JP3861904B2 - 電子ビ−ム描画装置 - Google Patents
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Description
図5、図6は本発明の高さ検出器の一実施例を説明するものである。図5は、本実施例の高さ検出器の光学系の光路図を示している。図5(1)はZ方向からの射影図であり、図5(2)側面図、すなわち試料面がXY平面にあるとしたときのz方向を含む側面からの射影図である。図5中一点鎖線は光軸を示し、点線はスリット中心から発した光線を示す。図6は、図5に示した本発明の高さ検出器を電子ビーム描画装置に適応した場合の装置内での構成を示している。
つまり、ΔhはΔdに比例するので、試料高さ変化は受光素子上の光点位置変化となる。そこで、受光素子56を半導体位置検出素子(PSD)として光点位置を電気信号に変換し、信号処理部で適当な信号処理を施すと、試料の高さを検出できる。
Claims (4)
- 電子ビーム源を備えた電子光学系鏡筒を有し、
前記電子ビーム源から照射される電子ビームによって所定のパターンを試料に形成する電子ビーム描画装置において、
前記試料を載置する試料ステージと、
前記試料の高さを検出する高さ検出器と、
前記試料ステージを格納する試料室とを備え、
前記高さ検出器は、
光源と、
該光源から放射した光を通過させて、該通過した光が前記試料に照射するように配置された第1のレンズと、
前記試料より反射した前記光が入射されるように配置された第2のレンズと、
前記第2のレンズを通過した光を受光する受光素子と、
前記第1と第2のレンズの落下を防止し、且つチャージアップを防止する手段とを備え、
前記第1のレンズおよび第2のレンズは、前記電子光学系鏡筒と前記試料ステージの空間に配置され、
更に、前記第1のレンズおよび第2のレンズは、レンズ表面にコーティングされた導電性膜を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 電子ビーム源を備えた電子光学系鏡筒を有し、
前記電子ビーム源から照射される電子ビームによって所定のパターンを試料に形成する電子ビーム描画装置において、
前記試料を載置する試料ステージと、
前記試料の高さを検出する高さ検出器と、
前記試料ステージを格納する試料室とを備え、
前記高さ検出器は、
光源と、
該光源から放射した光を通過させて、該通過した光が前記試料に照射するように配置された第1のレンズと、
前記試料より反射した前記光が入射されるように配置された第2のレンズと、
前記第2のレンズを通過した光を受光する受光素子と、
前記第1と第2のレンズの外周部に設けられた金属板と、
当該金属板を前記電子光学系鏡筒の底面または前記試料室の内壁面に取り付けるためのホルダと、
該金属板とレンズの導通を取る手段とを備え、
前記第1のレンズおよび第2のレンズは、前記電子光学系鏡筒と前記試料ステージの空間に配置され、
更に前記第1のレンズおよび第2のレンズは、レンズ表面にコーティングされた導電性膜を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 請求項1または2に記載の電子ビーム描画装置において、
前記第1のレンズまたは第2のレンズの表面がグランド電位であることを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の電子ビーム描画装置において、
前記第1のレンズは開口絞りを備えることを特徴とする電子ビーム描画装置。
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