JP3847457B2 - Substrate processing equipment - Google Patents
Substrate processing equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP3847457B2 JP3847457B2 JP16975398A JP16975398A JP3847457B2 JP 3847457 B2 JP3847457 B2 JP 3847457B2 JP 16975398 A JP16975398 A JP 16975398A JP 16975398 A JP16975398 A JP 16975398A JP 3847457 B2 JP3847457 B2 JP 3847457B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- variable
- developer
- substrate
- recipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、処理レシピに基づいて制御される基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、光ディスク用基板などの製造工程では、種々の基板処理装置が用いられている。基板処理装置では、処理レシピに従って制御部が各動作部の動作を制御することによって基板に所定の処理を行う。
【0003】
図8は従来の基板処理装置の一例としての現像装置の構成を示す模式図である。図8の現像装置は、基板Wを回転駆動する回転駆動機構30Aと、基板Wに現像液を供給する供給機構30Bとを備える。回転駆動機構30Aは、基板Wを保持する基板保持部31および基板保持部31を回転駆動するモータ32から構成される。また、供給機構30Bは、現像液吐出ノズル33、支持アーム34、ノズル駆動機構35、送液管36、開閉弁37および現像液タンク38から構成される。現像液吐出ノズル33は、ノズル駆動機構35により基板Wの中央上方位置と基板Wの外方の待機位置との間を移動可能に形成されている。
【0004】
待機位置には待機ポット39が設けられている。待機ポット39内には、円筒状の現像液吐出ノズル33の先端に付着した現像液を吸引除去するための吸引ブロック40および吸引ブロック40に接続される吸引管路41が設けられている。吸引管路41中には開閉弁41aが設けられている。
【0005】
現像装置における回転駆動機構30Aのモータ32、ノズル駆動機構35のモータ35a、送液管36中の開閉弁37、吸引管路41中の開閉弁41a等の各動作部は制御部42に接続されている。
【0006】
また、現像装置は、処理レシピを格納している。処理レシピには、現像装置の各動作部の動作手順および動作条件が予め規定されている。そして、制御部42は、処理レシピに従って各動作部の動作を制御する。
【0007】
上記の現像装置の待機時には、現像液吐出ノズル33が待機ポット39内に静止している。また、現像液供給時には、現像液吐出ノズル33が待機ポット39から基板Wの中央上方位置に移動し、基板Wの表面に現像液を吐出する。さらに、現像液の吐出が終了すると、現像液吐出ノズル33が再び基板Wの中央上方位置から待機ポット39内に復帰し、待機する。
【0008】
さらに、待機時には、現像液のディスペンス動作が行われる。ディスペンス動作とは、待機ポット39内で現像液吐出ノズル33から現像液を吐出して、現像液吐出ノズル33の内部に貯留した現像液を廃棄する処理である。待機時には、外気と接触する現像液吐出ノズル33の吐出口近傍の現像液が時間の経過により変質する場合がある。そこで、変質した現像液を廃棄し、常に現像液吐出ノズル33から均質な現像液を吐出しうるようにディスペンス動作が行われる。特に、現像液吐出前の待機時におけるディスペンス動作をプリディスペンス動作と称し、現像液吐出後の待機時におけるディスペンス動作をアフタディスペンス動作と称する。
【0009】
また、待機時には、ディスペンス動作とともに滴取り動作が行われる。滴取り動作は、現像液吐出ノズル33の先端に付着した現像液の液滴を除去し、現像液吐出ノズル33の先端の外表面を清浄な状態に保持するために行われる。滴取り動作では、制御部42の制御により開閉弁41aを開き、破線で示すように、現像液吐出ノズル33の先端近傍に対向配置した吸引ブロック40から現像液吐出ノズル33の先端に付着した現像液の液滴を吸引除去する。
【0010】
上記のディスペンス動作および滴取り動作は処理レシピに従って行われる。処理レシピでは、ディスペンス動作のための送液管36の開閉弁37の開閉時間および滴取り動作のための吸引管路41の開閉弁41aの開閉時間が規定されている。
【0011】
図9は、処理レシピに基づく待機時の動作の説明図である。図9の横軸は各処理ステップごとの動作時間を示している。処理ステップは、各動作部が起動および停止されるごとに区分して設定される。すなわち、処理ステップs1は吸引管路41の開閉弁41aが開放されてから、送液管36の開閉弁37が開放されるまでの処理期間を設定する。また、処理ステップs2は、送液管36の開閉弁37が開放された後、開閉弁37が閉鎖されるまでの処理期間を設定する。さらに、処理ステップs3は、送液管36の開閉弁37が閉鎖された後、吸引管路41の開閉弁41aが閉鎖されるまでの処理期間を設定する。
【0012】
そして、処理ステップs1では、滴取り動作が行われ、処理ステップs2では現像液吐出動作および滴取り動作が行われ、さらに処理ステップs3では現像液吐出動作が終了し、滴取り動作が行われる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来の基板処理装置では、処理レシピにおける処理時間などの動作条件が数値データとして与えられている。
【0014】
一方、近年では基板が大径化するとともに、基板上に形成される素子構造の微細化が進展している。このため、現像装置では、基板の全面にわたって均一に現像処理を行うことが強く要求されている。そこで、大径の基板に均一に現像液を供給するのに適した直線状の吐出口を有するスリット状ノズルが提案されている。
【0015】
しかしながら、このスリット状ノズルは、従来の円筒状の現像液吐出ノズル33に比べると、従来必要とされていなかったノズル先端部の水洗い動作やノズル内部に発生する気泡の除去動作などの新たな動作が必要となり、待機時における現像装置の動作が複雑化する。このため、処理レシピの設定作業も煩雑化する。
【0016】
また、基板の直径や処理プロセスの多様化に伴い、基板処理装置に要求される処理条件が多様化している。このため、基板の直径や処理プロセスの多様化に応じた多種の処理レシピを予め用意する必要が生じ、基板処理装置における処理レシピの設定作業が煩雑化する傾向にある。
【0017】
本発明の目的は、データ内容の変更が容易な処理レシピを用いた基板処理装置を提供することである。
【0018】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
第1の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行うために動作する動作部と、動作部の動作を制御するための複数のデータを有する処理レシピを格納する格納手段と、格納手段に格納された処理レシピに基づいて動作部の動作を制御する制御手段とを備え、処理レシピは、1または複数のデータをそれぞれ含む複数の処理ステップを含むとともに、所定の処理ステップの繰り返し回数を表す変数または変数式を含むものである。
【0019】
第1の発明に係る基板処理装置においては、制御手段が処理レシピに基づいて動作部の動作を制御する。処理レシピには、所定の処理ステップの繰り返し回数を表す変数または変数式を設定することができる。このため、基板の種類や処理条件などが変化する場合には、変化に応じた数値を変数または変数式に与えることにより、処理レシピを新たに作成することなく動作部に動作の繰り返し回数が異なる種々の動作を行わせることができる。これにより、簡単な操作で基板処理装置に多様な動作を行わせることができる。
【0020】
第2の発明に係る基板処理装置は、第1の発明に係る基板処理装置の構成において、処理レシピに含まれる変数または変数式の変数に所定の数値を設定する設定手段をさらに備えたものである。
【0021】
この場合、設定手段により数値を処理レシピの変数または変数式の変数に与えることにより、容易に処理レシピのデータを変更することができる。
【0022】
第3の発明に係る基板処理装置は、第2の発明に係る基板処理装置の構成において、複数の数値を記憶する記憶手段をさらに備え、設定手段が、記憶手段に記憶された数値を変数または変数式の変数に設定するものである。
【0028】
第6の発明に係る基板処理装置は、第5の発明に係る基板処理装置の構成において、複数の数値を記憶する記憶手段をさらに備え、設定手段は、記憶手段に記憶された数値を変数式の変数に設定するものである。
【0029】
この場合、種々の条件の処理に対応した数値を記憶手段に記憶しておくことにより、処理レシピの変数式の変数に記憶手段から読み出した数値を与え、処理レシピのデータを変更して種々の動作を容易に切り換えて行わせることができる。
【0030】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の実施例による基板処理装置の一例としての現像装置の平面図であり、図2は図1中のX−X線断面図であり、図3は図1中のY−Y線断面図であり、さらに図4は図1中のZ−Z線断面図である。
【0031】
図1〜図4に示すように、現像装置は、基板Wを水平姿勢で吸引保持する基板保持部1を備える。基板保持部1は、モータ2の回転軸3の先端部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成されている。基板保持部1の周囲には、基板Wを取り囲むように円形の内側カップ4aが上下動自在に設けられている。また、内側カップ4aの周囲には、正方形の外側カップ4bが設けられている。
【0032】
図1に示すように、外側カップ4bの両側にはそれぞれ待機ポット6a,6bが配置され、外側カップ4bの一方の側部側にはガイドレール8が配設されている。また、ノズルアーム9がアーム駆動部10によりガイドレール8に沿って走査方向Aおよびその逆方向に移動可能に設けられている。外側カップ4bの他方の側部側には、純水を吐出する純水吐出ノズル12が矢印Rの方向に回動可能に設けられている。
【0033】
ノズルアーム9には、現像液吐出ノズル11がガイドレール8と垂直に取り付けられている。これにより、現像液吐出ノズル11は、待機ポット6aの位置から基板W上を通過して待機ポット6bの位置まで走査方向Aに沿って直線状に平行移動可能となっている。
【0034】
図2に示すように、現像液吐出ノズル11には、現像液供給系14により現像液が供給される。現像液供給系14には、現像液タンク17が収納されている。現像液タンク17には、現像液吐出ノズル11に現像液を供給する送液管18が連結されており、送液管18の途中には開閉弁16が設けられている。
【0035】
図2および図4において、現像液吐出ノズル11は直線状に延びるスリット状吐出口15を有するスリット状ノズルから構成されている。現像液吐出ノズル5の内部には中空の現像液溜まり11aが形成されている。現像液溜まり11aの上面は、現像液溜まり11a内に生じた気泡24が廃液管7に導かれるように廃液管7の開口部に向かって傾斜して形成されている。送液管18を通して供給された現像液は、この現像液溜まり11aを通り、スリット状吐出口15から吐出される。現像液吐出ノズル11からの現像液の吐出量は、現像液タンク17に加えられる圧力および開閉弁16の開度等により調整される。
【0036】
現像液吐出ノズル11の上面には廃液管7が接続されている。廃液管7の上流端は現像液吐出ノズル11の現像液溜まり11aに連通している。また、廃液管7の下流端は外部の廃液処理設備に接続されている。廃液管7の途中には廃液管開閉弁19が設けられており、廃液管開閉弁19の開閉動作により現像液吐出ノズル11からの空気抜き動作が制御される。
【0037】
図3に示すように、現像液吐出ノズル11は待機ポット6aの内部で静止して待機する。待機ポット6aの内部には待機ブロック20が配置されている。待機ブロック20の上面には現像液吐出ノズル11の先端形状に沿ったV字状の凹部20aが形成されている。待機ブロック20には吸引管路23が接続されている。吸引管路23の上流端は現像液吐出ノズル11の下部先端に対応する凹部20aの底部に開口され、下流端は外部の吸引源に接続されている。また、吸引管路23中には吸引開閉弁23aが配置されている。この吸引管路23を通して吸引することにより、現像液吐出ノズル11の先端に付着した滴(現像液や純水)を吸引して現像液吐出ノズル11の先端から除去することができる。
【0038】
また、待機ブロック20には純水供給管21が接続されている。純水供給管21の下流端は待機ブロック20の凹部20aの傾斜面に開口された複数の吐出孔に連通され、上流端は外部の純水供給源に接続されている。また、純水供給管21中には供給開閉弁21aが配置されている。この純水供給管21を通して待機ブロック20に純水を供給すると、待機ブロック20の凹部20aの傾斜面に形成された吐出孔から純水が現像液吐出ノズル11に噴出される。これにより、現像液吐出ノズル11の先端部表面を洗浄することができる。
【0039】
なお、図1の待機ポット6b内にも、図3の待機ブロック20と同様の構成を有する待機ブロックが設けられている。
【0040】
処理レシピは、ハードディスク装置、フロッピィディスク装置、半導体メモリ等からなる記憶装置50に記憶されており、現像装置の各動作部の動作手順および動作条件のデータが規定されている。
【0041】
制御部13は、記憶装置50から処理レシピを読み込み、処理レシピに従ってモータ2、アーム駆動部10、送液管18中の開閉弁16、廃液管7の廃液管開閉弁19、吸引管路23の吸引開閉弁23aおよび純水管供給管21の供給開閉弁21aの動作を制御する。
【0042】
本実施例においては、モータ2、アーム駆動部10、送液管18中の開閉弁16、廃液管7の廃液管開閉弁19、吸引管路23の吸引開閉弁23aおよび純水管供給管21の供給開閉弁21aが本発明の動作部に相当し、記憶装置50が格納手段および記憶手段に相当し、制御部13が制御手段および設定手段に相当する。
【0043】
以下、処理レシピに従う現像装置の動作について説明する。ここでは、現像装置の動作例として、待機時のディスペンス動作について説明する。ディスペンス動作には、基板Wへの現像液の吐出工程の前に行われる処理(プリディスペンス動作)、吐出後に行われる処理(アフタディスペンス動作)および待機時に定期的に行われる処理(オートディスペンス動作)がある。
【0044】
図5はディスペンス動作の処理レシピを示す説明図であり、図6は図5のディスペンス動作を示す説明図である。ディスペンス動作では、現像液吐出動作とともに、滴取り、空気抜きおよび水洗いの各動作が個別にまたは重複して行われる。
【0045】
現像液吐出動作は、現像液吐出ノズル11から現像液を吐出し、現像液吐出ノズル11の先端に貯溜した現像液を廃棄する動作である。滴取り動作は、現像液吐出ノズル11の先端に付着した現像液の液滴や水洗いの滴を吸引して取り去る動作である。空気抜き動作は、現像液吐出ノズル11の現像液溜まり11a内に生じた気泡を廃液管7を通して外部へ排出する動作である。さらに、水洗い動作は、現像液吐出ノズル11の先端部に純水を噴出して洗浄する動作である。
【0046】
図5の処理レシピ25は、上記の現像液吐出、滴取り、空気抜きおよび水洗いの各動作手順および動作条件を規定している。処理レシピ25において、処理ステップは動作の順序を示している。この処理ステップは、各動作部が起動および停止されるごとに区分して設定される。T1は各処理ステップにおける時間を示している。C1〜C4は処理液の種別を示し、C1〜C4の各欄における番号101は現像液吐出を示し、119は滴取りを示し、123は空気抜きを示し、105は水洗いを示している。
【0047】
さらに、繰り返し数は当該処理ステップまでの各処理を繰り返し行う回数を規定し、ジャンプ先は繰り返す処理の先頭の処理ステップの番号を示している。
【0048】
この処理レシピ25においては、処理ステップS3の処理時間T1が変数式(x−3)で示され、さらに、繰り返し数が変数式(y−1)で示されている。
【0049】
図5および図6において、ディスペンス動作時には、最初に滴取り動作が開始される。滴取り動作は処理ステップS1から処理ステップS5にわたって行われる。
【0050】
滴取り動作の開始から1秒経過後に、現像液吐出動作および空気抜き動作が開始される。現像液吐出動作はx(=3.0+x−3)秒間継続される(処理ステップS2,S3)。また、空気抜き動作は3秒間継続される(処理ステップS2)。さらに、処理ステップS1から処理ステップS4までの各動作はさらに(y−1)回繰り返し行われる。
【0051】
その後、水洗い処理が開始される。水洗い処理は5秒間継続される(処理ステップS5,S6)。また、滴取り動作は水洗い動作の開始後1秒間で停止される。
【0052】
さらに、水洗い動作の停止後、5秒間滴取り動作が行われる(処理ステップS7)。
【0053】
上記の処理レシピ25において、処理ステップ3における現像液吐出動作の継続時間(x−3)および処理ステップS1〜S4の繰り返し数(y−1)が変数式を用いて規定されている。このため、制御部13は変数式の各変数x,yに所望の数値を設定することにより、各処理ステップの動作を任意に制御することができる。それにより、1つの処理レシピ25を用いて現像液吐出時間および現像液吐出、滴取り、空気抜きの各動作の繰り返し数が異なる処理を行わせることができる。
【0054】
なお、処理レシピ25に設定された変数式の変数に対しては、処理条件に応じた種々の数値データを格納したデータファイルを記憶装置50に記憶し、記憶装置50に記憶されたデータファイルから該当する数値データを制御部13が選択して代入設定してもよく、あるいは作業者が基板処理装置の入力部から直接数値データを入力し、それに基づいて制御部13が代入設定するようにしてもよい。
【0055】
また、上記実施例では、現像装置のディスペンス動作を規定する処理レシピに変数を設定する例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、処理レシピを使用する他の基板処理装置に対しても適用することができる。
【0056】
例えば、図7は回転式塗布装置の処理レシピを示す説明図である。回転式塗布装置の処理レシピ26では、回転時間、回転処理回数、回転数をそれぞれ変数x,y,zで設定している。また一方で、異なる数値データを有するデータファイル27を準備する。データファイル27は記憶装置50に記憶される。そして、基板ごと、あるいは基板のロットごとにデータファイル27から各変数x,y,zに順次数値データを入力し、基板を異なる状態で回転させることができる。
【0057】
これにより、基板の回転処理状態を基板ごと、あるいはロットごとに変化させることが容易となる。また、この処理レシピ26とデータファイル27とを用いる方法は、基板の処理条件を決定するための試行処理を容易に行わせることが可能となる。
【0058】
さらに、処理レシピ26の各変数の代わりに、変数式を設定してもよい。例えば、処理ステップ数をnとすると、処理ステップごとに回転数や回転時間が増減するような数式、例えば回転数として(1000+10×n(rpm))、回転時間として(10+2×n(秒))を設定してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による基板処理装置の一例としての現像装置の平面図である。
【図2】図1中のX−X線断面図である。
【図3】図1中のY−Y線断面図である。
【図4】図1中のZ−Z線断面図である。
【図5】ディスペンス動作の処理レシピを示す説明図である。
【図6】図5のディスペンス動作の動作を示す説明図である。
【図7】回転式塗布装置の処理レシピの説明図である。
【図8】従来の基板処理装置の一例としての現像装置の構成を示す模式図である。
【図9】処理レシピに基づく待機時の動作の説明図である。
【符号の説明】
6a,6b 待機ポット
7 廃液管
11 現像液吐出ノズル
18 送液管
16 開閉弁
19 廃液管開閉弁
13 制御部
20 待機ブロック
21 純水供給管
21a 供給開閉弁
23 吸引管路
23a 吸引開閉弁
25,26 処理レシピ
27 データファイル
50 記憶装置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate processing apparatus controlled based on a processing recipe.
[0002]
[Prior art]
Various substrate processing apparatuses are used in manufacturing processes of semiconductor wafers, glass substrates for photomasks, glass substrates for liquid crystal display devices, optical disk substrates, and the like. In the substrate processing apparatus, the control unit performs predetermined processing on the substrate by controlling the operation of each operation unit according to the processing recipe.
[0003]
FIG. 8 is a schematic diagram showing a configuration of a developing device as an example of a conventional substrate processing apparatus. The developing device of FIG. 8 includes a
[0004]
A
[0005]
The operation units such as the
[0006]
Further, the developing device stores a processing recipe. In the processing recipe, the operation procedure and operation conditions of each operation unit of the developing device are defined in advance. And the
[0007]
When the developing device is on standby, the
[0008]
Further, at the time of standby, a developer dispensing operation is performed. The dispensing operation is a process of discharging the developer from the
[0009]
Further, at the time of standby, the dropping operation is performed together with the dispensing operation. The droplet collecting operation is performed to remove the developer droplets adhering to the tip of the
[0010]
The dispensing operation and the dropping operation are performed according to the processing recipe. In the processing recipe, the opening / closing time of the opening /
[0011]
FIG. 9 is an explanatory diagram of the standby operation based on the processing recipe. The horizontal axis in FIG. 9 indicates the operation time for each processing step. The processing steps are set separately for each operation unit activated and stopped. That is, the processing step s1 sets a processing period from when the opening /
[0012]
In the processing step s1, a droplet removing operation is performed, in the processing step s2, a developer discharging operation and a droplet removing operation are performed, and in the processing step s3, the developer discharging operation is finished and a droplet removing operation is performed.
[0013]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, in the conventional substrate processing apparatus, operation conditions such as the processing time in the processing recipe are given as numerical data.
[0014]
On the other hand, in recent years, the substrate has been increased in diameter, and the element structure formed on the substrate has been miniaturized. For this reason, in the developing device, it is strongly required to perform the developing process uniformly over the entire surface of the substrate. In view of this, a slit-like nozzle having a linear discharge port suitable for supplying a developer uniformly to a large-diameter substrate has been proposed.
[0015]
However, this slit-shaped nozzle is new compared to the conventional cylindrical
[0016]
Further, with the diversification of substrate diameters and processing processes, processing conditions required for the substrate processing apparatus are diversified. For this reason, it becomes necessary to prepare in advance various processing recipes corresponding to the diameter of the substrate and the diversification of processing processes, and the processing recipe setting operation in the substrate processing apparatus tends to become complicated.
[0017]
An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus using a processing recipe in which data contents can be easily changed.
[0018]
[Means for Solving the Problems and Effects of the Invention]
A substrate processing apparatus according to a first aspect of the present invention includes an operation unit that operates to perform a predetermined process on a substrate, a storage unit that stores a processing recipe having a plurality of data for controlling the operation of the operation unit, and a storage Control means for controlling the operation of the operation unit based on the processing recipe stored in the means, and the processing recipe includes a plurality of processing steps each including one or a plurality of data, and the number of repetitions of a predetermined processing step. It includes a variable or variable expression representing
[0019]
In the substrate processing apparatus according to the first aspect, the control means controls the operation of the operating unit based on the processing recipe. A variable or variable expression representing the number of repetitions of a predetermined process step can be set in the process recipe. For this reason, when the type of substrate, processing conditions, and the like change, a numerical value corresponding to the change is given to a variable or variable expression, so that the number of repetitions of operation differs in the operation unit without creating a new processing recipe. Various operations can be performed. As a result, various operations can be performed by the substrate processing apparatus with a simple operation.
[0020]
The substrate processing apparatus according to a second aspect is the construction of a substrate processing apparatus according to the first invention, a variable variable or variable expression included in the processing recipe which was further includes setting means for setting a predetermined numerical value is there.
[0021]
In this case, by giving a number to a variable or variable expression variable processing recipe by setting means, it is possible to change the data of easily processing recipe.
[0022]
A substrate processing apparatus according to a third aspect of the present invention is the substrate processing apparatus according to the second aspect of the present invention, further comprising storage means for storing a plurality of numerical values, wherein the setting means uses the variable stored in the numerical values stored in the storage means. This is set to the variable of the variable expression.
[0028]
A substrate processing apparatus according to a sixth aspect of the present invention is the substrate processing apparatus according to the fifth aspect of the present invention, further comprising storage means for storing a plurality of numerical values, and the setting means uses the variable values to store the numerical values stored in the storage means. Is set to the variable.
[0029]
In this case, by storing the numerical values corresponding to the processing of various conditions in the storage means, the numerical values read from the storage means are given to the variables in the variable formula of the processing recipe, and the processing recipe data is changed to The operation can be easily switched.
[0030]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a plan view of a developing device as an example of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line XX in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a sectional view taken along line Y, and FIG. 4 is a sectional view taken along line ZZ in FIG.
[0031]
As shown in FIGS. 1 to 4, the developing device includes a
[0032]
As shown in FIG. 1,
[0033]
A
[0034]
As shown in FIG. 2, a developer is supplied to the
[0035]
2 and 4, the
[0036]
A
[0037]
As shown in FIG. 3, the
[0038]
A pure
[0039]
Note that a standby block having the same configuration as the
[0040]
The processing recipe is stored in a
[0041]
The
[0042]
In the present embodiment, the
[0043]
The operation of the developing device according to the processing recipe will be described below. Here, a dispensing operation during standby will be described as an example of the operation of the developing device. Dispensing operations include processing performed before the developer discharge process to the substrate W (pre-dispensing operation), processing performed after discharging (after-dispensing operation), and processing periodically performed during standby (auto-dispensing operation). There is.
[0044]
FIG. 5 is an explanatory view showing a processing recipe of the dispensing operation, and FIG. 6 is an explanatory view showing the dispensing operation of FIG. In the dispensing operation, the droplet removal operation, the air bleeding operation, and the water washing operation are performed individually or in duplicate with the developer discharge operation.
[0045]
The developer discharge operation is an operation of discharging the developer from the
[0046]
The processing recipe 25 in FIG. 5 defines the operating procedures and operating conditions of the above-described developer discharge, droplet removal, air bleeding and water washing. In the processing recipe 25, the processing steps indicate the order of operations. This processing step is set separately for each operation unit activated and stopped. T1 indicates the time in each processing step. C1 to C4 indicate types of processing liquids,
[0047]
Further, the number of repetitions defines the number of times each process up to the process step is repeated, and the jump destination indicates the number of the first process step of the repeated process.
[0048]
In this processing recipe 25, the processing time T1 of processing step S3 is indicated by a variable equation (x-3), and the number of repetitions is indicated by a variable equation (y-1).
[0049]
5 and 6, at the time of the dispensing operation, the droplet collection operation is first started. The droplet removal operation is performed from processing step S1 to processing step S5.
[0050]
After 1 second from the start of the droplet collection operation, the developer discharge operation and the air bleeding operation are started. The developer discharge operation is continued for x (= 3.0 + x−3) seconds (processing steps S2 and S3). Further, the air venting operation is continued for 3 seconds (processing step S2). Further, each operation from the processing step S1 to the processing step S4 is repeated (y-1) times.
[0051]
Thereafter, the water washing process is started. The water washing process is continued for 5 seconds (processing steps S5 and S6). Further, the drip removal operation is stopped 1 second after the start of the water washing operation.
[0052]
Further, after the washing operation is stopped, a drip removal operation is performed for 5 seconds (processing step S7).
[0053]
In the processing recipe 25, the duration (x-3) of the developer discharge operation in the
[0054]
For the variables of the variable formula set in the processing recipe 25, a data file storing various numerical data corresponding to the processing conditions is stored in the
[0055]
Further, in the above-described embodiment, an example in which variables are set in the processing recipe that defines the dispensing operation of the developing device has been described. However, the present invention is not limited to this, and other substrate processing apparatuses that use the processing recipe. It can also be applied to.
[0056]
For example, FIG. 7 is an explanatory view showing a processing recipe of the rotary coating apparatus. In the
[0057]
Thereby, it becomes easy to change the rotation processing state of a board | substrate for every board | substrate or for every lot. In addition, the method using the
[0058]
Furthermore, instead of each variable of the
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of a developing device as an example of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line XX in FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line YY in FIG.
4 is a cross-sectional view taken along line ZZ in FIG. 1. FIG.
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a processing recipe for a dispensing operation.
6 is an explanatory diagram showing an operation of the dispensing operation of FIG.
FIG. 7 is an explanatory diagram of a processing recipe of the rotary coating apparatus.
FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a configuration of a developing device as an example of a conventional substrate processing apparatus.
FIG. 9 is an explanatory diagram of an operation during standby based on a processing recipe.
[Explanation of symbols]
6a,
Claims (2)
前記複数の動作部の動作をそれぞれ制御するための処理レシピを格納する格納手段と、
前記格納手段に格納された前記処理レシピに基づいて前記複数の動作部の動作をそれぞれ制御する制御手段とを備え、
前記処理レシピは、前記複数の動作部の動作手順および動作条件をそれぞれ規定する複数の処理ステップを含むとともに、所定の処理ステップの繰り返し回数を表す変数または変数式および繰り返し範囲を含み、
前記処理ステップは、各動作部が起動および停止されるごとに区分して設定され、
前記格納手段に格納された前記処理レシピに含まれる前記変数または前記変数式の変数に所定の数値を設定する設定手段をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。A plurality of operating units that operate to perform predetermined processing on the substrate;
Storage means for storing processing recipes for controlling the plurality of operation portions of the operation, respectively,
And control means for controlling each operation of said plurality of operation unit based on the process recipe stored in the storage means,
The processing recipe includes a plurality of processing steps that respectively define operation procedures and operating conditions of the plurality of operation units, and includes a variable or variable expression representing a number of repetitions of a predetermined processing step and a repetition range ,
The processing step is set separately for each operation unit started and stopped,
A substrate processing apparatus , further comprising: a setting unit that sets a predetermined numerical value for the variable or the variable of the variable formula included in the processing recipe stored in the storage unit .
前記設定手段は、前記記憶手段に記憶された前記数値を前記変数または前記変数式の変数に設定することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。A storage means for storing a plurality of numerical values;
The setting means, the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the setting the values stored in the storage unit to the variable or variables of the variable expression.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16975398A JP3847457B2 (en) | 1998-06-17 | 1998-06-17 | Substrate processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16975398A JP3847457B2 (en) | 1998-06-17 | 1998-06-17 | Substrate processing equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000012416A JP2000012416A (en) | 2000-01-14 |
JP3847457B2 true JP3847457B2 (en) | 2006-11-22 |
Family
ID=15892218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16975398A Expired - Fee Related JP3847457B2 (en) | 1998-06-17 | 1998-06-17 | Substrate processing equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3847457B2 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005329306A (en) * | 2004-05-19 | 2005-12-02 | Tokyo Electron Ltd | Coating film formation apparatus and coating film formation method |
JP5545693B2 (en) * | 2008-10-01 | 2014-07-09 | 株式会社Sokudo | Development processing equipment |
TWI544291B (en) | 2012-05-22 | 2016-08-01 | 斯克林半導體科技有限公司 | Development processing device |
JP5841493B2 (en) * | 2012-05-22 | 2016-01-13 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | Development processing equipment |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6225419A (en) * | 1985-07-25 | 1987-02-03 | Canon Inc | Semiconductor manufacturing equipment |
JPH0741153B2 (en) * | 1987-04-15 | 1995-05-10 | ダイキン工業株式会社 | Multiple liquid mixing device |
JPH01257333A (en) * | 1988-04-07 | 1989-10-13 | Oki Electric Ind Co Ltd | Method of controlling diffusion module system |
JP2858663B2 (en) * | 1989-12-14 | 1999-02-17 | 松下電器産業株式会社 | How to set process data |
JP2739144B2 (en) * | 1991-04-05 | 1998-04-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Rotary substrate processing equipment |
JP3282677B2 (en) * | 1992-03-30 | 2002-05-20 | 株式会社日立国際電気 | Semiconductor manufacturing apparatus control method and semiconductor manufacturing apparatus |
JPH08107095A (en) * | 1994-08-08 | 1996-04-23 | Tokyo Electron Ltd | Processing device, cleaning processing device and image processing device thereof |
JPH1012537A (en) * | 1996-06-19 | 1998-01-16 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | Rinsing apparatus |
-
1998
- 1998-06-17 JP JP16975398A patent/JP3847457B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000012416A (en) | 2000-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4582654B2 (en) | NOZZLE CLEANING DEVICE, NOZZLE CLEANING METHOD, NOZZLE CLEANING PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM CONTAINING THE PROGRAM | |
JP5442232B2 (en) | Waiting pot for chemical liquid discharge nozzle, chemical liquid application device, and chemical liquid application method | |
KR100249309B1 (en) | Apparatus of coating photoresist in semiconductor divice manufacturing process | |
KR102420293B1 (en) | Substrate processing method, substrate processing apparatus, and computer-readable storage medium stored with substrate processing program | |
JP2016162865A (en) | Substrate processing apparatus and control method of substrate processing apparatus | |
JP2007053154A (en) | Cleaning device for mask substrate, and cleaning method for mask substrate using the device | |
JP3847457B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2002151455A (en) | Cleaning apparatus for semiconductor wafer | |
JP2006066579A (en) | Method and device for processing substrate | |
JPH10137664A (en) | Rotating type substrate treatment device and treatment method thereof | |
JP2000173906A (en) | Developing solution feeding method and developing device | |
JP3580664B2 (en) | Developing device and developing method | |
JP3667233B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2000185264A (en) | Substrate treatment apparatus | |
JP3999523B2 (en) | Processing equipment for workpieces | |
JP4268237B2 (en) | Brush cleaning device | |
JPH11111673A (en) | Etching method and treatment equipment | |
JP3597612B2 (en) | Applicator for coating liquid on substrate | |
JPH11162816A (en) | Spin resist coating device and wafer processing method | |
JP4011040B2 (en) | Developing apparatus and developing method | |
JP6542613B2 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method | |
JP2007096156A (en) | Device for removing cover film | |
JP4357182B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP3657819B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JPH10303157A (en) | Substrate cleaning device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050524 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050715 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050816 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051011 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20051125 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20051216 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060728 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060823 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090901 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090901 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100901 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100901 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110901 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110901 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120901 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120901 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130901 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |