフィルムの片面又は両面に貼り合わせた後、加熱硬化するという通常の方法によリフレキシブル銅張積層板を製造することができる。 The adhesive composition of the present invention described above is diluted with a suitable organic solvent such as propylene glycol monomethyl ether, applied onto the polyimide film, dried by heating, and the copper foil is coated on one side of the polyimide film with a hot roll. Alternatively, a reflexible copper-clad laminate can be produced by an ordinary method of heat-curing after bonding to both sides.
また、本発明の接着剤組成物は、これをプロピレングリコールモノメチルエーテル等の好適な有機溶剤で希釈して、ポリイミドフィルム上に塗布し、加熱乾燥するという通常の方法によりカバーレイを製造することができる。 In addition, the adhesive composition of the present invention can be used to produce a coverlay by a normal method of diluting it with a suitable organic solvent such as propylene glycol monomethyl ether, applying it onto a polyimide film, and drying by heating. it can.
さらに、本発明の接着剤組成物は、これをプロピレングリコールモノメチルエーテル等の好適な有機溶剤で希釈して、キャリアフィルム上に塗布し、加熱乾燥するという通常の方法により接着剤フィルムを製造することができる。 Furthermore, the adhesive composition of the present invention is produced by diluting it with a suitable organic solvent such as propylene glycol monomethyl ether, applying it on a carrier film, and heating and drying it to produce an adhesive film. Can do.
また、上記で得られたフレキシブル銅張積層板の銅箔をエッチングすることで回路を形成し、必要であれば穴明けスルホールメッキし、ついで所定箇所に穴をあけた上記カバーレイを重ねて加熱加圧成形するという通常の方法でフレキシブルプリント配線板を製造することができる。 Also, a circuit is formed by etching the copper foil of the flexible copper-clad laminate obtained above, and if necessary, drilling through-hole plating is performed, and then the coverlay having holes in predetermined positions is overlaid and heated. A flexible printed wiring board can be manufactured by the usual method of press molding.
さらに、このフレキシブルプリント配線板に上記フィルム接着剤を介して補強板を重ね合わせ、加熱加圧するという通常の方法で補強板付きプリント配線板を製造することができる。ここで加熱加圧成形は減圧環境で行うことができる。 Furthermore, a printed wiring board with a reinforcing plate can be manufactured by a normal method of superimposing a reinforcing plate on the flexible printed wiring board via the film adhesive and heating and pressing. Here, the heating and pressing can be performed in a reduced pressure environment.
また、ハロゲンフリー多層プリント配線板は、本発明のフレキシブルプリント配線板に本発明のフィルム接着剤を介して本発明のフレキシブル銅張積層板又はハロゲンを含まないガラスエポキシ銅張積層板等を重ね合わせ加熱・加圧成形し、スルーホールを形成し、スルーホールメッキを行った後、所定の回路を形成するという通常の方法により製造することができる。 In addition, the halogen-free multilayer printed wiring board is formed by superimposing the flexible copper-clad laminate of the present invention or the glass epoxy copper-clad laminate containing no halogen on the flexible printed wiring board of the present invention via the film adhesive of the present invention. It can be manufactured by an ordinary method of forming a predetermined circuit after heating and pressure forming, forming a through hole, performing through hole plating, and then forming a predetermined circuit.
以上の説明では、フレキシブルプリント配線板への応用を記載したが、本発明のプリント配線板用接着剤組成物は、フレキシブルプリント配線板への応用と同様の手法で、リジッドのプリント配線板やその他のプリント配線板へも適用することができる。 In the above description, application to a flexible printed wiring board has been described. However, the adhesive composition for a printed wiring board of the present invention can be applied to a rigid printed wiring board or the like in the same manner as applied to a flexible printed wiring board. It can also be applied to other printed wiring boards.
次に、本発明を実施例及び比較例を用いてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto.
(参考例1)
[金属水和物1の調製]
還流冷却機付きのガラス製の加熱合成容器に液状のテトラエトキシシラン(多摩化学工業株式会社製)80質量部を投入後、特級の酢酸(和光純薬工業株式会社製)100質量部を緩やかに滴下投入し、125℃で1時間、強制攪拌下に加熱、化学反応を進めた。
次に、反応物を加熱合成容器中で常温まで急冷した後、ヘキサン100質量部を滴下投入し、125℃で1時間の加熱を行い、終段でへキサンを加熱減圧蒸留により除去した。
(Reference Example 1)
[Preparation of Metal Hydrate 1]
After adding 80 parts by mass of liquid tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd.) into a glass heating synthesis vessel equipped with a reflux condenser, 100 parts by mass of special grade acetic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) The solution was added dropwise and heated at 125 ° C. for 1 hour under forced stirring to advance the chemical reaction.
Next, after the reaction product was rapidly cooled to room temperature in a heating synthesis container, 100 parts by mass of hexane was added dropwise and heated at 125 ° C. for 1 hour, and hexane was removed by heating under reduced pressure at the final stage.
さらに、反応を完結させるため、再度、反応物を加熱合成容器内で常温に冷却した後、ヘキサン100質量部を滴下投入し、125℃で1時間の加熱を行い、終段でヘキサンを加熱減圧蒸留により除去した。その後、液状残留物をろ過することにより無色透明のガラスマトリックス形成用液状前駆体Xを得た。次に、5℃の低温環境に設置したアルミナ製ボールミルに、ガラスマトリックス形成用液状前駆体X 1.0質量部、平均粒径1.0μmの水酸化アルミニウム(昭和電工株式会社製、商品名:H−42M)99質量部、シリコーン界面活性剤2質量部を加えて1時間攪拌し、その後水洗、乾燥して処理化水酸化アルミニウム(金属水和物1)を得た。 Furthermore, in order to complete the reaction, the reaction product is again cooled to room temperature in a heating and synthesis vessel, and then 100 parts by mass of hexane is added dropwise, heated at 125 ° C. for 1 hour, and hexane is heated and reduced at the final stage. Removed by distillation. Thereafter, the liquid residue was filtered to obtain a colorless and transparent liquid precursor X for forming a glass matrix. Next, to an alumina ball mill installed in a low temperature environment of 5 ° C., 1.0 part by mass of glass matrix-forming liquid precursor X, aluminum hydroxide having an average particle size of 1.0 μm (trade name: manufactured by Showa Denko KK) H-42M) 99 parts by mass and 2 parts by mass of silicone surfactant were added and stirred for 1 hour, then washed with water and dried to obtain treated aluminum hydroxide (metal hydrate 1).
(参考例2)
[金属水和物2の調製]
5℃の低温環境に設置したアルミナ製ボールミルに、参考例1で得られたガラスマトリックス形成用液状前駆体X 1.0重量部、平均粒径1.0μmの水酸化マグネシウム(協和化学工業株式会社製、商品名:キスマ5)99質量部、シリコーン界面活性剤2質量部を加え、1時間攪拌し、その後水洗、乾燥して処理化水酸化マグネシウム(金属水和物2)を得た。
(Reference Example 2)
[Preparation of Metal Hydrate 2]
Alumina ball mill placed in a low temperature environment of 5 ° C., 1.0 parts by weight of liquid precursor X for glass matrix formation obtained in Reference Example 1 and magnesium hydroxide having an average particle size of 1.0 μm (Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.) Manufactured, trade name: Kisuma 5) 99 parts by mass and 2 parts by mass of silicone surfactant were added and stirred for 1 hour, then washed with water and dried to obtain treated magnesium hydroxide (metal hydrate 2).
なお、合成例1〜2におけるガラスマトリックス形成用液状前駆体Xの調製は、記載したとおりのもので、非水型の調製方法によるものである。 In addition, the preparation of the liquid precursor X for forming a glass matrix in Synthesis Examples 1 and 2 is as described, and is based on a non-aqueous preparation method.
また、ガラスマトリックス形成用液状前駆体Xの赤外分光スペクトルの測定結果及びガラスマトリックス形成用液状前駆体Xの熱処理後のEDX分析から、ガラスマトリックス形成用液状前駆体Xは無機ガラスを形成することが可能であることを確認した。 Moreover, from the measurement result of the infrared spectrum of the liquid precursor X for forming a glass matrix and the EDX analysis after the heat treatment of the liquid precursor X for forming a glass matrix, the liquid precursor X for forming a glass matrix should form an inorganic glass. Confirmed that it was possible.
(実施例1)
カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム ニポール1072(日本ゼオン株式会社製、商品名;ニトリル含量27) 300質量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂エピコート1001(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名;エポキシ当量470) 320質量部、シロキサン変性エポキシ樹脂 Albiflex 296(Hanse chemie社製、商品名;エポキシ当量850) 147質量部、フェノールノボラック樹脂(昭和高分子株式会社製、水酸基価106) 92質量部、フェノキシホスファゼンオリゴマー(融点100℃) 300質量部、合成例1で得られた水酸化アルミニウム(金属水和物1) 300質量部及び2−エーテル−4−メチルイミダゾール 0.5質量部からなる混合物に、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)及びメチルエチルケトンを加えて固形分40質量%の接着剤組成物Aを調整した。
Example 1
Carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber Nipol 1072 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name; nitrile content 27) 300 parts by mass, bisphenol A type epoxy resin epicoat 1001 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: epoxy equivalent 470) 320 masses Parts, siloxane-modified epoxy resin Albiflex 296 (manufactured by Hanse Chemie, trade name: epoxy equivalent 850) 147 parts by mass, phenol novolac resin (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd., hydroxyl value 106) 92 parts by mass, phenoxyphosphazene oligomer (melting point 100) ° C) 300 parts by mass, 300 parts by mass of the aluminum hydroxide obtained in Synthesis Example 1 (metal hydrate 1) and 0.5 parts by mass of 2-ether-4-methylimidazole were added as a solvent. Propylene glycol monomethyl ether (PGM) and Methyl ethyl ketone was added to adjust the solid content of 40% by weight of the adhesive composition A.
この接着剤組成物Aを、厚さ25μmのポリイミドフィルム カプトン(東レデュポン株式会社製、商品名)にロールコーターを用いて、乾燥後の厚さが15μmになるように塗布乾燥し、その接着剤面と圧延銅箔(35μm)の処理面とを重ね合わせて120℃のラミネートロールで圧着した後、オーブンにより100℃で3時間、130℃で3時間、160℃で3時間処理して接着剤を硬化させフレキシブル銅張積層板を製造した。 This adhesive composition A was applied to a polyimide film Kapton (trade name, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) with a thickness of 25 μm using a roll coater and dried so that the thickness after drying was 15 μm. The surface and the treated surface of the rolled copper foil (35 μm) were overlapped and pressure-bonded with a laminate roll at 120 ° C., and then treated with an oven at 100 ° C. for 3 hours, 130 ° C. for 3 hours, and 160 ° C. for 3 hours. Was cured to produce a flexible copper clad laminate.
(実施例2)
カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム ニポール1072(日本ゼオン株式会社製、商品名;ニトリル含量27) 400質量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂 エピコート1001(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名;エポキシ当量470) 274質量部、シロキサン変性エポキシ樹脂 Albiflex XP544(Hansechemie社製、商品名;エポキシ当量750) 126質量部、フェノールノボラック樹脂(昭和高分子株式会社製;水酸基価106) 80質量部、フェノキシホスファゼンオリゴマー(融点100℃)300質量部、合成例1で得られた水酸化アルミニウム(金属水和物1) 300質量部及び2−エチル−4−メチルイミダゾール 2質量部からなる混合物に、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)及びメチルエチルケトンを加えて固形分34質量%の接着剤組成物Bを調整した。
(Example 2)
Carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber Nipol 1072 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name; nitrile content 27) 400 parts by mass, bisphenol A type epoxy resin Epicoat 1001 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: epoxy equivalent 470) 274 mass Part, siloxane-modified epoxy resin Albiflex XP544 (manufactured by Hanschemie, trade name: epoxy equivalent 750) 126 parts by mass, phenol novolac resin (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd .; hydroxyl value 106), 80 parts by mass, phenoxyphosphazene oligomer (melting point 100 ° C. ) 300 parts by mass, aluminum hydroxide obtained in Synthesis Example 1 (metal hydrate 1) 300 parts by mass and 2-ethyl-4-methylimidazole 2 parts by mass propylene as a solvent Renglycol monomethyl ether (PGM) and methyl ethyl ketone were added to prepare an adhesive composition B having a solid content of 34% by mass.
この接着剤組成物Bを、厚さ25μmのポリイミドフィルム カプトン(東レデュポン株式会社製、商品名)にロールコーターを用いて、乾燥後の厚さが15μmになるように塗布乾燥し、その接着剤面と圧延銅箔(35μm)の処理面とを重ね合わせて120℃のラミネートロールで圧着した後、オーブンにより100℃で3時間、130℃で3時間、160℃で3時間処理して接着剤を硬化させフレキシブル銅張積層板を製造した。 This adhesive composition B was applied to a polyimide film Kapton (trade name, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm using a roll coater and dried so that the thickness after drying was 15 μm. The surface and the treated surface of the rolled copper foil (35 μm) were overlapped and pressure-bonded with a laminate roll at 120 ° C., and then treated with an oven at 100 ° C. for 3 hours, 130 ° C. for 3 hours, and 160 ° C. for 3 hours. Was cured to produce a flexible copper clad laminate.
(実施例3)
カルボキシル基含有アクリロニトリルブタジエンゴム ニポール1072(日本ゼオン株式会社製、商品名;ニトリル含量27) 400質量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂エピコート1004(ジャパンエポキシレジン株式会社製、商品名;エポキシ当量925) 274質量部、シロキサン変性エポキシ樹脂 Albiflex 348(Hanse chemie社製、商品名;エポキシ当量1150) 126質量部、ビスフェノールA型ノボラック樹脂(大日本インキ化学社製;水酸基価118) 47質量部、フェノキシホスファゼンオリゴマー(融点100℃) 300質量部、合成例1で得られた水酸化アルミニウム(金属水和物1) 300質量部及び2−エチルー4メチルイミダゾール 2質量部からなる混合物に溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)及びメチルエチルケトンを加えて固形分34質量%の接着剤組成物Cを調整した。
(Example 3)
Carboxyl group-containing acrylonitrile butadiene rubber NIPOL 1072 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name; nitrile content 27) 400 parts by mass, bisphenol A type epoxy resin Epicoat 1004 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name: epoxy equivalent 925) 274 mass Part, siloxane-modified epoxy resin Albiflex 348 (manufactured by Hanse Chemie, trade name: epoxy equivalent 1150) 126 parts by mass, bisphenol A type novolak resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc .; hydroxyl value 118), 47 parts by mass, phenoxyphosphazene oligomer ( (Melting point 100 ° C.) 300 parts by mass, 300 parts by mass of aluminum hydroxide (metal hydrate 1) obtained in Synthesis Example 1 and 2 parts by mass of 2-ethyl-4-methylimidazole were mixed as solvents. Propylene glycol monomethyl ether (PGM) and Methyl ethyl ketone was added to adjust the C adhesive composition solids 34 wt%.
この接着剤組成物Cを、厚さ25μmのポリイミドフィルム カプトン(東レデュポン株式会社製、商品名)にロールコーターを用いて、乾燥後の厚さが15μmになるように塗布乾燥し、その接着剤面と圧延銅箔(35μm)の処理面とを重ね合わせて120℃のラミネートロールで圧着した後、オーブンにより100℃で3時間、130℃で3時間、160℃で3時間処理して接着剤を硬化させフレキシブル銅張積層板を製造した。 This adhesive composition C was applied to a polyimide film Kapton (trade name, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm using a roll coater and dried so that the thickness after drying was 15 μm. The surface and the treated surface of the rolled copper foil (35 μm) were overlapped and pressure-bonded with a laminate roll at 120 ° C., and then treated with an oven at 100 ° C. for 3 hours, 130 ° C. for 3 hours, and 160 ° C. for 3 hours. Was cured to produce a flexible copper clad laminate.
(実施例4)
実施例2で調製した接着剤組成物Bを厚さ25μmのポリイミドフィルム、カプトン(東レデュボン社製)にロールコーターで乾燥後の厚さが25μmになるように塗布乾燥し、カバーレイを得た。このカバーレイを実施例1で得られたフレキシブル銅張積層板の銅表面をソフトエッチング処理したフレキシブル銅張板積層板に重ね合わせ、熱プレスで160℃、4MPa、1時間加熱加圧接着し、評価用のカバーレイ付きフレキシブルプリント配線板を製造した。
Example 4
The adhesive composition B prepared in Example 2 was applied and dried on a 25 μm-thick polyimide film, Kapton (manufactured by Toray Dubon) with a roll coater so that the thickness after drying was 25 μm, and a coverlay was obtained. . The coverlay was placed on the flexible copper-clad laminate obtained by soft etching the copper surface of the flexible copper-clad laminate obtained in Example 1, and heated and pressed at 160 ° C., 4 MPa for 1 hour, A flexible printed wiring board with a coverlay for evaluation was manufactured.
(実施例5)
実施例3で調整した接着剤組成物Cを厚さ40μmのポリプロピレンフィルムにロールコーターを用いて、乾燥後の厚さが50μmになるように塗布乾燥し、その接着剤フィルムを得た。
(Example 5)
The adhesive composition C prepared in Example 3 was applied and dried on a polypropylene film having a thickness of 40 μm using a roll coater so that the thickness after drying was 50 μm, thereby obtaining the adhesive film.
この接着剤フィルムを厚さ125μmのポリイミド補強板に120℃のラミネートロールで圧着した後、キャリアフィルムのポリプロピレンフィルムを剥がし、実施例1で得られたフレキシブル銅張積層板の銅表面をソフトエッチング処理したフレキシブル銅張積層板にフィルム面を重ね合わせ、160℃、0.5MPaで15分間加熱加圧接着し、評価用の補強板付きフレキシブルプリント配線板を得た。 After this adhesive film was pressure-bonded to a 125 μm thick polyimide reinforcing plate with a laminate roll at 120 ° C., the polypropylene film of the carrier film was peeled off, and the copper surface of the flexible copper-clad laminate obtained in Example 1 was soft etched. The film surface was superposed on the flexible copper-clad laminate, and heat-press bonding was performed at 160 ° C. and 0.5 MPa for 15 minutes to obtain a flexible printed wiring board with a reinforcing plate for evaluation.
(実施例6〜10)
実施例1〜5において、使用した接着剤組成物A〜Cのそれぞれの組成物中に配合した水酸化アルミニウムを合成例2で調製した水酸化マグネシウム(金属水和物2)に置き換えた以外は同一の操作により、それぞれ銅張積層板、カバーレイ付きフレキシブルプリント配線板、補強板付きフレキシブルプリント配線板を製造した。
(Examples 6 to 10)
In Example 1-5, except having replaced the aluminum hydroxide mix | blended in each composition of used adhesive composition AC with the magnesium hydroxide (metal hydrate 2) prepared in the synthesis example 2. By the same operation, a copper-clad laminate, a flexible printed wiring board with a coverlay, and a flexible printed wiring board with a reinforcing plate were produced.
(比較例1)
実施例1で使用した水酸化アルミニウムを未処理の水酸化アルミニウム(昭和電工株式会社製、商品名:H−42M)に置き換えた以外は実施例1と同様の操作により、フレキシブル銅張積層板を製造した。
(Comparative Example 1)
A flexible copper clad laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the aluminum hydroxide used in Example 1 was replaced with untreated aluminum hydroxide (trade name: H-42M, manufactured by Showa Denko KK). Manufactured.
(比較例2)
実施例2で使用した水酸化アルミニウムを未処理の水酸化アルミニウム(昭和電工株式会社製、商品名:H−42M)に置き換えた以外は実施例2と同様の操作により、フレキシブル銅張積層板を製造した。
(Comparative Example 2)
A flexible copper clad laminate was prepared in the same manner as in Example 2, except that the aluminum hydroxide used in Example 2 was replaced with untreated aluminum hydroxide (trade name: H-42M, manufactured by Showa Denko KK). Manufactured.
(比較例3)
実施例3で使用した水酸化アルミニウムを未処理の水酸化アルミニウム(昭和電工株式会社製、商品名:H−42M)に置き換えた以外は実施例3と同様の操作により、フレキシブル銅張積層板を製造した。
(Comparative Example 3)
A flexible copper clad laminate was prepared in the same manner as in Example 3 except that the aluminum hydroxide used in Example 3 was replaced with untreated aluminum hydroxide (trade name: H-42M, manufactured by Showa Denko KK). Manufactured.
(比較例4)
実施例4で使用した水酸化アルミニウムを未処理の水酸化アルミニウム(昭和電工株式会社製、商品名:H−42M)に置き換えた以外は実施例4と同様にして、評価用のカバーレイ付きフレキシブル基板を作成した。
(Comparative Example 4)
The flexible with coverlay for evaluation was performed in the same manner as in Example 4 except that the aluminum hydroxide used in Example 4 was replaced with untreated aluminum hydroxide (trade name: H-42M, manufactured by Showa Denko KK). A substrate was created.
(比較例5)
実施例5で使用した水酸化アルミニウムを未処理の水酸化アルミニウム(昭和電工株式会社製、商品名:H−42M)に置き換えた以外は実施例5と同様にして、評価用の補強板フレキシブル基板を作成した。
(Comparative Example 5)
Reinforcing plate flexible substrate for evaluation in the same manner as in Example 5 except that the aluminum hydroxide used in Example 5 was replaced with untreated aluminum hydroxide (trade name: H-42M, manufactured by Showa Denko KK). It was created.
(比較例6〜10)
実施例6〜10において、使用した接着剤組成物A〜Cのそれぞれの組成物中に配合した水酸化マグネシウムを未処理の水酸化マグネシウム(協和化学工業株式会社製、商品名:キスマ5)に置き換えた以外は、それぞれ実施例6〜10と同一の操作により、それぞれ銅張積層板、カバーレイ付きフレキシブルプリント配線板、補強板付きフレキシブルプリント配線板を製造した。
(Comparative Examples 6 to 10)
In Examples 6 to 10, the magnesium hydroxide blended in each of the adhesive compositions A to C used was converted into untreated magnesium hydroxide (Kyowa Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Kisuma 5). Except for the replacement, a copper clad laminate, a flexible printed wiring board with a coverlay, and a flexible printed wiring board with a reinforcing plate were produced by the same operations as in Examples 6 to 10, respectively.
実施例1〜10及び比較例1〜10で得られた銅張積層板及びプリント配線板について、その特性を評価し、評価結果を表1〜4に示す。 The characteristics are evaluated about the copper clad laminated board and printed wiring board which were obtained in Examples 1-10 and Comparative Examples 1-10, and an evaluation result is shown to Tables 1-4.
1:得られたフレキシブル銅張積層板、プリント配線板について、JIS C 6471に準じて測定を行った。
2:リフロー条件[ピーク温度240℃、プリヒート温度180℃、プリヒート時間90秒、リフロー温度220℃、リフロー時間40秒]にて処理した後、測定を行った。
3:得られたフレキシブル銅張積層板、プリント配線板について、試験片を100℃、60分加熱乾燥した後、288℃、300℃のハンダ浴に10秒間フロートさせてフクレの有無を調査した。
○:フクレなし、△:一部でフクレ発生、×:全てでフクレ発生
4:得られたフレキシブルプリント配線板について、JIS C6471 6.6に準じて測定を行った。
5:得られたフレキシブル銅張積層板について、IPC−FC−241に準じて測定を行った。
1: The obtained flexible copper-clad laminate and printed wiring board were measured according to JIS C 6471.
2: Measurement was performed after processing under reflow conditions [peak temperature 240 ° C., preheat temperature 180 ° C., preheat time 90 seconds, reflow temperature 220 ° C., reflow time 40 seconds].
3: About the obtained flexible copper clad laminated board and printed wiring board, the test piece was heated and dried at 100 ° C. for 60 minutes, and then floated in a solder bath at 288 ° C. and 300 ° C. for 10 seconds to examine the presence or absence of swelling.
○: No blistering, Δ: blistering in part, x: blistering in all 4: Measurement was performed on the obtained flexible printed wiring board according to JIS C6471 6.6.
5: About the obtained flexible copper clad laminated board, it measured according to IPC-FC-241.
6:得られたフレキシブル銅張積層板について、10%H2SO4水溶液に40℃、10時間浸漬後、基板表面の変色を確認した。
○:変色なし、×:変色発生
7:得られたフレキシブル銅張積層板、フレキシブルプリント配線板について、JIS C 6471 6.6に準じて測定を行った。
8:得られたフレキシブル銅張積層板、プリント配線板について、UL94に準じて測定を行った。
9:得られたフレキシブル銅張積層板について、IPC−TM−650 2.2.1に準じる。
10:得られたフレキシブル銅張積層板について、1mm間隔櫛型パターンで、85℃、85%RH、DC20V印加して、500時間の表面抵抗を測定した。
6: The obtained flexible copper-clad laminate was immersed in a 10% H 2 SO 4 aqueous solution at 40 ° C. for 10 hours, and then the discoloration of the substrate surface was confirmed.
○: No discoloration, ×: Discoloration occurrence 7: The obtained flexible copper-clad laminate and flexible printed wiring board were measured according to JIS C 6471 6.6.
8: The obtained flexible copper-clad laminate and printed wiring board were measured according to UL94.
9: Conforms to IPC-TM-650 2.2.1 for the obtained flexible copper-clad laminate.
10: About the obtained flexible copper clad laminated board, 85 degreeC, 85% RH, and DC20V were applied with a 1 mm space | interval comb pattern, and the surface resistance of 500 hours was measured.
このように、本発明によれば、優れた接着性、耐熱性、耐湿性、絶縁性を有し、優れたフレキシブル銅張積層板、カバーレイ、フィルム接着剤を与える接着剤組成物が提供される。また、この樹脂組成物の選択により環境特性に優れたプリント配線板を製造することができる。 As described above, according to the present invention, there is provided an adhesive composition having excellent adhesiveness, heat resistance, moisture resistance, and insulation, and providing an excellent flexible copper-clad laminate, coverlay, and film adhesive. The Moreover, the printed wiring board excellent in the environmental characteristic can be manufactured by selection of this resin composition.
Claims (11)
前記(E)金属水和物が、ガラスマトリックス形成用液状前駆体で処理して得られる金属水和物であることを特徴とするプリント配線板用接着剤組成物。 (A) At least one kind of epoxy resin, (B) a curing agent for epoxy resin, (C) a curing accelerator, (D) a synthetic rubber, and (E) a metal hydrate are essential components,
(E) The adhesive composition for printed wiring boards, wherein the (E) metal hydrate is a metal hydrate obtained by treatment with a liquid precursor for forming a glass matrix.
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