JP3868658B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、面内応答型液晶表示装置に関し、特に、パネル間隙を規定するスペーサに起因する黒表示状態での光抜けを防止するためのスペーサの材質及び装置構成に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置は薄型、軽量、低消費電力の特長を有するため、腕時計、電卓等の表示素子として広く用いられている。特に薄膜トランジスタ(TFT)等によりアクティブ駆動を行なうTN型液晶表示装置はワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等の表示素子として従来CRTを用いていた領域に広がりつつある。
しかしこのTN型液晶表示装置は―般に視野角が狭く、斜め方向から観察した場合にコントラスト低下、階調反転として観察されるという問題がある。そこでこの問題を解決するため、面内応答型液晶表示装置が考案されている。この面内応答型液晶表示装置の動作原理を図8を用いて説明する。
図8(a)、(b)は、一般的な面内応答型液晶表示装置の構造を示す模式図である。図において、1aと1bは同一基板上に形成されたクシ型電極、2は液晶分子、3はクシ形電極1a、1bが複数形成された電極基板、4は対向基板、5はクシ型電極1a、1bの間に印加された電界の等電位線、6は入射光、7、8は矢印方向に透過軸をもつ偏光板、9は出射透過光、10は液晶の配向方向を各々示している。なお、図1(a)は一対のクシ型電極1a、1bの間に電圧を印加しないとき、図1(b)はクシ型電極1a、1bの間に電圧を印加したときの液晶配向状態を示している。
【0003】
電圧を印加しないとき、液晶分子2は図1(a)の配向方向10のように配向している。このとき偏光板7の透過軸を配向方向10と一致させ、偏光板8をこれと直交するように配置すると、入射光6は偏光板8を透過することができず、黒(暗)状態となる。一方、クシ型電極1a、1bの間に電圧を印加すると、図1(b)に示すように、基板面にぼぼ平行に電界が発生し、液晶分子2の配向方向が変化する。言い替えれば液晶層の複屈折性が変化するため、入射光6は偏光板8を透過し、白(明)状態となる。すなわち、面内応答型液晶表示装置において、黒(暗)状態は、液晶分子2の配向方向10と吸収軸または透過軸を一致させた一方の偏光板7を透過した直線偏光の入射光6に対し液晶層が何の影響も与えず、先の偏光板7と透過軸または吸収軸を直交させた他方の偏光板8に到達するため、この偏光板8を透過できないことにより得ているものである。
このように、面内応答型液晶表示装置では、電圧の印加/無印加により液晶分子2は基板面にほぼ平行に応答する。従って、観察する方向が変化しても液晶分子2の光学的寄与がほとんど変化しないため、視角によるコントラスト低下、表示品位低下がなく、非常に優れた視野角特性を示す。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、実際の面内応答型液晶表示装置においては、パネル間隙を規定するスペーサの近傍で図9に示すような―軸性の配向乱れが発生し、入射光に対し複屈折性が生じ楕円偏光となるため他方の偏光板を透過することができ、黒(暗)状態での光抜けとして観察されるという問題がある。図9において、11、13は液晶配向が乱れた部分、12はスペーサ、14は対向基板4に設けられた配向制御膜、15は電極基板3に設けられた配向制御膜を示している。なお、図中、同一、相当部分には同一符号を付し、説明を省略する。
液晶配向の乱れは、スペーサ12の材質や液晶分子2の材質の組み合わせにより、図9(a)または図9(b)に示す形態、または両者を混合した形態を取る。また、スペ―サ12の表面状態により乱れ方は異なるため、一定の乱れかたではなく不規則な乱れかたをする。このとき、液晶配向が乱れた部分11、13では、パネル下側より入射した光は液晶層の複屈折の影響によりパネル上側に透過し、光抜けとして観察される。特に黒表示時には顕著に観察され、液晶表示素子の表示特性の一つであるコントラスト比(白(明)状態での輝度(透過率))/(黒(暗)状態での輝度(透過率))は、黒状態での輝度(透過率)が高くなるため低下するという問題があった。また光抜けが発生したパネルでは、目視観察において表示面がざらついた印象となるという問題もあった。
【0005】
また、スペーサ12が配向制御膜14、15の表面を傷つけることにより配向異常領域が生じ、黒(暗)状態での光抜けとして観察される場合もある。この現象について、図10を用いて説明する。図において、14a、15aはスペーサ12近傍の配向制御膜、16、17は液晶配向が乱れた部分を示している。一般に、スペーサ12の材料は、シリカやジビニルベンゼン、アクリレート樹脂等の単体であり、パネル内部において物理的あるいは化学的に、配向制御膜14あるいは配向制御膜15に拘束されていない。従って、パネルに物理的な振動や荷重を加えると、スペーサ12は移動したり、上下基板に押さえつけられたりする。このため、スペーサ12近傍の配向制御膜14a、15aのいずれか一方または両方に傷が付き、液晶配向が乱れた部分16、17が発生する。液晶配向の乱れた部分16、17は、黒(暗)状態での光り抜けとして観察され、コントラストの低下や目視観察において表示面のざらついた印象となるという問題があった。
【0006】
上記のような課題を解決する方法として、従来の液晶表示装置では、スペーサの分散、固定法として、例えば特開平4 ‐136916号公報、特開平4 ‐60517 号公報、特開平9 ‐160051号公報では、スペーサを基板上の任意の位置に選択配置する方法が提示されている。また、特開平2-120719号公報、特開平8-160433号公報では、スペーサ表面を熱可塑性樹脂等の接着性樹脂で被覆し、これによってスペーサを基板上に固定した液晶表示装置及びその製造方法が提案されている。しかしながら、スペーサを基板上の任意の位置に選択配置するためには、製造工程及び材料を増加させる必要があり、製造コストが上昇するという問題がある。また、表面に接着剤を被覆したスペーサを用いた場合、接着剤が溶け出し、接着面積が増大するため、光り抜け領域が増大するといった問題や、接着剤や熱可塑性樹脂により液晶材料が汚染されるという問題や、接着剤や熱可塑性樹脂を反応させるための新たな設備投資や工程の追加が必要となるという問題もあった。
【0007】
本発明は上記のような問題点を解消するためになされたもので、スペーサに起因する光抜けを防止し、コントラスト比が十分高く、表示面のざらついた印象のない高表示品位の面内応答型液晶表示装置を得ることを目的とし、且つ上記液晶表示装置をコストの上昇を伴わずに製造することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明に係わる液晶表示装置は、走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、二枚の基板間に配置される液晶を備え、電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、第一の基板の配向制御膜よりも下層で、且つ走査信号線及び映像信号線のいずれか一方または両方の配線上に局部的に凸状のパターンを設け、凸状のパターン上に配置されたスペーサによって第一の基板及び第二の基板の間隙を規定し、その他の領域に配置されたスペーサが、第一の基板の配向制御膜及び第二の基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。
【0009】
また、走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、二枚の基板間に配置される液晶を備え、電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、第二の基板の配向制御膜よりも下層で且つ遮光膜上に局部的に凸状のパターンを設け、凸状のパターン上に配置されたスペーサによって第一の基板及び第二の基板の間隙を規定し、その他の領域に配置されたスペーサが、第一の基板の配向制御膜及び第二の基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。
さらに、凸状のパターンは、高さ0.6μm以上としたものである。
【0010】
また、走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、二枚の基板間に配置される液晶を備え、電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、第一の基板の配向制御膜よりも下層で、且つ走査信号線及び映像信号線のいずれか一方または両方の配線上と、第二の基板の配向制御膜よりも下層で且つ遮光膜上に、局部的に凸状のパターンを互いに重なり合うように設け、凸状のパターン上に配置されたスペーサによって第一の基板及び第二の基板の間隙を規定し、その他の領域に配置されたスペーサが、第一の基板の配向制御膜及び第二の基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。
また、第一の基板及び第二の基板に設けられた凸状のパターンは、高さの合計を0.6μm以上としたものである。
さらに、凸状のパターンは、顔料やSiN、SiO2等の絶縁性材料よりなるものである。
【0011】
また、走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、二枚の基板間に配置される液晶を備え、電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、スペーサは、その直径dが、二枚の基板の間隙Dよりも若干小さく、かつD−d>0.2μmであるものとし、スペーサが第一の基板の配向制御膜及び第二の基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。
【0012】
また、走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、二枚の基板間に配置される液晶を備え、電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、液晶が配置されている内部の圧力を大気圧に対して−0.3kgf/cm2以上とし、スペーサが第一の基板の配向制御膜及び第二の基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。
【0013】
本発明に係わる液晶表示装置の製造方法は、走査信号線、映像信号線、画素電極等の複数の電極及び配向制御膜を有する第一の基板と、カラーフィルタ、遮光膜及び配向制御膜を有する第二の基板の間にスペーサを配置し、二枚の基板間の外縁部に形成され一部が基板端部に達して液晶の注入口を形成するシール材により貼り合わせ、パネルを形成する工程、このパネルを、内部に液晶が満たされた容器が設置された液晶注入器内に設置し、液晶注入器内及びパネル内を真空状態にする工程、注入口を容器内の液晶に浸した状態で液晶注入器を大気圧に戻し、気圧差により液晶を注入口よりパネル内に充填した後、さらに所定の時間放置して、スペーサが第一の基板の配向制御膜及び第二の基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しない状態で注入口を封止する工程を含んで製造するようにしたものである。
また、所定の時間を、パネル内部の圧力が大気圧に対して−0.3kgf/cm2以上となる時間としたものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
参考例1.
以下に、本発明の参考例を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の参考例1における面内応答型液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。図において、100は走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する電極基板(第一の基板)であり、20はガラス基板、21は映像信号線であるソース配線、22はゲート絶縁膜、23は画素電極、24は配向制御膜をそれぞれ示している。また、101はカラーフィルタ及び遮光膜等を有し、電極基板100と一定距離を隔てて対向配置されるカラーフィルタ基板(第二の基板)であり、25はガラス基板、26は顔料あるいはクロム等の金属からなる遮光膜、27は顔料あるいは染料からなるカラーフィルタ、28は有機あるいは無機材料からなり、カラーフィルタ−の信頼性を向上させるオーバーコート膜、29は配向制御膜である。配向制御膜24、29は二枚の基板100、101の対向面上にそれぞれ設けられている。さらに、30は二枚の基板100、101の間隙を規定するスペーサ、31は二枚の基板100、101間に配置された液晶、40はラビング処理に必要なローラーを示している。
【0015】
本参考例では、電極基板100上に形成された電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、液晶分子を面内応答させる面内応答型液晶表示装置において、電極基板100及びカラーフィルタ基板101の二枚の基板の間隙を規定するスペーサ30の表面を、ビニル基または重合開始剤を有する分子化合物に、ビニル基または重合開始剤を起点として、一種または二種以上の重合可能な単量体がグラフト重合することによって形成された熱可塑性重合体によって被覆した。これにより、熱可塑性重合体を構成する単量体の有する官能基が、配向制御膜24、29とファンデルワールツ力による結合または水素結合することにより、スペーサ30が電極基板100及びカラーフィルタ基板101の少なくとも一方の基板側に固定されるものである。
【0016】
グラフト重合によって生成された分岐のある高分子をグラフト重合体と呼ぶが、これは主に連鎖にラジカル源となる活性基を付与し、これに単量体を付加させて分岐を成長させることにより得られる。グラフト重合体の特徴は、幹(主鎖部)と枝(分岐)を構成している単量体が異なることである。本参考例におけるスペーサ31表面には、グラフト重合された単量体の有する官能基、例えば水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、シリル基、シラノール基、イソシアナート基等が存在している。これらの官能基は、配向制御膜24、29とファンデルワールツ力による結合または水素結合し、その結合部分は非常に小さいため、光抜け領域も小さく抑えられる。この手法によれば、スペーサ30周辺に生じる一軸性の配向乱れによるスペ−サ30部分からの光抜けは残るが、最も大きい因子であったスペーサ30の移動によって配向制御膜24、29に傷がつくことによる光抜けを防止することが可能となる。
なお、スペーサ30を被覆する熱可塑性重合体を、表面に多数の長鎖アルキル基を有するものとすることで、スペーサ30部分からの光抜けも防止することができる。この長鎖アルキル基は、グラフト重合によるグラフト重合体鎖に結合されており、炭素数が6以上であることが望ましい。この件については、後述の参考例2で詳しく説明する。
【0017】
以下に、本参考例における液晶表示装置の製造方法を説明する。まず、図1(a)に示すように、ガラス基板20上に、フォトリソグラフィ法により、走査信号線であるゲート配線、映像信号線であるソース配線21、画素電極23等の複数の電極を形成し、電極基板100を形成する。ソ−ス配線21は、アモルファスシリコン0.2μm、Cr0.1μm、Al0.3μmより形成し、ゲート絶縁膜22はSiN0.4μm 、画素電極23はCr0.1μmより形成した。さらに、この電極基板100上に、転写法により配向制御膜24(日本合成ゴム社製AL1044)を厚さ0.07μmで形成し、180℃のオーブンにより熱を加え硬化させる。次に、図1(b)に示すように、硬化した配向制御膜24をナイロン系のラビング布を装着したローラー40を用いてラビング処理を行なう。これにより、基板面に対して平行方向に電界を印加する面内応答型液晶表示装置の電極基板100が形成される。次に、図1(c)に示すように、前述の表面に官能基を有するスペーサ30(ナトコペイント社製:KSE、スペーサ径4.0±0.2μm)を散布する。スペーサ30の分散密度は平均300個/cm2(ばらつき200〜400個/cm2)とした。
【0018】
続いて、図1(d)に示すように、別のガラス基板25上に、フォトグラフィ法により顔料あるいはクロム等の金属からなる遮光膜26、顔料あるいは染料からなるカラーフィルタ27、有機あるいは無機材料からなるオーバーコート膜28を形成し、さらに、配向制御膜29(日本合成ゴム社製AL1044)を厚さ0.07μmで形成し、180℃のオーブンにより熱を加え硬化させた後、ラビング処理を施し、カラーフィルタ基板101を形成する。さらに、カラ−フィルタ基板101の配向制御膜29を形成した面の周辺に、両基板を貼り合わせるためのエポキシ系接着剤よりなるシール材(図示せず)をディスペンサ法により塗布する。
【0019】
次に、図1(e)に示すように、電極基板100上の各画素電極領域とカラーフィルタ基板101のカラーフィルタ27が対面するように両基板を対向させ重ね合わせる。その後、0.5kgf/cm2の圧力を基板全体に加え、かつ150℃の熱を加えながら前述のシール材を硬化させる熱圧着を行なう。この工程において、シール材を硬化させると共に、対向する両基板の間隙がスペーサ30により均一になり、且つ、スペーサ30表面に存在する官能基と配向制御膜24、29が結合され、スペーサ30が固定される。
その後、図1(f)に示すように、減圧法により液晶31を基板間隙に注入し封止する。なお、減圧法における液晶の注入後、両基板を加圧し、余分に入った液晶を外部に放出した後で封止する技術があるが、同工程で生じる加圧力は強く、スペ−サ30と配向制御膜24、29の結合を切ることがあるため、本実施の形態では行わない。これを行うと50%以上の割合でスペーサ30と配向制御膜24、29の結合が切れる事を確認している。そのため減圧法による液晶の注入は、注入部と反対側の基板端部まで液晶31が達した後、1時間の放置をし、加圧することなく封止を行なった。
【0020】
以上の工程により作製された面内応答型液晶表示装置は、表面に官能基を持つスペーサ30が、配向制御膜24、29と結合しているため、物理的な衝撃がパネルに加わっても、スペーサ30が移動することがなく、しかも結合している面積が非常に小さいことから光抜けも小さく抑えられ、コントラスト比の低下や表示面のざらついた印象もなく良好な表示特性を得ることができた。
なお、電極基板100、カラーフィルタ基板101の凹凸形状やスペーサ30の大きさ、圧着圧力の強さ等の組み合わせにより、熱圧着の工程においてスペーサ30が電極基板100またはカラーフィルタ基板101のどちらか一方にのみ固定される場合があるが、この場合においてもスペーサ30の移動を防止できるため、同様の効果が得られる。
【0021】
参考例2.
本参考例では、従来のスペーサ周辺に発生していた一軸性の配向乱れに起因する光抜けを防止することが可能なスペーサ材料について述べる。なお、本参考例における面内応答型液晶表示装置の構造は、スペーサの材質が異なることを除いて上記参考例1で説明した構造(図1)と同様であるため、図示を省略する。
本参考例におけるスペーサは、表面に多数の長鎖アルキル基を有する高分子化合物よりなるものである。なお、この長鎖アルキル基は、グラフト重合によるグラフト重合体鎖に結合されているもので、炭素数が6以上のものである。本参考例によれば、スペーサ表面の配向規制力が強いため、スペーサ周辺において―軸性の配向乱れが生じず、光抜けが起きない状態を達成することが可能となる。
【0022】
上記参考例1では、スペーサ30が電極基板100またはカラーフィルタ基板101の少なくとも一方に固定されていることで、スペーサ30の移動によって配向制御膜24、29に傷がつくことによる光抜けを防止することはできたが、スペーサ30周辺に生じる一軸性の配向乱れに起因する光抜けを防止することはできなかった。一方、本参考例によれば、スペーサ周辺に生じる一軸性の配向乱れに起因する光抜けを防止することが可能である。すなわち、上記参考例1と本参考例を組み合わせることにより、光抜けを完全に防止することができ、コントラスト比の低下や表示面のざらついた印象もなく良好な表示特性の面内応答型液晶表示装置を得ることができる。
【0023】
実施の形態1.
図2は、本発明の実施の形態1における面内応答型液晶表示装置の製造工程を示す断面図、図3は本実施の形態において作成される面内応答型液晶表示装置を示す断面図である。図において、100aは、本実施の形態において作成される電極基板であり、32はソース配線21上に局部的に形成された凸状のパターン、30aはスペーサである。なお、図中、同一、相当部分には同一符号を付し、説明を省略する。
本実施の形態では、電極基板100aの配向制御膜24よりも下層で、且つゲート配線(図示せず)及びソース配線21のいずれか一方または両方の配線上に局部的に凸状のパターン32を設け、凸状のパターン32上に配置されたスペーサ30aによって電極基板100a及びカラーフィルタ基板101の間隙を規定し、その他の領域に配置されたスペーサ30aが、電極基板100aの配向制御膜24及びカラーフィルタ基板101の配向制御膜29のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。なお、通常のスペーサの粒径精度分布は、標準偏差で0.2μm程度であり、工程管理基準として、σ値を適用すると0.6μmであるため、凸状のパターン32の高さは0.6μm以上とした。
【0024】
本実施の形態における液晶表示装置の製造方法を図2を用いて説明する。まず、図2(a)に示すように、上記参考例1と同様の手法により、電極基板100aを作製する。次に、図2(b)に示すように、配線幅6μmのソース配線21上に、フォトリソグラフィ法により、縦×横×高さが5μm×50μm×0.6μmの凸状のパターン32を形成する。凸状のパターン32の材質は、顔料や電極基板100aに使用される材料(SiN、SiO2、Al、Cr)等が考えられるが、液晶駆動への影響を考慮すると、顔料やSiN、SiO2等の絶縁性材料が望ましい。今回の場合、下地とのコンタクトの良好性を考え、SiNを0.6μm積層した。その後、図2(c)に示すように、配向制御膜24を形成し、上記参考例1と同様の工程によって図3に示す液晶表示装置が完成した。
【0025】
本実施の形態において使用されるスペーサ30aの径は、上記参考例1における液晶表示装置と液晶層の厚みが同じである場合、上記参考例1で使用されたスペーサ30よりも凸状のパターン32の高さ0.6μm分だけ小さいものとなる。そのため、凸状のパターン32以外の領域、例えば画素部に配置されたスペーサ30aは、電極基板100aの配向制御膜24及びカラーフィルタ基板101の配向制御膜29の両方に接触することはない。すなわち、スペーサ30aの移動によって配向制御膜24、29に傷がつくことによる光抜けがないため、コントラスト比の低下や表示面のざらついた印象もなく、良好な表示特性を得ることができた。
【0026】
実施の形態2.
図4は、本発明の実施の形態2における面内応答型液晶表示装置の製造工程を示す断面図、図5は本実施の形態において作成される面内応答型液晶表示装置を示す断面図である。図において、101aは、本実施の形態において作成されるカラーフィルタ基板であり、33はカラーフィルタ基板101aの遮光膜26上に局部的に形成された凸状のパターン、30bはスペーサである。なお、図中、同一、相当部分には同一符号を付し、説明を省略する。
本実施の形態では、カラーフィルタ基板101aの配向制御膜29よりも下層で且つ遮光膜26上に局部的に凸状のパターン33を設け、凸状のパターン33上に配置されたスペーサ30bによって電極基板100及びカラーフィルタ基板101aの間隙を規定し、その他の領域に配置されたスペーサ30bが、電極基板100の配向制御膜24及びカラーフィルタ基板101aの配向制御膜29のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。なお、凸状のパターン33の高さは上記実施の形態1と同様の理由で0.6μm以上とした。
【0027】
本実施の形態における液晶表示装置の製造方法を図4を用いて説明する。まず、図4(a)に示すように、ガラス基板25上に、フォトグラフィ法により顔料あるいはクロム等の金属からなる遮光膜26、顔料あるいは染料からなるカラーフィルタ27、有機あるいは無機材料からなるオーバーコ−ト 膜28を備えたカラーフィルタ基板101aを作成する。次に、図4(b)に示すように、幅25μmの遮光膜26上に、フォトグラフィ法により、縦×横×高さが15μm×50μm×0.6μmの凸状のパタ−ン33を形成する。凸状のパターン33の材質は、顔料や電極基板に使用される材料(SiN、SiO2、Al、Cr)等が考えられるが、液晶駆動への影響を考慮すると、顔料やSiN、SiO2等の絶縁性材料が望ましい。本実施の形態では、下地とのコンタクトの良好性を考え、オーバーコート膜28と同様の材料であるアクリル系樹脂を0.6μm積層した。その後、図4(c)に示すように、配向制御膜29を形成し、上記参考例1と同様の工程によって図5に示す液晶表示装置が完成した。
【0028】
本実施の形態において使用されるスペーサ30bの径は、上記参考例1における液晶表示装置と液晶層の厚みが同じである場合、上記参考例1で使用されたスペーサ30よりも凸状のパターン32の高さ0.6μm分だけ小さいものとなる。そのため、凸状のパターン32以外の領域、例えば画素部に配置されたスペーサ30bは、電極基板100aの配向制御膜24及びカラーフィルタ基板101の配向制御膜29の両方に接触することはない。すなわち、スペーサ30bの移動によって配向制御膜24、29に傷がつくことによる光抜けがないため、コントラスト比の低下や表示面のざらついた印象もなく、良好な表示特性を得ることができた。
【0029】
なお、上記実施の形態1と本実施の形態を組み合わせることによっても、同様の効果が得られる。すなわち、電極基板の配向制御膜よりも下層で、且つゲート配線及びソース配線のいずれか一方または両方の配線上と、カラーフィルタ基板の配向制御膜よりも下層で且つ遮光膜上に、局部的に凸状のパターンを互いに重なり合うように設け、凸状のパターン上に配置されたスペーサによって電極基板及びカラーフィルタ基板の間隙を規定し、その他の領域に配置されたスペーサが、電極基板の配向制御膜及びカラーフィルタ基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにすることも可能である。この場合も、電極基板及びカラーフィルタ基板に設けられた凸状のパターンの高さの合計は0.6μm以上とし、顔料やSiN、SiO2等の絶縁性材料よりなるものとする。また、電極基板及びカラーフィルタ基板にそれぞれ設けられた凸部の位置が互いに異なるよう配置される構造でも良い。
【0030】
実施の形態3.
上記実施の形態1及び実施の形態2では、電極基板上またはカラーフィルタ基板上に局部的に凸状のパターンを設け、この凸状のパターン上に配置されたスペーサによって電極基板及びカラーフィルタ基板の間隙を規定し、その他の領域である画素領域に配置されたスペーサが、電極基板の配向制御膜及びカラーフィルタ基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたが、本実施の形態では、スペーサの直径を二枚の基板の間隙よりも若干小さいものとすることにより、スペーサが電極基板の配向制御膜及びカラーフィルタ基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたものである。なお、スペーサは、その直径dが、二枚の基板の間隙Dに対してD−d>0.2μmを満たすものである。
本実施の形態によれば、二枚の基板の間隙Dに対し、十分にスペーサ径が小さいことで、スペーサが両基板に挟まれて配向制御膜に傷を付けることがなくなり、それに伴う光抜けを防止することが可能となる。通常のスペーサの粒径精度分布は標準偏差で0.2μm程度であるため、基板の間隙とスペーサ径との間に必要な差は0.2μm以上である。
【0031】
実施の形態4.
本実施の形態では、面内応答型液晶表示素子の液晶注入工程及び封止工程において、液晶が配置されているパネル内部の圧力を大気圧に対して−0.3kgf/cm2以上とすることにより、スペーサを電極基板の配向制御膜またはカラーフィルタ基板の配向制御膜のいずれか片側のみに接触した状態とし、光抜けを抑制するものである。
本実施の形態における液晶表示装置の製造方法を図6を用いて説明する。図において、34は基板間の外縁部に形成され一部が基板端部に達して液晶の注入口35を形成するシール材、36は液晶、37は内部に液晶36が満たされた容器である液晶貯蔵皿、38はパネル内部、39は液晶注入器を示している。
まず、ゲート配線、ソース配線、画素電極等の複数の電極及び配向制御膜を有する電極基板と、カラーフィルタ、遮光膜及び配向制御膜を有するカラーフィルタ基板の間にスペーサを配置し、二枚の基板間の外縁部に形成され一部が基板端部に達して液晶の注入口を形成するシール材34により貼り合わせ、パネルを形成する。
【0032】
次に、上記パネルを、図6(a)に示すように、内部に液晶36が満たされた液晶貯蔵皿37が設置された液晶注入器39内に設置し、液晶注入器39内及びパネル内部38を真空状態にする。液晶パネルの機構や性能にもよるが、パネル内部38に残る空気の残量を考慮すると10−2torr程度の真空状態とするのが望ましい。なお、液晶注入器39は、パネルが入る大きさで密閉する機構があれば形状や材質は問わない。また、図6では液晶の注入口35は1つとしたが、1辺に1つ以上形成されていればよい。
次に、図6(b)に示すように、パネル内部38を含めた液晶注入器39内が均一な真空状態になった後、注入口35を液晶36につける。これにより、パネル内部38は液晶36で蓋をされた状態となる。その後、図6(c)に示すように、注入口35を液晶貯蔵皿37内の液晶36に浸した状態で、液晶注入器39を大気圧(760torr)に戻し、気圧差により液晶36を注入口35よりパネル内部38に充填した後、さらに所定の時間放置して、外部からの圧力がパネルに加えられず、スペーサが、電極基板の配向制御膜及びカラーフィルタ基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しない状態で注入口を封止する。本実施の形態では、充填終了後、120分間以上放置して注入口35を封止する。この時、液晶が配置されているパネル内部38の圧力は、大気圧に対して−0.3kgf/cm2以上となっており、外部からの圧力がわずかに加わっているが、この程度の圧力であれば、光抜けが観察されない状態が得られる。すなわち、所定の時間とは、パネル内部の圧力が大気圧に対して−0.3kgf/cm2以上となる時間である。
【0033】
一般に、上記のような大気圧との差圧を用いて液晶を注入する方式では、大気圧と液晶表示パネルの内圧が等しくなった時に液晶36がパネル内部38に満たされた状態となる。図6(c)において、注入口35よりパネル内部38に液晶36が充填される際には、パネル内部38は大気圧で加圧されている状態となる。そのため、2枚の基板の間隙は非常に狭い状態となる。この状態において、液晶36は、パネル内部38と大気圧との差圧、および毛細管現象により内部へと進入する。注入口35の対辺にあるシール34に液晶36が到達すると、外観上の液晶注入が完了するが、パネルの内圧は液晶36がシール34に到達した時点では負圧の状態となっている。この状態から、パネル内部38が大気圧と釣り合う推移を緩和時間と呼ぶ。
【0034】
図7に、緩和時間と対向配置された二枚の基板の間隙(パネル間隙)の関係を示す。図7における液晶表示装置は、対角10.4”S‐VGAサイズの面内応答型液晶表示装置で、主な構成部材は、表示面内に散布するスペーサに球径3.2μmのプラスチックスペーサ(積水ファインケミカル社;ミクロパールSP―2032)を用い、配向制御膜(日本合成ゴム社;オプトマーAL1044)を0.06μm対峙する基板両面に形成し、2枚の基板を貼り合わせるシール材(三井化学社;ストラクトボンドXN‐21S)にガラススペーサ(日本電気ガラスエ業社;マイクロロットPF‐45)を混入し、液晶材料として面内応答型液晶表示素子用途で粘度20cpの材料を用いた。また、注入口は24mm幅で1つとした。同条件における緩和時間とパネル間隙の関係をみると、約200分放置で飽和している。また、上述の外観上の液晶注入が完了した時間は210分であった。すなわち、液晶注入が完全に終了するまで410分もの時間を費やした。液晶充填の時間は、液晶表示素子の大きさにより比例して増加するため、大型素子の生産量の増加に伴い製造施設を圧迫することとなる。そのため、従来のTN方式の液晶表示装置の製造工程においては、必要なパネル間隙および液晶層の均―性を満足した時点で封止工程に移行し、生産量を確保するのが一般的であった。
【0035】
しかし、面内応答型液晶表示装置の場合はTN方式に比べ、上記工程の管理を厳密にする必要がある。液晶注入の工程で緩和時間を短くすることは、パネル内部に充填される液晶の量が減ることとなる。それに伴い、表示面内に存在するスペーサは、対向配置された二枚の基板間に挟まれる構造となり、スペーサ周辺部に光り抜け領域が生じる結果となる。例えば、図7のケースでは、緩和時間100分ではスペーサ周辺部の光り抜け領域が生じ、120分以降では生じなかった。すなわち、緩和時間100分では、スペーサは対向配置された二枚の基板の両方の配向制御膜に接触した状態であり、120分では片側のみに接触した状態であると考えられる。緩和時間120分における液晶パネル内の内圧をパネル間隙の状態から計算すると、大気圧に対して−0.28kgf/cm2の状態である。光抜けが生じない状態が、緩和時間100〜120分の間にあることから、面内応答型液晶表示装置内の圧カは、−0.3kgf/cm2以上となるように管理することが必要である。
【0036】
なお、上記実施の形態1〜4において使用される液晶材料の種類は特に限定するものではなく、通常のTN型液晶表示装置に用いられている液晶材料を用いることができる。液晶材料の誘電率異方性の値は特に限定するものではないが、1≦△ε≦12の範囲であることが望ましい。液晶材料の誘電率異方性が△ε<1の場合、電界に対する応答性が低いため、その駆動に高い電圧を必要とする。△ε>12の場合、液晶材料の分極が大きいためイオン性不純物等の不純物を包含しやすく、液晶材料の劣化を招きやすい。液晶材料の屈折率異方性(△n)とパネルギャップ(d)の積、△n・dの値は特に限定するものではないが、0.1μm以上0.4μm以下であることが好ましい。0.1μm未満または0.4μmを超える場合にも表示を行なうことはできるが、着色が大きく良好な色再現性を得るごとができないことがある。
【0037】
また、上記実施の形態1〜4において使用できる液晶配向制御膜の種類は特に限定するものではなく、通常の液晶表示装置で用いられている可溶性ポリイミド、アミック酸焼成タイプのポリイミド等を用いることができる。またプレチルト角の大きさは特に限定するものではないが、10度以下であることが望ましい。10度を超える場合、視野角の角度依存性が大きく、面内応答型液晶表示装置の特長である優れた視野角特性を得ることができないことがある。
【0038】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、第一の基板の配向制御膜よりも下層で、且つ走査信号線及び映像信号線のいずれか一方または両方の配線上に局部的に凸状のパターンを設けたり、または、第二の基板の配向制御膜よりも下層で且つ遮光膜上に局部的に凸状のパターンを設けることにより、凸状のパターン上に配置されたスペーサによって第一の基板及び第二の基板の間隙を規定し、その他の領域に配置されたスペーサが、第一の基板の配向制御膜及び第二の基板の配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたので、スペーサの移動によって配向制御膜に傷がつくことによる光抜けを防止することができ、コントラスト比が十分高く、表示表面のざらついた印象のない高表示品位の液晶表示装置を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の参考例1における面内応答型液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。
【図2】 本発明の実施の形態1における面内応答型液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。
【図3】 本発明の実施の形態1における面内応答型液晶表示装置を示す断面図である。
【図4】 本発明の実施の形態2における面内応答型液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。
【図5】 本発明の実施の形態2における面内応答型液晶表示装置を示す断面図である。
【図6】 本発明の実施の形態4における面内応答型液晶表示装置の製造方法を示す説明図である。
【図7】 液晶表示装置のパネル間隙と緩和時間の関係を示す図である。
【図8】 一般的な面内応答型液晶表示装置の構造を示す模式図である。
【図9】 従来の面内応答型液晶表示装置において、スペーサ近傍で発生する一軸性の液晶配向の乱れによる光抜けを説明する図である。
【図10】 従来の面内応答型液晶表示装置において、スペーサが配向制御膜表面を傷つけることにより発生する液晶配向の乱れによる光抜けを説明する図である。
【符号の説明】
1a、1b クシ型電極、2 液晶分子、3 電極基板、4 対向基板、
5 等電位線、6 入射光、7、8 偏光板、9 出射透過光、
10 液晶の配向方向、11、13、16、17 液晶配向が乱れた部分、
12 スペーサ、14、15 配向制御膜、20 ガラス基板、
21 ソース配線、22 ゲート絶縁膜、23 画素電極、
24 配向制御膜、25 ガラス基板、26 遮光膜、
27 カラーフィルタ、28 オーバーコート膜、29 配向制御膜、
30、30a、30b スペーサ、31 液晶、
32、33 凸状のパターン、34 シール材、35 注入口、36 液晶、
37 液晶貯蔵皿、38 パネル内部、39 液晶注入器、40 ローラー、
100、100a 電極基板、101、101a カラーフィルタ基板。
Claims (10)
- 走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、上記第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、上記二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、上記二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、上記二枚の基板間に配置される液晶を備え、上記電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、上記液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、
上記第一の基板の上記配向制御膜よりも下層で、且つ上記走査信号線及び上記映像信号線のいずれか一方または両方の配線上に局部的に凸状のパターンを設け、上記凸状のパターン上に配置された上記スペーサによって上記第一の基板及び上記第二の基板の間隙を規定し、その他の領域に配置された上記スペーサが、上記第一の基板の上記配向制御膜及び上記第二の基板の上記配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたことを特徴とする液晶表示装置。 - 走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、上記第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、上記二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、上記二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、上記二枚の基板間に配置される液晶を備え、上記電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、上記液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、
上記第二の基板の上記配向制御膜よりも下層で且つ上記遮光膜上に局部的に凸状のパターンを設け、上記凸状のパターン上に配置された上記スペーサによって上記第一の基板及び上記第二の基板の間隙を規定し、その他の領域に配置された上記スペーサが、上記第一の基板の上記配向制御膜及び上記第二の基板の上記配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたことを特徴とする液晶表示装置。 - 上記凸状のパターンは、高さ0.6μm以上としたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶表示装置。
- 走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、上記第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、上記二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、上記二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、上記二枚の基板間に配置される液晶を備え、上記電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、上記液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、
上記第一の基板の上記配向制御膜よりも下層で、且つ上記走査信号線及び上記映像信号線のいずれか一方または両方の配線上と、上記第二の基板の上記配向制御膜よりも下層で且つ上記遮光膜上に、局部的に凸状のパターンを互いに重なり合うように設け、上記凸状のパターン上に配置された上記スペーサによって上記第一の基板及び上記第二の基板の間隙を規定し、その他の領域に配置された上記スペーサが、上記第一の基板の上記配向制御膜及び上記第二の基板の上記配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたことを特徴とする液晶表示装置。 - 上記第一の基板及び上記第二の基板に設けられた凸状のパターンは、高さの合計が0.6μm以上であることを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。
- 上記凸状のパターンは、顔料やSiN、SiO2等の絶縁性材料よりなることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
- 走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、上記第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、上記二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、上記二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、上記二枚の基板間に配置される液晶を備え、上記電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、上記液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、
上記スペーサは、その直径dが、上記二枚の基板の間隙Dよりも若干小さく、かつD−d>0.2μmであるものとし、上記スペーサが上記第一の基板の上記配向制御膜及び上記第二の基板の上記配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたことを特徴とする液晶表示装置。 - 走査信号線、映像信号線及び画素電極等の複数の電極を有する第一の基板と、カラーフィルタ及び遮光膜等を有し、上記第一の基板と一定距離を隔てて対向配置された第二の基板と、上記二枚の基板の対向面上にそれぞれ設けられた配向制御膜と、上記二枚の基板の間隙を規定するスペーサと、上記二枚の基板間に配置される液晶を備え、上記電極間に電圧を印加し基板面にほぼ平行に電界を発生させ、上記液晶分子を面内応答させる液晶表示装置において、
上記液晶が配置されている内部の圧力を大気圧に対して−0.3kgf/cm2以上とし、上記スペーサが上記第一の基板の上記配向制御膜及び上記第二の基板の上記配向制御膜のいずれか一方にしか接触しないようにしたことを特徴とする液晶表示装置。 - 走査信号線、映像信号線、画素電極等の複数の電極及び配向制御膜を有する第一の基板と、カラーフィルタ、遮光膜及び配向制御膜を有する第二の基板の間にスペーサを配置し、上記二枚の基板間の外縁部に形成され一部が基板端部に達して液晶の注入口を形成するシール材により貼り合わせ、パネルを形成する工程、
上記パネルを、内部に液晶が満たされた容器が設置された液晶注入器内に設置し、上記液晶注入器内及び上記パネル内を真空状態にする工程、
上記注入口を上記容器内の液晶に浸した状態で上記液晶注入器を大気圧に戻し、気圧差により液晶を上記注入口より上記パネル内に充填した後、さらに所定の時間放置して、上記スペーサが上記第一の基板の上記配向制御膜及び上記第二の基板の上記配向制御膜のいずれか一方にしか接触しない状態で上記注入口を封止する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 上記所定の時間を、上記パネル内部の圧力が大気圧に対して−0.3kgf/cm2以上となる時間としたことを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置の製造方法。
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