JP3898243B2 - 電界効果電子放出用マイクロ・チップ及びその製造方法 - Google Patents
電界効果電子放出用マイクロ・チップ及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3898243B2 JP3898243B2 JP24458195A JP24458195A JP3898243B2 JP 3898243 B2 JP3898243 B2 JP 3898243B2 JP 24458195 A JP24458195 A JP 24458195A JP 24458195 A JP24458195 A JP 24458195A JP 3898243 B2 JP3898243 B2 JP 3898243B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microchip
- etching
- mask
- cathode
- electron emission
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/30—Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/022—Manufacture of electrodes or electrode systems of cold cathodes
- H01J9/025—Manufacture of electrodes or electrode systems of cold cathodes of field emission cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/02—Electron guns
- H01J3/021—Electron guns using a field emission, photo emission, or secondary emission electron source
- H01J3/022—Electron guns using a field emission, photo emission, or secondary emission electron source with microengineered cathode, e.g. Spindt-type
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電界効果により電子を放出する電界効果電子放出用マイクロ・チップ及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
現在、TV受像機のCRT(cathode ray tube)を代替し得る画像表示装置としての平面型画像表示素子の開発が、壁掛けTV及びHDTV用画像表示装置に適用するために活発に行われている。このような平面型画像表示装置素子としては液晶表示素子、プラズマ表示パネル、電界効果電子放出表示素子などがあり、このうち画面の明るさ及び低消費電力の利点により電界効果電子放出素子が大いに注目されている。
【0003】
図5を参照しながら従来の垂直構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップの構造を説明すると次の通りである。
垂直構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップは、ガラス基板1と、このガラス基板1上に形成された陰極2と、この陰極2上に形成された電界放出用のマイクロ・チップ4と、このマイクロ・チップ4を取り囲むホール3′を有するように前記陰極2上に形成された絶縁体層3と、マイクロ・チップ4の上部に電界効果による電子放出を可能とする開口5′を有するように絶縁体層3上に形成されたゲート5より構成されている。
【0004】
図6(a)は従来の水平構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップの垂直断面図であり、図6(b)は同電界効果電子放出用マイクロ・チップの平面図である。図6に示したように、水平構造の電界効果放出用マイクロ・チップは、図5に示した垂直構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップとは異なり陰極10と陽極8が基板6に水平に形成されていて、電子を基板と水平に放出するようになっている点にその特徴がある。
【0005】
水平構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップは、ガラス基板6上に絶縁体層7が形成され、この絶縁体層7上に適当な間隔を置き陰極10及び陽極8が積層され、この陰極10及び陽極8間の絶縁体層7には適当な深さにホール7′が形成され、このホール7′の中にゲート電極9が備えられて陰極10から陽極8への電子放出を制御するようになっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図5に示したようなシングルチップを使用する垂直構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップでは、電子ビームの流れはゲートの開口5′のサイズに応じて定められるので、直径数十nm単位のマイクロ・チップの形成技術が必要とされる。チップのサイズ(半径)を考慮して高精密のゲート開口を形成するためにはサブミクロン単位の高度の微細工程が必要とされるので、工程上均一性が劣るだけでなく、大面積の素子を製作する場合に収率が低下するなど多くの問題が発生する。更に、マイクロ・チップの形成時、開口が大きくなるとゲートバイアス電圧のレベルが高くなって素子の駆動時に高電圧が必要になる。
【0007】
また、図6に示したような水平構造の電界放出用マイクロ・チップは、製造工程において垂直構造の電界放出用マイクロ・チップに比して収率が高く均一な構造を有しているが、電界効果の水平的な影響は多様な方向への電子ビーム放出の応用を困難にする。即ち、電子ビームの流れが同一な水平方向に制限されるので電子ビームの応用が極めて困難になるという短所がある。
【0008】
本発明は前記のような問題点を改善するためになされたものであり、均一な電子の放出が可能であり、大面積の応用時にも収率を高く製造しうる電界放出用マイクロ・チップ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る電界効果電子放出用マイクロ・チップは、基板と、該基板上に所定の食刻液に対して所定の速度以上の第1食刻速度で食刻される物質により形成された接着層と、該接着層上に前記食刻液に対して食刻されず前記接着層との内部応力が所定の大きさ以上である金属により形成された陰極と、該陰極の所定の部分を三角形に食刻することにより形成された上部へ突出されたマイクロ・チップと、該マイクロ・チップ以外の陰極上に前記食刻液に対して前記第1食刻速度以下の第2食刻速度で食刻される物質により形成されたマスクと、該マスク上に前記陰極保持用として形成された金属パターンとを具備してなることを特徴とする。
【0010】
本発明において、前記接着層およびマスクはチタン又はアルミニウムをそれぞれ200nm及び100nmの厚さに蒸着することが望ましく、前記陰極はタングステンを1μm厚さに蒸着して形成されたことが望ましく、前記マイクロ・チップは60°〜70°の突出角度を有することが望ましく、前記金属パターンはクロムを蒸着させて形成されることが望ましい。
【0011】
また、本発明に係る電界効果電子放出用マイクロ・チップの製造方法は、基板上に所定の食刻液に対して所定の速度以上の第1食刻速度で食刻される物質よりなる接着層と、前記接着層との内部応力が所定の大きさ以上であり、前記食刻液に対して食刻されない金属の陰極層及び前記食刻液に対して少なくとも第1食刻速度以下の第2食刻速度で食刻される物質よりなるマスク層を順に積層する段階と、前記マスク層上に陰極保持用金属パターンを形成する段階と、前記マスク層をパターニングして三角形のマスクを形成する段階と、前記マスクを使用して陰極の露出された部分を食刻してマイクロ・チップとなる部分を形成する段階と、前記マイクロ・チップとなる部分の下部と上部の前記接着層及びマスクを所定の時間以内に食刻することにより前記マイクロ・チップとなる部分が前記内部応力により突出されるようにするマイクロ・チップ突出段階とを含むことを特徴とする。
【0012】
本発明において、前記接着層及びマスク層を積層する段階はチタンまたはアルミニウムをそれぞれ200nm及び100nmの厚さにマグネトロンスパッタリング法または電子ビーム蒸着法で蒸着することが望ましく、前記陰極層を積層する段階はタングステンを1μmの厚さにDCマグネトロンスパッタリング法または電子ビーム蒸着法で蒸着することが望ましく、前記陰極保持用金属パターンを形成する段階はリフトオフ技法により行うことが望ましく、前記マスクを形成する段階は前記マスク層に所定のフォトレジストマスクを形成する段階およびこのフォトレジストマスクを利用して反応性イオンエッチング法を使用して食刻する段階とを含むことが望ましく、前記マスクを形成する段階はリフトオフ技法により行うことが望ましい。
【0013】
また、前記マイクロ・チップとなる部分を形成する段階はCF4 /O2 プラズマを使用して前記マスクを食刻することが望ましく、前記マイクロ・チップ突出段階はHF:NH4 Fの比が7:1〜10:1である食刻溶液を使用するバッファド・オキサイド・エッチング(BOE;buffered oxide etching)法で食刻することが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面に基づき本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0015】
まず、図1を参照しながら本発明による電界効果電子放出用マイクロ・チップの構造を説明すると次の通りである。
【0016】
本発明による電界放出用マイクロ・チップは、ガラス基板11上に、接着層12、陰極13、マイクロ・チップ13′、マスク層14及び陰極保持層15とが順に積層された構造よりなる。ここで、接着層12はチタンまたはアルミニウムを200nmの厚さに蒸着させて形成される。陰極13はタングステンを1μmの厚さに蒸着させて形成され、マイクロ・チップ13′は陰極13の一部を三角形にパターニングして、60°〜70°垂直上向き方向に突出されるように形成される。マスク層14は前記接着層12と同様にチタン(Ti)またはアルミニウム(Al)を蒸着、パターニングして形成され、その厚さは100nm程度に形成される。そして、陰極支持層15はクロム(Cr)を蒸着させ、ストライプ状にパターニングして形成する。ここで、接着層12及びマスク層14はそれぞれTiとAl、AlとTi、TiとTiの組合せのうちいずれか一つの組合せによりなされ、これら組合せのうち接着層およびマスク層の組合せとしてはTiとAlの組合せが最も望ましい。
【0017】
また、これら金属組合せ間の陰極物質であるタングステン(W)はこの組合せと強い内部応力の差を有する。また、この陰極をはさむTiとAlは極めて速い食刻速度を有する。これらが食刻される際、タングステン(W)は食刻されない。したがって、マイクロ・チップ13′はこのような陰極と接着層及びマスク層の大きい食刻速度の差と内部応力の差とを用いて形成される。即ち、パターニングされた三角形のマイクロ・チップ13′構造の下部の接着層12が瞬間的に食刻されると共にタングステンの強い応力により上方へ突出するように形成される。
【0018】
このような構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップの製造方法は次の通りである。
【0019】
まず、ガラス基板11上にチタン(Ti)を200nm程度の厚さに蒸着した接着層12を形成した後、タングステンをDCマグネトロン・スパッタリング法を使用して1μmの厚さに蒸着して陰極層13を形成する。このように形成された陰極層は工程の条件により極めて強い内部応力を有する層となり、この強い内部応力は接着層により潜在し、接着層が急速に食刻される時その潜在された応力により陰極層のチップパターンを強く突出させる。
【0020】
次に、アルミニウムをDCマグネトロン・スパッタリング法または電子ビームの蒸着法を使用して100nmの厚さに蒸着してマスク層14を形成した後、陰極保持層15としてクロムパターンを形成する。このクロムパターンは、リフトオフ法を使用したり、クロム層を形成した後写真食刻法などでパターニングして形成するもので、マイクロ・チップが内部応力により強く突出される時、陰極が基板から離隔しないように保持する役割を果たす。
【0021】
次に、アルミニウムマスク層14を反応性イオンエッチング(RIE; Reactive ion etching)法(リフトオフ技法を使用する場合もある)で食刻してマイクロ・チップ形成用マスク14′を形成する。この際、マスク14′の平面的な形態は図2に示したように、三角形状の鋭利な形態となるように食刻する。マイクロ・チップの鋭利さの程度はこのマスクのパターン方法に従って定められる。これにより、図2及び図3に示したような電界効果電子放出用マイクロ・チップの基本構造が形成される。
【0022】
次に、アルミニウムマスク14′を利用してCF4 /O2 プラズマでタングステン陰極層13を食刻してマイクロ・チップ部13′を形成した後、BOE法でチタン接着層12およびアルミニウムマスク14′を瞬間的に選択食刻してマイクロ・チップ13を形成する。この際、接着層12が瞬間的に食刻され、タングステンの内部応力により分離されたマイクロ・チップ13′が突き出させられてマイクロ・チップ13′が完成される。このチタン接着層12のエッチング率は極めて速いので短時間にエッチングを終了しうるように制御することが重要である。この際、BOEに使用される食刻溶液はHF:NH4 Fが7:1〜10:1の比率に混ぜられた溶液を用いる。
【0023】
なお、接着層とマスクの食刻速度に関しては、接着層の食刻速度よりマスクの食刻速度が遅いことが望ましい。そうでないと、同一の食刻液に対して、構造的に反応面積の狭いマスクの方が接着層より速く食刻され、タングステンマイクロチップ13’の内部応力によりマイクロチップが強く突出されて、チップが損傷するおそれがある。したがって、マスクの食刻速度より接着層の食刻速度がやや速く、結果的にほぼ同時に接着層及びマスクが食刻されるのが望ましい。この目的のため、接着層及びマスクの材料には、例えば、それぞれTi 及びAlを選べばよい。BOE法の食刻液HF:NH4 =7:1〜10:1に対するTi の食刻速度はAlの食刻速度よりやや速いので、接着層Ti 及びマスクAlはほぼ同時に食刻されるようになり、マイクロチップ13’が突出される際ほとんど損傷されなくなる。
【0024】
以上のように製作された電界効果電子放出用マイクロ・チップは、図4に示したように、その上部に陽極16を備え、その間を10-6torr以下の真空状態とした後、陰極保持層15を接地とし、陽極に適当な電源電圧Vaを印加すれば強い電界が形成されてその強電界によりマイクロ・チップから電子が放出される。この電界効果電子放出用マイクロ・チップは応用に従って任意に平面表示素子、高出力マイクロ・ウェーブ素子、電子ビーム応用のSEM,E−ビーム応用システム素子およびマルチプルビームの放出による(圧力)センサーとして使用することができる。
【0025】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明による電界効果電子放出用マイクロ・チップ及びその製造方法は、タングステン陰極およびその下部のチタン接着層とその上部のアルミニウムマスク間の食刻速度の差及び内部応力の差を大として、接着層及びマスクを瞬間的に食刻する時タングステンマイクロ・チップが内部の応力により突き出されるようにしてマイクロ・チップを形成する。また、マスクの形態を調整することにより、マイクロ・チップの鋭利さを任意に調整することができる。そして、工程自体がタングステン内部のストレスとBOE法の特性を用いているので再現性が優秀であり、多重チップなので出力電流をnA〜mAの広帯域の範囲で調整可能であり、マイクロ・チップの形成にタングステンを使用するので硬度、酸化、仕事関数などにおいて優れ、電気的、化学的、機械的な耐久性も優秀である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による電界効果電子放出用マイクロ・チップの斜視図である。
【図2】図1の電界効果電子放出用マイクロ・チップの製造工程を示す部分切開斜視図である。
【図3】図2のA〜A′線に沿って切開した部分の垂直断面図である。
【図4】本発明による電界効果電子放出用マイクロ・チップの駆動方法を説明するための斜視図である。
【図5】従来の電界効果電子放出用マイクロ・チップの垂直断面図である。
【図6】従来の水平構造の電界効果電子放出用マイクロ・チップの垂直断面図および平面図である。
【符号の説明】
11 ガラス基板
12 接着層
13 陰極層
13′ マイクロ・チップ部
14 アルミニウムマスク層
14′ アルミニウムマスク
15 陰極保持層
16 陽極
Claims (9)
- 基板と、
所定の食刻液に対して第1食刻速度で食刻されるチタンまたはアルミニウムを前記基板上に所定の厚さに蒸着して形成された接着層と、
前記食刻液で食刻されず、タングステンを所定の厚さに蒸着して形成され、前記接着層のチタンとタングステンとの組み合わせによる内部応力の差を有する陰極と、
前記陰極の所定の部分を三角形に食刻することにより形成された上部へ突出されたマイクロ・チップと、
前記食刻液に対して前記第1食刻速度以下の第2食刻速度で食刻されるアルミニウムを前記マイクロ・チップ以外の陰極上に所定の厚さに蒸着されて形成されたマスクと、
前記陰極保持用として前記マスク上に形成された金属パターンと、
を具備することを特徴とする電解効果電子放出用マイクロ・チップ。 - 前記マイクロ・チップは、所定の突出角度を有することを特徴とする請求項1記載の電解効果電子放出用マイクロ・チップ。
- 前記突出角度は、60°〜70°であることを特徴とする請求項4記載の電解効果電子放出用マイクロ・チップ。
- 前記金属パターンは、クロムにより形成されたことを特徴とする請求項1記載の電解効果電子放出用マイクロ・チップ。
- 基板と、所定の食刻液に対して第1食刻速度で食刻されるチタンまたはアルミニウムを前記基板上に所定の厚さに蒸着してなる接着層と、タングステンを所定の厚さに蒸着して形成され、前記接着層のチタンと前記タングステンとの組み合わせによる内部応力の差を有し、前記食刻液に対して食刻されない陰極層、及び前記食刻液に対して第1食刻速度以下の第2食刻速度で食刻されるアルミニウムを前記マイクロ・チップ以外の陰極上に所定の厚さに蒸着されてなるマスク層を順に積層する段階と、
前記マスク層上に陰極保持用金属パターンを形成する段階と、
前記マスクをパターニングして三角形のマスクを形成する段階と、
前記マスクを使用して陰極の露出された部分を食刻してマイクロ・チップとなる部分を形成する段階と、
前記マイクロ・チップとなる部分の下部及び上部の前記接着層及びマスクを所定の時間以内に食刻することにより前記マイクロ・チップとなる部分が前記内部応力により突出されるようにするマイクロ・チップの突出段階と、
を含むことを特徴とする電解効果電子放出用マイクロ・チップの製造方法。 - 前記陰極層を積層する段階は、タングステンを所定の厚さにDCマグネトロンスパッタリング法または電子ビーム蒸着法で蒸着することを特徴とする請求項5記載の電解効果電子放出用マイクロ・チップの製造方法。
- 前記マスク層を積層する段階は、チタンまたはアルミニウムを所定の厚さにマグネトロンスパッタリング法または電子ビーム蒸着法で蒸着することを特徴とする請求項5記載の電解効果電子放出用マイクロ・チップの製造方法。
- 前記マスクを形成する段階は、
前記マスク層に所定のフォトレジストマスクを形成する段階と、
このフォトレジストマスクを用いる反応性イオンエッチング法を使用して前記マスク層を食刻する段階と、
を含むことを特徴とする請求項5記載の電解効果電子放出用マイクロ・チップの製造方法。 - 前記マイクロ・チップとなる部分を形成する段階は、CF4/O2プラズマを使用して前記マスクを食刻することを特徴とする請求項5記載の電解効果電子放出用マイクロ・チップの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950006888A KR100322696B1 (ko) | 1995-03-29 | 1995-03-29 | 전계효과전자방출용마이크로-팁및그제조방법 |
KR1995-6888 | 1995-03-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08273522A JPH08273522A (ja) | 1996-10-18 |
JP3898243B2 true JP3898243B2 (ja) | 2007-03-28 |
Family
ID=19410812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24458195A Expired - Fee Related JP3898243B2 (ja) | 1995-03-29 | 1995-09-22 | 電界効果電子放出用マイクロ・チップ及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5580467A (ja) |
JP (1) | JP3898243B2 (ja) |
KR (1) | KR100322696B1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100366694B1 (ko) * | 1995-03-28 | 2003-03-12 | 삼성에스디아이 주식회사 | 다중팁전계방출소자의그제조방법 |
US5859493A (en) * | 1995-06-29 | 1999-01-12 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Lateral field emission display with pointed micro tips |
US6015323A (en) * | 1997-01-03 | 2000-01-18 | Micron Technology, Inc. | Field emission display cathode assembly government rights |
KR100434533B1 (ko) * | 1998-06-12 | 2004-07-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 필드 에미터 어레이의 제조방법 |
KR100604813B1 (ko) * | 2001-05-14 | 2006-07-26 | 삼성전자주식회사 | 정보기록방법 |
JP5004241B2 (ja) * | 2008-04-10 | 2012-08-22 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 電界放出素子用エミッタの作製方法 |
JP6741921B2 (ja) * | 2016-02-25 | 2020-08-19 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 薄膜部材の湾曲加工方法 |
CN110875165A (zh) * | 2018-08-30 | 2020-03-10 | 中国科学院微电子研究所 | 一种场发射阴极电子源及其阵列 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8621600D0 (en) * | 1986-09-08 | 1987-03-18 | Gen Electric Co Plc | Vacuum devices |
JPH02503728A (ja) * | 1988-03-25 | 1990-11-01 | トムソン‐セーエスエフ | 電界放出形ソースの製造方法及びエミッタアレイの製造へのその応用 |
JP2574500B2 (ja) * | 1990-03-01 | 1997-01-22 | 松下電器産業株式会社 | プレーナ型冷陰極の製造方法 |
US5214347A (en) * | 1990-06-08 | 1993-05-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Layered thin-edged field-emitter device |
GB2254486B (en) * | 1991-03-06 | 1995-01-18 | Sony Corp | Flat image-display apparatus |
JP3116398B2 (ja) * | 1991-03-13 | 2000-12-11 | ソニー株式会社 | 平面型電子放出素子の製造方法及び平面型電子放出素子 |
JP3235172B2 (ja) * | 1991-05-13 | 2001-12-04 | セイコーエプソン株式会社 | 電界電子放出装置 |
US5144191A (en) * | 1991-06-12 | 1992-09-01 | Mcnc | Horizontal microelectronic field emission devices |
US5382867A (en) * | 1991-10-02 | 1995-01-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Field-emission type electronic device |
US5176792A (en) * | 1991-10-28 | 1993-01-05 | At&T Bell Laboratories | Method for forming patterned tungsten layers |
US5457355A (en) * | 1993-12-01 | 1995-10-10 | Sandia Corporation | Asymmetrical field emitter |
-
1995
- 1995-03-29 KR KR1019950006888A patent/KR100322696B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-07-31 US US08/509,058 patent/US5580467A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-07-31 US US08/509,057 patent/US5631519A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-22 JP JP24458195A patent/JP3898243B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5631519A (en) | 1997-05-20 |
KR960035719A (ko) | 1996-10-24 |
KR100322696B1 (ko) | 2002-06-20 |
JPH08273522A (ja) | 1996-10-18 |
US5580467A (en) | 1996-12-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5614353A (en) | Methods for fabricating flat panel display systems and components | |
US6522053B1 (en) | Field emission element, fabrication method thereof, and field emission display | |
US5209687A (en) | Flat panel display apparatus and a method of manufacturing thereof | |
US5587588A (en) | Multiple micro-tips field emission device | |
KR100343207B1 (ko) | 전계효과전자방출소자및그제조방법 | |
US6116975A (en) | Field emission cathode manufacturing method | |
KR100343214B1 (ko) | 전계방출소자의제조방법 | |
JP3898243B2 (ja) | 電界効果電子放出用マイクロ・チップ及びその製造方法 | |
KR0133498B1 (ko) | 전계방출형냉음극제조방법,그것을이용한전계방출형냉음극,및평판형화상표시장치 | |
US6036565A (en) | Method of fabricating a field emmision cold cathode | |
KR100314830B1 (ko) | 전계방출표시장치의제조방법 | |
US5859493A (en) | Lateral field emission display with pointed micro tips | |
US5780960A (en) | Micro-machined field emission microtips | |
JPH03295131A (ja) | 電界放出素子およびその製造方法 | |
JP3184890B2 (ja) | 電子放出素子及びその製造方法 | |
KR100287116B1 (ko) | 저전압 구동이 가능한 전계방출 표시장치 및 이의 제조방법 | |
KR100343212B1 (ko) | 수평전계효과전자방출소자및그제조방법 | |
KR100274793B1 (ko) | 선형 전계방출 이미터 및 그의 제조방법 | |
KR100290137B1 (ko) | 전계방출소자제조방법 | |
JPH09283008A (ja) | 電界電子放出素子及びその製造方法 | |
JPH07262907A (ja) | 冷電子放出素子及びその製造方法 | |
JPH04282530A (ja) | パターニング方法 | |
JPH08329833A (ja) | 電子放出素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041130 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20050228 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20050315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060328 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060622 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061221 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110105 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120105 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |