JP3848800B2 - 水素製造装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、水素製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
水素製造装置では、メタンやメタノールなどの炭化水素や含酸素炭化水素からなる原料ガスを、水蒸気改質反応とCOシフト反応によって、主に水素と二酸化炭素を生成させ、水素を選択的に分離し回収している。
従来の水素製造装置の一例を図13、図14に示す。図13は、軸心を含む平面で切断した水素製造装置の斜視図であり、図14は、軸心に直交する平面で切断した断面図である。
図13に示すように、水素製造装置10は、底部12を閉じた外筒14と、その内側に順次配設された中筒16及び内筒18とを備えている。外筒14、中筒16および内筒18とも直立円筒形をなしている。そして、これらの筒14、16、18の間に、第1空間部20、第2空間部26、第3空間部33が形成されている。
【0003】
中筒16と内筒18との間の第2空間部26は、環状であり、その上部に予備改質部25を備える。そして、下方には選択的に水素を透過する金属膜を有する複数の水素透過直方体34を第2空間部26と同心状に配設している。さらに、第2空間部26内で水素透過直方体34が画成する第3空間部33には各々スイープガス管38を挿入している。
一方、燃焼バーナ46が燃料ガス管48を介して導入された燃料ガスを空気取り入れ管50を介して取り入れた空気によって燃焼できるようになっている。これによって、水蒸気改質反応に必要な熱エネルギーを改質触媒を充填した触媒層26Aに供給して所定温度に維持する。燃焼ガスは、内筒22の中空部22,外筒14の底部12と環状底部24との間の空間、次いで環状の第1空間部20を経て燃焼ガス出口52から外部に排出される。その間に、触媒層26Aを加熱する。
【0004】
また、軽質炭化水素またはメタノールガスと水蒸気との混合ガスからなるプロセスフィードガスが第2空間部26の上部に設けられたフィードガス入口54から導入されて予備改質部25でプロセスフィードガスの一部が水素に転化し、さらに触媒層26Aに流入して高温下で水素に転化する。生成した水素は、水素透過直方体34により選択的に分離、収集され、第3空間部33を経由して、その上部に設けられた水素出口56からスイープガスと共に流出する。
スイープガスは、装置上部のスイープガス入口58から送入されスイープガス管38を流下し、次いで下端開口から第3空間部33に流入し、水素をスイープしながら透過水素を同伴して上昇し水素抜出管39を経由して水素出口56から流出する。スイープガスを流通して水素を押し出すように同伴流出させることにより、第3空間部33の透過側の水素分圧が低く維持される。
スイープガスとしては、例えば水蒸気、N2等のイナートガスが使用される。一方、触媒層26Aを通過した未反応の原料ガス、生成したCO、CO2ガスは、触媒層26Aの下部に開口を有するオフガス管60を経由してオフガス出口62より系外に排出される。
【0005】
上記したような水素製造装置10で使用される改質触媒は、粒子状のものが一般的である。また、水素透過性の金属膜は、薄いほど高性能であり、特開平6−321503号等で明らかなように厚さは5〜50μmと非常に薄い無孔質薄膜である。
このような、従来の粒子状改質触媒と水素透過性の金属薄膜との組み合わせを用いた水素製造装置は、以下の点が指摘されており、高純度の水素を効率良く製造するためには改良が望まれたいた。
【0006】
(1) プロセスガスは、粒子状改質触媒層26Aを流れるが、この場合、流れに垂直方向の混合拡散、特に金属膜近傍と触媒層26Aの中央部とのガスの混合拡散が促進されにくいため、金属膜近傍に水素の濃度勾配が生じ、水素透過速度の低下、ひいては反応速度の低下の原因となっている。
(2) 水素透過性の金属膜が、粒子状改質触媒との接触により損傷する可能性がある。
(3) 粒子状改質触媒の直径は1mm〜10mmのものが多く水素透過性の金属膜との隙間に充填する際、粒子の架橋により均一充填が困難である。充填が不十分であれば改質反応が進行せず、水素製造装置として著しく性能低下を起こす要因となる。
(4) 粒子状改質触媒の担体は、通常セラミック球であるため重量が大きくなり起動時間が長い。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記事情に対してなされたものであり、水素透過性の仕切り壁の耐久性を向上し、改質触媒の均一充填を図り、高純度の水素を製造可能とした水素製造装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る水素製造装置は、水素透過性の仕切り壁を有する水素製造装置において、成形した板状の改質触媒を用いたことを特徴とする。
上記改質触媒は、好適には、厚さが0.05mm〜1mmのステンレス鋼、炭素鋼、合金鋼等のメタル上に、Ni系触媒、Ru系触媒等を担持させることによって得ることができる。あるいは、コージェライト、ムライト、アルミナ、シリカ等のセラミック製担体上に上記触媒を担持させることによって得ることができる。担持する方法は、公知の方法を用いることができる。
【0009】
また、上記板状の改質触媒は、水素透過性の金属膜近傍に設置することが好適である。その際、水素透過性の金属膜と板状の改質触媒との距離を適切に保つことが好適である。
上記触媒は、水素透過性の金属膜を構成する水素透過直方体の金属部もしくはスペーサに溶接等で固定することが好ましい。
上記金属膜は、Pd、Pd含有合金、Nb合金、V合金から成る水素透過膜と金属多孔材から成る支持板で構成することが好ましい(特開平8−73201号公報)。
また、上記板状触媒は、ガス流れの上昇方向に対して並行しない凹凸を複数段設けた形状とし、原料ガスの流れに垂直方向の混合を促進させ効率良く反応を促進するようにする。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面に示した実施の形態を参照しながら、本発明に係る水素製造装置を説明する。
本発明に係る水素製造装置の一実施の形態を図1、図2に示す。図1は、軸心を含む平面で切断した水素製造装置の斜視図であり、図2は、軸心に直交する平面で切断した断面図である。
図1、図2において、図13、図14と同一要素には同一符号を付している。同一要素は、図13、図14について説明したと同様の機能をはたす。
本実施の形態では、環状の第2空間部26に配列した水素透過直方体34の上に予備改質部25を設け、従来と同様に粒子触媒を充填している。なお、図1、図2は、概念的なものであり、底部12、外筒14、中筒16、内筒18、水素透過直方体34等は、断面肉厚を省略して便宜的に実線で表わしている。
【0011】
図3に、水素透過直方体34と板状改質触媒126を拡大して示す。水素透過直方体34と板状改質触媒126は、図4に示すように各々一つずつを組み合わせたユニットとして構成し、第2空間部26に組み込むことが好適である。図4のユニットで見て、水素透過直方体34は、板状触媒126に近い内側の壁28と隣接するユニットに近い外側の壁32を備える。これらは水素透過性の金属膜で構成されている。これら壁32、34は、互いに上下方向の縦壁35、36、図1に示す底壁37によって第3空間部33を画成している。上端の壁面は、水素抜出管39に接続している。
【0012】
さらに、図4に示すように、このユニットはスペーサ127を備える。図3に示すように、このスペーサ127は、水素透過直方体34の長手方向に延長している。好適には、このスペーサ127は、図4に示すように板状触媒126と水素透過直方体34に溶接等の固定手段によって固定される。これによって、まず各ユニットにおいて、図4に示すように、各水素透過直方体34と板状触媒126との間にスペーサ127が介在するようになる。さらに、外側の壁32のスペーサ127が、ユニットを第2空間部26に組み込んだ際、隣接する板状触媒126との間にも介在することとなる。
【0013】
以上のような構成によって、各ユニットを第2空間部26に組み込んだ際、スペーサ127によって、各水素透過直方体34と板状触媒126との間を適切に離間することができる。これによって、金属膜が板状触媒との接触によって損傷することがない。また、板状触媒126は、従来の粒状触媒のような充填の際の均一性に関する問題点がない。また、セラミックス球のように重量が大きくないので取り扱いが便利である。
なお、適切に離間するとは、一般的には、スペーサによって、各水素透過直方体34と板状触媒126との間を、円周方向で見て一定間隔とすることを意味する。
【0014】
なお、図3、図4においては、説明の便宜のために、水素透過直方体34と板状触媒126とを直方体状に示しているが、実際に組み込む際は、図2に示すように、水素透過直方体34を断面長方形で、板状の改質触媒126を断面台形で構成するか、水素透過直方体34を断面台形で板状の改質触媒126を断面長方形で構成するか、あるいは両者を断面台形で構成し、水素透過性の金属膜と改質触媒126との間隔を適切に保つことができる。
【0015】
プロセスフィードガスは第2環状空間部26の上部に設けられたフィードガス入口54から導入され、予備改質部25を経由して水素透過直方体34の側壁28と側壁30の間に流入する。これによって、板状の改質触媒126として接触し、高温下で水素に転化する。
板状改質触媒126は、図5に示すような波板状の外形を備えている。流入したプロセスフィードガスは、図6に示すように上方から流入する。その際、改質触媒126の表面と水素透過直方体34との間の流路が、図示のように急拡大急縮小することにより流れに垂直方向の水素の混合拡散が促進される。このため、効率的に水素が分離され反応が進行しする。生成した水素は水素直方体34により選択的に分離、収集され第3空間部33を経由して、その上部に設けられた水素出口56からスイープガスと共に流出する。
【0016】
本発明に係る水素製造装置の他の実施の形態を図7、図8に示す。図7は、軸心を含む平面で切断した水素製造装置の斜視図であり、図8は、軸心に直交する平面で切断した断面図である。
図7、図8において、図1、図2と同一要素には同一符号を付している。同一要素は、図1、図2について説明したと同様の機能をはたす。
本実施の形態では、予備改質部25を内筒18の内側に仕切筒19を設けて構成している。そして、この仕切筒19と内筒18との間に形成される空間に、粒子触媒を充填し、粒子触媒層19Aを構成している。この実施の形態でも、水素透過直方体34同士の間は、従来使用していた粒状触媒に代えて板状の改質触媒126を水素透過直方体34に添って配列している。この実施の形態では、粒子触媒層19Aを流下して予備改質を行った後、上昇流の中で改質触媒126の作用を受ける。この実施の形態は、バーナ炎輻射による高温部であらかじめプロセスフィードガスの一部を水素に転化し、その際の吸熱により内筒18の極部加熱を防止し第2空間部の温度を均一に保つ利点を有する。
【0017】
さらに他の実施の形態として、図9にスペーサ127を円柱としたものを示す。 この実施の形態は、水素直方体34の側壁28と側壁32の有効な水素透過面積を増加するという利点を有する。
また、水素直方体34自体にスペーサ的突起128をつけたものを図10に示す。この実施の形態は、一体でスペーサを構成できるので取り付け作業を省略できるという利点を有する。
なお、図2、8、9、10は、ユニットの最小単位である水素透過直方体34と板状の改質触媒126を一対としているが、第2空間部26に組込む製作時には、さらに複数を組み合わすことにより製作を容易にすることが可能である。
【0018】
上記板状の改質触媒126の素材は、ステンレス等金属製の表面を触媒化したもの、あるいはコージェライトのように多孔質基材が好適である。改質触媒126の材形は、図5の波板状の形態に限らず、図11、図12に示すように他にも断面凹凸状のものや、四角柱を連続したものを採用することができる。すなわち、改質触媒表面と水素透過直方体の流路が急拡大急縮小することにより、効率的に反応が進行すると同時に生成した水素を選択的に分離、収集することができれば、本発明に採用することができる。
【0019】
【発明の効果】
上記したところから明かなように、本発明によれば、水素透過性の仕切り壁の耐久性を向上し、改質触媒の均一充填を図り、高純度の水素を製造可能とした水素製造装置が提供される。
すなわち、本発明に係る水素製造装置は、上述の構成により得られる以下の利点を備えて、高純度の水素を経済的に製造する工業的規模の水素製造装置を実現している。
【0020】
(1)板状改質触媒と水素透過性の金属膜を構成する水素透過部を組み合わすことにより、水素製造装置の製作が容易となり、製作コストを低減できる。
(2) このように組み合わせることにより、改質触媒の均一な充填が可能となり、プロセスフィードガスの偏流による性能低下を防止できる。
(3) スペーサを介することができるので、これにより水素透過性の金属膜と板状の改質触媒が接触しないため、水素透過性の金属膜の耐久性を大幅に向上させることができる。
(4) この結果、高純度水素を長期に渡り製造する事が可能である。
(5) 改質触媒重量が小さくなり、短時間で起動が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る水素製造装置の一実施の形態について、軸心を含む平面で切断した水素製造装置の斜視図である。
【図2】 本発明に係る水素製造装置の一実施の形態について、軸心に直交する平面で切断した断面図である。
【図3】 本発明に係る水素製造装置の一実施の形態について、水素透過直方体と板状の改質触媒を組み合わせた状態を説明する拡大斜視図である。
【図4】 本発明に係る水素製造装置の一実施の形態について、水素透過直方体と板状の改質触媒を組み合わせたユニットを説明する平面図である。
【図5】 本発明に係る水素製造装置の一実施の形態に用いられる板状の改質触媒の一形態を説明する斜視図である。
【図6】 本発明に係る水素製造装置の一実施の形態について、水素透過直方体と板状の改質触媒との間のガス流れを説明する断面図である。
【図7】 本発明に係る水素製造装置の他の実施の形態について、軸心を含む平面で切断した水素製造装置の斜視図である。
【図8】 本発明に係る水素製造装置の他の実施の形態について、軸心に直交する平面で切断した断面図である。
【図9】 本発明に係る水素製造装置のさらに他の実施の形態について、水素透過直方体と板状の改質触媒を組み合わせたユニットを説明する平面図である。
【図10】 本発明に係る水素製造装置のさらに他の実施の形態について、水素透過直方体と板状の改質触媒を組み合わせたユニットを説明する平面図である。
【図11】 本発明に係る水素製造装置に用いられる板状の改質触媒の他の形態を説明する斜視図である。
【図12】 本発明に係る水素製造装置に用いられる板状の改質触媒のさらに他の形態を説明する斜視図である。
【図13】 従来の水素製造装置の一形態について、軸心を含む平面で切断した水素製造装置の斜視図である。
【図14】 従来の水素製造装置の一形態について、軸心に直交する平面で切断した断面図である。
【符号の説明】
10 水素製造装置
12 底部
14 外筒
16 中筒
18 内筒
19 仕切筒
19A 粒子触媒層
20 第1空間部
22 中空部
24 環状底部
26 第2空間部
26A 触媒層
28 内側の壁
32 外側の壁
33 第3空間部
34 水素透過直方体
38 スイープガス管
39 水素抜出管
46 燃焼バーナ
48 燃料ガス管
50 空気取り入れ管
52 燃焼ガス出口
54 フィードガス入口
56 水素出口
58 スイープガス入口
60 オフガス管
62 オフガス出口
126 板状改質触媒
127 スペーサ
128 スペーサ的突起
Claims (3)
- 水素透過性の仕切り壁を有する水素製造装置において、成形した板状の改質触媒を、水素透過性の金属膜に対しスペーサを介して離間して固定し、上記板状の改質触媒は、ガス流れの方向に対して並行しない凹凸を複数段設けた形状とし、原料ガスの流れに垂直方向の混合を促進させ効率良く反応を促すことを特徴とする水素製造装置。
- 請求項1に記載の水素製造装置において、上記水素透過性の金属膜で構成した壁を備える水素透過直方体と、上記板状の改質触媒とを一つずつ組み合わせ、上記壁のうち上記板状の改質触媒に近い内側の壁を構成する金属膜と、上記板状の改質触媒との間を、スペーサを介在させて離間させてなるユニットとして構成し、該ユニットを組み込んでなることを特徴とする水素製造装置。
- 請求項2に記載の水素製造装置において、上記壁のうち隣接するユニットに近い外側の壁を構成する金属膜と、隣接するユニットの板状の改質触媒との間を、スペーサを介在させて離間させるように上記ユニットを組み込んでなることを特徴とする水素製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20699399A JP3848800B2 (ja) | 1999-07-22 | 1999-07-22 | 水素製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20699399A JP3848800B2 (ja) | 1999-07-22 | 1999-07-22 | 水素製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001031403A JP2001031403A (ja) | 2001-02-06 |
JP3848800B2 true JP3848800B2 (ja) | 2006-11-22 |
Family
ID=16532419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20699399A Expired - Lifetime JP3848800B2 (ja) | 1999-07-22 | 1999-07-22 | 水素製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3848800B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4639472B2 (ja) * | 2001-01-05 | 2011-02-23 | 日産自動車株式会社 | 反応器 |
CA2439773C (en) * | 2001-03-05 | 2010-12-07 | Shell Canada Limited | Apparatus and process for the production of hydrogen |
JP4753168B2 (ja) * | 2003-11-17 | 2011-08-24 | 猛央 山口 | 炭化水素改質水素製造システム |
JP5015766B2 (ja) * | 2005-02-04 | 2012-08-29 | 日本碍子株式会社 | 選択透過膜型反応器 |
JP5039370B2 (ja) * | 2006-12-06 | 2012-10-03 | 三菱重工業株式会社 | 水素製造用反応管及びそれを備えた水素製造装置、水素製造方法 |
JP5397830B2 (ja) * | 2009-02-12 | 2014-01-22 | 日産自動車株式会社 | 水素生成装置 |
JPWO2023013182A1 (ja) | 2021-08-04 | 2023-02-09 |
-
1999
- 1999-07-22 JP JP20699399A patent/JP3848800B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001031403A (ja) | 2001-02-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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