JP3898989B2 - Plating equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば端子金具などに加工されるフープ(Hoop)に鍍金を施す鍍金装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば、自動車などに配索されるワイヤハーネスは、電線と該電線の端部に取り付けられる端子金具と、を備えている。前記電線は、銅などの金属からなる芯線と、該芯線を被覆する絶縁性の被覆部と、を備えている。端子金具は、帯状の板金(フープともいい、以下フープと呼ぶ)206(図13に示す)からなる。端子金具は、帯状のフープ206に打ち抜き加工などを施した後、該フープ206が所望の形状に折り曲げられて得られる。打ち抜き加工が施されたフープ206には、折り曲げられて端子金具に形成される部分が多数形成されている。このため、フープ206から多数の端子金具が得られる。
【0003】
また、前記フープ206は、帯状の銅または黄銅などからなる母材の表面に錫や金などが鍍金されている。前述したフープ206の表面を錫や金などで鍍金するために、例えば図13に示す鍍金装置200が用いられている。
【0004】
図13に例示された鍍金装置200は、脱脂槽201と、酸づけ槽202と、鍍金槽203と、後処理槽204と、複数の洗浄槽205と、を備えている。脱脂槽201は、例えば水酸化ナトリウム溶液などのフープ206の表面から油分を除去するために用いられる薬液を収容する。脱脂槽201には、脱脂液供給源207から前述した薬液が供給される。
【0005】
酸づけ槽202は、例えば、脱脂槽201で油分が除去されたフープ206の表面に形成された酸化物薄膜を除去する硫酸などの酸性の水溶液を収容する。酸づけ槽202には、酸供給源208から前述した酸性の水溶液が供給される。鍍金槽203は、溶解した電解質液などからなる鍍金液を収容する。鍍金槽203には、鍍金液供給源209から前述した鍍金液が供給される。後処理槽204は、加熱された純水を収容する。後処理槽204には、後処理液供給源210から加熱された純水が供給される。
【0006】
洗浄槽205は、純水を収容する。一つの洗浄槽205は、脱脂槽201と酸づけ槽202との間に設けられている。他の一つの洗浄槽205は、酸づけ槽202と鍍金槽203との間に設けられている。更に他の一つの洗浄槽205は、鍍金槽203と後処理槽204との間に設けられている。洗浄槽205には、洗浄液供給源211から純水が供給される。前述した供給源207,208,209,210,211は、互いに独立した別体のタンク(容器)などからなる。
【0007】
前述した構成の鍍金装置200は、フープ206を、脱脂槽201と洗浄槽205と酸づけ槽202と洗浄槽205と鍍金槽203と洗浄槽205と後処理槽204とに順に通す。そして、脱脂槽201でフープ2の表面から油分を除去した後、酸づけ槽202でフープ2の表面から酸化物薄膜を除去する。そして、鍍金槽203で、フープ2の表面に鍍金を施すとともに、後処理槽204でフープ2を加熱した純水(熱水)で洗浄した後、乾燥する。こうして、前述した構成の鍍金装置200は、フープ206の表面に所定の金属で鍍金(電気めっき)を施してきた。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
前述した従来の鍍金装置200では、前記フープ206の表面に鍍金する金属を変更する際には、前記鍍金槽203をフープ2の表面に鍍金する金属に応じて、適宜変更する必要がある。また、一つの洗浄液供給源211から複数の洗浄槽205内に純水を供給する。
【0009】
このため、前記鍍金槽203を変更する際に、前記洗浄液供給源211から洗浄槽205に純水を供給する配管などを一旦取り外した後、再度連結する必要が生じる。このため、図13に例示された鍍金装置200では、鍍金する金属を変更する際に、前述した脱脂槽201と酸づけ槽202と鍍金槽203と後処理槽204と洗浄槽205などをレイアウトしなおす際にかかる手間が増加する。このように、レイアウト変更にかかる手間が増加して、フープ206の鍍金即ち端子金具の生産効率が低下する傾向であった。
【0010】
また、前述したフープ206の鍍金作業には、より高速化が求められている。このため、前記フープ206の移動速度を高速化すると、特に鍍金槽203内で十分に鍍金出来なくなることが考えられる。このため、前述した鍍金槽203を複数設けて、これら複数の鍍金槽203内にフープ206を順に通して、フープ206を十分に鍍金することが考えられる。この場合、鍍金装置200の設置にかかるスペースが増加することとなる。
【0011】
したがって、本発明の目的は、フープに鍍金する金属を容易に変更できる鍍金装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決し目的を達成するために、請求項1に記載の本発明の鍍金装置は、帯状でかつ金属からなるフープに鍍金を施す鍍金装置において、前記フープを脱脂するとともに酸づけする前処理ユニットと、前記前処理ユニットにより脱脂と酸づけが施されたフープを鍍金する鍍金ユニットと、前記鍍金ユニットにより鍍金されたフープを熱水で洗浄する後処理ユニットと、を備え、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとは、それぞれ、フレームと、前記フレームに取り付けられかつ前記脱脂、酸づけ、鍍金、洗浄を行う際に前記フープが漬けられる処理液を収容する処理槽と、前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽の処理液中に漬けられたフープを洗浄するための純水を収容する純水槽と、前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽に供給される処理液を蓄える処理液タンクと、前記フレームに取り付けられかつ前記純水槽に供給される純水を蓄える純水タンクと、を備え、前記フープを処理槽中の処理液中に通した後、前記純水槽中の純水に通すとともに、前記処理液を前記処理液タンクと処理槽との間で循環させ、かつ前記純水を前記純水タンクと純水槽との間で循環させるとともに、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットのフレームは、互いに着脱自在であり、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとのうち少なくとも一つは、前記純水槽として、前記処理槽の後にフープが通される第1の純水槽と、前記第1の純水槽の後にフープが通される第2の純水槽とを備え、前記純水タンクとして、前記第1の純水槽との間で純水を循環する第1の純水タンクと、前記第2の純水槽との間で純水を循環しかつ外部から純水が供給される第2の純水タンクとを備え、処理槽中の処理液の量に応じて、前記第1の純水タンク中の純水を前記処理液タンクに供給しかつ前記第2の純水タンク中の純水を前記第1の純水タンクに供給することを特徴としている。
【0014】
請求項2に記載の本発明の鍍金装置は、請求項1に記載の鍍金装置において、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとのうち少なくとも一つは、前記純水槽を前記処理槽の両端に連結しかつこれらの純水槽中に回転自在なローラを設け、前記フープを純水槽中のローラ間に掛け渡して、前記処理槽内の処理液中に複数回通すことを特徴としている。
【0015】
請求項3に記載の本発明の鍍金装置は、請求項1又は請求項2に記載の鍍金装置において、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットのフレームは、前記フープが前記処理槽と純水槽とのうち一方の中を移動する方向に沿って、互いに連結していることを特徴としている。
【0016】
請求項1に記載された本発明の鍍金装置によれば、各処理ユニットが処理槽と純水槽とこれらの槽内に処理液または純水を供給するタンクを備えている。また、ユニットのフレーム同士が着脱自在となっている。このように、各ユニットの処理液及び純水を処理槽または純水槽に供給する系統が、互いに独立している。このため、フレームを着脱することにより、各ユニットのレイアウトを容易に変更できる。また、フレームを着脱することにより、鍍金ユニットを容易に交換できる。
【0017】
第2の純水タンク中の純水を第1の純水タンクに供給しかつ第1の純水タンク中の純水を処理液タンクに供給する。第2の純水タンクに純水が供給される。このため、第2の純水タンク即ち第2の純水槽中の純水を、極めて純水に近く即ち極めて不純物を少なく保つことができる。
【0018】
請求項2に記載された本発明の鍍金装置によれば、処理槽中に複数回フープを通す。このため、フープの移動速度を高速化しても、フープを十分に処理液中に漬けておくことができる。また、フープの移動速度を高速化しても十分に処理液中にフープを漬けておくことができるため、一つの工程で処理槽を数多く設置する必要が生じない。
【0019】
請求項3に記載された本発明の鍍金装置によれば、フープの処理槽と純水槽との中での移動方向に沿って、複数のユニットが互いに連結している。このため、作業員が、全てのユニットの特に処理槽の近傍まで近づくことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態にかかる鍍金装置を図1ないし図12を参照して説明する。本発明の一実施形態にかかる鍍金装置1は、図12に示す端子金具などに加工されるフープ(Hoop)2に鍍金加工を施す。フープ2は、幅が数センチメートル程度の帯状をなしている。フープ2は、黄銅などの銅合金からなる薄板を素材としている。フープ2は、金属からなる。このため、フープ2は、図12に示すように、前述した薄板を素材としてプレス加工などにより端子金具に相当する部分3と、これらの部分3を連結する連結部4とが予め別工程で形成されている。
【0021】
前記連結部4は、フープ2の長手方向に沿って延びた帯状に形成されており、長手方向に略等間隔に孔5を設けている。前記端子金具に相当する部分3の長手方向は、前記連結部4即ちフープ2の長手方向に対し直交している。端子金具に相当する部分3は、長手方向の一端が前記連結部4に連なっている。鍍金装置1は、前記端子金具に相当する部分3の所定箇所を金で鍍金するとともに、全体を錫で鍍金する。
【0022】
また、フープ2は、図示しない供給リールなどに巻かれており、この供給リールから鍍金装置1の後述する前処理ユニット10内に供給される。そして、フープ2は、前処理ユニット10内とニッケル鍍金ユニット11内と金鍍金ユニット12内と金除去ユニット13内と後処理ユニット14内とに順に搬送されて、金及び錫で鍍金され、図示しない巻き取りリールなどに巻かれる。
【0023】
鍍金装置1は、図1及び図2に示すように、前処理ユニット10と、鍍金ユニットとしてのニッケル鍍金ユニット11と、金鍍金ユニット12と、金除去ユニット13と、後処理ユニット14とを備えている。
【0024】
前処理ユニット10は、図3及び図4に示すように、フレーム15と、脱脂部16と、酸づけ部17と、制御部18などを備えている。フレーム15は、枠部19と、底板20と、中間板21と、天井板22とを備えている。枠部19は、複数の棒状または筒状の部材からなり枠状に形成されている。底板20は、枠部19の下端部に取り付けられている。底板20の表面は水平方向に沿っている。
【0025】
中間板21は、枠部19の上下方向の中央に取り付けられている。中間板21の表面は水平方向に沿っている。天井板22は、枠部19の上端部に取り付けられている。天井板22の表面は、水平方向に沿っている。前述した構成によって、フレーム15は、下から順に底板20と中間板21と天井板22とを枠部19に取り付けている。これらの底板20と中間板21と天井板22とは、鉛直方向に沿って互いに間隔をあけている。、
【0026】
脱脂部16は、図7などに示すように、処理槽としての脱脂槽23と、一対の第1の純水槽24と、第2の純水槽25と、処理液タンクとしての脱脂タンク26と、第1の純水タンク27と、第2の純水タンク28とを備えている。脱脂槽23は、図3などに示すように、フレーム15の中間板21上に取り付けられている。脱脂槽23は、容器であり、フープ2の表面に付着した油分を除去するための処理液を収容する。本実施形態では、脱脂槽23は、処理液として水酸化ナトリウム溶液を収容する。また、脱脂槽23内には、図7などに示すように、フープ2の表面から油分を除去する際に、電解脱脂法を行うための電極29が取り付けられている。
【0027】
一対の第1の純水槽24は、フレーム15の中間板21上に取り付けられている。一方の第1の純水槽24は、脱脂槽23内でのフープ2の移動方向K(図7など中矢印で示す)の上流側に配されている。なお、矢印Kは、フープ2の移動方向をなしており、該フープ2が処理槽と純水槽とのうち一方の中を移動する方向をなしている。他方の第1の純水槽24は、脱脂槽23のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。一対の第1の純水槽24は、容器であり、フープ2の表面に付着した水酸化ナトリウム溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。なお、純水とは、不純物をできる限り取り除いた純水の水と殆ど同一とみなすことができる純度の高い水である。
【0028】
また、一対の第1の純水槽24は、互いの間に脱脂槽23を位置させている。こうして、第1の純水槽24は、脱脂槽23の両端に連結している。一対の純水槽24内には、それぞれ、ローラ30が回転自在に設けられている。ローラ30は、外周面にフープ2が接触して、該フープ2の移動方向を案内する。さらに、一対の第1の純水槽24内には、前記フープ2を陰極するための電極31が複数設けられている。
【0029】
第2の純水槽25は、他方の第1の純水槽24のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。第2の純水槽25は、容器であり、フープ2の表面に付着した水酸化ナトリウム溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0030】
脱脂タンク26は、フレーム15の底板20上に取り付けられている。脱脂タンク26は、前記脱脂槽23内に満たされる処理液としての水酸化ナトリウム溶液を蓄えておく。脱脂タンク26と脱脂槽23とには、図4に示すように、配管32が連結している。また、前記配管32には、ポンプ33が取り付けられている。ポンプ33は、処理液としての水酸化ナトリウム溶液を、脱脂槽23と脱脂タンク26との間で循環させる。
【0031】
第1の純水タンク27は、フレーム15の底板20上に取り付けられている。第1の純水タンク27は、前記第1の純水槽24内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第1の純水タンク27と、一対の第1の純水槽24とには、図4に示すように、配管34が連結している。
【0032】
また、前記配管34には、ポンプ35が取り付けられている。ポンプ35は、処理液としての純水を、第1の純水タンク27と一方の第1の純水槽24との間で循環させるとともに、第1の純水タンク27と他方の第1の純水槽24との間で循環させる。
【0033】
第2の純水タンク28は、フレーム15の底板20上に取り付けられている。第2の純水タンク28は、前記第2の純水槽25内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第2の純水タンク28と第2の純水槽25とには、図4に示すように、配管36が連結している。また、前記配管36には、ポンプ37が取り付けられている。ポンプ37は、処理液としての純水を、第2の純水タンク28と第2の純水槽25との間で循環させる。
【0034】
また、前述したタンク26,27,28には、タンク26,27,28同士などを連結する配管38が取り付けられている。配管38は、第2の純水タンク28内の純水を第1の純水タンク27内に供給するために用いられるとともに、第1の純水タンク27内の純水を脱脂タンク26内に供給するために用いられる。また、前記配管38は、第2の純水タンク28内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【0035】
前述した構成の脱脂部16は、フープ2を、一方の第1の純水槽24内と脱脂槽23内と他方の第1の純水槽24内とに順に通す。そして、他方の第1の純水槽24内のローラ30の外周面に接触させて、フープ2を再度脱脂槽23内と一方の第1の純水槽24内とに順に通す。その後、一方の第1の純水槽24内のローラ30の外周面に接触させて、フープ2を脱脂槽23内と他方の第1の純水槽24内と第2の純水槽25内に順に通して、酸づけ部17に向かって送り出す。
【0036】
こうして、脱脂部16は、脱脂槽23の両端に第1の純水槽24を連結し、これら第1の純水槽24それぞれにローラ30を設けている。さらに、脱脂部23は、一対のローラ30にフープ2を掛け渡すことにより、フープ2を脱脂槽23内の水酸化ナトリウム溶液中に三回通す。
【0037】
電極29,31に印加するとともに、脱脂槽23内の処理液としての水酸化ナトリウム溶液を加熱して所定の温度に保っておく。こうして、脱脂部16は、脱脂槽23内の水酸化ナトリウム溶液にフープ2を漬けて(浸漬して)、該フープ2の表面に付着した油分を除去する(脱脂する)。
【0038】
酸づけ部17は、処理槽としての酸づけ槽39と、純水槽40と、処理液タンクとしての酸づけタンク41と、純水タンク42を備えている。酸づけ槽39は、フレーム15の中間板21上に取り付けられている。酸づけ槽39は、容器であり、脱脂処理されたフープ2の表面に形成された酸化物薄膜を除去するための酸性の処理液を収容する。本実施形態では、酸づけ槽39は、処理液として硫酸を収容する。
【0039】
純水槽40は、フレーム15の中間板21上に取り付けられている。純水槽40は、脱脂槽23のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。純水槽40は、容器であり、フープ2の表面に付着した硫酸などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0040】
又、酸づけ部17は、回転自在な一対のローラ43を備えている。ローラ43は、外周面にフープ2が接触して、該フープ2の移動方向を案内する。一対のローラ43は、互いの間に酸づけ槽39を位置させている。
【0041】
酸づけタンク41は、フレーム15の底板20上に取り付けられている。酸づけタンク41は、前記酸づけ槽39内に満たされる処理液としての硫酸を蓄えておく。酸づけタンク41と酸づけ槽39とには、図4に示すように、配管44が連結している。また、前記配管44には、ポンプ45が取り付けられている。ポンプ45は、処理液としての硫酸を、酸づけ槽39と酸づけタンク41との間で循環させる。
【0042】
純水タンク42は、フレーム15の底板20上に取り付けられている。純水タンク42は、前記純水槽40内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。純水タンク42と、純水槽40とには、図4に示すように、配管46が連結している。また、前記配管46には、ポンプ47が取り付けられている。ポンプ47は、処理液としての純水を、純水タンク42と純水槽40との間で循環させる。
【0043】
前述した構成の酸づけ部17は、脱脂部23から送り出されたフープ2を酸づけ槽39内に通して、一方のローラ43の外周面に接触させて、再度酸づけ槽39内に通す。その後、さらに、他方のローラ43の外周面に接触させて、フープ2を酸づけ槽39内と純水槽40内とに順に通して、ニッケル鍍金ユニット11に向かって送り出す。こうして、酸づけ部17は、一対のローラ43にフープ2を掛け渡すことにより、フープ2を酸づけ槽39内に複数回通して、フープ2を硫酸などに漬けて(浸漬して)、酸づけする。
【0044】
また、前述した各槽23,24,25,39,40は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ2を通す開口部などを通して、槽23,24,25,39,40の相互間で水酸化ナトリウム溶液、硫酸及び純水などが移動することを防止する。しかしながら、前記フープ2に付着した水酸化ナトリウム、硫酸及び純水は、若干、槽23,24,25,39,40間を相互に移動する。
【0045】
制御部18は、前述したポンプ33,35,45,47のオン・オフを制御するとともに、脱脂槽23内の水酸化ナトリウム溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部18は、タンク26,27,28間を連結した配管38などに取り付けられたポンプなども制御する。
【0046】
制御部18は、脱脂槽23内の加熱された水酸化ナトリウム溶液の水分が蒸発するなどして、脱脂槽23内の水酸化ナトリウム溶液が減少すると、適宜、脱脂タンク26内に第1の純水タンク27内の純水を供給する。また、第1の純水タンク27または第1の純水槽24内の純水が減少すると、適宜、第2の純水タンク28内の純水を第1の純水タンク27に供給する。
【0047】
こうして、制御部18は、脱脂槽23及び脱脂タンク26内の水酸化ナトリウムの量に応じて、第1の純水タンク27内の純水を脱脂タンク26に供給するとともに、第2の純水タンク28内の純水を第1の純水タンク27に供給する。
【0048】
前述した構成の前処理ユニット10は、フープ2を脱脂部16の一方の純水槽24、脱脂槽23、他方の第1の純水槽24、脱脂槽23、一方の純水槽24、脱脂槽23、他方の第1の純水槽24、第2の純水槽25とに順に通す。こうして、フープ2を脱脂槽23内の水酸化ナトリウム溶液中に三回通して脱脂する。その後、前処理ユニット10は、フープ2を、酸づけ槽39内の硫酸中に三回通して酸づけする。その後、前処理ユニット10は、フープ2を純水槽40に通して、ニッケル鍍金ユニット11に向かって送り出す。
【0049】
ニッケル鍍金ユニット11は、前処理ユニット10に連結している。ニッケル鍍金ユニット11は、前処理ユニット10の前述したフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。ニッケル鍍金ユニット11は、図5及び図6に示すように、フレーム50と、処理槽としてのニッケル鍍金槽51と、一対の第1の純水槽52と、第2の純水槽53と、第3の純水槽54と、処理液タンクとしてのニッケル鍍金タンク55と、第1の純水タンク56と、第2の純水タンク57と、第3の純水タンク58と、制御部59などを備えている。
【0050】
フレーム50は、前述した前処理ユニット10のフレーム15と構成が等しいため、同一部分に同一符号を付して説明を省略する。ニッケル鍍金槽51は、フレーム50の中間板21上に取り付けられている。ニッケル鍍金槽51は、容器であり、フープ2の表面にニッケルで鍍金するための処理液を収容する。本実施形態では、ニッケル鍍金槽51は、処理液としてスルファミン酸ニッケル溶液を収容する。また、ニッケル鍍金槽51内には、フープ2の表面をニッケルで鍍金する際に、電気鍍金を行うための電極60が取り付けられている。
【0051】
一対の第1の純水槽52は、フレーム50の中間板21上に取り付けられている。一方の第1の純水槽52は、ニッケル鍍金槽51のフープ2の移動方向Kの上流側に配されている。他方の第1の純水槽52は、ニッケル鍍金槽51のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。一対の第1の純水槽52は、容器であり、フープ2の表面に付着したスルファミン酸ニッケル溶液を洗い流すための純水を収容する。
【0052】
また、一対の第1の純水槽52は、互いの間にニッケル鍍金槽51を位置させている。こうして、第1の純水槽52は、ニッケル鍍金槽51の両端に連結している。一対の第1の純水槽52内には、それぞれ、ローラ61が回転自在に設けられている。ローラ61は、外周面にフープ2が接触して、該フープ2の移動方向を案内する。さらに、一対の第1の純水槽52内には、前記フープ2を陰極するための電極62が複数設けられている。
【0053】
第2の純水槽53は、他方の第1の純水槽52のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。第2の純水槽53は、容器であり、フープ2の表面に付着したスルファミン酸ニッケル溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0054】
第3の純水槽54は、第2の純水槽53のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。第3の純水槽54は、容器であり、フープ2の表面に付着したスルファミン酸ニッケル溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0055】
ニッケル鍍金タンク55は、フレーム50の底板20上に取り付けられている。ニッケル鍍金タンク55は、前記ニッケル鍍金槽51内に満たされる処理液としてのスルファミン酸ニッケル溶液を蓄えておく。ニッケル鍍金タンク55とニッケル鍍金槽51とには、図6に示すように、配管63が連結している。また、前記配管63には、ポンプ64が取り付けられている。ポンプ64は、処理液としてのスルファミン酸ニッケル溶液を、ニッケル鍍金槽51とニッケル鍍金タンク55との間で循環させる。
【0056】
第1の純水タンク56は、フレーム50の底板20上に取り付けられている。第1の純水タンク56は、前記第1の純水槽52内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第1の純水タンク56と、一対の第1の純水槽52とには、図6に示すように、配管65が連結している。また、前記配管65には、ポンプ66が取り付けられている。ポンプ66は、処理液としての純水を、第1の純水タンク56と一方の第1の純水槽52との間で循環させるとともに、第1の純水タンク56と他方の第1の純水槽52との間で循環させる。
【0057】
第2の純水タンク57は、フレーム50の底板20上に取り付けられている。第2の純水タンク57は、前記第2の純水槽53内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第2の純水タンク57と第2の純水槽53とには、図6に示すように、配管67が連結している。また、前記配管67には、ポンプ68が取り付けられている。ポンプ68は、処理液としての純水を、第2の純水タンク57と第2の純水槽52との間で循環させる。
【0058】
第3の純水タンク58は、フレーム50の底板20上に取り付けられている。第3の純水タンク58は、前記第3の純水槽54内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第3の純水タンク58と第3の純水槽54とには、図6に示すように、配管69が連結している。また、前記配管69には、ポンプ70が取り付けられている。ポンプ70は、処理液としての純水を、第3の純水タンク58と第3の純水槽54との間で循環させる。
【0059】
また、図8に示すように、前述したタンク55,56,57,58には、タンク55,56,57,58同士などを連結する配管71が取り付けられている。配管71は、第3の純水タンク58内の純水を第2の純水タンク57内に供給するために用いられるとともに、第2の純水タンク57内の純水を第1の純水タンク56内に供給するために用いられる。
【0060】
また、配管71は、第1の純水タンク56内の純水をニッケル鍍金タンク55内に供給するために用いられる。さらに、前記配管71は、第3の純水タンク58内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【0061】
また、前述した各槽51,52,53,54は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ2を通す開口部などを通して、槽51,52,53,54の相互間でスルファミン酸ニッケルや純水が移動することを防止する。しかしながら、前記フープ2に付着したスルファミン酸ニッケルや純水は、若干、槽51,52,53,54間を相互に移動する。
【0062】
制御部59は、前述したポンプ64,66,68,70のオン・オフを制御するとともに、ニッケル鍍金槽51内のスルファミン酸ニッケル溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部59は、タンク55,56,57,58間を連結した配管71などに取り付けられたポンプなども制御する。
【0063】
制御部59は、ニッケル鍍金槽51内の加熱されたスルファミン酸ニッケル溶液の水分が蒸発するなどして、ニッケル鍍金槽51内のスルファミン酸ニッケル溶液が減少すると、適宜、ニッケル鍍金タンク55内に第1の純水タンク56内の純水を供給する。また、第1の純水タンク56または第1の純水槽52内の純水が減少すると、適宜、第2の純水タンク57内の純水を第1の純水タンク56に供給する。さらに、第2の純水タンク57または第2の純水槽53内の純水が減少すると。適宜、第3の純水タンク58内の純水を第2の純水タンク57に供給する。
【0064】
こうして、制御部59は、ニッケル鍍金槽51及びニッケル鍍金タンク55内のスルファミン酸ニッケルの量に応じて、第1の純水タンク56内の純水をニッケル鍍金タンク55に供給し、第2の純水タンク57内の純水を第1の純水タンク56に供給するとともに、第3の純水タンク58内の純水を第2の純水タンク57に供給する。
【0065】
前述した構成のニッケル鍍金ユニット11は、前処理ユニット10により脱脂と酸づけが施されたフープ2を、一方の第1の純水槽52内とニッケル鍍金槽51内と他方の第1の純水槽52内とに順に通す。そして、他方の第1の純水槽52内のローラ61の外周面に接触させて、フープ2を再度ニッケル鍍金槽51内と一方の第1の純水槽52内とに順に通す。
【0066】
その後、一方の第1の純水槽52内のローラ61の外周面に接触させて、フープ2をニッケル鍍金槽51内と他方の第1の純水槽52内と第2の純水槽53内と第3の純水槽54内に順に通して、金鍍金ユニット12に向かって送り出す。
【0067】
こうして、ニッケル鍍金ユニット11は、ニッケル鍍金槽51の両端に第1の純水槽52を連結し、これら第1の純水槽52それぞれにローラ61を設けている。さらに、ニッケル鍍金ユニット11は、一対のローラ61にフープ2を掛け渡すことにより、フープ2をニッケル鍍金槽51内のスルファミン酸ニッケル溶液中に三回通している。
【0068】
電極60,62に印加するとともに、ニッケル鍍金槽51内の処理液としてのスルファミン酸ニッケル溶液を加熱して所定の温度に保っておく。こうして、ニッケル鍍金ユニット11は、ニッケル鍍金槽51内のスルファミン酸ニッケル溶液にフープ2を漬けて(浸漬して)、該フープ2の表面をニッケルで鍍金する。
【0069】
金鍍金ユニット12は、ニッケル鍍金ユニット11に連結している。金鍍金ユニット12は、図2に示すように、ニッケル鍍金ユニット11の前述したフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。金鍍金ユニット12は、図9に示すように、フレーム72(図1に示す)と、処理槽としての金鍍金槽73と、一対の純水槽74と、金鍍金タンク75と、第1の純水タンク76と、第2の純水タンク77と、制御部92などを備えている。
【0070】
フレーム72は、前述した前処理ユニット10とニッケル鍍金ユニット11のフレーム15,50と構成が等しいため、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。金鍍金槽73は、フレーム72の中間板21上に取り付けられている。金鍍金槽73は、容器であり、内側に一対の金鍍金部79と、一つの案内ローラ80とを備えている。
【0071】
金鍍金部79は、円環状のローラ81と、該ローラ81内に設けられた図示しない鍍金ノズルとを備えている。ローラ81は、内側に前述した処理液を通す孔を備えている。本実施形態では、処理液としてシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を用いる。孔は、ローラ81を該ローラ81の径方向に沿って貫通しているとともに、ローラ81の周方向に等間隔に配されている。
【0072】
鍍金ノズルは、前述した処理液としてシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を、ローラ81の孔に向けて噴出する。こうして、鍍金ノズルは、シアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を、ローラ81の孔内を通して、フープ2の金鍍金を施す部分に吹き付ける。
【0073】
前述した一対の金鍍金部79は、互いに間隔をあけて、前述した金鍍金槽73内に収容されている。ローラ80は、一対の金鍍金部79のローラ81のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。
【0074】
ローラ80は、外周面に前記フープ2の孔5内に浸入可能な突起を設けている。突起は、ローラ80の外周面から外周方向に突出しているとともに、ローラ80の周方向に等間隔に配されている。前述したローラ80は、突起をフープ2の孔5に通し、回転することによりフープ2を移動させる。また、突起をフープ2の孔5に通すと、ローラ81の孔はフープ2の金鍍金を施す部分に相対する。ローラ80は、突起をフープ2の孔5に通すことにより、ローラ80,81とフープ2との相対位置を予め定められる位置関係に保つ(位置決めする)。ローラ80は、外周面にフープ2を接触させることにより、一対の金鍍金部79のうちフープ2の移動方向Kの下流側に位置する一方の金鍍金部79から送り出されてきたフープ2を、他方の純水槽74に向けて送り出す。
【0075】
一対の純水槽74は、フレーム75の中間板21上に取り付けられている。一方の純水槽74は、金鍍金槽73内でのフープ2の移動方向Kの上流側に配されており、金鍍金槽73とニッケル鍍金ユニット11との間に配されている。他方の純水槽74は、金鍍金槽73内でのフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。一対の純水槽74は、容器であり、フープ2の表面に付着したシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を洗い流すための純水を収容する。
【0076】
また、一対の純水槽74は、互いの間に金鍍金槽73を位置させている。こうして、純水槽74は、金鍍金槽73の両端に連結している。一対の純水槽74内には、それぞれ、ローラ82が回転自在に設けられている。ローラ82は、外周面にフープ2が接触して、該フープ2の移動方向を案内する。
【0077】
金鍍金タンク75は、フレーム72の底板20上に取り付けられている。金鍍金タンク75は、前述した処理液としてシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を蓄えておく。金鍍金タンク75と金鍍金槽73とには、図9に示すように、配管83が連結している。また、前記配管83には、ポンプ84が取り付けられている。ポンプ84は、処理液としてのシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を、金鍍金タンク75から前記金鍍金槽73内の金鍍金部79の各鍍金ノズルに供給する。
【0078】
第1の純水タンク76は、フレーム72の底板20上に取り付けられている。第1の純水タンク76は、前記一方の純水槽74内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第1の純水タンク76と、一方の純水槽74とには、図9に示すように、配管85が連結している。また、前記配管85には、ポンプ86が取り付けられている。ポンプ86は、処理液としての純水を、第1の純水タンク76と一方の純水槽74との間で循環させる。
【0079】
第2の純水タンク77は、フレーム72の底板20上に取り付けられている。第2の純水タンク77は、前記他方の純水槽74内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第2の純水タンク77と、他方の純水槽74とには、図9に示すように、配管87が連結している。また、前記配管87には、ポンプ88が取り付けられている。ポンプ88は、処理液としての純水を、第2の純水タンク77と他方の純水槽74との間で循環させる。
【0080】
第3の純水タンク78は、フレーム72の底板20上に取り付けられている。第3の純水タンク78は、金除去ユニット13の後述する第1の純水槽64内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第3の純水タンク78と第1の純水槽94とには、図9に示すように、配管89が連結している。また、前記配管89には、ポンプ90が取り付けられている。ポンプ90は、処理液としての純水を、第3の純水タンク78と第1の純水槽94との間で循環させる。
【0081】
また、前述したタンク75,76,77,78には、タンク75,76,77,78同士を連結する配管91が取り付けられている。配管91は、第3の純水タンク78内の純水を第2の純水タンク77内に供給するために用いられるとともに、第2の純水タンク77内の純水を金鍍金タンク75内に供給するために用いられる。さらに、前記配管91は、第3の純水タンク78内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【0082】
制御部92は、前述したポンプ84,86,88,90のオン・オフを制御するとともに、金鍍金タンク75内のシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部92は、タンク75,76,77,78間を連結した配管91などに取り付けられたポンプなども制御する。
【0083】
制御部92は、金鍍金タンク75内の加熱されたシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液の量が減少すると、適宜、金鍍金タンク75内に第2の純水タンク77内の純水を供給する。また、第2の純水タンク77または他方の純水槽74内の純水が減少すると、適宜、第3の純水タンク78内の純水を第2の純水タンク77に供給する。
【0084】
こうして、制御部92は、金鍍金タンク75内のシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液の量に応じて、第2の純水タンク77内の純水を金鍍金タンク75に供給し、第3の純水タンク78内の純水を第2の純水タンク77に供給する。
【0085】
前述した構成の金鍍金ユニット12は、ニッケル鍍金ユニット11によりニッケルが鍍金されたフープ2を、一方の純水槽74内に通すとともに、前記ローラ82の外周面に接触させて、金鍍金槽73内に通す。金鍍金槽73内では、一対の金鍍金部79のうち一方のローラ81の外周面に接触させた後、他方のローラ81の外周面に接触させる。このとき、ローラ80の突起をフープ2の孔5内に通しておく。
【0086】
他方の金鍍金部79のローラ81からローラ80を介して、他方の純水槽74に向けてフープ2を送り出す。金鍍金槽73内では、ローラ81の孔を通して、処理液としてのシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液が、フープ2の所定箇所に付着する。そして、フープ2の所定箇所が金で鍍金される。そして、フープ2は、他方の純水槽74のローラ82の外周面に接触した後、金除去ユニット13に向けて送り出される。
【0087】
こうして、金鍍金ユニット12は、一方の純水槽74を介して金鍍金槽73内にフープ2を通す。金鍍金ユニット12は、金鍍金槽73では、一対の金鍍金部79のローラ81の外周面によりフープ2を案内するとともにローラ80の突起でフープ2を位置決めして、該フープ2の所定箇所を金で鍍金する。その後、金鍍金ユニット12は、金鍍金槽73のローラ80の外周面により案内して、フープ2を他方の純水槽74内に通した後、金除去ユニット13に向けて送り出す。
【0088】
金除去ユニット13は、金鍍金ユニット12に連結している。金除去ユニット13は、図2に示すように、金鍍金ユニット12の前述したフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。金除去ユニット13は、図10に示すように、フレーム93(図1に示す)と、第1の純水槽94と、金除去槽95と、第2の純水槽96と、第3の純水槽97と、洗浄槽98と、金除去タンク99と、第1の純水タンク100と、第2の純水タンク101と、制御部102(図1に示す)などを備えている。
【0089】
フレーム93は、前述したユニット10,11,12のフレーム15,50,72と構成が等しいため、同一部分に同一符号を付して説明を省略する。第1の純水槽94は、フレーム93の金鍍金ユニット12寄りの端に配されている。第1の純水槽94は、容器であり、フープ2の表面に付着したシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0090】
金除去槽95は、フレーム93の中間板21上に取り付けられている。金除去槽95は、第1の純水槽94のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。金除去槽95は、容器であり、フープ2の表面の一部を鍍金した金のうち余分なものを除去するための処理液を収容する。本実施形態では、金除去槽95は、処理液としてシアン化カリウム溶液を収容する。
【0091】
第2の純水槽96は、フレーム93の中間板21上に取り付けられている。第2の純水槽96は、金除去槽95のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。第2の純水槽96は、容器であり、フープ2の表面に付着したシアン化カリウム溶液を洗い流すための純水を収容する。また、第2の純水槽96内には、ローラ103が回転自在に設けられている。ローラ103は、外周面にフープ2が接触して、該フープ2の移動方向を案内する。
【0092】
第3の純水槽97は、第2の純水槽96のフープ2の移動方向Kの上流側に配されている。第3の純水槽97は、容器であり、フープ2の表面に付着したシアン化カリウム溶液を洗い流すための純水を収容する。また、第3の純水槽97内の金鍍金ユニット12寄りの端には、ローラ104が回転自在に設けられている。ローラ104は、外周面にフープ2が接触して、該フープ2の移動方向を案内する。
【0093】
洗浄槽98は、第3の純水槽97のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。洗浄槽98は、容器であり、フープ2の表面に付着したシアン化カリウム溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0094】
金除去タンク99は、フレーム93の底板20上に取り付けられている。金除去タンク99は、前記金除去槽95内に満たされる処理液としてのシアン化カリウム溶液を蓄えておく。シアン化カリウムは、フープ2に付着した金を溶かす。金除去タンク99と金除去槽95とには、図10に示すように、配管105が連結している。また、前記配管105には、ポンプ106が取り付けられている。ポンプ106は、処理液としてのシアン化カリウム溶液を、金除去槽95と金除去タンク99との間で循環させる。
【0095】
第1の純水タンク100は、フレーム93の底板20上に取り付けられている。第1の純水タンク100は、前記第2の純水槽96内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第1の純水タンク100と、第2の純水槽96とには、図10に示すように、配管107が連結している。また、前記配管107には、ポンプ108が取り付けられている。ポンプ108は、処理液としての純水を、第1の純水タンク100と第2の純水槽96との間で循環させる。
【0096】
第2の純水タンク101は、フレーム93の底板20上に取り付けられている。第2の純水タンク101は、前記第3の純水槽97内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第2の純水タンク101と第3の純水槽97とには、図10に示すように、配管109が連結している。また、前記配管109には、ポンプ110が取り付けられている。ポンプ110は、処理液としての純水を、第2の純水タンク101と第3の純水槽97との間で循環させる。
【0097】
また、洗浄槽98には、配管111を介してイオン交換装置112が連結している。洗浄槽98内の純水は、イオン交換装置112と洗浄槽98との間を循環している。イオン交換装置112は、洗浄槽98内の純水中の溶在イオンを除去する。イオン交換装置112は、洗浄槽98内の純水を清浄に保つ。
【0098】
また、前述したタンク99,100,101には、タンク99,100,101同士などを連結する配管113が取り付けられている。配管113は、第2の純水タンク101内の純水を第1の純水タンク100内に供給するために用いられるとともに、第1の純水タンク100内の純水を金除去タンク99内に供給するために用いられる。さらに、前記配管113は、第2の純水タンク101内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【0099】
また、前述した各槽94,95,96,97,98は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ2を通す開口部などを通して、槽94,95,96,97,98の相互間でシアン化カリウム溶液や純水が移動することを防止する。
【0100】
制御部102は、前述したポンプ106,108,110のオン・オフを制御するとともに、金除去タンク99内のシアン化カリウム溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部102は、タンク106,108,110間を連結した配管113などに取り付けられたポンプなども制御する。
【0101】
制御部102は、金除去槽95内の加熱されたシアン化カリウム溶液の水分が蒸発するなどして、金除去槽95内のシアン化カリウム溶液が減少すると、適宜、金除去タンク99内に第1の純水タンク100内の純水を供給する。また、第1の純水タンク100または第2の純水槽96内の純水が減少すると、適宜、第2の純水タンク101内の純水を第1の純水タンク100に供給する。
【0102】
こうして、制御部102は、金除去槽95及び金除去タンク99内のシアン化カリウム溶液の量に応じて、第1の純水タンク100内の純水を金除去タンク99に供給し、第2の純水タンク101内の純水を第1の純水タンク100に供給する。
【0103】
前述した構成の金除去ユニット13は、金鍍金ユニット12により所定箇所に金鍍金が施されたフープ2を、第1の純水槽94内と金除去槽95内と第2の純水槽96内とに順に通す。金除去槽95内では、余分な金が、シアン化カリウムに溶かされて、フープ2から除去される。
【0104】
そして、第2の純水槽96内のローラ103の外周面に接触させて、フープ2を、金鍍金ユニット12に向かって送り出し、第3の純水槽97内に通す。第3の純水槽97内では、ローラ104の外周面に接触させて、フープ2を、洗浄槽98に向かって送り出す。フープ2を洗浄槽98内に通して、後処理ユニット14に向かって送り出す。こうして、金除去ユニット13は、余分な金をフープ2から除去する。
【0105】
後処理ユニット14は、金除去ユニット13に連結している。後処理ユニット14は、図2に示すように、金除去ユニット13の前述したフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。後処理ユニット14は、図11に示すように、フレーム115(図1に示す)と、錫鍍金部116と、温洗部117と、制御部118(図1に示す)などを備えている。フレーム115は、前述したユニット10,11,12,13のフレーム15,50,72,93と構成が等しいため、同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
【0106】
錫鍍金部116は、処理槽としての錫鍍金槽119と、一対の第1の純水槽120と、第2の純水槽121と、第3の純水槽122と、処理液タンクとしての錫鍍金タンク123と、第1の純水タンク124と、第2の純水タンク125と、第3の純水タンク126を備えている。錫鍍金槽119は、フレーム115の中間板21上に取り付けられている。
【0107】
錫鍍金槽119は、容器であり、フープ2の表面を錫で鍍金するための処理液を収容する。本実施形態では、錫鍍金槽119は、処理液としてメタンスルフォン酸錫溶液を収容する。また、錫鍍金槽119内には、フープ2の表面に錫鍍金を施す際に、電気鍍金を行うための電極127が取り付けられている。
【0108】
一対の第1の純水槽120は、フレーム115の中間板21上に取り付けられている。一方の第1の純水槽120は、錫鍍金槽119のフープ2の移動方向Kの上流側に配されている。他方の第1の純水槽120は、錫鍍金槽119のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。一対の第1の純水槽120は、容器であり、フープ2の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0109】
また、一対の第1の純水槽120は、互いの間に錫鍍金槽116を位置させている。こうして、第1の純水槽120は、錫鍍金槽119の両端に連結している。一対の第1の純水槽120内には、それぞれ、ローラ128が回転自在に設けられている。ローラ128は、外周面にフープ2が接触して、該フープ2の移動方向を案内する。さらに、一対の第1の純水槽120内には、前記フープ2を陰極するための電極129が複数設けられている。
【0110】
第2の純水槽121は、他方の第1の純水槽120に連なっている。第2の純水槽121は、容器であり、フープ2の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0111】
第3の純水槽122は、他方の第1の純水槽120と第2の純水槽121との双方のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。第3の純水槽122は、容器であり、フープ2の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【0112】
錫鍍金タンク123は、フレーム115の底板20上に取り付けられている。錫鍍金タンク123は、前記錫鍍金槽119内に満たされる処理液としてのメタンスルフォン酸錫溶液を蓄えておく。錫鍍金タンク123と錫鍍金槽119とには、図11に示すように、配管130が連結している。また、前記配管130には、ポンプ131が取り付けられている。ポンプ131は、処理液としてのメタンスルフォン酸錫溶液を、錫鍍金槽119と錫鍍金タンク123との間で循環させる。
【0113】
第1の純水タンク124は、フレーム115の底板20上に取り付けられている。第1の純水タンク124は、前記第1の純水槽120内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第1の純水タンク124と、一対の第1の純水槽120とには、図11に示すように、配管132が連結している。
【0114】
また、前記配管132には、ポンプ133が取り付けられている。ポンプ133は、処理液としての純水を、第1の純水タンク124と一方の第1の純水槽120との間で循環させるとともに、第1の純水タンク124と他方の第1の純水槽120との間で循環させる。
【0115】
第2の純水タンク125は、フレーム115の底板20上に取り付けられている。第2の純水タンク125は、前記第2の純水槽121内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第2の純水タンク125と第2の純水槽121とには、図11に示すように、配管134が連結している。また、前記配管134には、ポンプ135が取り付けられている。ポンプ135は、処理液としての純水を、第2の純水タンク125と第2の純水槽121との間で循環させる。
【0116】
第3の純水タンク126は、フレーム115の底板20上に取り付けられている。第3の純水タンク126は、前記第3の純水槽122内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第3の純水タンク126と第3の純水槽122とには、図11に示すように、配管136が連結している。また、前記配管136には、ポンプ137が取り付けられている。ポンプ137は、処理液としての純水を、第3の純水タンク126と第3の純水槽122との間で循環させる。
【0117】
また、前述したタンク123,124,125,126には、タンク123,124,125,126同士などを連結する配管138が取り付けられている。配管138は、第3の純水タンク126内の純水を第2の純水タンク125内に供給するために用いられ、第2の純水タンク125内の純水を第1の純水タンク124内に供給するために用いられるとともに、第1の純水タンク124内の純水を錫鍍金タンク123内に供給するために用いられる。また、前記配管138は、第3の純水タンク126内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【0118】
前述した構成の錫鍍金部116は、金除去ユニット13から送り出されてきたフープ2を、一方の第1の純水槽120内と錫鍍金槽119内と他方の第1の純水槽120内とに順に通す。そして、他方の第1の純水槽120内のローラ128の外周面に接触させて、フープ2を再度錫鍍金槽119内と一方の第1の純水槽120内とに順に通す。
【0119】
その後、一方の第1の純水槽120内のローラ128の外周面に接触させて、フープ2を錫鍍金槽119内と他方の第1の純水槽120内と第2の純水槽121内と第3の純水槽122内とに順に通して、温洗部117に向かって送り出す。
【0120】
こうして、錫鍍金部116は、錫鍍金槽119の両端に第1の純水槽120を連結し、これら第1の純水槽120それぞれにローラ128を設けている。さらに、錫鍍金部116は、一対のローラ128にフープ2を掛け渡すことにより、フープ2を錫鍍金槽119内のメタンスルフォン酸錫溶液中に三回通している。
【0121】
電極127,129に印加するとともに、錫鍍金槽119内の処理液としてのメタルスルフォン酸錫溶液を加熱して所定の温度に保っておく。こうして、錫鍍金部116は、錫鍍金槽119内のメタルスルフォン酸錫溶液にフープ2を漬けて(浸漬して)、該フープ2の表面を錫で鍍金する。
【0122】
温洗部117は、図11に示すように、純水槽としての洗浄槽139と、処理槽としての温水槽140と、乾燥槽141と、純水タンク142と、処理液タンクとしての温水タンク143とを備えている。洗浄槽139は、錫鍍金部116の第3の純水槽122のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。洗浄槽139は、フレーム115の中間板21上に取り付けられている。洗浄槽139は、容器であり、フープ2の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などを除去するための処理液としての純水を収容する。
【0123】
温水槽140は、フレーム115の中間板21上に取り付けられている。温水槽140は、洗浄槽139のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。温水槽140は、容器であり、フープ2の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などを除去するための処理液としての加熱された純水(熱水)を収容する。
【0124】
乾燥槽141は、温水槽140のフープ2の移動方向Kの下流側に配されている。乾燥槽141は、フレーム115の中間板21上に取り付けられている。乾燥槽141は、容器であり、フープ2の表面から純水などを除去するための加熱されてフープ2に吹き付けられる気体(温風)を通す。
【0125】
純水タンク142は、フレーム115の底板20上に取り付けられている。純水タンク142は、前記洗浄槽139内に満たされるフープ2を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。純水タンク142と洗浄槽139とには、図11に示すように、配管144が連結している。また、前記配管144には、ポンプ145が取り付けられている。ポンプ145は、処理液としての純水を、洗浄槽139と純水タンク142との間で循環させる。
【0126】
温水タンク143は、フレーム115の底板20上に取り付けられている。温水タンク143は、前記温水槽140内に満たされる処理液としての加熱された純水(熱水)を蓄えておく。温水タンク143と、温水槽140とには、図11に示すように、配管146が連結している。また、前記配管146には、ポンプ147が取り付けられている。ポンプ147は、処理液としての加熱された純水(熱水)を、温水タンク143と温水槽140との間で循環させる。
【0127】
前述した構成の温洗部117は、錫鍍金部116から送り出されたフープ2を洗浄槽139内に通した後、温水槽140内に通して、乾燥槽141内に通す。その後、フープ2を乾燥槽141などから前述した巻き取りリールに向かって送り出す。こうして、温洗部117は、洗浄槽139と温泉槽140内にフープ2を通して、純水で洗い流して該フープ2の表面から不純物を除去する。そして、乾燥槽141内でフープ2を乾燥させて、該フープ2の表面を清浄に保って、巻き取りリールに巻き取らせる。
【0128】
また、前述した各槽119,120,121,122,139,140,141は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ2を通す開口部などを通して、槽119,120,121,122,139,140,141の相互間でメタンスルフォン酸錫溶液や純水などが移動することを防止する。しかしながら、前記フープ2に付着したメタンスルフォン酸錫溶液や純水などが、若干、槽119,120,121,122,139,140,141間を相互に移動する。
【0129】
制御部118は、前述したポンプ131,133,135,137,145,147のオン・オフを制御するとともに、錫鍍金槽119、温水槽140及び乾燥槽141内のメタンスルフォン酸錫溶液や純水や気体などを加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部118は、タンク123,124,125,126間を連結した配管138などに取り付けられたポンプなども制御する。
【0130】
制御部118は、加熱された錫鍍金槽119内のメタンスルフォン酸錫溶液の水分が蒸発するなどして、錫鍍金槽119内のメタンスルフォン酸錫溶液が減少すると、適宜、錫鍍金タンク123内に第1の純水タンク124内の純水を供給する。また、第1の純水タンク124または第1の純水槽120内の純水が減少すると。適宜、第2の純水タンク125内の純水を第1の純水タンク124に供給する。
【0131】
さらに、第2の純水タンク125または第2の純水槽121内の純水が減少すると。適宜、第3の純水タンク126内の純水を第2の純水タンク125に供給する。こうして、制御部118は、錫鍍金槽119及び錫鍍金タンク123内のメタンスルフォン酸錫溶液の量に応じて、第1の純水タンク124内の純水を錫鍍金タンク123に供給し、第2の純水タンク125内の純水を第1の純水タンク124に供給するとともに、第3の純水タンク126内の純水を第2の純水タンク125に供給する。
【0132】
前述した構成の後処理ユニット14は、フープ2を錫鍍金部116の一方の第1の純水槽120、錫鍍金槽119、他方の第1の純水槽120、錫鍍金槽119、一方の第1の純水槽120、錫鍍金槽119、他方の第1の純水槽120、第2の純水槽121、第3の純水槽122とに順に通す。フープ2を、錫鍍金槽119内のメタンスルフォン酸錫溶液中に三回通して、該フープ2の表面を錫で鍍金する。その後、フープ2を、温洗部117の洗浄槽139と温水槽140内で洗浄して、乾燥槽141内で乾燥させて、巻き取りリールに巻き取らせる。
【0133】
また、前述した鍍金装置1の各ユニット10,11,12,13,14のフレーム15,50,72,93,115は、周知のボルトとナットなどにより互いに着脱自在である。又、フレーム15,50,72,93,115は、フープ2の方向K(処理槽と純水槽とのうち一方の中を移動する方向)に沿って互いに連結している。さらに、これらフレーム15,50,72,93,115の下端には、図1に示すように、工場のフロア上などを移動するための移動手段としてのキャスタ(Caster)148が取り付けられている。
【0134】
また、前述した各ユニット10,11,12,13,14の槽間には、図2などに示すように、エアノズル149が設けられている。これらのエアノズル149は、フープ2の表面に加圧した気体などを吹き付けて、該フープ2の表面から各溶液や純水などを除去する。なお、エアノズル149を、図7ないし図11中に白三角で示す。
【0135】
さらに、前記フレーム15,50,72,93,115には、各槽から発生するガスを吸引・排気するためのダクト150と、各純水タンク28,58,78,101,126などに純水を供給するための配管151(図3ないし図6に一部示す)と、各エアノズル149に加圧された気体を供給するための配管152(図3ないし図6に一部示す)とが取り付けられている。ユニット10,11,12,13,14のダクト150同士は、周知の管フランジにより着脱する。また、ユニット10,11,12,13,14の配管151,152同士は、周知のねじ込み形管継手により着脱する。
【0136】
また、鍍金装置1は、処理槽としての各槽23,51,119内をフープ2が移動する方向Kに沿って、各ユニット10,11,12,13,14が互いに連結している。さらに、図1及び図2に示すように、鍍金装置1が上方からみてコ字形となるように、各ユニット10,11,12,13,14は、互いに連結している。
【0137】
本実施形態によれば、前処理ユニット10が脱脂槽23と複数の純水槽24,25と各槽23,24,25に水酸化ナトリウム溶液と純水を供給するタンク26,27,28を備えている。ニッケル鍍金ユニット11がニッケル鍍金槽51と複数の純水槽52,53,54と各槽51,52,53,54にスルファミン酸ニッケル溶液と純水を供給するタンク55,56,57,58を備えている。
【0138】
金鍍金ユニット12が、金鍍金槽73と複数の純水槽74と各槽73,74にシアン化金カリウムとクエン酸塩とからなる溶液と純水を供給するタンク75,76,77を備えている。金除去ユニット13が、金除去槽95と複数の純水槽96,97と各槽95,96,97にシアン化カリウム溶液と純水を供給するタンク99,100,101を備えている。後処理ユニット14が、錫鍍金槽119と複数の純水槽120,121,122と各槽119,120,121,122にメタンスルフォン酸錫溶液と純水を供給するタンク123,124,125,126を備えている。
【0139】
また、ユニット10,11,12,13,14のフレーム15,50,72,93,115同士が着脱自在となっている。このように、各ユニット10,11,12,13,14の処理液及び純水を処理槽または純水槽に供給する系統が互いに独立している。このため、フレーム10,11,12,13,14を着脱することにより、各ユニット10,11,12,13,14のレイアウトを容易に変更できる。
【0140】
また、フレーム10,11,12,13,14を着脱することにより、金と錫以外の金属を鍍金する鍍金ユニットに容易に交換できる。したがって、フープ2に鍍金する金属を容易に変更でき、フープ2の鍍金にかかる作業の効率の低下を抑制できる。
【0141】
第2の純水槽25,53,121中の純水を第1の純水槽24,52,120に供給しかつ第1の純水槽24,52,120中の純水を脱脂槽23、ニッケル鍍金槽51、錫鍍金槽119に供給する。第2の純水槽25,53,121に純水が供給される。このため、第2の純水槽25,53,121中の純水を、極めて不純物を少なく保つことができる。また、各ユニット10,11,14では、第1の純水槽24,52,120に通した後に、第2の純水槽25,53,121にフープ2を通す。したがって、各ユニット10,11,14で各種の処理が施されたフープ2を清浄に保つことができる。
【0142】
また、フープ2を脱脂槽23、酸づけ槽39、ニッケル鍍金槽51、錫鍍金槽119内に複数回(三回)通す。このため、フープ2の移動速度を高速化しても、フープ2を十分に処理液中に漬けておくことができる。また、鍍金作業の一つの工程で処理槽を数多く設置する必要が生じない。このため、鍍金装置1の設置かかるスペースが増加しないとともに、フープ2の鍍金にかかる作業の効率化を図ることができる。
【0143】
脱脂槽23、ニッケル鍍金槽51、錫鍍金槽119内でのフープ2の移動方向Kに沿って、複数のユニット10,11,12,13,14が互いに連結している。これらのユニット10,11,12,13,14が互いに連結して、鍍金装置1はコ字形をなしている。このため、作業員が、全てのユニット10,11,12,13,14の特に各処理槽の近傍まで近づくことができる。さらに、鍍金装置1が、コ字形をなしているため、鍍金装置1自体の小型化を図ることができる。したがって、各ユニット10,11,12,13,14を確実にメンテナンス(手入れ)することができる。
【0144】
本発明では、前処理ユニット10とニッケル鍍金ユニット11と後処理ユニット14とのうち少なくとも一つは、純水槽と純水タンクとを複数備えていれば良い。即ち、前処理ユニット10とニッケル鍍金ユニット11と後処理ユニット14とのうち一つのみが、純水槽と純水タンクとを複数備えても良い。また、前処理ユニット10とニッケル鍍金ユニット11と後処理ユニット14とのうちすべてが、純水槽と純水タンクとを複数備えても良い。
【0145】
また、本発明では、前記前処理ユニット10とニッケル鍍金ユニット11と後処理ユニット14とのうち少なくとも一つは、フープ2を処理槽内の処理液中に複数回通せば良い。即ち、前処理ユニット10とニッケル鍍金ユニット11と後処理ユニット14とのうち一つのみが、フープ2を処理槽内の処理液中に複数回通しても良い。また、前処理ユニット10とニッケル鍍金ユニット11と後処理ユニット14とのうちすべてが、フープ2を処理槽内の処理液中に複数回通しても良い。
【0146】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項1に記載の本発明は、各処理ユニットが処理槽と純水槽とこれらの槽内に処理液または純水を供給するタンクを備えている。また、ユニットのフレーム同士が着脱自在となっている。このように、各ユニットの処理液及び純水を処理槽または純水槽に供給する系統が互いに独立している。このため、フレームを着脱することにより、各ユニットのレイアウトを容易に変更できる。また、フレームを着脱することにより、鍍金ユニットを容易に交換できる。したがって、フープに鍍金する金属を容易に変更でき、フープの鍍金にかかる作業の効率の低下を抑制できる。
【0147】
第2の純水タンク中の純水を第1の純水タンクに供給しかつ第1の純水タンク中の純水を処理液タンクに供給する。第2の純水タンクに純水が供給される。このため、第2の純水タンク即ち第2の純水槽中の純水を、極めて純水に近く即ち極めて不純物を少なくできる。したがって、フープに鍍金する金属を容易に変更できることにくわえ、各ユニットで各種の処理が施されたフープを清浄に保つことができる。
【0148】
請求項2に記載の本発明は、処理槽中に複数回フープを通す。このため、フープの移動速度を高速化しても、フープを十分に処理液中に漬けておくことができる。また、フープの移動速度を高速化しても十分に処理液中にフープを漬けておくことができるため、一つの工程で処理槽を数多く設置する必要が生じない。このため、設置かかるスペースが増加しないとともに、フープの鍍金にかかる作業の効率化を図ることができる。
【0149】
請求項3に記載の本発明は、フープの移動方向に沿って、複数のユニットが互いに連結している。このため、作業員が、全てのユニットの特に処理槽の近傍まで近づくことができる。したがって、各ユニットを確実にメンテナンス(手入れ)することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態にかかる鍍金装置の全体の構成を示す斜視図である。
【図2】図1中のII−II線に沿う断面図である。
【図3】図1に示された鍍金装置の前処理ユニットの正面方向からみた斜視図である。
【図4】図3に示された前処理ユニットの背面方向からみた斜視図である。
【図5】図1に示された鍍金装置のニッケル鍍金ユニットの正面方向からみた斜視図である。
【図6】図5に示されたニッケル鍍金ユニットの背面方向からみた斜視図である。
【図7】図1に示された鍍金装置の前処理ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図8】図1に示された鍍金装置のニッケル鍍金ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図9】図1に示された鍍金装置の金鍍金ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図10】図1に示された鍍金装置の金除去ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図11】図1に示された鍍金装置の後処理ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図12】図1に示された鍍金装置で鍍金されるフープの平面図である。
【図13】従来の鍍金装置の構成を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
1 鍍金装置
2 フープ
10 前処理ユニット
11 ニッケル鍍金ユニット(鍍金ユニット)
12 金鍍金ユニット
13 金除去ユニット
14 後処理ユニット
15 フレーム
23 脱脂槽(処理槽)
24 第1の純水槽
25 第2の純水槽
26 脱脂タンク(処理液タンク)
27 第1の純水タンク
28 第2の純水タンク
30 ローラ
39 酸づけ槽(処理槽)
40 純水槽
41 酸づけタンク(処理液タンク)
42 純水タンク
50 フレーム
51 ニッケル鍍金槽(処理槽)
52 第1の純水槽
53 第2の純水槽
54 第3の純水槽
55 ニッケル鍍金タンク(処理液タンク)
56 第1の純水タンク
57 第2の純水タンク
58 第3の純水タンク
61 ローラ
115 フレーム
119 錫鍍金槽(処理槽)
120 第1の純水槽
121 第2の純水槽
122 第3の純水槽
123 錫鍍金タンク(処理液タンク)
124 第1の純水タンク
125 第2の純水タンク
126 第3の純水タンク
128 ローラ
139 洗浄槽(純水槽)
140 温水槽(処理槽)
142 純水タンク
143 温水タンク(処理液タンク)
K フープの移動方向[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a plating apparatus for plating a hoop that is processed into, for example, a terminal fitting.
[0002]
[Prior art]
For example, a wire harness routed in an automobile or the like includes an electric wire and a terminal fitting attached to an end portion of the electric wire. The electric wire includes a core wire made of a metal such as copper and an insulating covering portion that covers the core wire. The terminal fitting is made of a strip-shaped sheet metal (also referred to as a hoop, hereinafter referred to as a hoop) 206 (shown in FIG. 13). The terminal fitting is obtained by punching a belt-
[0003]
The
[0004]
A
[0005]
The
[0006]
The
[0007]
The
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
In the above-described
[0009]
For this reason, when the
[0010]
Further, higher speed is required for the above-described plating operation of the
[0011]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a plating apparatus that can easily change the metal plated on the hoop.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the problems and achieve the object, the plating apparatus of the present invention according to claim 1 is a plating apparatus for plating a hoop made of a metal strip and before degreasing and acidifying the hoop. A pretreatment unit comprising: a treatment unit; a plating unit for plating a hoop that has been degreased and acidified by the pretreatment unit; and a post-treatment unit for washing the hoop plated by the plating unit with hot water. The unit, the plating unit, and the post-processing unit are each a frame, a processing tank attached to the frame and containing a processing solution in which the hoop is immersed when performing the degreasing, acidification, plating, and cleaning, A deionized water tank for storing deionized water for cleaning hoops attached to the frame and immersed in the treatment liquid of the treatment tank, and attached to the frame A treatment liquid tank that stores the treatment liquid supplied to the treatment tank and a pure water tank that is attached to the frame and stores the pure water supplied to the pure water tank, and the hoop is disposed in the treatment tank. After passing through the treatment liquid, the pure water in the pure water tank is passed through, the treatment liquid is circulated between the treatment liquid tank and the treatment tank, and the pure water is passed between the pure water tank and the pure water tank. And the frames of the pre-processing unit, the plating unit and the post-processing unit are detachable from each other.At least one of the pretreatment unit, the plating unit, and the post-treatment unit includes, as the pure water tank, a first pure water tank through which a hoop is passed after the treatment tank, and the first pure water tank. A second pure water tank through which a hoop is passed later, and as the pure water tank, a first pure water tank for circulating pure water between the first pure water tank and the second pure water tank A pure water in the first pure water tank according to the amount of the treatment liquid in the treatment tank. Water is supplied to the treatment liquid tank, and pure water in the second pure water tank is supplied to the first pure water tank.
[0014]
Claim 2The plating apparatus of the present invention described inClaim 1The plating apparatus according to claim 1, wherein at least one of the pretreatment unit, the plating unit, and the post-treatment unit connects the pure water tank to both ends of the treatment tank and includes a rotatable roller in the pure water tank. The hoop is stretched between rollers in a pure water tank, and is passed through the treatment liquid in the treatment tank a plurality of times.
[0015]
Claim 3The plating apparatus of the present invention described in claim1 or claim 2In the plating apparatus according to claim 1, the frames of the pretreatment unit, the plating unit, and the post-processing unit are connected to each other along a direction in which the hoop moves in one of the treatment tank and the pure water tank. It is characterized by that.
[0016]
According to the plating apparatus of the present invention described in claim 1, each processing unit includes a processing tank, a pure water tank, and a tank for supplying a processing liquid or pure water into these tanks. Moreover, the frames of the units are detachable. Thus, the system which supplies the processing liquid and pure water of each unit to a processing tank or a pure water tank is mutually independent. For this reason, the layout of each unit can be easily changed by attaching and detaching the frame. Further, the plating unit can be easily replaced by attaching and detaching the frame.
[0017]
FirstThe pure water in the second pure water tank is supplied to the first pure water tank, and the pure water in the first pure water tank is supplied to the treatment liquid tank. Pure water is supplied to the second pure water tank. For this reason, the pure water in the second pure water tank, that is, the second pure water tank, can be kept very close to the pure water, that is, extremely low in impurities.
[0018]
Claim 2According to the plating apparatus of the present invention described in 1), the hoop is passed through the treatment tank a plurality of times. For this reason, even if the moving speed of the hoop is increased, the hoop can be sufficiently immersed in the treatment liquid. Moreover, even if the moving speed of the hoop is increased, the hoop can be sufficiently immersed in the processing liquid, so that it is not necessary to install many processing tanks in one process.
[0019]
Claim 3According to the plating apparatus of the present invention described in 1), a plurality of units are connected to each other along the moving direction of the hoop treatment tank and the pure water tank. For this reason, the worker can approach to the vicinity of the processing tank of all the units.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a plating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. A plating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention performs plating on a
[0021]
The connecting portion 4 is formed in a belt shape extending along the longitudinal direction of the
[0022]
Further, the
[0023]
As shown in FIGS. 1 and 2, the plating apparatus 1 includes a
[0024]
As shown in FIGS. 3 and 4, the
[0025]
The
[0026]
As shown in FIG. 7 and the like, the
[0027]
The pair of first
[0028]
The pair of first
[0029]
The second
[0030]
The
[0031]
The first
[0032]
A
[0033]
The second
[0034]
The
[0035]
The
[0036]
Thus, the
[0037]
While being applied to the
[0038]
The
[0039]
The
[0040]
Further, the acidifying
[0041]
The
[0042]
The
[0043]
The soaking
[0044]
The
[0045]
The
[0046]
When the water content of the heated sodium hydroxide solution in the
[0047]
Thus, the
[0048]
In the
[0049]
The nickel plating unit 11 is connected to the
[0050]
Since the configuration of the
[0051]
The pair of first
[0052]
The pair of first
[0053]
The second
[0054]
The third
[0055]
The
[0056]
The first
[0057]
The second
[0058]
The third
[0059]
Further, as shown in FIG. 8, a
[0060]
The
[0061]
The
[0062]
The
[0063]
When the moisture of the heated nickel sulfamate solution in the
[0064]
Thus, the
[0065]
In the nickel plating unit 11 having the above-described configuration, the
[0066]
Thereafter, the
[0067]
Thus, in the nickel plating unit 11, the first
[0068]
While being applied to the
[0069]
The
[0070]
Since the structure of the
[0071]
The
[0072]
The plating nozzle ejects a solution obtained by mixing potassium gold cyanide and citrate as the above-described processing liquid toward the hole of the
[0073]
The pair of
[0074]
The
[0075]
The pair of
[0076]
The pair of
[0077]
The
[0078]
The first
[0079]
The second
[0080]
The third
[0081]
Further, a
[0082]
The
[0083]
When the amount of the solution obtained by mixing the heated potassium gold cyanide and citrate in the
[0084]
Thus, the
[0085]
In the
[0086]
The
[0087]
In this way, the
[0088]
The
[0089]
Since the structure of the
[0090]
The
[0091]
The second
[0092]
The third
[0093]
The
[0094]
The
[0095]
The first pure water tank 100 is attached on the
[0096]
The second
[0097]
In addition, an
[0098]
In addition, a
[0099]
The
[0100]
The
[0101]
When the moisture of the heated potassium cyanide solution in the
[0102]
Thus, the
[0103]
The
[0104]
Then, in contact with the outer peripheral surface of the
[0105]
The
[0106]
The
[0107]
The
[0108]
The pair of first
[0109]
The pair of first
[0110]
The second
[0111]
The third
[0112]
The
[0113]
The first
[0114]
A
[0115]
The second
[0116]
The third
[0117]
Further, a
[0118]
The
[0119]
Thereafter, the
[0120]
Thus, the
[0121]
While being applied to the
[0122]
As shown in FIG. 11, the
[0123]
The
[0124]
The
[0125]
The
[0126]
The
[0127]
The
[0128]
In addition, the
[0129]
The
[0130]
When the water of the tin methanesulfonate solution in the heated
[0131]
Furthermore, when the pure water in the second
[0132]
The
[0133]
Further, the
[0134]
Moreover, as shown in FIG. 2 etc., the
[0135]
Further, the
[0136]
In the plating apparatus 1, the
[0137]
According to the present embodiment, the
[0138]
The
[0139]
Further, the
[0140]
Moreover, by attaching and detaching the
[0141]
The pure water in the second
[0142]
Further, the
[0143]
A plurality of
[0144]
In the present invention, at least one of the
[0145]
In the present invention, at least one of the
[0146]
【The invention's effect】
As described above, according to the first aspect of the present invention, each processing unit includes a processing tank, a pure water tank, and a tank for supplying a processing liquid or pure water into these tanks. Moreover, the frames of the units are detachable. As described above, the systems for supplying the treatment liquid and pure water of each unit to the treatment tank or the pure water tank are independent of each other. For this reason, the layout of each unit can be easily changed by attaching and detaching the frame. Further, the plating unit can be easily replaced by attaching and detaching the frame. Therefore, the metal plated on the hoop can be easily changed, and a reduction in the efficiency of work for plating the hoop can be suppressed.
[0147]
FirstThe pure water in the second pure water tank is supplied to the first pure water tank, and the pure water in the first pure water tank is supplied to the treatment liquid tank. Pure water is supplied to the second pure water tank. For this reason, the pure water in the second pure water tank, that is, the second pure water tank can be very close to pure water, that is, the impurities can be extremely reduced. Therefore, in addition to the fact that the metal plated on the hoop can be easily changed, the hoop that has been subjected to various treatments in each unit can be kept clean.
[0148]
Claim 2In the present invention described in (1), the hoop is passed through the treatment tank a plurality of times. For this reason, even if the moving speed of the hoop is increased, the hoop can be sufficiently immersed in the treatment liquid. Moreover, even if the moving speed of the hoop is increased, the hoop can be sufficiently immersed in the processing liquid, so that it is not necessary to install many processing tanks in one process. For this reason, the installation space does not increase, and the efficiency of the work for plating the hoop can be improved.
[0149]
Claim 3In the present invention described in the above, a plurality of units are connected to each other along the moving direction of the hoop. For this reason, the worker can approach to the vicinity of the processing tank of all the units. Therefore, each unit can be maintained (care) reliably.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a plating apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.
FIG. 3 is a perspective view of the pretreatment unit of the plating apparatus shown in FIG. 1 as viewed from the front.
4 is a perspective view of the pretreatment unit shown in FIG. 3 as seen from the back side. FIG.
FIG. 5 is a perspective view of the nickel plating unit of the plating apparatus shown in FIG. 1 as seen from the front.
6 is a perspective view of the nickel plating unit shown in FIG. 5 as viewed from the back side. FIG.
7 is an explanatory view schematically showing a configuration of a pretreatment unit of the plating apparatus shown in FIG. 1; FIG.
8 is an explanatory view schematically showing a configuration of a nickel plating unit of the plating apparatus shown in FIG. 1. FIG.
9 is an explanatory view schematically showing a configuration of a gold plating unit of the plating apparatus shown in FIG. 1. FIG.
10 is an explanatory view schematically showing a configuration of a gold removing unit of the plating apparatus shown in FIG. 1; FIG.
FIG. 11 is an explanatory view schematically showing a configuration of a post-processing unit of the plating apparatus shown in FIG. 1;
12 is a plan view of a hoop plated by the plating apparatus shown in FIG. 1. FIG.
FIG. 13 is an explanatory view schematically showing a configuration of a conventional plating apparatus.
[Explanation of symbols]
1 Plating device
2 Hoop
10 Pretreatment unit
11 Nickel plating unit (Plating unit)
12 Gold plating unit
13 Gold removal unit
14 Post-processing unit
15 frames
23 Degreasing tank (treatment tank)
24 First pure water tank
25 Second pure water tank
26 Degreasing tank (treatment liquid tank)
27 First pure water tank
28 Second pure water tank
30 Laura
39 Acidification tank (treatment tank)
40 pure water tank
41 Acidification tank (treatment liquid tank)
42 Pure water tank
50 frames
51 Nickel plating tank (treatment tank)
52 First pure water tank
53 2nd pure water tank
54 3rd pure water tank
55 Nickel plating tank (treatment liquid tank)
56 First pure water tank
57 Second pure water tank
58 Third pure water tank
61 Laura
115 frames
119 Tin plating tank (treatment tank)
120 First pure water tank
121 2nd pure water tank
122 3rd pure water tank
123 Tin plating tank (treatment liquid tank)
124 First pure water tank
125 2nd pure water tank
126 Third pure water tank
128 Laura
139 Cleaning tank (pure water tank)
140 Hot water tank (treatment tank)
142 pure water tank
143 Warm water tank (treatment liquid tank)
K Hoop movement direction
Claims (3)
前記フープを脱脂するとともに酸づけする前処理ユニットと、
前記前処理ユニットにより脱脂と酸づけが施されたフープを鍍金する鍍金ユニットと、
前記鍍金ユニットにより鍍金されたフープを熱水で洗浄する後処理ユニットと、を備え、
前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとは、それぞれ、フレームと、
前記フレームに取り付けられかつ前記脱脂、酸づけ、鍍金、洗浄を行う際に前記フープが漬けられる処理液を収容する処理槽と、
前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽の処理液中に漬けられたフープを洗浄するための純水を収容する純水槽と、
前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽に供給される処理液を蓄える処理液タンクと、
前記フレームに取り付けられかつ前記純水槽に供給される純水を蓄える純水タンクと、を備え、
前記フープを処理槽中の処理液中に通した後、前記純水槽中の純水に通すとともに、前記処理液を前記処理液タンクと処理槽との間で循環させ、かつ前記純水を前記純水タンクと純水槽との間で循環させるとともに、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットのフレームは、互いに着脱自在であり、
前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとのうち少なくとも一つは、
前記純水槽として、前記処理槽の後にフープが通される第1の純水槽と、前記第1の純水槽の後にフープが通される第2の純水槽とを備え、
前記純水タンクとして、前記第1の純水槽との間で純水を循環する第1の純水タンクと、前記第2の純水槽との間で純水を循環しかつ外部から純水が供給される第2の純水タンクとを備え、
処理槽中の処理液の量に応じて、前記第1の純水タンク中の純水を前記処理液タンクに供給しかつ前記第2の純水タンク中の純水を前記第1の純水タンクに供給することを特徴とする鍍金装置。 In a plating device for plating a hoop made of metal with a belt shape,
A pretreatment unit for degreasing and acidifying the hoop;
A plating unit for plating a hoop that has been degreased and acidified by the pretreatment unit;
A post-processing unit for washing the hoop plated by the plating unit with hot water,
The pre-processing unit, the plating unit and the post-processing unit are respectively a frame,
A treatment tank that is attached to the frame and contains a treatment liquid in which the hoop is immersed when performing the degreasing, acidifying, plating, and cleaning;
A pure water tank for containing pure water for cleaning the hoop attached to the frame and immersed in the processing liquid of the processing tank;
A treatment liquid tank that is attached to the frame and stores a treatment liquid supplied to the treatment tank;
A pure water tank that is attached to the frame and stores pure water supplied to the pure water tank;
After passing the hoop through the treatment liquid in the treatment tank, the hoop is passed through the pure water in the pure water tank, the treatment liquid is circulated between the treatment liquid tank and the treatment tank, and the pure water is with circulating between the pure water tank and the pure water tank, frame plating unit and the post-processing unit and the pre-processing unit, Ri removable der each other,
At least one of the pre-processing unit, the plating unit and the post-processing unit is
The pure water tank includes a first pure water tank through which a hoop is passed after the treatment tank, and a second pure water tank through which the hoop is passed after the first pure water tank,
As the pure water tank, pure water is circulated between the first pure water tank that circulates pure water between the first pure water tank and the second pure water tank, and pure water is supplied from the outside. A second pure water tank to be supplied;
In accordance with the amount of processing liquid in the processing tank, pure water in the first pure water tank is supplied to the processing liquid tank, and pure water in the second pure water tank is supplied to the first pure water. A plating apparatus characterized by being supplied to a tank.
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