JP3898473B2 - IC card manufacturing method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄型の非接触ICカードを製造する際に用いて好適なICカードの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、ICチップ等の電子部品を内蔵したICカードは知られている。ICカードは、カードの内部に電子部品を収容するため、カード表面は電子部品による凹凸が生じないように製造する必要があり、そのための製造方法及び装置も、特公平2−16234号公報,特開平6−176214号公報,特開平9−277766号公報及び特開平11−48660号公報等で提案されている。
【0003】
ところで、近時、厚さが数百ミクロンメートル程度のフレキシブルな薄型の非接触ICカードも実用化されており、既に本出願人も、この種の薄型の非接触ICカードの製造に用いて好適なICカード製造装置を、特開2000−182014号公報で提案した。このICカード製造装置は、一対のシート生地材(ラミネート材)によりICチップ等の電子部品を挟んだ積層基材を熱圧着してICカードを製造するもので、特に、積層基材を両面側から挟んで密封する上挟持部と下挟持部からなる積層基材挟持部と、この積層基材挟持部の内部を脱気する脱気部を備え、積層基材を挟んで脱気した積層基材挟持部を、予熱プレス部,熱圧着プレス部及び冷却プレス部により、順次処理してICカードを製造するものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上述したICカード製造装置は、次のような改善すべき課題も残されていた。
【0005】
即ち、図4に示すように、積層基材Mは、上挟持部11uの上加圧プレート4uと下挟持部11dの下加圧プレート4d間に挟まれた状態となるが、脱気開始前の積層基材Mの厚さは熱圧着後の積層基材Mよりも厚いとともに、積層基材Mの外方に存在する積層基材挟持部1yのシール材16の厚さは、熱圧着後の積層基材Mの厚さに合わせてあるため、脱気の開始により、積層基材挟持部1yにおける積層基材Mの外方に位置する部位は、積層基材Mの内側に位置する部位よりも窄まる状態となり、この結果、積層基材Mの外側が内側よりも大きい加圧力によっていわばシールされた状態になる(図8参照)。このため、脱気処理が進行しても、積層基材Mの内部空気は閉じ込められた状態となり、結局、積層基材Mに対する脱気を確実かつ十分に行えない虞れがあった。
【0006】
本発明は、このような従来の技術に存在する課題を解決したものであり、特に、積層基材に対する脱気を確実かつ十分に行うことができるようにして、ICカードの品質及び均質性をより高めることができるようにしたICカードの製造方法の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段及び実施の形態】
本発明に係るICカードMiの製造方法は、一対のラミネート材La,LbによりICチップ等の電子部品Pを挟んだ積層基材Mを熱圧着してICカードMiを製造するに際し、予め、一又は二以上のラミネート材L…と一又は二以上の粗面形成用シートC…を交互に積層した被加工材Uを加圧及び加熱することにより、ラミネート材L…の表面を多数の凹凸を有する脱気通路となる粗面fc…に形成し、この粗面fcを有するラミネート材La,Lbにより構成した積層基材Mを、積層基材挟持部1yを構成する下挟持部11dと上挟持部11uにより挟むとともに、脱気装置19により積層基材挟持部1yの内部を脱気し、この後、一対の平坦な加圧面Fu,Fdを有する積層基材挟持部1yを一対のプレス盤部2u,2dにより加圧及び加熱することにより積層基材Mを熱圧着するようにしたことを特徴とする。
【0008】
この場合、好適な実施の態様により、被加工材Uは、積層基材Mを熱圧着するICカード製造装置1により加圧及び加熱して、粗面fc…を形成することができる。
【0009】
【実施例】
以下、本発明に係る好適な実施例を挙げ、図面に基づき詳細に説明する。
【0010】
まず、本実施例に係るICカードの製造方法に用いることができるICカード製造装置1の構成について、図4〜図7を参照して説明する。
【0011】
ICカード製造装置1は、製造装置本体1xと、この製造装置本体1xとは別体に構成した積層基材挟持部1yを備える。積層基材挟持部1yは、図4に示す上挟持部11uと下挟持部11dを有し、上挟持部11uが下挟持部11dの上に重なることにより、内部が密封される積層基材挟持部1yとなる。上挟持部11uは、上加圧プレート4uと、この上加圧プレート4uよりも大きい矩形枠状に構成した上フレーム12uを有する。上加圧プレート4uは積層基材Mの上面に重なり、この上加圧プレート4uの下面は平坦な加圧面Fuとなる。
【0012】
上加圧プレート4uは、積層基材Mの加圧時にラミネート材Laが軟化しない状態ではラミネート材Laの変形に応じて弾性変形し、かつラミネート材Laが軟化した状態では弾性復帰する一定の厚さを有する弾性プレート、望ましくは、厚さが1〔mm〕程度のステンレス板を用いる。なお、上加圧プレート4uとしては、他の弾性金属板や耐熱性を有する非鉄材、例えば、ポリイミド等を用いた弾性合成樹脂板を用いてもよい。
【0013】
さらに、上加圧プレート4uと上フレーム12uは、上加圧プレート4uに一体形成した複数の矩形状の連結片14u…を介して連結する。これにより、熱による上加圧プレート4uの変形が吸収される。各連結片14u…は、図6に示すように、上加圧プレート4uにおける対向する一対の端辺部からそれぞれ突出し、当該端辺部に沿って一定間隔置きに設ける。この場合、各連結片14u…はクランク状に折曲形成する。そして、連結片14u…の全部又は一部の先端を固定ねじ15…を用いて上フレーム12uにねじ止めする。
【0014】
他方、下挟持部11dも基本的には上挟持部11uと同様に形成する。下挟持部11dにおいて、4dは下加圧プレート、12dは下フレーム、14d…は複数の連結片をそれぞれ示す。下加圧プレート4dは積層基材Mの下面に重なり、この下加圧プレート4dの上面は平坦な加圧面Fdとなる。なお、下加圧プレート4dの上面には、周縁に沿ったシール材16を固着する。
【0015】
また、上加圧プレート4uには脱気口17を設け、この脱気口17は通気管18を介して脱気装置(真空ポンプ等)19に接続する。これにより、積層基材挟持部1yの内部を脱気できるとともに、切換により脱気口17から積層基材挟持部1yの内部に空気を供給できる。なお、上フレーム12uと下フレーム12dの所定位置には、重ねた際に両者を位置決めする不図示の位置決め部が設けられている。
【0016】
一方、製造装置本体1xは、三台のプレス部、即ち、予熱プレス部(不図示),熱圧力プレス部となるプレス機構2及び冷却プレス部(不図示)を備える。図5は、プレス機構(熱圧力プレス部)2のみを示す。
【0017】
プレス機構2は、上側に配した固定プレス盤部2uと下側に配した可動プレス盤部2dを備える。固定プレス盤部2uは、押圧面3uを有するプレス盤本体部21を備える。このプレス盤本体部21は、後述する下側のプレス盤本体部31とは異なり、固定された不図示のプレス盤基部に直接取付けられる。プレス盤本体部21は、先端が押圧面3uとなる熱盤部22,断熱部23及び支持盤24を順次重ねて構成し、固定ボルト25…により一体化する。なお、熱盤部22には、多数の加熱用棒ヒータ26…を内蔵する。また、熱盤部22の下面、即ち、押圧面3uには、一定の厚さを有するクッションシート7uを接着する。ゴム等の弾性素材を用いるクッションシート7uは断熱性が高いため、熱伝導性を高めるには、できるだけ薄く形成する必要があり、実施例では、厚さが0.3〔mm〕程度のシリコンゴムシートを使用した。なお、このように薄いシリコンゴムシートを、少なくとも一辺が数十〔cm〕程度の平坦な押圧面3uに接着しても、所望の弾性(クッション性)を得ることができないため、クッションシート7uの下面には、所定幅の溝部5…により多数の区画部を形成することにより凸部6…を設け、これにより、良好な熱伝導性を確保すると同時に、クッションシート7uにおける十分かつ最適なクッション性を確保している。また、このような多数の凸部6…を形成することにより、クッションシート7uが加圧プレート4uに密着してくっ付いてしまう不具合も回避される。
【0018】
他方、下側に位置する可動プレス盤部2dは、押圧面3dを有するプレス盤本体部31と、このプレス盤本体部31を載置するプレス盤基部41を備える。プレス盤本体部31は、先端が押圧面3dとなる熱盤部32,断熱部33及び支持盤34を順次重ねて構成し、固定ボルト35…により一体化する。なお、熱盤部32には、多数の加熱用棒ヒータ36…を内蔵する。また、熱盤部32の上面、即ち、押圧面3dにはクッションシート7dを接着する。このクッションシート7dは、上述したクッションシート7uと同一のものを用いることができる。したがって、クッションシート7dの上面には、クッションシート7uの下面と同様に、溝部5…により多数の凸部6…を形成する。
【0019】
一方、51は機台部であり、この機台部51と可動プレス盤部2d間に架設したトグルリンク機構52により当該可動プレス盤部2dが支持される。53はトグルリンク機構52を駆動する駆動機構部であり、この駆動機構部53は、機台部51に取付けたサーボモータ54と、このサーボモータ54により駆動せしめられるボールねじ機構55を備える。これにより、ボールねじ機構55のボールねじ部56はサーボモータ54により回転駆動され、かつボールねじ機構55のナット部57はトグルリンク機構52の入力部となる。
【0020】
次に、ICカード製造装置1の動作(機能)を含む本実施例に係るICカードの製造方法について、図1〜図9を参照して説明する。
【0021】
最初に、ラミネート材L…における平坦な表面に多数の凹凸を有する粗面fc…を形成する。図1には、粗面fc…を形成する処理手順をフローチャートで示す。
【0022】
粗面fc…を形成するに際しては、必要数量のラミネート材L…と粗面形成用シートC…を用意する。この場合、粗面形成用シートC…は、例えば、グラスファイバを60〔メッシュ〕程度に編み、表面にテフロン(商品名)をコーティングした図2に示すようなシート材を用いることができる。この粗面形成用シートC…は、多数の凹凸をラミネート材L…の表面に転写するものであり、耐熱性,伝熱性,離型性に優れるものであれば、同様の機能を有する任意のシート材を用いることができる。なお、ラミネート材L…は、厚さが20〜300〔μm〕程度の熱可塑性樹脂シートを2〜6枚積層したシート材であり、実施例のラミネート材L…には、ホットメルトシート及びポリエチレンテレフタレートシートが含まれている。
【0023】
そして、用意した複数のラミネート材L…と複数の粗面形成用シートC…は、交互に積層し、積層して得た被加工材Uは、ICカード製造装置1にセットする(ステップS1)。即ち、図3に示すように、積層基材挟持部1yの下挟持部11dの上面に被加工材Uを載置し、上から上挟持部11uを重ねることにより、被加工材Uを上挟持部11uと下挟持部11dにより挟む。これにより、被加工材Uは積層基材挟持部1yに収容される。実施例は、ラミネート材L…を四枚,粗面形成用シートC…を三枚セットした場合を示している。なお、粗面fcは、基本的に、ラミネート材Lの両面に形成するが、必ずしも両面に形成しなければならないものではなく、片面のみであってもよい。
【0024】
このように、粗面fc…の形成に際しては、前述したICカード製造装置1を利用することができる。したがって、ICカード製造装置1は、後述する積層基材Mを熱圧着する本来の使用に加え、粗面fcを形成するための使用の双方に兼用できるため、コストアップを招くことなく容易に実施できる利点がある。
【0025】
一方、ICカード製造装置1は、後述する積層基材Mを処理する場合と同様のシーケンスにより動作させればよい。この場合、基本的な動作や条件の詳細は、後述する積層基材MによりICカードMiを製造する場合と同じであり、必要に応じて、被加工材Uの厚さに応じて可動プレス盤部2dの加圧位置を変更したり、温度や時間等の条件を変更すればよい。
【0026】
まず、脱気装置19の作動により積層基材挟持部1yの内部が脱気される(ステップS2)。次いで、積層基材挟持部1yは、不図示の予熱プレス部により予熱処理される(ステップS3)。即ち、積層基材挟持部1yは一対のプレス盤により加圧され、後述する熱圧着プレス部における正規の加熱温度よりも低い予熱温度に加熱される。これにより、被加工材Uは加圧されつつ予熱温度により徐々に昇温せしめられる。
【0027】
次いで、予熱処理された積層基材挟持部1yは、熱圧着プレス部となるプレス機構2に供給され、加熱及び加圧処理される(ステップS4)。この場合、可動プレス盤部2dは、図4に示すように下降しているため、積層基材挟持部1yを可動プレス盤部2dに載置した後、サーボモータ54を作動させれば、ナット部57が上昇し、トグルリンク機構52により可動プレス盤部2dが上昇する。そして、積層基材挟持部1yが上側のクッションシート7uに圧接し、積層基材挟持部1yに極低圧が付与された時点で一旦可動プレス盤部2dの上昇を停止する。この際、固定プレス盤部2uと可動プレス盤部2dはそれぞれ加熱用棒ヒータ26…,36…により正規の加熱温度に加熱される。一方、設定時間が経過して被加工材Uのラミネート材L…が軟化したなら、再度、サーボモータ54を作動させることにより可動プレス盤部2dを上昇させ、押圧面3dが設定位置又は設定力(設定トルク)になったら停止させる。これにより、積層基材挟持部1yは固定プレス盤部2uと可動プレス盤部2dによって上下から加熱及び加圧処理される。この後、設定時間が経過したなら、可動プレス盤部2dを下降させる。
【0028】
次いで、積層基材挟持部1yは、冷却プレス部に移され冷却処理される(ステップS5)。冷却処理では、被加工材Uが加圧されつつ冷却せしめられる。冷却処理が終了したなら、脱気口17から積層基材挟持部1yの内部に空気を供給する。これにより、積層基材挟持部1yの脱気状態が解除され、かつ被加工材Uは積層基材挟持部1yから剥離される。これにより、上挟持部11uを上昇させれば、被加工材Uを容易に取出すことができる(ステップS6)。そして、各ラミネート材L…を粗面形成用シートC…から剥がせば、粗面形成用シートC…の凹凸がラミネート材L…に転写され、表面に多数の凹凸を有する粗面fc…の形成されたラミネート材L…を得ることができる。さらに、粗面fc…を形成するラミネート材L…が残っていれば、同一の処理を繰り返す(ステップS7)。
【0029】
そして、粗面fc…を形成したラミネート材L…が得られたなら、このラミネート材L…(La,Lb)を用いてICカードMiを製造する。まず、粗面fc…を有するラミネート材La,Lbにより積層基材Mを製作する。図7に積層基材Mを仮想線で示す。この場合、PはICチップPiとアンテナPaからなる電子部品であり、ベースシートB上に実装される。そして、ベースシートBと電子部品Pは、両側から、ラミネート材LaとLbにより挟まれる。この際、ラミネート材LaとLbにおける少なくとも相対向する内面には粗面fc…が形成されている必要がある。なお、積層基材Mは、通常、ICカード複数枚分(一般にn×m枚)を連続させて一枚に綴り、この積層基材MをICカード製造装置1により熱圧着した後、カッティングして目的のICカードMiを得る。
【0030】
一方、積層基材Mは積層基材挟持部1yに収容する。即ち、下挟持部11dの上面に積層基材Mを載置し、上から上挟持部11uを重ねることにより、積層基材Mを上挟持部11uと下挟持部11dにより挟む。この後、脱気装置19を作動させ、積層基材挟持部1yの内部を脱気する。
【0031】
この際、積層基材Mは、図4に示すように、上挟持部11uの上加圧プレート4uと下挟持部11dの下加圧プレート4d間に挟まれた状態となるが、脱気開始前の積層基材Mの厚さは熱圧着後の積層基材Mよりも厚いとともに、積層基材Mの外方に存在する積層基材挟持部1yのシール材16の厚さは、熱圧着後の積層基材Mの厚さに合わせてあるため、脱気の開始により、積層基材挟持部1yにおける積層基材Mの外方に位置する部位は、積層基材Mの内側に位置する部位よりも窄まる状態となり、この結果、積層基材Mの外側が内側よりも大きい加圧力によっていわばシールされた状態になる。しかし、積層基材Mを構成するラミネート材La,Lbの相対向する表面には、凹凸を有する粗面fc…が形成されているため、脱気通路が確保され、積層基材Mに対する脱気が確実かつ十分に行われる。
【0032】
そして、積層基材Mを収容した積層基材挟持部1yは、最初に、不図示の予熱プレス部により予熱処理される。即ち、積層基材挟持部1yは一対のプレス盤により加圧され、熱圧着する際における正規の加熱温度よりも低い予熱温度、具体的には、ラミネート材La,Lbの塑性変形又は溶着が始まる直前の温度(例えば、70℃前後)に加熱される。これにより、積層基材Mは加圧されつつ予熱温度により徐々に昇温せしめられるとともに、脱気が促進する。
【0033】
次いで、予熱処理された積層基材挟持部1yは、熱圧着プレス部となるプレス機構2に供給される。この場合、可動プレス盤部2dは、図4に示すように下降しているため、積層基材挟持部1yを可動プレス盤部2dに載置した後、サーボモータ54を作動させれば、ナット部57が上昇し、トグルリンク機構52により可動プレス盤部2dが上昇する。そして、積層基材挟持部1yが上側のクッションシート7uに圧接し、積層基材挟持部1yに極低圧が付与された時点で一旦可動プレス盤部2dの上昇を停止する。この際、固定プレス盤部2uと可動プレス盤部2dはそれぞれ加熱用棒ヒータ26…,36…により正規の加熱温度(例えば、140℃前後)に加熱される。なお、積層基材Mは、その両面側が上挟持部11uと下挟持部11dにより挟まれ、かつ密封状態の積層基材挟持部1yの内部に収容されるとともに、この積層基材挟持部1yの内部は脱気装置19により脱気されているため、積層基材Mが予熱プレス部から熱圧着プレス部2に移動しても、加熱状態及び加圧状態の連続性が確保、即ち、積層基材Mに対する保温性と保圧性が確保される。
【0034】
そして、設定時間が経過して積層基材Mが軟化したなら、再度、サーボモータ54を作動させることにより可動プレス盤部2dを上昇させ、押圧面3dがICカードの厚さ位置又は設定力(トルク)になったら停止させる。これにより、積層基材挟持部1yは固定プレス盤部2uと可動プレス盤部2dによって上下から加熱及び加圧され、積層基材Mが熱圧着される。この際、ラミネート材La,Lbの表面に形成された粗面fc…は溶融し、上側の加圧プレート4uの下面である平坦な加圧面Fuと下側の加圧プレート4dの上面である平坦な加圧面Fdにより、ラミネート材La,Lbの表面は、平坦となるように成形される。
【0035】
なお、積層基材挟持部1yにおける各加圧プレート4u及び4dは、熱(高温)により変形(拡大)するが、当該変形は複数の連結片14u…及び14d…により吸収されるため、積層基材Mは、常に、平行度の高い一対の加圧プレート4u及び4dにより熱圧着され、製造時における歩留まり(生産性)を高めることができるとともに、ICカードの品質及び均質性の向上、さらには商品性を格段に高めることができる。また、積層基材Mの熱圧着時には、加圧初期に積層基材M自身が十分加熱されない状態で加圧されるため、十分に軟化していないラミネート材La,Lbを介して電子部品Pに圧力が付加されることになる。しかし、弾性プレートを用いた各加圧プレート4u,4dは、図8に示すように、電子部品Pによるラミネート材La,Lbの変形に応じて弾性変形するため、当該ラミネート材La,Lbの変形は各加圧プレート4u,4d、さらに、各クッションシート7u,7dにより吸収される。一方、ある程度時間が経過し、ラミネート材La,Lbが十分に軟化すれば、各加圧プレート4u,4dは本来の形状に弾性復帰し、積層基材Mは、図9に示すように、各加圧プレート4u,4dの有する本来の平坦形状により熱圧着される。この際、各クッションシート7u,7dには、所定幅の溝部5…により多数の凸部6…を設けたため、各クッションシート7u,7dにおける良好な熱伝導性が確保されると同時に、十分かつ最適なクッション性が確保される。
【0036】
この後、設定時間(例えば、20秒前後)が経過したなら、図7に示すように、可動プレス盤部2dを下降させ、熱圧着された積層基材M、即ち、製造されたICカードMiを冷却プレス部に移して冷却処理する。冷却処理では、ICカードMiが加圧されつつ冷却せしめられる。一方、冷却処理後、積層基材挟持部1yからICカードMiを取出すには、脱気口17から積層基材挟持部1yの内部に空気を供給すればよい。これにより、積層基材挟持部1yの脱気状態が解除され、かつICカードMiは積層基材挟持部1yから剥離する。よって、上挟持部11uを上昇させ、製造されたICカードMiを取出すことができる。
【0037】
以上、実施例について詳細に説明したが、本発明はこのような実施例に限定されるものではなく、細部の構成,形状,数量,素材,数値等において、本発明の要旨を逸脱しない範囲で任意に変更,追加,削除することができる。例えば、多数の凹凸を有する粗面fcは、多数の溝を設けるなどの形態で実施してもよく、同様の作用を呈する以上、その形態は問わない。また、粗面fc…を有するラミネート材L…を購入して用いるなど、その形成段階は問わない。さらに、積層基材M(ICカードMi)の構成や素材も例示に限定されることなく任意のタイプに適用できる。
【0038】
【発明の効果】
このように、本発明に係るICカードの製造方法は、予め、一又は二以上のラミネート材と一又は二以上の粗面形成用シートを交互に積層した被加工材を加圧及び加熱することにより、ラミネート材の表面を多数の凹凸を有する脱気通路となる粗面に形成し、このラミネート材により構成した積層基材を、積層基材挟持部を構成する下挟持部と上挟持部により挟むとともに、脱気装置により積層基材挟持部の内部を脱気し、この後、一対の平坦な加圧面を有する積層基材挟持部を一対のプレス盤部により加圧及び加熱することにより積層基材を熱圧着するようにしたため、次のような顕著な効果を奏する。
【0039】
(1) 積層基材に対する脱気を確実かつ十分に行うことができるため、ICカードの品質及び均質性をより高めることができる。
【0040】
(2) 一又は二以上のラミネート材と一又は二以上の粗面形成用シートを交互に積層した被加工材を加圧及び加熱して粗面を形成するため、積層基材を熱圧着するICカード製造装置を、本来の使用に加え、粗面形成用の双方に兼用可能となり、コストアップを招くことなく容易に実施できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好適な実施例に係るICカードの製造方法におけるラミネート材に粗面を形成する処理手順を示すフローチャート、
【図2】同製造方法に用いるラミネート材及び粗面形成用シートの一部を示す模式的斜視図、
【図3】同製造方法におけるラミネート材に粗面を形成する工程を説明するための模式的縦断面図、
【図4】同製造方法を実施できるICカード製造装置におけるプレス機構の要部を示す一部断面正面図、
【図5】同ICカード製造装置におけるプレス機構を示す一部断面正面図、
【図6】同ICカード製造装置における積層基材挟持部の平面図、
【図7】同ICカード製造装置の要部及び製造されたICカードの模式的縦断面図、
【図8】同ICカード製造装置の動作を説明するための要部の模式的縦断面図、
【図9】同ICカード製造装置の動作を説明するための要部の模式的縦断面図、
【符号の説明】
1 ラミネート製造装置
1y 積層基材挟持部
2u プレス盤部
2d プレス盤部
11u 上挟持部
11d 下挟持部
19 脱気装置
M 積層基材
Mi ICカード
La ラミネート材
Lb ラミネート材
P 電子部品
C… 粗面形成用シート
U 被加工材
fc… 粗面
Fu 加圧面
Fd 加圧面[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an IC card manufacturing method suitable for use in manufacturing a thin non-contact IC card.
[0002]
[Prior art]
In general, an IC card incorporating an electronic component such as an IC chip is known. Since an IC card accommodates electronic components inside the card, it is necessary to manufacture the card surface so as not to cause unevenness due to the electronic components, and a manufacturing method and apparatus therefor are also disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-16234. It has been proposed in Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 6-176214, 9-277766, and 11-48660.
[0003]
By the way, recently, a flexible thin non-contact IC card having a thickness of about several hundreds of micrometers has been put into practical use, and the present applicant is also suitable for manufacturing this type of thin non-contact IC card. An IC card manufacturing apparatus was proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-182014. This IC card manufacturing apparatus manufactures an IC card by thermocompression bonding a laminated base material in which an electronic component such as an IC chip is sandwiched between a pair of sheet fabric materials (laminate material). A laminated base material comprising a laminated base material sandwiching part comprising an upper sandwiched part and a lower sandwiched part to be sandwiched and sealed, and a deaeration part for degassing the inside of the laminated base material sandwiched part, and deaerated through the laminated base material An IC card is manufactured by sequentially processing the material sandwiching section by a preheating press section, a thermocompression pressing section, and a cooling press section.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, the IC card manufacturing apparatus described above still has the following problems to be improved.
[0005]
That is, as shown in FIG. 4, the laminated base material M is in a state of being sandwiched between the
[0006]
The present invention solves such a problem existing in the prior art, and in particular, it is possible to reliably and sufficiently perform deaeration on the laminated base material, thereby improving the quality and homogeneity of the IC card. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an IC card that can be further enhanced.
[0007]
[Means for Solving the Problems and Embodiments]
The manufacturing method of the IC card Mi according to the present invention is as follows. When manufacturing the IC card Mi by thermocompression bonding the laminated base material M sandwiching an electronic component P such as an IC chip with a pair of laminate materials La and Lb, Alternatively, by pressing and heating a workpiece U in which two or more laminate materials L ... and one or two or more rough surface forming sheets C ... are alternately laminated, the surface of the laminate material L ... has a large number of irregularities. The laminated base material M formed on the rough surface fc... Serving as a deaeration passage and constituted by the laminate materials La and Lb having the rough surface fc is sandwiched with the
[0008]
In this case, according to a preferred embodiment, the workpiece U can be pressed and heated by the IC
[0009]
【Example】
Preferred embodiments according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
[0010]
First, the configuration of the IC
[0011]
The IC
[0012]
The upper
[0013]
Further, the
[0014]
On the other hand, the
[0015]
The upper
[0016]
On the other hand, the manufacturing apparatus
[0017]
The
[0018]
On the other hand, the movable
[0019]
On the other hand, 51 is a machine base part, and the movable
[0020]
Next, an IC card manufacturing method according to the present embodiment including the operation (function) of the IC
[0021]
First, a rough surface fc having a large number of irregularities is formed on the flat surface of the laminate L. FIG. 1 is a flowchart showing a processing procedure for forming the rough surface fc.
[0022]
When forming the rough surface fc, a necessary quantity of the laminate material L and a rough surface forming sheet C are prepared. In this case, as the rough surface forming sheet C, for example, a sheet material as shown in FIG. 2 in which glass fibers are knitted to about 60 [mesh] and the surface is coated with Teflon (trade name) can be used. This rough surface forming sheet C ... is for transferring a large number of irregularities onto the surface of the laminate material L ..., and any sheet having the same function can be used as long as it has excellent heat resistance, heat transfer, and releasability. A sheet material can be used. The laminate material L is a sheet material obtained by laminating 2 to 6 thermoplastic resin sheets having a thickness of about 20 to 300 [μm]. The laminate material L in the examples includes a hot melt sheet and polyethylene. A terephthalate sheet is included.
[0023]
The prepared plurality of laminate materials L and the plurality of rough surface forming sheets C are alternately stacked, and the workpiece U obtained by the stacking is set in the IC card manufacturing apparatus 1 (step S1). . That is, as shown in FIG. 3, the workpiece U is placed on the upper surface of the
[0024]
Thus, when forming the rough surface fc..., The above-described IC
[0025]
On the other hand, the IC
[0026]
First, the inside of the laminated base
[0027]
Next, the pre-heat-treated laminated base
[0028]
Next, the laminated base
[0029]
Then, when the laminate material L ... having the rough surface fc ... is obtained, the IC card Mi is manufactured using the laminate material L ... (La, Lb). First, the laminated base material M is manufactured with the laminating materials La and Lb having the rough surface fc. FIG. 7 shows the laminated base material M with phantom lines. In this case, P is an electronic component including an IC chip Pi and an antenna Pa, and is mounted on the base sheet B. Then, the base sheet B and the electronic component P are sandwiched between the laminate materials La and Lb from both sides. At this time, it is necessary that a rough surface fc... Be formed on at least the inner surfaces facing each other in the laminate materials La and Lb. The laminated base material M is usually cut into a plurality of IC cards (generally, n × m) continuously, and the laminated base material M is thermocompression bonded by the IC
[0030]
On the other hand, the laminated base material M is accommodated in the laminated base
[0031]
At this time, as shown in FIG. 4, the laminated base material M is sandwiched between the
[0032]
And the lamination | stacking base
[0033]
Next, the pre-heat-treated laminated base
[0034]
When the set time elapses and the laminated base material M is softened, the movable
[0035]
Each of the
[0036]
Thereafter, when a set time (for example, around 20 seconds) has elapsed, as shown in FIG. 7, the movable
[0037]
The embodiments have been described in detail above, but the present invention is not limited to such embodiments, and the detailed configuration, shape, quantity, material, numerical values, and the like are within the scope not departing from the gist of the present invention. It can be changed, added, or deleted arbitrarily. For example, the rough surface fc having a large number of irregularities may be implemented in a form such as providing a large number of grooves, and the form is not limited as long as it exhibits the same action. Moreover, the formation stage does not ask | require, such as purchasing and using the laminate material L ... which has the rough surface fc .... Furthermore, the configuration and material of the laminated base material M (IC card Mi) are not limited to the examples, and can be applied to any type.
[0038]
【The invention's effect】
Thus, the IC card manufacturing method according to the present invention pressurizes and heats a workpiece in which one or two or more laminate materials and one or two or more rough surface forming sheets are alternately laminated in advance. Thus, the surface of the laminate material is formed into a rough surface serving as a deaeration passage having a large number of irregularities, and the laminated base material constituted by the laminate material is formed by the lower sandwiched portion and the upper sandwiched portion constituting the laminated substrate sandwiched portion. While sandwiching, the inside of the laminated base material sandwiching part is deaerated by a deaeration device, and thereafter, the laminated base material sandwiching part having a pair of flat pressure surfaces is pressurized and heated by a pair of press panel parts. Since the base material is thermocompression-bonded, the following remarkable effects can be obtained.
[0039]
(1) Since the deaeration of the laminated base material can be performed reliably and sufficiently, the quality and homogeneity of the IC card can be further improved.
[0040]
(2) In order to form a rough surface by pressurizing and heating one or two or more laminate materials and one or two or more rough surface forming sheets alternately laminated, a laminated base material is thermocompression bonded. The IC card manufacturing apparatus can be used for both rough surface formation in addition to the original use, and can be easily implemented without increasing the cost.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a flowchart showing a processing procedure for forming a rough surface on a laminate material in an IC card manufacturing method according to a preferred embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a schematic perspective view showing a part of a laminate material and a rough surface forming sheet used in the production method;
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view for explaining a process of forming a rough surface on a laminate material in the manufacturing method;
FIG. 4 is a partially sectional front view showing a main part of a press mechanism in an IC card manufacturing apparatus capable of performing the manufacturing method;
FIG. 5 is a partially sectional front view showing a press mechanism in the IC card manufacturing apparatus;
FIG. 6 is a plan view of a laminated base material sandwiching portion in the IC card manufacturing apparatus,
FIG. 7 is a schematic longitudinal sectional view of the main part of the IC card manufacturing apparatus and the manufactured IC card;
FIG. 8 is a schematic longitudinal sectional view of a main part for explaining the operation of the IC card manufacturing apparatus;
FIG. 9 is a schematic longitudinal sectional view of the main part for explaining the operation of the IC card manufacturing apparatus;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
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