JP3857319B2

JP3857319B2 - α，α―ジフルオロベンジルエーテル誘導体、液晶組成物および液晶表示素子

Info

Publication number: JP3857319B2
Application number: JP53606197A
Authority: JP
Inventors: 秋一松井; 靖幸小泉; 和利宮沢; 靖子関口; 悦男中川
Original assignee: Chisso Corp
Current assignee: JNC Corp
Priority date: 1996-04-11
Filing date: 1997-04-09
Publication date: 2006-12-13
Anticipated expiration: 2017-04-09
Also published as: EP0893424A1; TW442555B; WO1997037960A1; AU2307197A

Description

技術分野
本発明は、主としてＴＮ、ＳＴＮおよびＴＦＴ用液晶組成物において好適な諸物性を発現させる新規液晶性化合物であるα，α−ジフルオロベンジルエーテル誘導体、およびこの新規液晶性化合物を用いた、好適な諸物性を有する液晶組成物、ならびにこれら液晶組成物を使用した液晶表示素子に関する。
背景技術
液晶表示素子は、液晶物質が有する光学異方性および誘電率異方性を利用するもので、時計をはじめとして電卓、ワープロ、テレビ等に広く利用され、その需要も年々増加傾向にある。液晶相は、固体相と液体相の中間に位置し、ネマチック相、スメクチック相およびコレステリック相に大別される。中でもネマチック相を利用した表示素子が現在最も広く使用されている。一方表示方式はこれまで多数の方式が考案されてきたが、現在はツイストネマチック（ＴＮ）型、スーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型の３種類が主流となっている。これら種々の液晶表示素子に必要とされる液晶性物質の性質はその使用用途に応じて種々異なるが、いずれの液晶物質も水分、空気、熱、光等外的環境因子に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性でありかつ駆動電圧が低いことが要求される。しかし、これらの条件を同時に満たす単一の液晶物質は見いだされていない。
液晶表示素子に用いられる液晶物質は、通常個々の表示素子に要求される最適な誘電率異方性値（△ε）、屈折率異方性値（△ｎ）、粘度および弾性定数比Ｋ３３／Ｋ１１（Ｋ３３：ベンド弾性定数、Ｋ１１：スプレイ弾性定数）の値等の諸物性値を調製するために、通常、数種類から数十種類の液晶性化合物および必要によりさらに数種類の非液晶性化合物を混合することにより液晶組成物を調製し、表示素子に使用しているのが現状である。このため他の液晶化合物との相溶性、特に最近では種々の環境下での使用への要求から低温相溶性に関しても良好であることが要求される。
ところで近年、コントラスト、表示容量、応答時間等の表示性能の面からアクティブマトリックス方式、中でも薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）方式がテレビジョンやビューファインダー等の表示モードとして盛んに採用されている。また、大きな表示容量を持ちながらアクティブマトリックス方式の表示素子と比較し、表示素子の構造が比較的簡単で安価で製造できるＳＴＮ方式もパーソナルコンピューター等のディスプレーとして多く採用されている。
これら分野における近年の開発傾向は、携帯できることを特徴とした小型テレビやノート型パーソナルコンピューターに代表されるように液晶表示素子の小型化、携帯化が中心に進められており、液晶材料の面からはＩＣの耐電圧との絡みから駆動電圧の低い、すなわちしきい値電圧の低い液晶性化合物および液晶組成物を中心に開発が行われている。
しきい値（Ｖｔｈ）は以下の式（H.J.Deuling et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., 27(1975)81）にて表されることが知られている。
Ｖｔｈ＝π（Ｋ／ε₀△ε）^1/2
上式においてＫは弾性定数、ε₀は真空の誘電率である。この式から判るようにしきい値電圧を低下させるには誘電率異方性（△ε）を大きくするか、あるいは弾性定数を小さくするかの２通りの方法が考えられる。しかし実際には弾性定数のコントロールは非常に困難であるところから、通常は誘電率異方性（△ε）の大きな液晶材料を用いているのが現状であり、以上の事実を背景として誘電率異方性（△ε）の大きな液晶性化合物の開発が盛んに行われてきた。
現在、ＴＦＴ方式の表示素子に使用されている液晶組成物のほとんどはフッ素系の液晶材料から構成されている。これはＴＦＴ方式においては素子の構成上高い電圧保持率（V.H.R.）を必要とし、またその温度依存性が小さな材料でなければならず、フッ素系以外の材料ではこれら要求を満たせないからである。従来のフッ素系低電圧用材料として以下の化合物が知られている。

（上記構造式においてＲはアルキル基を示す）
化合物（ａ）および（ｂ）はいずれも化合物分子末端に数個のフッ素原子を有し、比較的大きな誘電率異方性を示すことが報告されているが、その透明点（ＮＩ点）は低く、またその粘度は比較的大きいことが知られている。通常当該業者の間では、フッ素原子の置換数と透明点の関係および粘度との関係については、単純ではないがそれぞれ反比例的および比例的な関係があることが経験的に知られている。この為これら一連の化合物のみで液晶組成物を調製した場合、要求される透明点ならびに粘度（応答速度）を達成できないばかりか、その大きな極性のため実際の使用において外部環境からイオン性不純物等を取り込み易く、その為に電圧保持率が低下してしまう等問題が多々あった。
上述の問題解決の為に極最近では弾性定数比をコントロールし、低電圧化に対処した化合物が特許公報等で報告されている。その一例として下記の化合物が開示されている。

化合物（ｃ）は同骨格を有する化合物と比較し比較的低粘性ではあるが、側鎖の不飽和結合基の外部環境の変化（熱、光等）に対する安定性が側鎖の飽和型のものに対して低く、さらに誘電率異方性値が大きなところから、上述の問題解決には不適当である。一方、化合物（ｄ）については同骨格を有する化合物と比較し高い透明点を有し、かつ弾性定数が小さい特長を有することが明細書に開示されているが、本発明者らの考察では側鎖に置換された２つのフッ素原子によりその粘度は非常に大きく、高速応答を必要とする組成物への使用は不適当と考えられる。
このように小さな弾性定数を有し、高い電圧保持率および低い粘度を兼ね備え、低電圧駆動および高速応答が可能な液晶性化合物は見いだされていないのが現状であり、これら課題を解決する改善された特性を有する化合物が待望されている。
発明の開示
本発明の課題は、低電圧駆動および高速応答可能な液晶材料として１）低いしきい値電圧を有し、２）低粘性であり、３）液晶組成物に添加した場合、誘電率異方性を維持または低下させ、さらに４）他の既知の液晶性化合物との相溶性、特に低温相溶性に優れた新規な液晶性化合物およびこれを含有する液晶組成物、さらにそれらを使用した液晶表示素子を提供することにある。
従来２つのフェニレン基を−ＣＦ₂Ｏ−結合基で架橋した部分構造を有する化合物については既に化合物（ｅ）および（ｆ）がそれぞれ特開平２−２８９５２９号公報および特開平５−１１２７７８号公報にその構造式が開示されている。しかし上記公報中には構造式の記載はあるものの、化合物の物理データならびに液晶性化合物としての有用性を評価する具体的な物性値等は全く開示されておらず、その特徴は全く知られていなかった。

そこで発明者らは、２つの１，４−フェニレン基を−ＯＣＦ₂結合基で架橋した部分構造を有し、α，α−ジフルオロベンジル基の３位にフッ素原子、５位に水素原子あるいはハロゲン原子、４位にハロゲン原子、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＯＣＨＦ₂またはＣＮ基を置換した一般式（１）で表される化合物を考案し、その物性を種々検討したところ、外部環境に対して非常に安定であるばかりか、当初発明者らが予想したよりも極めて低粘性であることを見い出した。また、本発明の化合物の誘電率異方性値は従来の項に示した化合物（ａ）、（ｂ）および（ｃ）と比較し小さいにもかかわらず、そのしきい値電圧はほぼ同等であり、小さな弾性定数に起因すると考察される低いしきい値電圧を示すこと、さらに既知の化合物との相溶性、特に低温相溶性に優れた化合物であることを見いだした。さらに本発明の化合物として置換基Ｒ¹にアルキル基、ＸにＣＮ基以外を選択したものは高い電圧保持率を示し、ＴＦＴ方式の表示素子用の液晶材料、特に低電圧駆動、高速応答用に好ましい特性を示し、一方置換基Ｒ¹にアルケニル基、あるいはＸにＣＮ基を選択したものは極めて低粘性あるいは高い透明点を有し、ＳＴＮ表示素子用の減粘拈剤として非常に有用であることを見いだし、新規液晶性物質として請求の範囲に掲げる化合物を発明するに至った。
すなわち、上記課題を解決するため、本願で特許請求される発明は以下の通りである。
［１］一般式（１）

（式中Ｒ¹は炭素数１〜15の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または炭素数２〜15のアルケニル基を表し、この基中の１つまたは隣接しない１個以上のCH₂基を酸素原子で置換されていてもよく、環Ａおよび環Ｂは、相互に独立して環上の１個以上のCH₂基が酸素原子または硫黄原子で置換されていてもよい１，４−シクロヘキシレン基、または環上の１個以上のCH基が窒素原子で置換されていてもよく、また環上の１個以上の水素原子がハロゲン原子が置換されていてもよい１，４−フェニレン基を表し、環Ｃおよび環Ｄは、相互に独立して環上の１個以上の水素原子がハロゲン原子が置換されていても良い１，４−フェニレン基を表し、Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は相互に独立して-CH₂CH₂-、-CH=CH-、-C≡C-または単結合を表し、Ｘはハロゲン原子、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＯＣＨＦ₂、またはＣＮ基を表し、Ｙは水素またはハロゲン原子を表し、ｌおよびｍは０または１であり、ｌ＋ｍ≦１であり、また化合物を構成する元素はその同位体元素で置換されていてもよい）で表されるα，α−ジフルオロベンジルエーテル誘導体。
［２］一般式（１）においてｌ＝ｍ＝０で表される［１］に記載の化合物。
［３］一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基であり、環Ｃが１，４−フェニレン基で表される［２］に記載の化合物。
［４］一般式（１）においてＸがフッ素原子、ＣＦ₃、またはＯＣＦ₃基であり、Ｙが水素原子で表される［３］に記載の化合物。
［５］一般式（１）においてＸがフッ素原子、ＣＦ₃、またはＯＣＦ₃基であり、Ｙがハロゲン原子で表される［３］に記載の化合物。
［６］一般式（１）においてｌ＝０、ｍ＝１で表される［１］に記載の化合物。
［７］一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基であり、環Ｃおよび環Ｄが１，４−フェニレン基で表される［６］に記載の化合物。
［８］一般式（１）においてｌ＝１、ｍ＝０で表される請求項１に記載の化合物。
［９］一般式（１）において環Ａおよび環Ｂが１，４−シクロヘキシレン基であり、環Ｃが１，４−フェニレン基で表される［８］に記載の化合物。
［１０］一般式（１）においてＲ¹がアルケニル基で表される［１］に記載の化合物。
［１１］一般式（１）で示される化合物を少なくとも１成分含む、２成分以上からなる液晶組成物。
［１２］第一成分として［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）

（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｘ¹はＦ、Ｃｌ、ＯＣＦ₃、ＯＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃、ＣＦ₂ＨまたはＣＦＨ₂を示し、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、およびＬ⁴は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｚ⁴およびＺ⁵は相互に独立して−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を示し、ａは１または２を示す）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
［１３］第一成分として、［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）

（式中、Ｒ⁴はＦ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、該アルキル基またはアルケニル基中の任意のメチレン基（−ＣＨ₂−）が酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはなく、環Ｅはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｆはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｇはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ⁶は−（ＣＨ₂）₂）−、−ＣＯＯ−または単結合を示し、Ｌ⁵およびＬ⁶は相互に独立してＨまたはＦを示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す）、

（式中、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ₇はＨまたはＦを示し、ｄは０または１を示す）、

（式中、Ｒ⁶は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｈおよび環Ｉは相互に独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ⁷およびＺ⁸は相互に独立して−ＣＯＯ−または単結合を示し、Ｚ⁹は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ⁸およびＬ⁹は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｘ²はＦ、ＯＣＦ₃、ＯＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃、ＣＦ₂ＨまたはＣＦＨ₂を示すが、Ｘ²がＯＣＦ₃、ＯＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃、ＣＦ₂ＨまたはＣＦＨ₂を示す場合はＬ⁸およびＬ⁹は共にＨを示し、ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す）、

（式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基（−ＣＨ₂−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはなく、環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ¹⁰は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または単結合を示し、Ｚ¹¹は−ＣＯＯ−または単結合を示す）、

（式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基（−ＣＨ₂−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはなく、環Ｌはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｍはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、環上の１つ以上の水素原子がＦで置換されていてもよい１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｎはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ¹²およびＺ¹⁴は相互に独立して−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−または単結合を示し、Ｚ¹³は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または単結合を示し、ｈは０または１を示す）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有する液晶組成物。
［１４］第一成分として、［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の一部分として、一般式（２）、（３）および（４）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の他の部分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
［１５］［１１］〜［１４］のいずれかに記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
本発明の（１）式の化合物は、外部環境に対して非常に安定であり、かつ非常に低粘性であり、また弾性定数に起因すると考察される低いしきい値電圧を示す。さらに他の液晶化合物との相溶性、特に低温相溶性に優れた化合物である。さらに本発明の化合物として置換基Ｒ¹にアルキル基、ＸにＣＮ基以外を選択したものは高い電圧保持率を示し、ＴＦＴ方式の表示素子用の液晶材料、特に低電圧駆動、高速応答用に好ましい特性を示し、一方置換基Ｒ¹にアルケニル基、またはＸにＣＮ基を選択したものは極めて低粘性または高い透明点を有し、ＳＴＮ表示素子用の減粘剤として非常に有用である。さらに、従来の技術の項にも示した公知の化合物と比較してもその誘電率異方性値は小さく、化合物分子の極性が小さいことから、ＴＦＴ方式において特に問題となるイオン性不純物等の取り込みが極めて少なく、温度依存性が小さく安定した高い電圧保持率を示す。
本発明の化合物の使用により外部環境の変化に対して安定であり、低電圧駆動、かつ高速応答の可能な新規な液晶組成物および液晶表示素子を提供することができる。
実施例中の比較例から明らかなように、本発明の化合物の優れた特性、特に低い粘性および小さな弾性定数に起因すると考察される低いしきい値電圧は、２つの１，４−フェニレン基中に挿入された中央結合基であるオキシジフルオロメチレン（−ＯＣＦ₂−）基に起因する。
中央結合基を持たない化合物または中央結合基に飽和アルキレンやオキシメチレン基を有する化合物は、従来の技術の項でも示したように既にＤＥ−４０２７８４０Ａ１号およびＵＳＰ−５，０３２，３１３号に開示されている。しかしながら、それら化合物は液晶材料として１）大きな分子極性に由来し、外部環境からイオン性不純物等を取り込み易い、２）比較的大きな粘性を示す等の欠点があった。さらに特開平６−２１１７１１号および特開平６−１９２１４２号で開示されている弾性定数をコントロールした化合物についても上記２）の要因および３）外部環境の変化に対する安定性（高温における電圧保持率）が低い等の欠点が未解決のままである。
本発明の化合物は、（１）式のＲ¹、環Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、ｌおよびｍを適切に選択した化合物を使用することで種々の目的に応じた液晶組成物を調製できる。
すなわち特に液晶温度範囲がより高温側になければならない液晶組成物に使用する場合はｌまたはｍ＝１である４環系の化合物を、そうでない場合は３環系を用いれば良い。
アクティブマトリックス用の液晶組成物等の特に高い電圧保持率を必要とする場合には側鎖Ｒ¹にアルキル基、置換基ＸにＣＮ基以外を選択し、またＳＴＮ用等の減粘材として使用する場合には側鎖Ｒ¹にアルケニル基を選択すれば良い。
さらに誘電率異方性値が比較的大きな化合物を得る為には、置換基Ｙにハロゲン原子、置換基ＸにＣＮ、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃またはＯＣＨＦ₂を選択すれば良く、さらに大きな誘電率異方性値の要求に対しては中央結合基であるオキシジフルオロメチレン基のオキソ側フェニル環（環Ｃ）のオルト位に１つまたは２つのフッ素原子を置換すれば良く、双極子が同一方向を向くように導入することで目的が達成できる。さらに環Ａ、環Ｂ、環Ｃあるいは環Ｄの側方位にフッ素原子が置換したものは無いものと比較し、相溶性、特に低温相溶性に優れた特徴を有する。
屈折率異方性値も（１）式のＲ¹、環Ａ、Ｃ、Ｚ¹、Ｚ²、Ｘおよびｍを適切に選択することで任意に調製できる。すなわち大きな屈折率異方性値が必要な場合には１，４−フェニレン環を多く含み、Ｚ¹およびＺ²が単結合である化合物あるいは置換基Ｘが塩素原子である化合物を選択すれば良く、小さな屈折率異方性値必要な場合にはトランス−１，４−シクロヘキシレンを多く含む化合物を選択すれば良い。
本発明の「アルキル基」という用語は１〜１５個の炭素原子を有する直鎖または枝別れしたアルキル基を意味し、特に低粘性という観点から１〜５個の炭素原子を有する基が好ましい。具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソアミル基、イソヘキシル基、２−メチルブチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基等が好ましいが、ラセミ体、Ｓ体、Ｒ体をも網羅するものとする。
本発明の「アルケニル基」という用語は２〜１５個の炭素原子を有する直鎖のアルケニル基を意味し、１Ｅ−アルケニル、２Ｚ−アルケニル、３Ｅ−アルケニル、４−アルケニル基が好ましく、さらに具体的には１−エテニル、１Ｅ−プロペニル、１Ｅ−ブテニル、１Ｅ−ヘキセニル、２−プロペニル、２Ｚ−ブテニル、２Ｚ−ペンテニル、２Ｚ−ヘキセニル、３−ブテニル、３Ｅ−ペンテニル、３Ｅ−ヘキセニル基を掲げることができる。
環Ａとしてはベンゼン環、シクロヘキサン環、ピリミジン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ジオキサン環、ジチアン環、またはそれのハロゲン置換された環が掲げられるが、特に好ましくはベンゼン環、シクロヘキサン環またはそれらのハロゲン置換された環である。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の化合物Ｎｏ．１の¹⁹Ｆ−ＮＭＲスペクトルの実測チャートを示す図である。
発明を実施するための最良の形態
本発明の第一において、一般式（１）で表されるアルキルシクロヘキサン誘導体の好ましい態様は、次の（１−ａ）から（１−ｃ）の一般式により表される化合物である。
（式中Ｒ¹、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ、Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は前記と同一の意味を示す。）

さらに好ましい化合物は一般式群（１−ａ−１）〜（１−ａ−１０８）、（１−ｂ−１）〜（１−ｂ−１４４）および（１−ｃ−１）〜（１−ｃ−１０８）により表される化合物である。ただしＲ¹は前記と同一の意味を表す。

上記一般式（１−ａ−１）〜（１−ａ−１０８）、（１−ｂ−１）〜（１−ｂ−１４４）および（１−ｃ−１）〜（１−ｃ−１０８）で表される化合物はいずれも比較的低粘性であり、かつ中程度（〜７．０）の誘電率異方性を示す。中でも一般式（１−ａ−１）〜（１−ａ−１０８）で表される３環系化合物は既知の中程度（〜７．０）の誘電率異方性を示す化合物と比較し、非常に低粘性であり、かつ低温相溶性に優れている。さらに小さな弾性定数値に起因すると考察される低いしきい値電圧を示すことから本発明化合物を例えば誘電率異方性の大きな低電圧用の組成物に成分として添加した場合、しきい値電圧を上昇させないで、誘電率異方性および粘度を著しく低下させることができる。
また、一般式（１−ｂ−１）〜（１−ｂ−１４４）および（１−ｃ−１）〜（１−ｃ−１０８）で表される４環系化合物は比較的広いネマチック相温度領域を有すると共に低粘性であり、比較的低いしきい値電圧を示すことから、本化合物を組成物の成分として添加した場合、しきい値電圧および粘度を上昇させずに透明点のみを向上させることができる。
上述のように本発明の３環系および４環系化合物から組成物を調製するか、あるいは既知の液晶性化合物と併用して使用することにより、イオン性不純物等の取り込みが少なく、外部環境の変化に対して非常に安定であり、低電圧駆動、高速応答可能な液晶組成物および液晶表示素子の提供が可能である。
本発明の液晶組成物は、一般式（１）で示される液晶性化合物の少なくとも１種類を０．１〜９９重量％の割合で含有することが、優良な特性を発現せしめるために好ましい。
さらに本発明の液晶組成物は、一般式（１）で示される液晶性化合物に加え、第二成分として既述参照の一般式（２）、（３）および（４）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物（以下第二Ａ成分と称する）および／または一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）からなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物（以下第二Ｂ成分と称する）を混合したものが好ましく、さらに、しきい値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性値、誘電率異方性値および粘度等を調整する目的で、公知の化合物を第三成分として混合することもできる。
上記第二Ａ成分のうち、一般式（２）、（３）および（４）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（２−１）〜（２−１５）、（３−１）〜（３−４８）および（４−１）〜（４−５５）を挙げることができる。

これらの一般式（２）〜（４）で示される化合物は、誘電率異方性値が正を示し、熱安定性や化学的安定性が非常に優れている。
該化合物の使用量は、液晶組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適するが、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは４０〜９５重量％である。
次に、前記第二Ｂ成分のうち、一般式（５）、（６）および（７）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（５−１）〜（５−２９）、（６−１）〜（６−３）および（７−１）〜（７−１７）を挙げることができる。

これらの一般式（５）〜（７）で示される化合物は、誘電率異方性値が正でその値が大きく、組成物成分として特にしきい値電圧を小さくする目的で使用される。また、粘度の調整、屈折率異方性値の調整および液晶相温度範囲を広げる等の目的や、さらに急峻性を改良する目的にも使用される。
また第二Ｂ成分のうち、一般式（８）および（９）に含まれる化合物の好適例として、それぞれ（８−１）〜（８−１６）および（９−１）〜（９−１６）を挙げることができる。

上記第二Ｂ成分の化合物の使用量は、液晶組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適するが、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは４０〜９５重量％である。
本発明に従い使用される液晶組成物は、それ自体公知または慣用的な方法で調製される。一般には、種々の成分を高い温度で互いに溶解、混合させる方法がとられている。また、本発明の液晶材料は、適当な添加物によって意図する用途に応じた改良がなされ、最適化される。このような添加物は当業者によく知られており、文献等に詳細に記載されている。例えば通常、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれ（ｒｅｖｅｒｓｅ−ｔｗｉｓｔ）を防ぐためキラルドープ材（ｃｈｉｒａｌｄｏｐａｎｔ）などを添加することができる。
また、本発明に従い使用される液晶組成物は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系およびテトラジン系等の二色性色素を添加してゲストホスト（ＧＨ）モード用の液晶組成物としても使用できる。またネマチック液晶をマイクロカプセル化して作成したＮＣＡＰや液晶中に三次元編み目状高分子を作成したポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）に代表されるポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）用の液晶組成物としても使用できる。その他複屈折制御（ＥＣＢ）モードや動的散乱（ＤＳ）モード用の液晶組成物としても使用できる。
さらに本発明の化合物を含有するネマチック液晶組成物としては、以下に示すような組成例（組成例１〜１９）を示すことができる。ただし組成物例中の化合物は次表に示す取り決めに従い略号で示した。

組成例１
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３６．０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ１２．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１３．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１３．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１３．０％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ３．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１４．０％
組成例２
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ７．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１５．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ６．０％
４−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ６．０％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ６．０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１５．０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
組成例３
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ６．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１２．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
組成例４
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３８．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３８．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ７．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ２．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ７．０％
組成例５
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３８．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＣＬ６．０％
３−ＨＢ−ＣＬ４．０％
５−ＨＢ−ＣＬ４．０％
７−ＨＢ−ＣＬ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ５．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ５．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１１．０％
２−ＨＨＢ−ＣＬ５．０％
４−ＨＨＢ−ＣＬ５．０％
５−ＨＨＢ−ＣＬ５．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２４．０％
組成例６
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
３−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８．６％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８．７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８．７％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ７．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ７．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
２−ＨＢＢ−Ｆ５．０％
３−ＨＢＢ−Ｆ５．０％
５−ＨＢＢ−Ｆ３．０％
３−ＨＨＢ−１６．０％
組成例７
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ３．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ３．０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
５−Ｈ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ３．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４．６％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４．７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ４．７％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１５．０％
２−ＨＢＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＢＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−４６．０％
組成例８
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３７．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＨＦ２５．０％
５−ＨＥＢ−Ｆ２．５％
７−ＨＥＢ−Ｆ２．５％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ９．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ９．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ９．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ８．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
組成例９
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３６．０％
３−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ５．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ５．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１１．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ７．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ２．０％
３−ＨＢ−Ｏ２５．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１２．０％
組成例１０
１Ｖ２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ３．０％
Ｖ２−ＨＢ−Ｃ１０．０％
１Ｖ２−ＨＢ−Ｃ１０．０％
３−ＨＢ−Ｃ２０．０％
５−ＨＢ−Ｃ１０．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ８．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ３．０％
Ｖ２−ＨＨＢ−１８．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４．０％
３−ＨＨＢ−３１０．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２３．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３３．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４３．０％
組成例１１
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ５．０％
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ５．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ５．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ９．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ１５．０％
３−ＨＨ−４３．０％
１Ｏ１−ＨＨ−３３．０％
４−ＢＴＢ−Ｏ２５．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ１０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ１０．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３３．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４３．０％
２−ＢＴＢ−１１．０％
１−ＢＴＢ−６２．０％
４−ＢＴＢ−４１．０％
３−ＨＨ−２Ｖ３．０％
４−ＨＨ−Ｖ３．０％
組成例１２
Ｖ−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ６．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ１０．０％
２−ＢＢ−Ｃ５．０％
２Ｏ２Ｏ−ＢＢ−Ｃ４．０％
１Ｏ１−ＨＢ−Ｃ１０．０％
２Ｏ１−ＨＢ−Ｃ６．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ１０．０％
５−ＰｙＢ−Ｆ８．０％
２−ＰｙＢ−２２．０％
３−ＰｙＢ−２２．０％
４−ＰｙＢ−２２．０％
Ｖ−ＨＨＢ−１２．０％
３−ＨＨＢ−１３．０％
３−ＨＨＢ−３６．０％
２−ＰｙＢＨ−３５．０％
３−ＰｙＢＨ−３５．０％
４−ＰｙＢＨ−３５．０％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ３．０％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ３．０％
６−ＰｙＢＢ−６３．０％
組成例１３
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３３．０％
３−Ｈ２ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ３．０％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ４．５％
３Ｏ２Ｏ−ＢＥＢ−Ｃ３．０％
３−ＢＥＢ−Ｃ６．０％
３−ＤＢ−Ｃ１０．０％
４−ＤＢ−Ｃ１０．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４１２．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２９．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１９．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２７．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ２６．０％
３−ＨＨＢ−１５．０％
３−ＨＨＥＢＢ−Ｃ２．０％
３−ＨＢＥＢＢ−Ｃ２．０％
１Ｏ−ＢＥＢ−２２．０％
４−ＨＥＢ−３２．０％
５−ＨＥＢ−１２．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ２２．０％
組成例１４
５−ＨＨ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ２．０％
３−ＨＢＯＣＦ２ＢＢ（Ｆ）−Ｃ２．０％
３−ＨＢ−Ｃ２０．０％
３−ＨＨＢ−１７．０％
３−ＨＨＢ−３８．０％
５−ＨＥＢ−Ｆ３．０％
７−ＨＥＢ−Ｆ３．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ１．０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ１．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４４．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２３．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１３．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２２．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ２２．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＶＢ−４６．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４．０％
３−ＨＨＥＢＢ−Ｃ３．０％
３−ＨＥＢＥＢ−Ｆ３．０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ２．５％
組成例１５
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ８．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ１０．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ１０．０％
５−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ８．０％
２−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ９．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ１０．０％
３Ｏ−ＢＢ−Ｃ７．０％
２−ＨＨＢ−Ｃ３．０％
３−ＨＨＢ−Ｃ３．０％
４−ＨＨＢ−Ｃ３．０％
５−ＨＨＢ−Ｃ３．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ３．０％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ３．０％
５−ＨＢＢ−Ｃ５．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
組成例１６
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３３．０％
５−ＨＢ−Ｆ９．０％
６−ＨＢ−Ｆ７．０％
７−ＨＢ−Ｆ７．０％
５−ＨＢ−３５．０％
３−ＨＢ−Ｏ１５．０％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３５．０％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３５．０％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３４．０％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３２．０％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３３．０％
３−ＨＨ２Ｂ−Ｆ３．０％
５−ＨＨ２Ｂ−Ｆ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ７．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ９．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３３．０％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３２．０％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−５２．０％
組成例１７
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＨＦ２８．０％
５−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ２．０％
５−ＨＢ−Ｆ６．０％
７−ＨＢ−Ｆ６．０％
２−ＨＨＢ−ＯＣＨＦ２４．０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＨＦ２５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＨＦ２７．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＨＦ２５．０％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３８．０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３９．０％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３１０．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
組成例１８
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｃ５．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ３．０％
４−ＨＥＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＥＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
２−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
４−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ８．０％
５−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ８．０％
１Ｏ３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ６．０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ）−Ｆ３．０％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
４−ＨＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３−ＨＢＴＢ−２１０．０％
Ｖ２−ＨＨ−３４．０％
Ｖ２−ＨＨＢ−１４．０％
組成例１９
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
２−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−Ｈ２ＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３１０．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３１０．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＨＦ２１０．０％
３−ＨＢＯＣＦ２ＢＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３１０．０％
［化合物の製法］
本発明の化合物（１）は通常の有機合成化学的手法を駆使することで容易に製造できる。例えばオーガニック・シンセシス、オーガニック・リアクションズ、実験化学講座（丸善株式会社出版）等に記載の手法を適当に選択、組み合わせることで容易に合成できる。
すなわち、一般式（１）で示される化合物はＭ．Ｓ．Ｋｈａｒａｓｃｈ等、“ＧｒｉｇｎａｒｄＲｅａｃｔｉｏｎｓｏｆＮｏｎｍｅｔａｌｌｉｃＳｕｂｓｔａｎｃｅｓ”、Ｐｒｅｎｔｉｃｅ−Ｈａｌｌ（１９５４）の方法に準じ、ブロモベンゼン誘導体（１０）からＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を調製する。次いでＡ．Ｓ．Ｗｈｅｅｌｅｒ等、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，５０，３１０６（１９２８）に記載の方法に準じて、調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬に二硫化炭素を作用させジチオカルボン酸誘導体（１１）を製造する。（１１）はジエチルエーテル中、塩化チオニルと加熱還流することでチオンカルボン酸クロリドとし、次いでフェノール誘導体（１２）をピリジン等塩基の存在下で作用させチオンカルボン酸−Ｏ−エステル誘導体（１３）とする。さらに（１３）にジエチルアミノサルファ−トリフルオリド（以下ＤＡＳＴと省略する）を作用させるか、あるいは特開平５−２５５１６５号記載の方法に準じ、Ｎ−ブロモコハク酸イミドの存在下、二水素三フッ化四級アンモニウム塩を作用させることで（１）が製造できる。

（式中Ｒ¹、環Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ¹、Ｚ²、Ｚ³、Ｘ、Ｙ、ｌおよびｍは前記と同一の意味を表す）
上述の製造方法において一般式で示したブロモベンゼン誘導体（１０）は既知の有機合成的手法にて製造することが可能であるが、以下の方法にて好適に製造できる。即ち結合基Ｚ³が単結合であるものは、ヨードベンゼン誘導体（１４）をブチルリチウム等でリチオ化後、塩化亜鉛を作用させ有機亜鉛化合物を調製し、さらにブロモベンゼン誘導体（１５）とクロスカップリングを行うことでビフェニル誘導体（１６）を製造する。次に塩化第２鉄等の触媒存在下、（１６）に臭素を作用させることによりブロモベンゼン誘導体（１０−１）が製造できる。
また、結合基Ｚ³がエテニレンあるはエチレンであるものについては、酸クロリド（１７）に鉄＝アセチルアセトネートを触媒として（１５）より調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を作用させケトン誘導体（１８）を製造する。次いで（１８）のカルボニル基を水素化ホウ素ナトリウムにてアルコールまで還元し、さらに硫酸、塩酸等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸あるいは非水性の酸性イオン交換樹脂等を触媒として脱水し、スチレン誘導体（１９）を製造する。（１９）は塩化第２鉄等の触媒存在下、臭素を作用させることによりＺ³がエテニル基であるブロモベンゼン誘導体（１０−２）が製造できる。さらに（１９）をパラジウム−炭素等の触媒存在下水素還元し、上記同様にブロム化を行うことでＺ³がエチレン基であるブロモベンゼン誘導体（１０−３）が製造できる。

（式中環Ｄ、ＸおよびＹは前記と同一の意味を表す）
上述の製造方法において一般式で示したフェノール誘導体（１２）は既知の有機合成的手法にて製造することが可能であるが、以下の方法にて好適に製造できる。即ち特公昭６２−３９１３６号、特公平３−０３６４３号、特開昭５７−１５９７２５号、特開昭６０−０８４２３０号および特表平１−５０２２７４号等にその製造方法が記載されているアニソール誘導体（２１）をハロゲン系の溶媒中、三臭化ホウ素を作用させることでフェノール誘導体（１２）を製造することができる。
また、結合基Ｚ²が１，２−エテニレンあるいは１，２−エチレンであるものについては、酸クロリド（２２）に鉄＝アセチルアセトネートを触媒としてブロモアニソール誘導体から調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を作用させケトン誘導体（２３）を製造する。次いで（２３）のカルボニル基を水素化ホウ素ナトリウムにてアルコールまで還元し、さらに硫酸、塩酸等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸あるいは非水性の酸性イオン交換樹脂等を触媒として脱水し、４（Ｅ）−ビニルアニソール誘導体（２４）を製造する。（２４）は塩化第２鉄等の触媒存在下、臭素を作用させることによりＺ²が１，２−エテニレンであるフェノール誘導体（１２−１）が製造できる。さらに（２４）をパラジウム−炭素等の触媒存在下水素還元し、上記同様にブロム化を行うことでＺ²が１，２−エチレンであるフェノール誘導体（１２−２）が製造できる。

（式中環Ａ、Ｂ、Ｃ、およびｌは前記と同一の意味を表し、ｎは０または１を表す）
また、Ｒ¹がアルケニル基であるものについては種々の既知の有機合成的手法にて製造することが可能であるが、以下の方法にて好適に製造できる。即ち１，４−シクロヘキサンジオンモノエチレンケタール（２６）にブロモアニソール誘導体より調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を作用させた後、生成したアルコール誘導体を硫酸、塩酸等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸あるいは非水性の酸性イオン交換樹脂等を触媒として脱水し、さらに得られたシクロヘキセン誘導体をパラジウム−炭素、ラネーニッケル等の触媒存在下水素還元を行う。次いでぎ酸にてケタールの脱保護を行うことにより、シクロヘキサノン誘導体（２８）が得られ、さらに（２８）に三臭化ホウ素を作用させることで、ケト−フェノール誘導体（１２−３）が得られる。また１，４−シクロヘキサンジオンモノエチレンケタール（２６）の代わりにシクロヘキサノン誘導体（２７−１）あるいはアルデヒド誘導体（２７−２）を使用することで、（１２−４）の一般式で表されるケト−フェノール誘導体を製造できる。
次いでケト−フェノール誘導体（１２−３）を前記に示した（１）製造の場合と同様に、チオンカルボン酸クロリドとのエステル化、さらにチオカルボニル基のジェミナルフッ素化を行うことでシクロヘキサノン中間体（３０）が製造できる。また同様に（１２−４）から（３１）が製造できる。
Ｒ¹がエテニル基、または１（Ｅ）−プロペニル基であるものについては上記シクロヘキサノン中間体（３０）を合成中間体として以下の方法にて好適に製造できる。すなわちオーガニック・リアクションズ、Ｖｏｌ．１４、第３章に記載の方法に準じ、、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリドをＴＨＦ（以下ＴＨＦと略す）中、ナトリウムアルコキシドあるいはアルキルリチウム等の塩基を作用させ調製したイリドに、シクロヘキサノン中間体（３０）を作用させ、次いで生成物をぎ酸共存下で加熱還流することでアルデヒド中間体（３２）を製造する。次にアルデヒド中間体（３２）に対しメチルトリフェニルホスホニウムブロミドまたはエチルトリフェニルホスホニウムブロミドにナトリウムアルコキシド、アルキルリチウム等の塩基を作用させ調製したイリドを作用させることでＲ¹がエテニル基である誘導体（１−１）およびＲ¹が１−プロペニル基である誘導体（１−３）が製造できる。また、（１−３）については必要に応じて、特公平４−３０３８２号記載の方法に準じ、ベンゼンスルフィン酸またはｐ−トルエンスルフィン酸を作用させ異性化するか、または特公平６−６２４６２号記載の方法に準じて、オレフィンの反転を行うことによりＲ¹が１（Ｅ）−プロペニル基である誘導体を精製することができる。
また、以上の製造方法に準じてシクロヘキサノン中間体（３１）から一般式（１−２）および（１−４）で表されるアルケニル誘導体が製造できる。

（式中環Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｘ、Ｙおよびｍは前記と同一の意味を表し、Ｚ⁴およびＺ⁵は相互に独立して-CH₂CH₂-、単結合を表す）
また、Ｒ¹が３−ブテニル基、または３（Ｅ）−ペンテニル基であるものについても以下に示す製造方法にて好適に製造できる。即ち、２−（１、３−ジオキサン−２−イル）エチルトリフェニルホスホニウムブロミドにナトリウムアルコキシドあるいはアルキルリチウム等の塩基を作用させ調製したイリドに前記で製造方法を示したシクロヘキサノン中間体（３０）を作用させた後、生成物をパラジウム−炭素触媒存在下、水素還元、続いてぎ酸にて加熱還流し、ケタールの脱保護を行うことによりアルデヒド中間体（３３）を製造する。次いでアルデヒド中間体（３３）に対しメチルトリフェニルホスホニウムブロミドまたはエチルトリフェニルホスホニウムブロミドにナトリウムアルコキシド、アルキルリチウム等の塩基を作用させ調製したイリドを作用させることでＲ¹が３−ブテニル基である誘導体（１−５）およびＲ¹が３−ペンテニル基である誘導体（１−７）が製造できる。また、（１−７）については必要に応じて、特公平４−３０３８２号記載の方法に準じ、ベンゼンスルフィン酸あるいはｐ−トルエンスルフィン酸を作用させ異性化するか、または特公平６−６２４６２号記載の方法に準じて、オレフィンの反転を行うことによりＲ¹が３（Ｅ）−ペンテニル基である誘導体を精製することができる。
また、以上の製造方法に準じてシクロヘキサノン中間体（３１）から一般式（１−６）および（１−８）で表されるアルケニル誘導体が製造できる。

（式中環Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｘ、Ｙおよびｍは前記と同一の意味を表し、Ｚ⁴およびＺ⁵は相互に独立して-CH₂CH₂-、単結合を表す）
〔実施例〕
以下、実施例により本発明の化合物の製造法および使用例についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により制限されるものではない。なお、各実施例中においてCrは結晶を、Nはネマチック相を、Sはスメクチック相を、またIsoは等方性液体を示し、相転移温度の単位は全て℃である。
実施例１
ジフルオロ−（４−（トランス−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．１）（一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基、環Ｃが１，４−フェニレン基、ｌ＝ｍ＝０、Ｒ¹＝n-Ｃ₃Ｈ₇、Ｚ¹は単結合、Ｘ＝Ｙ＝Ｆであるもの）の製造
製造工程は大きく３工程に分けられる。各製造工程に分けて以下に詳述する。
第１工程
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた500ml三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下削り状マグネシウム4.8g(199.1mmol)をＴＨＦ100mlに攪拌しながら懸濁させ、３，４，５−トリフルオロブロモベンゼン40g(189.7mmol)のＴＨＦ溶液100mlを内温が５０℃を越えないように１．５時間を要して滴下した。反応溶液は温浴にて５０℃に加熱しながら、２時間攪拌し、熟成した。次いで氷浴にて内温を５℃まで冷却後、二硫化炭素57.8g(758.8mmol)を内温が１０℃を越えないように４０分を要して滴下した。反応溶液は１０℃以下を保ちながら３０分間攪拌後、室温まで昇温し、２時間攪拌した。反応溶液を再度５℃以下まで冷却後、６規定塩酸80mlを添加し反応を終了した。反応溶液はジエチルエーテル800mlで抽出後、氷水1000mlにて洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを留去、濃縮して36.3gの濃赤紫色の固体を得た。これが３，４，５−トリフルオロフェニルジチオカルボン酸である。
第２工程
上述の操作で得た３，４，５−トリフルオロフェニルジチオカルボン酸36.3gを500mlナス型フラスコ中ジエチルエーテル300mlに溶解し、室温下塩化チオニル103.8gを添加後温浴上で加熱還流を８時間行った。ジエチルエーテルおよび未反応の塩化チオニルをアスピレーター減圧下、留去、濃縮し濃赤紫色の油状物質32.3gを得た。これが３，４，５−トリフルオロフェニルチオカルボン酸クロリドである。次に攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた500ml三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェノール27.9g(127.9mmol)およびピリジン12.1g(153.4mmol)をトルエン100mlに溶解し、室温で攪拌しながら上記操作で得た３，４，５−トリフルオロフェニルチオンカルボン酸クロリド32.3gのトルエン溶液90mlを４０分を要して滴下した。滴下後反応溶液は温浴上内温を６０℃まで加熱し、３時間攪拌熟成を行った。室温まで冷却後、反応溶液に水300ml、６規定塩酸60mlを添加しトルエン層を分離後、さらに水層をトルエン400mlで抽出した。抽出層は水500ml、２規定水酸化ナトリウム水溶液100mlおよび水500mlで順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下トルエンを留去、濃縮して濃赤紫色ペースト状物45.2gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてヘプタンを使用したカラムクロマトグラフィーにて精製後、さらにヘプタンから再結晶して淡黄色の針状結晶物20.3gを得た。これがチオンカルボン酸−Ｏ−エステル誘導体（３６）である。
Ｃｒ８８．０Ｉｓｏ
¹Ｈ−ＮＭＲ（σppm）0.8-2.1(16H,m),2.5(1H,m),6.9(2H,d,J=9.0Hz),7.3(2H,d,J=9.0Hz) and 7.9(2H,m)

第３工程
300mlナス型フラスコ中窒素気流下、上記操作で得たチオンカルボン酸−Ｏ−エステル誘導体（３６）10ｇ(25.5mmol)をジクロロメタン60mlに溶解し、室温下ＤＡＳＴ14.4g(89.2mmol)を添加し、室温下25時間攪拌した。反応溶液を氷水200mlに添加し、反応を終了後、ジクロロメタン層を分離、さらに水層をジクロロメタン100mlで抽出した。抽出層は水200ml、２規定水酸化ナトリウム水溶液50mlおよび水200mlで順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを留去、濃縮して淡黄色結晶状の混合物9.1gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてヘプタンを使用したカラムクロマトグラフィーにて精製後、さらにヘプタンから再結晶して無色針状結晶物3.7gを得た。これが目的とするジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．１）である。
Ｃｒ５９．２Ｉｓｏ
¹Ｈ−ＮＭＲ（σppm）0.8-2.0(16H,m),2.5(1H,m),6.9-7.2(4H,m) and 7.4(2H,m)
図１に化合物Ｎｏ．１の¹⁹Ｆ−ＮＭＲスペクトルの実測チャートを添付する。
上記製造方法に準じ、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェノールに代えてアルキル基の鎖長の異なる４−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）フェノールを用いて、以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−メチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ノニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
上記製造方法に準じ、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェノールに代えて２−フルオロ−４−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）フェノールまたは２，６−ジフルオロ−４−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）フェノールを用いて、以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．１１）
ジフルオロ−（２−フルオロ−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
Ｃｒ２６．１Ｉｓｏ
（化合物Ｎｏ．１２）
ジフルオロ−（２−フルオロ−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３）
ジフルオロ−（２−フルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４）
ジフルオロ−（２，６−ジフルオロ−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５）
ジフルオロ−（２，６−ジフルオロ−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６）
ジフルオロ−（２，６−ジフルオロ−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
また上記製造方法に準じ、３，４，５−トリフルオロブロモベンゼンに代えて種々の既知のブロモベンゼン誘導体を用いて、以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．１７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
Ｃｒ１５．２ＳＢ６６．３Ｉｓｏ
（化合物Ｎｏ．２８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
実施例２
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．４７）（一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基、環Ｃが１，４−フェニレン基、ｌ＝ｍ＝０、Ｒ¹がn-Ｃ₃Ｈ₇、Ｚ¹が１，２−エチレン、Ｘ＝Ｙ＝Ｆであるもの）の製造
実施例１第２工程において４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェノールのかわりに４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェノールを使用し、以下、実施例１と同様に操作することにより、目的とするジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンを合成した。
上記製造方法に準じて４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェノールにかえてアルキル基の鎖長の異なる４−（２−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）エチル）フェノールを用いて以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．４８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−メチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．４９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ノニルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
上記ならびに実施例１に示した製造方法に準じて３，４，５−トリフルオロブロモベンゼンに代えて種々の既知のブロモベンゼン誘導体を用いて以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．５７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．５９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．６９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．７９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
実施例３
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．８７）（一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基、環Ｃが１，４−フェニレン基、ｌ＝ｍ＝０、Ｒ¹がエテニル基、Ｚ¹は共有結合、Ｘ＝Ｙ＝Ｆであるもの）の製造
製造工程は大きく１）４−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサノン（１２−３）の合成、２）シクロヘキサノン中間体（３０−１）の合成および３）ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンの製造の３つの段階に大きく分けられる。各製造段階に分けて以下に詳述する。
「４−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサノン（１２−３）の合成」
第１工程
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた１Ｌ三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下削り状マグネシウム5.9g(242.2mmol)をＴＨＦ100mlに攪拌しながら懸濁させ、４−ブロモアニソール43.1g(230.7mmol)のＴＨＦ溶液200mlを内温が５０℃を越えないように８０分を要して滴下した。反応溶液は温浴にて５０℃に加熱しながら、２時間攪拌し、熟成した。次いで室温下、１，４−シクロヘキサンジオンモノエチレンケタール30.0g(192.2mmol)を内温が６０℃を越えないように４０分を要して滴下した。反応溶液は温浴上５０℃を保ちながら２時間攪拌した。反応溶液を氷水にて冷却後、飽和塩化アンモニウム水溶液100mlを添加し反応を終了した。反応溶液はトルエン400mlで抽出後、水1000mlにて洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。トルエンを減圧下、留去、濃縮して48.2gの茶褐色の固体を得た。次に反応物はディーンスタークの脱水管を付した１Ｌのナス型フラスコ中、トルエン240mlに溶解し、酸触媒として非水、酸性イオン交換樹脂（アンバーリスト）2.4gを添加し、攪拌しながら３時間加熱還流を行った。触媒をろ取分別後減圧下トルエンを留去、濃縮し、さらに反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてトルエン−酢酸エチル混合溶媒を使用したカラムクロマトグラフィーにて精製後、さらにトルエンから再結晶して結晶物35.5gを得た。
上記の操作で得た反応物35.5gは１Ｌナス型フラスコ中トルエン／エタノールの１／１混合溶液200mlに溶解し、５％パラジウム−炭素触媒1.8gを添加し、室温下水素圧１〜２Kg/cm²で水素添加反応を７時間行った。反応溶液は触媒をろ取分別後、濃縮し、反応物32.6gを得た。反応物はそのまま攪拌機および温度計を備えた300ml三つ口フラスコ中、トルエン100mlに溶解し、さらに９９％−ぎ酸24.4gを添加し攪拌しながら２時間加熱還流を行った。反応物に水300mlを添加後トルエン層を分離、さらに水層をトルエン200mlで抽出した。抽出層は水800mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、トルエンを減圧下留去、濃縮して反応物21.2gを得た。これが４−（メトキシフェニル）シクロヘキサノンである。
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた１Ｌナスフラスコにジクロロメタン500mlを添加し、ドライアイス−アセトンバスにて−５０℃以下まで冷却後、三臭化ホウ素52.0g(207.6mmol)を−５０℃以下を保ちながら２０分を要して滴下後、上記操作で得た４−（メトキシフェニル）シクロヘキサノン21.2g(103.8mmol)のジクロロメタン溶液100mlを同温度を保ちながら３０分を要して滴下した。さらに同温度で１時間攪拌後、室温まで昇温しさらに３時間攪拌した。反応溶液を水１Ｌ中に徐々に滴下し、反応を終了後、ジクロロメタン層を分離、さらに水層をジクロロメタン500mlで抽出した。抽出層は水500ml、２規定水酸化ナトリウム水溶液200mlおよび水500mlで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。反応溶液はジクロロメタンを留去、濃縮して反応物19.5gを得た。反応物はトルエン−ヘプタン混合溶媒から再結晶して無色結晶物14.8gを得た。これが４−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサノン（１２−３）である。

「シクロヘキサノン中間体（３０−１）の合成」
第３工程
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた300ml三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下４−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサノン（１２−３）14.8g(78.0mmol)をトルエン30mlに溶解し、ピリジン8.0g(101.4mmol)を添加し、実施例１の第１および２工程に示した方法と同様の操作で合成した３，４，５−トリフルオロフェニルチオカルボン酸クロリド21.3g(101.4mmol)のトルエン溶液50mlを１５分を要して滴下した。滴下後反応溶液は温浴上内温を６０度まで加熱し、３時間攪拌熟成を行った。室温まで冷却後、反応溶液に水100ml、６規定塩酸50mlを添加しトルエン層を分離後、さらに水層をトルエン200mlで抽出した。抽出層は水200ml、２規定水酸化ナトリウム水溶液50mlおよび水300mlで順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下トルエンを留去、濃縮して濃赤紫色ペースト状物28.4gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてヘプタン／トルエンの混合溶媒を使用したカラムクロマトグラフィーにて精製後、さらにヘプタンから再結晶して淡黄色の針状結晶物20.4gを得た。これがチオンカルボン酸−Ｏ−エステル誘導体（３７）である。

第４工程
窒素導入管を備えた300mlナス型フラスコ中、窒素雰囲気下、上記操作で得たチオンカルボン酸−Ｏ−エステル誘導体（３７）10.0g(27.5mmol)をジクロロメタン50mlに溶解し、室温下でＤＡＳＴ17.7g(109.8mmol)を添加し、室温下25時間攪拌した。反応溶液を氷水200mlに添加し反応を終了後、ジクロロメタン層を分離、さらに水層をジクロロメタン100mlで抽出した。抽出層は水200ml、２規定水酸化ナトリウム水溶液50mlおよび水200mlで順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを留去、濃縮して淡黄色結晶状の混合物9.9gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてヘプタンおよびトルエンの混合溶媒を使用したカラムクロマトグラフィーにて精製後、さらにヘプタンから再結晶して無色針状結晶物6.4gを得た。これがシクロヘキサノン中間体（３０−１）である。

「ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンの合成」
第５工程
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた300ml三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド7.8g(22.6mmol)をＴＨＦ40mlに溶解し、ドライアイス−アセトン浴中−５０℃以下まで冷却後、カリウム−ｔ−ブトキシド2.7g(23.7mmol)を添加し、同−５０℃以下保ちつつ２時間攪拌しイリドを調製した。次いで同温度にて上述の操作で得たシクロヘキサノン中間体（３０−１）6.4g(17.4mmol)のＴＨＦ溶液20mlを１０分を要して滴下し、同温度で１時間攪拌後室温まで昇温し、さらに８時間室温で攪拌した。反応溶液に水200mlを添加し反応を終了後、ＴＨＦ層を分離し、さらに水層をトルエン100mlで抽出した。抽出層は水500mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去、濃縮し反応物13.0gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてトルエンを使用したカラムクロマトグラフィーにて精製し、黄褐色の反応物6.2gを得た。次に反応物は200mlのナス型スラスコ中トルエン50mlに溶解し、９９％−ぎ酸2.9g(62.8mmol)を添加し、２時間加熱還流を行った。反応溶液に水50mlを添加後、トルエン50mlで抽出し、抽出層は水100ml、２規定水酸化ナトリウム水溶液30mlおよび水100mlで順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下溶媒を留去、濃縮して反応物を得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてトルエンを使用したカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色結晶物5.4gを得た。これがシクロヘキサンカルバルデヒド誘導体（３８）である。

第６工程
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた100ml三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下メチルトリフェニルホスホニウムヨージド7.3g(18.2mmol)をＴＨＦ30mlに懸濁させ、攪拌しながらドライアイス−アセトン浴中−５０℃以下まで冷却後、カリウム−ｔ−ブトキシド2.1g(18.7mmol)を添加し、同−５０℃以下保ちつつ２時間攪拌しイリドを調製した。次いで同温度にて上述の操作で得たシクロヘキサンカルバルデヒド誘導体（３８）5.4g(13.9mmol)のＴＨＦ溶液15mlを５分を要して滴下し、同温度で１時間攪拌後室温まで昇温し、さらに８時間室温で攪拌した。反応溶液に水50mlを添加し反応を終了後、ＴＨＦ層を分離し、さらに水層をトルエン50mlで抽出した。抽出層は水80mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去、濃縮し反応物4.8gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてヘプタンを使用したカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにヘプタンから再結晶して無色針状化合物2.3gを得た。これが目的とするジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンである。
上記製造方法に準じて、その第３工程において３，４，５−トリフルオロフェニルチオンカルボン酸クロリドにかえて種々の既知のブロモベンゼン誘導体から実施例１の第１および第２工程に示した操作で調整できるチオンカルボン酸クロリド誘導体を用いて以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．８８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．８９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エテニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
上記製造方法に準じて、その第６工程においてメチルトリフェニルホスホニウムヨージドにかえてエチルトリフェニルホスホニウムヨージドを使用し、さらに生成物を特公平４−３０３８２号記載の方法に準じ、ベンゼンスルフィン酸あるいはｐ−トルエンスルフィン酸を作用させ異性化を行うか、あるいは特公平６−６２４６２号記載の方法に準じて、オレフィンの立体反転を行うことで以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．９８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．９９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１００）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１０８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−１−プロペニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
実施例４
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．１０９）（一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基、環Ｃが１，４−フェニレン基、ｌ＝ｍ＝０、Ｒ¹が３−ブテニル基、Ｚ¹は共有結合、Ｘ＝Ｙ＝Ｆであるもの）の製造
製造工程は大きく２つの段階に分けられる。各製造段階に分けて以下に詳述する。
第１工程
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた300ml三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下２−（１、３−ジオキサン−２−イル）エチルトリフェニルホスホニウムブロミド16.8g(37.8mmol)をＴＨＦ50mlに溶解し、ドライアイス−アセトン浴中−５０℃以下まで冷却後、カリウム−ｔ−ブトキシド4.5g(39.8mmol)を添加し、同−５０℃以下保ちつつ２時間攪拌しイリドを調製した。次いで同温度にて実施例３第４工程に記載した方法で得たシクロヘキサノン中間体（３０−１）10g(27.0mmol)のＴＨＦ溶液30mlを１０分を要して滴下し、同温度で１時間攪拌後室温まで昇温し、さらに８時間室温で攪拌した。反応溶液に水200mlを添加し反応を終了後、ＴＨＦ層を分離し、さらに水層をトルエン100mlで抽出した。抽出層は水500mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去、濃縮し反応物23.1gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてトルエンを使用したカラムクロマト操作にて精製し、黄褐色の反応物11.1gを得た。以上の操作で得た反応物11.1gは300mlナス型フラスコ中トルエン／エタノールの１／１混合溶液100mlに溶解し、５％パラジウム−炭素触媒0.6gを添加し、室温下水素圧１〜２Kg/cm²で水素添加反応を６時間行った。反応溶液は触媒をろ取分別後、濃縮し、反応物11.1gを得た。反応物はそのまま攪拌機および温度計を備えた300ml三つ口フラスコ中、トルエン50mlに溶解し、さらに９９％−ぎ酸4.4g(95.2mmol)を添加し攪拌しながら２間加熱還流を行った。反応物に水100mlを添加後トルエン層を分離、さらに水層をトルエン100mlで抽出した。抽出層は水400mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、トルエンを減圧下留去、濃縮して反応物8.5gを得た。これがアルデヒド誘導体（３９）である。

第２工程
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた100ml三つ口フラスコ中、窒素雰囲気下メチルトリフェニルホスホニウムヨージド10.9g(26.9mmol)をＴＨＦ50mlに懸濁させ、攪拌しながらドライアイス−アセトン浴中−５０℃以下まで冷却後、カリウム−ｔ−ブトキシド3.2g(28.2mmol)を添加し、同−５０℃以下保ちつつ２時間攪拌しイリドを調製した。次いで同温度にて上述の操作で得たアルデヒド誘導体（３９）8.5g(20.7mmol)のＴＨＦ溶液25mlを１０分を要して滴下し、同温度で１時間攪拌後室温まで昇温し、さらに８時間室温で攪拌した。反応溶液に水50mlを添加し反応を終了後、ＴＨＦ層を分離し、さらに水層をトルエン50mlで抽出した。抽出層は水80mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去、濃縮し反応物15.4gを得た。反応物はシリカゲルを充填剤とし、展開溶媒としてヘプタンを使用したカラムクロマトグラフィーにて精製し、さらにヘプタンから再結晶して無色針状化合物3.6gを得た。これが目的とするジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンである。
上記製造方法に準じて、シクロヘキサノン誘導体（３０−１）の代わりに既知の種々のブロモベンゼン誘導体から製造したシクロヘキサノン誘導体（３０）を使用して以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．１１０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１１９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
上記製造方法に準じて、第２工程で使用したメチルトリフェニルホスホニウムヨージドの代わりにエチルトリフェニルホスホニウムヨージドを使用し、さらに生成物を特公平４−３０３８２号記載の方法に準じ、ベンゼンスルフィン酸あるいはｐ−トルエンスルフィン酸を作用させ異性化を行うか、または特公平６−６２４６２号記載の方法に準じて、オレフィンの立体反転を行うことで以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．１２０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１２９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（（Ｅ）−３−ペンテニル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
実施例５
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．１３１）（一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基、環ＣおよびＤが１，４−フェニレン基、Ｒ¹がn-Ｃ₃Ｈ₇、Ｚ¹およびＺ³が共有結合、ｌ＝０，ｍ＝１、Ｘ＝Ｙ＝Ｆであるもの）の製造
実施例１の第１工程において３，４，５−トリフルオロブロモベンゼンの代わりに３，４，５−トリフルオロ−４’−ブロモビフェニルを使用し、以下実施例１に記載した同様の操作を実施することにより、ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタンを合成した。
上記製造方法ならびに実施例１に示した製造方法に準じて４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェノールに代えてアルキル鎖の異なる４−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）フェノールを使用するかあるいは３，４，５−トリフルオロ−４’−ブロモビフェニルの代わりに既知の種々の３−フルオロ−４’−ブロモビフェニル誘導体を使用して以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．１３２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−メチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１３９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ノニルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４−ジフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４−ジフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，４−ジフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−クロロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−クロロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−クロロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１４９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１５９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１６９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
上記製造方法および実施例１に示した製造方法に準じて４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェノールに代えて４−（２−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）エチル）フェノールを使用し、さらに３，４，５−トリフルオロ−４’−ブロモビフェニルあるいは既知の種々の３−フルオロ−４’−ブロモビフェニル誘導体を使用して以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．１７１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，４，５−トリフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，４−ジフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，４−ジフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，４−ジフルオロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−クロロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−クロロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１７９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−クロロ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１８９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３−フルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチル）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．１９９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２００）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（４’−（３，５−ジフルオロ−４−シアノ）ビフェニル）メタン
実施例６
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．２０４）（一般式（１）において環Ａおよび環Ｂが１，４−シクロヘキシレン基、環Ｃが１，４−フェニレン基、Ｒ¹がn-Ｃ₃Ｈ₇、Ｚ¹およびＺ²が共有結合、ｌ＝１、ｍ＝０、Ｘ＝Ｙ＝Ｆであるもの）の製造
実施例１の第２工程において４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェノールの代わりに４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェノールを使用し、以下実施例１に記載した同様の操作を実施することにより、ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンを合成した。
上記製造方法ならびに実施例１に示した製造方法に準じて４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェノールに代えてアルキル鎖の異なる４−（トランス−４−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェノールを使用し、さらに３，４，５−トリフルオロブロモベンゼンあるいは既知の種々の３−フルオロブロモベンゼン誘導体を使用して以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．２０５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−メチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２０９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ノニルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−デシルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２１９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２２９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２３９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
上記製造方法ならびに実施例１に示した製造方法に準じて４−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェノールに代えて４−（トランス−４−（２−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェノールあるいは４−（２−（トランス−４−（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェノールを使用し、さらに３，４，５−トリフルオロブロモベンゼンあるいは既知の種々の３−フルオロブロモベンゼン誘導体を使用して以下の化合物が製造できる。
（化合物Ｎｏ．２４４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３、４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３、４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２４９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３、４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２５９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６７）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６８）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２６９）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７０）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７１）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７２）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７３）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７４）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７５）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７６）
ジフルオロ−（４−（トランス−４−（２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）エチル）シクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２７９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３、４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３、４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３、４−ジフルオロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２８９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３−フルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．２９９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３００）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−クロロフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０３）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメチルフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０４）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０５）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０６）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−トリフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０７）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０８）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３０９）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−ジフルオロメトキシフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３１０）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−エチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３１１）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
（化合物Ｎｏ．３１２）
ジフルオロ−（４−（２−（トランス−４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）シクロヘキシル）エチル）フェニルオキシ）（３，５−ジフルオロ−４−シアノフェニル）メタン
実施例７（使用例１）
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル２４％（重量、以下同じ）
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル３６％
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル２５％
４−（４−プロピルフェニル）ベンゾニトリル１５％
なる組成の液晶組成物のネマチック液晶の透明点（Ｃｐ）は７２．４℃であった。この液晶組成物をセル厚９μｍのＴＮセル（ねじれネマチックセル）に封入したものの動作しきい値電圧（Ｖｔｈ）は１．７８Ｖ、誘電率異方性値（△ε）は＋１１．０、屈折率異方性値（△ｎ）は０．１３７、また２０℃における粘度（η20）は２７．０ｍＰａ・ｓであった。この液晶組成物を母液晶（以下、母液晶Ａと略称する）としてその８５部に実施例１に示したジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．１）１５部を混合し、その物性値を測定した。その結果Ｃｐ：６６．４℃、Ｖｔｈ：１．５６Ｖ、△ε：１０．３、△ｎ：０．１２９、η20：２４．９ｍＰａ・ｓであった。また、この組成物を−２０℃のフリーザーに４０日間放置したが結晶の析出およびスメクチック相の発現等は認められなかった。
実施例８（使用例２）
フッ素系の液晶組成物として表２に示す液晶組成物を調製した。

この液晶組成物のネマチック液晶の透明点（Ｃｐ）は１００．１℃であった。この液晶組成物をセル厚９μｍのＴＮセル（ねじれネマチックセル）に封入したものの動作しきい値電圧（Ｖｔｈ）は２．２０Ｖ、誘電率異方性値（△ε）は＋５．１、また２０℃における粘度（η20）は２５．６ｍＰａ・ｓであった。この液晶組成物を母液晶（以下、母液晶Ｂと略称する）としてその８０部に実施例１に示したジフルオロ−（４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニルオキシ）（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（化合物Ｎｏ．１）２０部を混合し、その物性値を測定した。その結果Ｃｐ：８６．４℃、Ｖｔｈ：２．０２Ｖ、△ε：５．２、η20：２２．１ｍＰａ・ｓであった。また、この組成物を−２０℃のフリーザーに２５日間放置したが結晶の析出およびスメクチック相の発現等は認められなかった。
以下に組成物実施例を示す。なお、実施例中の化合物は前記表１に示す取り決めに従い略号で示し、また、実施例中Ｔ_NIは透明点、ηは粘度、Ｐはピッチを表す。
実施例９（使用例３）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ５．０％
３−ＨＢ−Ｃ２５．０％
１−ＢＴＢ−３５．０％
２−ＢＴＢ−１１０．０％
３−ＨＨ−４１１．０％
３−ＨＨＢ−１６．０％
３−ＨＨＢ−３９．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３６．０％
Ｔ_NI＝８５．４（℃）
η＝１４．４（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１５９
Δε＝７．１
Ｖ_th＝２．１０（Ｖ）
上記組成物１００部に対しＣＭ３３を０．８部混合した場合のピッチを以下に示す。
Ｐ＝１１μｍ
実施例１０（使用例４）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
Ｖ２−ＨＢ−Ｃ１２．０％
１Ｖ２−ＨＢ−Ｃ１２．０％
３−ＨＢ−Ｃ２４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
２−ＢＴＢ−１２．０％
３−ＨＨ−４８．０％
３−ＨＨ−ＶＦＦ６．０％
２−ＨＨＢ−Ｃ３．０％
３−ＨＨＢ−Ｃ６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２８．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３５．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４４．０％
Ｔ_NI＝８３．５（℃）
η＝１７．４（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１４５
Δε＝８．９
Ｖ_th＝１．９５（Ｖ）
実施例１１（使用例５）
３−ＨＢ（Ｆ）ＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ１５．０％
４Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ１３．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ１３．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ１５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ１５．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−４４．０％
３−ＨＨＢ−１３．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４．０％
Ｔ_NI＝８５．３（℃）
η＝８７．３（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１４７
Δε＝３１．０
Ｖ_th＝０．８７（Ｖ）
実施例１２（使用例６）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
５−ＰｙＢ−Ｆ４．０％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
２−ＢＢ−Ｃ５．０％
４−ＢＢ−Ｃ４．０％
５−ＢＢ−Ｃ５．０％
２−ＰｙＢ−２２．０％
３−ＰｙＢ−２２．０％
４−ＰｙＢ−２２．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ５３．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ６３．０％
６−ＰｙＢ−Ｏ７３．０％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ６．０％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ６．０％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ６．０％
３−ＨＨＢ−３８．０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−２４．０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−３４．０％
２−Ｈ２ＢＴＢ−４５．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２５．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３５．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４５．０％
Ｔ_NI＝８７．９（℃）
η＝３３．７（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１９８
Δε＝６．６
Ｖ_th＝２．２０（Ｖ）
実施例１３（使用例７）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＧＢ−Ｃ１０．０％
４−ＧＢ−Ｃ１０．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ１２．０％
３−ＢＥＢ−Ｃ４．０％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４８．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２６．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２５．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２４．０％
５−ＨＥＢ−５５．０％
４−ＨＥＢ−５５．０％
１Ｏ−ＢＥＢ−２４．０％
３−ＨＨＢ−１６．０％
３−ＨＨＥＢＢ−Ｃ３．０％
３−ＨＢＥＢＢ−Ｃ３．０％
５−ＨＢＥＢＢ−Ｃ３．０％
Ｔ_NI＝６７．０（℃）
η＝３９．３（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１２１
Δε＝１１．６
Ｖ_th＝１．２９（Ｖ）
実施例１４（使用例８）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＨＢ−Ｃ１８．０％
７−ＨＢ−Ｃ３．０％
１Ｏ１−ＨＢ−Ｃ１０．０％
３−ＨＢ（Ｆ）−Ｃ１０．０％
２−ＰｙＢ−２２．０％
３−ＰｙＢ−２２．０％
４−ＰｙＢ−２２．０％
１Ｏ１−ＨＨ−３７．０％
２−ＢＴＢ−Ｏ１７．０％
３−ＨＨＢ−１７．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４．０％
３−ＨＨＢ−３２．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２３．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３３．０％
２−ＰｙＢＨ−３４．０％
３−ＰｙＢＨ−３３．０％
３−ＰｙＢＢ−２３．０％
Ｔ_NI＝７４．０（℃）
η＝２５．７（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１３７
Δε＝８．１
Ｖ_th＝１．７５（Ｖ）
実施例１５（使用例９）
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ８．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ４．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ１０．０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ１０．０％
３−ＨＢ−Ｏ２１８．０％
７−ＨＥＢ−Ｆ２．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ２．０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ２．０％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ４．０％
２Ｏ１−ＨＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ２．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ（Ｆ）−Ｃ２．０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ２．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４．０％
３−ＨＨＢ−３８．０％
３−ＨＥＢＥＢ−Ｆ２．０％
３−ＨＥＢＥＢ−１２．０％
Ｔ_NI＝７３．０（℃）
η＝３３．７（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１１１
Δε＝２２．３
Ｖ_th＝１．００（Ｖ）
実施例１６（使用例１０）
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ９．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ４．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ１６．０％
３−ＨＢ−Ｏ２１０．０％
３−ＨＨ−４３．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ３．０％
３−ＨＨＢ−１８．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４．０％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ７．０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ２．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２５．０％
Ｔ_NI＝８２．６（℃）
η＝３９．３（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１３６
Δε＝２７．３
Ｖ_th＝１．０２（Ｖ）
実施例１７（使用例１１）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ１２．０％
３−ＢＥＢ−Ｃ４．０％
４−ＢＥＢ−Ｃ６．０％
３−ＨＢ−Ｃ２８．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４８．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２８．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１８．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２６．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２５．０％
３−ＨＨＢ−１７．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４．０％
Ｔ_NI＝６２．６（℃）
η＝２５．６（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１１３
Δε＝１０．２
Ｖ_th＝１．３１（Ｖ）
実施例１８（使用例１２）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
２−ＢＥＢ−Ｃ１０．０％
５−ＢＢ−Ｃ１２．０％
７−ＢＢ−Ｃ７．０％
１−ＢＴＢ−３７．０％
２−ＢＴＢ−１１０．０％
１Ｏ−ＢＥＢ−２１０．０％
１Ｏ−ＢＥＢ−５１２．０％
２−ＨＨＢ−１４．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＨＢ−１７．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１４．０％
３−ＨＨＢ−３９．０％
Ｔ_NI＝６３．２（℃）
η＝１９．８（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１５９
Δε＝６．６
Ｖ_th＝１．７７（Ｖ）
実施例１９（使用例１３）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
２−ＨＢ−Ｃ５．０％
３−ＨＢ−Ｃ１２．０％
３−ＨＢ−Ｏ２１５．０％
２−ＢＴＢ−１３．０％
３−ＨＨＢ−１８．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１５．０％
３−ＨＨＢ−３８．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ４．０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ７．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
Ｔ_NI＝９０．３（℃）
η＝１８．４（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９７
Δε＝４．４
Ｖ_th＝２．５６（Ｖ）
実施例２０（使用例１４）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ８．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１７．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１６．０％
２−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１３．０％
Ｔ_NI＝９５．４（℃）
η＝２４．０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９２
Δε＝４．８
Ｖ_th＝２．２６（Ｖ）
上記組成物１００部に対しＣＮを０．３部混合した場合のピッチを以下に示す。
Ｐ＝７８μｍ
実施例２１（使用例１５）
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
５−Ｈ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢ−Ｏ２１０．０％
３−ＨＨ−４５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ３．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
３−ＨＨＢ−１８．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１５．０％
３−ＨＨＢ−３４．０％
Ｔ_NI＝８３．９（℃）
η＝１７．１（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９１
Δε＝３．２
Ｖ_th＝２．６７（Ｖ）
実施例２２（使用例１６）
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＨＢ−Ｏ２７．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ９．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
２−ＨＢＢ−Ｆ４．０％
３−ＨＢＢ−Ｆ４．０％
５−ＨＢＢ−Ｆ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
Ｔ_NI＝８３．１（℃）
η＝２１．６（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１０９
Δε＝５．８
Ｖ_th＝１．９９（Ｖ）
実施例２３（使用例１７）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ４．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１２．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１５．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１２．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１２．０％
Ｔ_NI＝６８．８（℃）
η＝２６．６（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８７
Δε＝８．１
Ｖ_th＝１．６４（Ｖ）
実施例２４（使用例１８）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢ−ＣＬ１０．０％
５−ＨＢ−ＣＬ４．０％
７−ＨＢ−ＣＬ４．０％
１Ｏ１−ＨＨ−５５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ８．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ８．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ４．０％
４−ＨＨＢ−ＣＬ８．０％
５−ＨＨＢ−ＣＬ８．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−ＣＬ４．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＶＢ−２４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＶＢ−３４．０％
Ｔ_NI＝８７．３（℃）
η＝１７．７（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１２２
Δε＝５．１
Ｖ_th＝２．２９（Ｖ）
実施例２５（使用例１９）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１４．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２０．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ２．０％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４４．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５４．０％
Ｔ_NI＝９２．７（℃）
η＝３１．９（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１１４
Δε＝８．３
Ｖ_th＝１．８５（Ｖ）
実施例２６（使用例２０）
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３４．０％
５−ＨＢ−Ｆ１２．０％
６−ＨＢ−Ｆ９．０％
７−ＨＢ−Ｆ７．０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３７．０％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３７．０％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３４．０％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３４．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３３．０％
５−ＨＢＢＨ−３３．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ４．０％
Ｔ_NI＝８２．０（℃）
η＝１３．５（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９０
Δε＝４．３
Ｖ_th＝２．４３（Ｖ）
実施例２７（使用例２１）
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ２．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ２．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ２．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ９．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ９．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４５．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５５．０％
Ｔ_NI＝９３．８（℃）
η＝３２．０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１３０
Δε＝６．９
Ｖ_th＝１．９６（Ｖ）
実施例２８（使用例２２）
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
２−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３５．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３１０．０％
５−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３１０．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１７．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ１６．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ）−Ｆ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ６．０％
Ｔ_NI＝８１．９（℃）
η＝２４．０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９０
Δε＝５．０
Ｖ_th＝２．２０（Ｖ）
実施例２９（使用例２３）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ８．０％
３−ＨＢ−Ｃ８．０％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ８．０％
１Ｖ−ＨＢ−Ｃ８．０％
３−ＨＢ−Ｏ２３．０％
３−ＨＨ−２Ｖ１４．０％
３−ＨＨ−２Ｖ１７．０％
Ｖ２−ＨＨＢ−１１０．０％
３−ＨＨＢ−１５．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ７．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２６．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３６．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４５．０％
Ｔ_NI＝９３．３（℃）
η＝１５．５（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１３１
Δε＝８．５
Ｖ_th＝２．１９（Ｖ）
実施例３０（使用例２４）
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
３−ＨＢＯＣＦ２Ｂ（Ｆ）−ＯＣＦ３１０．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＯＣＦ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ７．０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ８．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ５．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
５−ＨＨ２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ９．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１０．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ１５．０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
４−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ２．０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ３．０％
Ｔ_NI＝７０．７（℃）
η＝２７．６（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９１
Δε＝９．９
Ｖ_th＝１．８８（Ｖ）
〔比較例１〕
本発明の比較化合物として従来の技術の項に示したＵＳＰ−５、０３２、３１３号記載の化合物（ｂ−１）（Ｒ＝Ｃ₃Ｈ₇）を特許公報記載の製造方法にて実際に合成した。

上記化合物を比較化合物として上述の母液晶Ｂ８０部に比較化合物２０部を混合、新たに液晶組成物を調製し、物性値を測定した。また、相溶性を判断する目的にて調製した液晶組成物はそのまま−２０℃のフリーザー中に放置し、放置開始から液晶組成物中に結晶物の析出あるいはスメクチック相が発現するまでの日数を測定した。実施例７の結果と併せて物性値を表３に示す（（）内の数値は母液晶からの外挿値である）。

比較例１から化合物（ｂ−１）は比較的大きな誘電率異方性を有し、粘度を変化させないでしきい値電圧のみを０．２５Ｖも低下させていることが判る。しかし調整した液晶組成物の誘電率異方性値は母液晶と比較し約２４％も上昇しており、従来の技術の項に示したイオン性不純物等の混入の問題を解決するには不適当と言える。これに対し本発明の化合物（化合物Ｎｏ．１）から調製した液晶組成物は比較化合物から調整した液晶組成物とほぼ同等の透明点を有しながら粘性は約１４％も低く、さらに驚くべきことに液晶組成物の誘電率異方性値は母液晶のものとほとんど変化していないにも関わらず、しきい値電圧のみが約０．２Ｖも低下している。また、相溶性についても比較化合物（ｂ−１）が−２０℃のフリーザー中で１５日で結晶の析出が確認されたのに対し、本発明の化合物は２５日以上にわたり結晶等の析出は認められず、非常に優れた低温相溶性を有することが確認された。この様に本発明の化合物は１）小さな弾性定数に起因すると考察される低いしきい値電圧を示し、２）低粘性であり、３）液晶組成物に添加した場合、誘電率異方性を維持あるいは低下させ、さらに４）他の既知の液晶性化合物との相溶性、特に低温相溶性に優れた新規な液晶性化合物であり、類似構造の３環系ならびに４環系化合物には見られない非常に有用な特長を有する。
産業上の利用可能性
本発明の（１）式の化合物は外部環境の変化に対して非常に安定であり、かつ非常に低粘性であり、また弾性定数に起因すると考察される低いしきい値電圧を示す。さらに他の液晶化合物との相溶性、特に低温相溶性に優れた化合物である。さらに本発明の化合物の利用として置換基Ｒ¹にアルキル基、ＸにＣＮ基以外を選択したものは高い電圧保持率を示し、ＴＦＴ方式の表示素子用の液晶材料、特に低電圧駆動、高速応答用に好ましい特性を示し、一方置換基Ｒ¹にアルケニル基、あるいはＸにＣＮ基を選択したものは極めて低粘性あるいは高い透明点を有し、ＳＴＮ表示素子用の減粘剤として非常に有用である。また、誘電率異方性値は小さく、化合物分子の極性が小さいことからＴＦＴ方式において特に問題となるイオン性不純物等の取り込みが極めて少なく、温度依存性が小さく安定した高い電圧保持率を示す。本発明の化合物の使用により外部環境の変化に対して安定であり、低電圧駆動、かつ高速応答の可能な新規な液晶組成物および液晶表示素子の提供が可能である。

Claims

一般式（１）

（式中Ｒ¹は炭素数１〜15の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または炭素数２〜15のアルケニル基を表し、この基中の１つまたは隣接しない１個以上のCH₂基を酸素原子で置換されていてもよく、環Ａおよび環Ｂは、相互に独立して環上の１個以上のCH₂基が酸素原子または硫黄原子で置換されていてもよい１，４−シクロヘキシレン基、または環上の１個以上のCH基が窒素原子で置換されていてもよく、また環上の１個以上の水素原子がハロゲン原子が置換されていてもよい１，４−フェニレン基を表し、環Ｃおよび環Ｄは、相互に独立して環上の１個以上の水素原子がハロゲン原子が置換されていても良い１，４−フェニレン基を表し、Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は相互に独立して-CH₂CH₂-、-CH=CH-、-C≡C-または単結合を表し、Ｘはハロゲン原子、ＣＦ₃、ＯＣＦ₃、ＯＣＨＦ₂、またはＣＮ基を表し、Ｙは水素またはハロゲン原子を表し、ｌおよびｍは０または１であり、ｌ＋ｍ≦１であり、また化合物を構成する元素はその同位体元素で置換されていてもよい）で表されるα，α−ジフルオロベンジルエーテル誘導体。
一般式（１）においてｌ＝ｍ＝０で表される請求の範囲第１項に記載の化合物。
一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基であり、環Ｃが１，４−フェニレン基で表される請求の範囲第２項に記載の化合物。
一般式（１）においてＸがフッ素原子、ＣＦ₃、またはＯＣＦ₃基であり、Ｙが水素原子で表される請求の範囲第３項に記載の化合物。
一般式（１）においてＸがフッ素原子、ＣＦ₃、またはＯＣＦ₃基であり、Ｙがハロゲン原子で表される請求の範囲第３項に記載の化合物。
一般式（１）においてｌ＝０、ｍ＝１で表される請求の範囲第１項に記載の化合物。
一般式（１）において環Ａが１，４−シクロヘキシレン基であり、環Ｃおよび環Ｄが１，４−フェニレン基で表される請求の範囲第６項に記載の化合物。
一般式（１）においてｌ＝１、ｍ＝０で表される請求の範囲第１項に記載の化合物。
一般式（１）において環Ａおよび環Ｂが１，４−シクロヘキシレン基であり、環Ｃが１，４−フェニレン基で表される請求の範囲第８項に記載の化合物。
一般式（１）においてＲ¹がアルケニル基で表される請求の範囲第１項に記載の化合物。
一般式（１）で示される化合物を少なくとも１成分含む、２成分以上からなる液晶組成物。
第一成分として請求の範囲第１〜１０項のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）

（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｘ¹はＦ、Ｃｌ、ＯＣＦ₃、ＯＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃、ＣＦ₂ＨまたはＣＦＨ₂を示し、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、およびＬ⁴は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｚ⁴およびＺ⁵は相互に独立して−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を示し、ａは１または２を示す）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
第一成分として、請求の範囲第１〜１０項のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）

（式中、Ｒ⁴はＦ、炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、該アルキル基またはアルケニル基中の任意のメチレン基（−ＣＨ₂−）が酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはなく、環Ｅはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｆはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｇはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ⁶は−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−または単結合を示し、Ｌ⁵およびＬ⁶は相互に独立してＨまたはＦを示し、ｂおよびｃは相互に独立して０または１を示す）、

（式中、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、Ｌ₇はＨまたはＦを示し、ｄは０または１を示す）、

（式中、Ｒ⁶は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、環Ｈおよび環Ｉは相互に独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ⁷およびＺ⁸は相互に独立して−ＣＯＯ−または単結合を示し、Ｚ⁹は−ＣＯＯ−または−Ｃ≡Ｃ−を示し、Ｌ⁸およびＬ⁹は相互に独立してＨまたはＦを示し、Ｘ²はＦ、ＯＣＦ₃、ＯＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃、ＣＦ₂ＨまたはＣＦＨ₂を示すが、Ｘ²がＯＣＦ₃、ＯＣＦ₂Ｈ、ＣＦ₃、ＣＦ₂ＨまたはＣＦＨ₂を示す場合はＬ⁸およびＬ⁹は共にＨを示し、ｅ、ｆおよびｇは相互に独立して０または１を示す）、

（式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基（−ＣＨ₂−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはなく、環Ｊはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｋはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ¹⁰は−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ≡Ｃ−または単結合を示し、Ｚ¹¹は−ＣＯＯ−または単結合を示す）、

（式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は相互に独立して炭素数１〜１０のアルキル基または炭素数２〜１０のアルケニル基を示し、いずれにおいてもそのうちの任意のメチレン基（−ＣＨ₂−）は酸素原子（−Ｏ−）によって置換されていてもよいが、２つ以上のメチレン基が連続して酸素原子に置換されることはなく、環Ｌはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｍはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、環上の１つ以上の水素原子がＦで置換されていてもよい１，４−フェニレン基またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｎはトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ¹²およびＺ¹⁴は相互に独立して−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−または単結合を示し、Ｚ¹³は−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−または共有結合を示し、ｈは０または１を示す）からなる群から選ン択される化合物を少なくとも１種類含有する液晶組成物。
第一成分として、請求の範囲第１〜１０項のいずれか１項に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の一部分として、一般式（２）、（３）および（４）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分の他の部分として、一般式（５）、（６）、（７）、（８）および（９）からなる群から選択される化合物を少なくとも１種類含有する液晶組成物。
請求の範囲第１１項から第１４項のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。