JP3834593B2 - セラミック誘電体およびそれを用いたコンデンサ - Google Patents

セラミック誘電体およびそれを用いたコンデンサ Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミック誘電体、およびそれを用いた電子回路などに適用される積層型のセラミックコンデンサに関する。
【0002】
【従来の技術】
チタン酸バリウム(BaTiO3)など、モル比率がBaO:TiO2=1:1の組成物であるチタン酸塩を主成分とするセラミックを誘電体として用いた積層セラミックチップコンデンサは、小型で大容量が得られ、高周波帯域における電気的特性がよく、耐熱性にすぐれ、しかも量産が可能であることなどの特徴から、近年の産業用や民生用などの電子機器には、欠かせない部品となっている。
【0003】
実用的なコンデンサの誘電体として、純粋なBaTiO3は、室温での誘電率や、誘電率の温度変化などの特性が必ずしも十分ではないので、通常、Baの一部をCaやSrで置き換えたり、Tiの一部をZrで置き換えたりして改変されている。このような置換は、キュリー温度、すなわち誘電率が急激に向上する結晶系の変態温度を室温に近づけて誘電率を向上させ、誘電率の温度変化をできるだけ小さくし、さらに電気抵抗を増加させるなど、コンデンサとしての性能を向上させる。
【0004】
コンデンサの構造は、1枚の板状誘電体の両面に電極を取り付けた単板型のものもあるが、電子機器の高密度実装の要求から、小型化大容量化のため、誘電体を薄くし、誘電体と対向電極を交互に積層して有効電極面積を大きくした、積層型も多く製造されている。この積層セラミックチップコンデンサは、薄くしたセラミックのグリーンシート上に、内部電極となる導体金属粉末のペーストを印刷または塗布し、これらを多数枚積層し焼成して一体化させ、その外側に内部電極と導通する外部電極を取り付けて作られる。
【0005】
セラミックはその誘電率を十分高くするために、一般には1300℃前後の高温での焼成を必要とする。その際、セラミックの酸素の一部が離脱ないしは還元されると、誘電体が半導体化してコンデンサとしての絶縁性が低下するので、通常は酸素を含む酸化性雰囲気中で焼成がおこなわれる。
【0006】
内部電極としては、融点が低ければ焼成時に流出するおそれがあるので、セラミックの焼成温度よりも融点が高く、セラミックとおなじ温度で焼結でき、しかもその温度の酸化性雰囲気において酸化されない金属が要求される。この要求に合致した内部電極用金属として、従来PtやPdまたはこれらの合金が使用されてきた。しかしながら、これらの材料は極めて高価であり、セラミック層の厚さを薄くして積層数を増すほどコンデンサ全質量に対する使用比率が増し、コンデンサの価格を高騰させる。このため、比抵抗が小さく高融点で低価格という点から、NiおよびNi合金の電極材料への適用がおこなわれている。
【0007】
Niは酸化性雰囲気中の高温焼成では酸化され、電極としての機能を消失したり酸化物としてセラミック中に溶け込み、コンデンサの性能を劣化させる。Niの酸化を防止しようとして、焼成雰囲気の酸素分圧を下げたり水素を含む雰囲気にすれば、セラミックが還元され、半導体化するという問題がある。そこで、還元性ないしは低酸素分圧の雰囲気中で焼成しても半導体化や絶縁抵抗の劣化が生じない、十分な耐還元性を有し、しかも誘電体として良好な特性を有するセラミックの開発および実用化が進められてきた。
【0008】
たとえば、米国特許No.3920781には、チタン酸バリウムセラミックのイオン半径の大きい陽イオン(Ba、Caなど2価のイオン)とイオン半径の小さい陽イオン(Ti、Zrなど4価のイオン)とのモル比が0.95以上1.0未満となるようにする発明が開示されている。この場合、Niなどの卑金属を電極に用い、1000〜1400℃での焼成を酸素分圧の低い雰囲気中でおこなえば、電極は酸化されることなく、大気中で焼成された白金電極を用いたものと同等ないしはそれ以上の電気特性が得られるという。
【0009】
その後、例えば特公昭57-42588号公報に開示されている発明のように、Baの一部をCaやSrで置換した陽イオン半径の大きいBaO系酸化物のモル比を、陽イオン半径の小さいTiO2に対して1.005〜1.030と、1より大きくすることにより、非還元性のセラミックが得られることがあきらかにされた。そして現在では、Niなど卑金属を内部電極として用いる場合、このようなモル比の耐還元性セラミック誘電体を用いるのが普通である。
【0010】
上記のようなセラミック誘電体の改善により、Niなど卑金属を内部電極として用いることが可能になったが、Pdなどを電極に用いた積層型コンデンサに比較すれば、未だ特性の安定性に劣り、信頼性が低いという問題があった。
【0011】
これに対し、信頼性の向上ばかりでなく性能の向上、さらには焼成温度の低下など種々の改良が提案されている。例えば、特開平3-133116号公報には、Baの一部をCaやSrで置換した酸化物と、Tiの一部をZrに置き換えた酸化物とのモル比を1.00〜1.020とした上で、Y、Gd、Tb、Dy、Zr、V、Mo、Zn、Cd、Tl、SnおよびPのそれぞれの酸化物の1種以上を0.005〜0.5質量%添加したセラミックを誘電体とし、NiまたはNi合金を内部電極とする積層セラミックチップコンデンサが開示されている。この場合、Yなどの酸化物を添加することにより、これを添加しない場合に比較し、絶縁抵抗の寿命が大幅に増大するという。同様な改良として、BaO系酸化物のモル比がTiO2系酸化物に対し1.0を若干超える組成に、Mnの酸化物またはCrの酸化物、Siの酸化物およびYの酸化物を、それぞれ0.05〜1.0質量%添加した耐還元性誘電体セラミックが特開平4-367559号公報に開示されている。さらに、特開平6-45182号公報および特開平6-275459号公報には、Y酸化物およびMn酸化物に加えて、Vの酸化物やWの酸化物、SiO2やAl23なども含有させ、その寿命を増大させる発明も開示されている。
【0012】
特許第2521855号公報、同第2521856号公報および同第2521857号公報にはCaおよびMgでBaの一部が置換されたBaO系酸化物のモル比を、Zrで一部置換されたTiO2系酸化物のモル比より若干大きくした組成に、希土類元素の酸化物を0.002〜0.04モルを加えた組成物を主成分とし、0.2〜5.0質量%のLi2O−SiO2−アルカリ土類金属酸化物やB23−SiO2−アルカリ土類金属酸化物などの低溶融点組成物を副成分として、非酸化性雰囲気にて1200℃以下の低温で十分良好な特性の得られる、積層セラミックチップコンデンサの発明が開示されている。
【0013】
さらに特開平5-217793号公報、特開平5-217794号公報および特開平5-217798号公報には、Baの一部をCaに置き換えた、上記とほぼ同様な趣旨の発明が開示されている。ほぼ同様な組成物において、Baの一部に置換する元素をCaおよびMgにさらにSrも加えた誘電体によるコンデンサの発明も、特開平6-69064号公報および特開平6-69065号公報に開示されている。
【0014】
このように、セラミックコンデンサの内部電極に、PtやPdなどの高価な貴金属の代わりにNiやNi合金など安価な卑金属を用いるために、その一体化焼成を還元性雰囲気としても、さらにはより低温で焼結しても、特性の劣化しない高誘電率のセラミック誘電体に関して、多くの開発検討がなされてきた。しかしながら、積層セラミックチップコンデンサに関し小型大容量化、性能および信頼性の向上およびその製造コストの合理化等は、依然として強く要望されている。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の一つの目的は、下記(a) (d)の特性を備えた信頼性の高いセラミック誘電体の提供にある。
(a)高誘電率で、誘電損失が小さい。
(b)耐破壊電圧が高く、その厚さを薄くできる。
(c)高温負荷試験での容量変化が小さい。
(d)NiまたはNi合金を内部電極とし一体化焼成しても上記特性の劣化がない。
【0016】
本発明のもう一つの目的は、上記のセラミック誘電体とNiまたはNi合金の内部電極とからなる小型大容量の積層セラミックチップコンデンサを提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、NiまたはNi合金を内部電極に用いるセラミックコンデンサに関し、誘電率が高く、損失が小さく、その上、過酷な使用環境においてもその信頼性を十分維持できるコンデンサ開発の必要に迫られた。信頼性の指標としては、対向電極間の誘電体層厚さを薄くしても破壊電圧を高くできること、および高温負荷試験での容量変化率が小さいこと、などがある。
【0018】
まずNiなどを内部電極に用いるには、耐還元性を有するセラミックが必要である。そのためには、これまで種々報告されているように、主成分としてBaの一部をCaで置換したBaO系酸化物が、Tiの一部をZrで置換したTiO2系酸化物に対し、モル比にて1ないしはそれをわずかに超えていなければならない。言い換えれば主成分中の2価と4価の陽イオンの存在数の比が、1かそれより若干大きくなければならない。CaはBaと同じく2価の陽イオンとなり、ZrはTiと同じく4価の陽イオンとなっているからである。
【0019】
Baの一部をCaに、あるいはTiの一部をZrに適量置換することは、比誘電率の向上に有効であり、これはキュリー温度の低下、および温度依存性改善の効果があるためと考えられる。
【0020】
この主成分に対し、さらにその誘電体としての性能を向上させるため、前述のように酸化物の形をした種々の元素の添加が提案されている。本発明者らは、その中でとくにYなどの希土類元素の酸化物の添加に着目し、その添加による効果を調査してみた。その結果、Yにはすでに種々報告されている効果が認められたが、原子番号が57から71までのランタノイドの放射性元素などを除く入手利用できる元素種(以下単にランタノイド元素という)を個々に含有させてみると、それぞれYと同等ないしはそれ以上の誘電体性能の改善効果をもたらすことがわかった。
【0021】
耐還元性の向上には、いずれのランタノイド元素も同程度に有効であるが、誘電率、誘電損失、破壊電圧、高温負荷試験における絶縁抵抗値や容量変化などにおいて、各元素毎にその改善効果が少しずつ異なる。これら諸性能の改善効果は複合して含有させても十分に得られる。とくにHoの含有は、誘電率の向上ばかりでなく、破壊電圧の増加、高温負荷試験における性能劣化の抑止に、顕著な効果を示すことが認められた。
【0022】
ランタノイド元素酸化物の含有は、上述のような効果があるが、その反面セラミックの焼結性を悪くし、焼結密度の低下や強度の不足を来す。そこで、この焼結性の低下を抑止するため、ランタノイド元素の酸化物とともに副成分としてMnOまたはSiO2を添加して、焼成後のセラミックの特性を調べてみた。その結果、MnOには焼結性の改善および絶縁抵抗の向上効果が認められたが、SiO2は焼結性を大きく改善する反面、高温負荷試験の特性を悪くし、その上、セラミックの粒子成長を促進させる。そこでMnOとともに添加して効果のあるSiO2に代わる酸化物を調査した結果、Al23を主とする酸化物の添加が好ましいことがわかった。このAl23を主要成分とする酸化物とは、SiO2を含まず、Al23が50質量%以上で、他にMgO、CaO、BaOなどを含む酸化物であり、Al23が実質的に100%であってもよい。このAl23を主要成分とする酸化物を添加することにより、焼結性が改善され、セラミックの粒成長が抑止でき、その上SiO2が存在する場合に比較して、高温負荷試験の静電容量変化率の低下が小さくなる。
【0023】
主成分にランタノイド元素の酸化物としてHoの酸化物、またはHoを主とするランタノイド元素の酸化物を添加し、副成分にこのような焼結助剤を用いることにより、比誘電率、誘電損失、耐還元性、などが大きく改善され、その上焼結性もよくなり、さらに高温負荷試験の容量変化率を小さくする効果もあることがわかった。
【0024】
この高温負荷試験の容量変化率を小さくする効果は、上記諸成分に加えてV25、Nb25、Ta25、MoO3、またはWO3の、5a族や6a族の元素の酸化物を含有させると一層大きくなる。これらの元素の酸化物を添加すると、何故高温負荷試験の容量変化率の低下を抑止できるのか、その理由は必ずしも明らかではない。しかし、これら元素の酸化物生成自由エネルギー変化は、セラミック誘電体を構成するTiO2のそれと比較するとやや小さく、酸素の供給源となって誘電体の安定化に役だっているのではないかと思われる。
【0025】
これら5a族や6a族の元素の酸化物含有の効果を詳細に調査したところ、5a族元素の酸化物と、6a族元素の酸化物とが複合して含有されるとき、とくに高温負荷試験における容量低下が、大幅に低減されることが明らかになった。このように複合して添加することにより、とくにその効果が増大する理由は不明であるが、共晶混合物として作用する効果ではないかと思われる。
【0026】
以上の誘電体組成について、さらにそのすぐれた特性の得られる限界を明確にして本発明を完成させた。本発明の要旨は次のとおりである。
(1)主成分の組成が
(1−α){(Ba1-xCaxO)A(Ti1-yZry2)B}・αL23
ただし
0.0005≦α≦0.015
0.03≦x≦0.15
0.01≦y≦0.25
1.00≦A/B≦1.02
2 3 で示される酸化物が、Hoの酸化物、またはHoを主とするランタノイド元素の酸化物で、
副成分として質量%で
MnO:0.01〜1.0%
Al23を主要成分とする酸化物:0.005〜0.5%
を含むことを特徴とするセラミック誘電体。
(2)主成分の組成が
(1−α){(Ba1-xCaxO)A(Ti1-yZry2)B}・αL23
ただし
0.0005≦α≦0.015
0.03≦x≦0.15
0.01≦y≦0.25
1.00≦A/B≦1.02
2 3 で示される酸化物が、Hoの酸化物、またはHoを主とするランタノイド元素の酸化物で、
副成分として質量%で
MnO:0.01〜1.0%
Al23を主要成分とする酸化物:0.005〜0.5%
V酸化物、Nb酸化物、Ta酸化物、Mo酸化物およびW酸化物の1種以上の合計:0.01〜0.4%を含むことを特徴とするセラミック誘電体。
(3)V酸化物、Nb酸化物およびTa酸化物の1種以上の酸化物の0.01質量%以上と、Mo酸化物およびW酸化物の一種以上の0.01質量%以上とを、副成分中に複合して含むことを特徴とする、上記(2)のセラミック誘電体。
(4)セラミック誘電体と電極とを積層したコンデンサであって、上記(1)、(2)または(3)の誘電体と、NiまたはNiを主とする合金の内部電極とを積層して焼成したものであること特徴とする積層セラミックチップコンデンサ。
(5)対向する内部電極の間のセラミック誘電体層の厚さが、7μm以下であることを特徴とする上記(4)の積層セラミックチップコンデンサ。
【0027】
【発明の実施の形態】
本発明のコンデンサのセラミック誘電体の主成分は、ペロブスカイト型結晶構造のBaTiO3(またはBaO・TiO2)であるが、その組成式において、Baの一部をCaに置換し、Tiの一部をZrに置換する。Baは原子濃度比で0.03〜0.15の範囲のCa、すなわち前記組成式にて0.03≦x≦0.15となる量のCaで置換し、Tiは原子濃度比で0.01〜0.25の範囲のZr、すなわち前記組成式にて0.01≦y≦0.25の量のZrで置換する。
【0028】
これは、キュリー温度を室温近くに低下させ、同時にその誘電率の温度変化率を小さくして、室温近傍における誘電率を大きくかつ安定化させるためである。また、非酸化性雰囲気での焼成時の絶縁抵抗の低下抑止にも効果がある。しかし、xが0.03未満、yが0.01未満の場合、いずれもこれらの効果が不十分となる。一方、xが0.15を超える場合、およびyが0.25を超える場合は、いずれも誘電率が低下するばかりでなく焼結が困難になり、緻密なセラミックが得られなくなってくる。
【0029】
主成分中の(Ba1-xCaxO)と、(Ti1-yZry2)とのモル比、すなわち前記組成式のAとBとの比は、1.00≦A/B≦1.02の範囲でなければならない。これはA/Bが1.00未満になると、Niなどの酸化抑止のための低酸素分圧の雰囲気下で焼成をおこなった場合、得られたセラミックが還元され絶縁抵抗が低下するからである。一方A/Bが1.02を超えるようになると誘電率が低下し、その上緻密な焼結体が得難くなる。
【0030】
主成分には、上記の(Ba1-xCaxO)Aと(Ti1-yZry2)Bのペロブスカイト型結晶体においてA+B=1としたとき、モル比にて0.0005〜0.015のL23型のランタノイド元素の酸化物を含有させる。すなわち、前記組成式にてαの値を0.0005≦α≦0.015とする。このようにランタノイド元素の酸化物を含有させると、誘電率が向上し、誘電損失(tanδ)が低減でき、耐還元性や負荷寿命が改善され、セラミックの粒の細粒化にも効果がある。これら効果を得るためには少なくともモル比にて0.0005以上の含有が必要である。しかし、モル比にて0.015を超えるようになると焼結が不十分となり、電気特性が劣化してくる。
【0031】
ランタノイド元素は、いずれかの元素の1種でも、あるいは2種以上の混合であっても効果がある。とくに高温負荷試験における容量変化率は、含有比を同じとするときランタノイド元素の原子番号が57から増していくにつれて小さくなり、原子番号67のHoで最小となる。したがって、 2 3 をHo単独の酸化物とするか、Hoを50原子%以上含み残部は他のランタノイド元素の酸化物かランタノイド元素群である酸化物とするのが望ましい。
【0032】
焼結の助剤および添加剤として副成分を含有させる。以下の副成分中の各組成の含有量は、いずれも基本成分と副成分をあわせた合計の質量に対する比率である。焼結の助剤として、MnOを質量%で0.01〜1.0%含有させる。ランタノイド元素酸化物の添加は焼結性を低下させるが、MnOにはこれを補う効果があるからである。MnOは、焼結を促進させる作用があり、焼結温度が低くても緻密な焼結体を形成させるので、誘電体の絶縁抵抗の確保および耐破壊電圧の上昇に効果がある。したがって、MnOの添加はコンデンサの容量を増すことを目的として誘電体の厚さを薄くし積層数を増す場合など、その信頼性を維持することができる。このような効果を発揮させるには、MnOは0.01質量%以上の含有が必要であるが、多すぎる含有は誘電率を低下させ、セラミックの強度を低減するので、多くても1.0質量%までとする。MnOの作用をより効果的に発揮できる望ましい含有量範囲は0.05〜0.5%である。
【0033】
焼結の助剤には、MnOとともに0.5質量%以下のAl23を主要成分とする酸化物を含有させる。この酸化物は、質量比率で少なくとも50%以上のAl23を含むものとする。Al23以外の成分は、SiO2、LiO2、B23など、比較的融点の低い酸化物はセラミックの粒を粗大化させるので好ましくない。それらの酸化物は含有せず、MgO、CaO、BaOなど、アルカリ土類金属の酸化物であることが望ましい。なお、実質的にAl23が100%であってもよい。Al23を焼結助剤として含ませることによって、セラミックの粒の粗大化を抑止でき、粒の小さい緻密な誘電体層にすることができる。このAl23を主要成分とする酸化物も、多く含有させすぎるとセラミック粒の粗大化を生じるようになるので、その含有量は多くても0.5質量%までとする。しかしその添加の効果を発現させるには少なくとも0.005質量%以上の含有が好ましい。
【0034】
副成分中には、さらに、V酸化物、Nb酸化物、Ta酸化物、Mo酸化物およびW酸化物の1種以上を、合計量で0.01〜0.4質量%含有させるのが望ましい。これは、高温負荷試験における容量変化率を低減する効果があるからである。その含有量は0.01%未満では効果が不十分であり、0.01%以上になるとその効果が顕著に現れる。その場合、これらの元素の酸化物のいずれか1種含有させれば効果があり、2種以上複合して含有させてもよい。とくに2種含有させる場合、5a族の元素であるV、NbおよびTaのそれぞれの酸化物一種以上を少なくとも0.01質量%以上と、6a族の元素であるMo酸化物およびW酸化物の1種または2種の少なくとも0.01質量%以上とを同時に含有させれば、より効果を大きくできる。しかし、これら酸化物の合計の含有量が0.4質量%を超えると、容量変化率はそれ以上改善されず、絶縁抵抗の低下が大きくなってくる。したがって、これら酸化物の合計の含有量は多くても0.4質量%までとするのがよい。
【0035】
本発明の誘電体を用いてコンデンサとする場合、内部電極はその経済性および電導度からNiまたはNi合金とするが、Co、Feおよびそれらの合金なども同様に利用できる。
【0036】
本発明の積層セラミックチップコンデンサを製造する方法は、通常のNiなどを内部電極とする積層コンデンサの製造方法に準ずる。例えば、主成分となるBa、Ca、TiおよびZrのそれぞれの酸化物、または焼成によって目的の酸化物となる化合物、例えばこれら元素の炭酸塩や硝酸塩などの原料を、所定の組成となるよう秤量混合して1000〜1200℃程度で1〜5時間程度仮焼して粉砕する。この主成分の粉に副成分の焼結助剤となるMnおよびAl、さらには必要に応じてV、Nb、Ta、Mo、およびWなどのそれぞれの酸化物、炭酸塩、あるいは硝酸塩などの原料を秤量混合する。主成分の一つであるランタノイド元素は、酸化物ないしは焼成により酸化物となる素材を所要量、副成分とともに添加すればよい。主成分の仮焼−粉砕粉末の粒子の大きさは、焼結後のセラミックの粒径に影響するので、平均粒径を1μm以下とすることが望ましい。主成分の粉末に、副成分およびランタノイド元素原料の粉末を所定組成となるよう、バインダーを加えて混合粉砕して、焼成後セラミックの所望厚さとなるグリーンシートに成形する。このグリーンシート上に電極材料を印刷などにより付着させて積層し、所要形状に成形して、バインダー除去のための前処理加熱、焼結のための1100〜1300℃の高温焼成、その後の再酸化処理、外部回路への接続用端子焼き付け等の工程を経て、積層型セラミックコンデンサを製造する。
【0037】
【実施例】
〔実施例1〕
誘電体の主成分である、(1−α){(Ba1-xCaxO)A(Ti1-yZry2)B}・αL23の組成式の酸化物において、α=0.003、x=0.05、y=0.2、A/B=1.005(ただしA+B=1)とし、Lのランタノイド元素をHoとした。そして、副成分のMnOは0.2質量%の一定、Al23またはSiO2の量は表1に示すように変えて、焼成後の厚さが5μmとなるグリーンシートを作製した。
【0038】
この場合、主成分の原料としては、BaCO3、CaCO3、TiO2、ZrO2をそれぞれ用い、焼成後に上記の組成となるように秤量混合し、1100℃にて2時間仮焼した後、粉砕して平均粒子径が1.0μm未満となるように整粒した。これにHo23の粉末を配合し、副成分の原料としては、MnCO3をMnOに換算して0.2%、Al23またはSiO2を表1に示す量とし、所定量のバインダーを加えてボールミルにて24時間混練粉砕した。これをドクターブレード法にて成形して、グリーンシートとした。
【0039】
グリーンシート上にNi電極となる導電ペーストを所定パターンにスクリーン印刷し、印刷後のシートを積層し切断して、幅1.25mm、長さ2.0mmで電極枚数が10枚のコンデンサ用グリーンチップを作製した。これを窒素雰囲気中で500℃にて3時間加熱して脱バインダーした後、30℃の水で加湿した3%の水素を含む窒素雰囲気中にて、1300℃で2時間焼成した。さらに30℃の水にて加湿した窒素雰囲気中で1100℃、2時間の再酸化処理をおこない、次いで900℃にて端面部にCuの端子を焼き付け、積層セラミックチップコンデンサとした。
【0040】
これらのコンデンサチップについて、セラミックの平均粒径、25℃における比誘電率εS、誘電損失tanδおよび耐破壊電圧を測定した。結果を表2に示す。
【0041】
表2の結果から明らかなように、主成分の組成を本発明範囲内とし、副成分に焼結助剤としてMnO含有量を一定にしてAl23の含有量を変えると、本発明の定める範囲内であるAl23の含有量の場合、tanδが小さく高い比誘電率を示す。これは、Al23が適量含まれるために、セラミックの粒径が適当な範囲に制御されたためと考えられる。ただし試番106のようにAl23が多くなりすぎ、1.0%にもなると粒径は大きくなり、耐破壊電圧も低下している。また試番107、108のようにSiO2を含むものは、比誘電率は同等であるが、tanδが大きく耐破壊電圧が低い。
【0042】
【表1】
Figure 0003834593
【0043】
【表2】
Figure 0003834593
【0044】
〔実施例2〕
助剤のMnOの含有量を0.2質量%、Al23の含有量は0.10質量%の一定とし、実施例1に示した主成分の、ランタノイド元素Lについて、含有モル比αを同一として表3に示すようにその元素種を種々変え、実施例1と同様にして積層セラミックチップコンデンサを作製した。これらのコンデンサは、誘電損失tanδ、25℃における比誘電率εS、絶縁抵抗値および耐破壊電圧を測定し、さらに、85℃にて100Vの直流電圧を1000時間印加する高温負荷試験の後、誘電損失tanδ、25℃における誘電体の比誘電率、絶縁抵抗値および試験前後の容量変化率も測定した。結果を表4に示す。
【0045】
【表3】
Figure 0003834593
【0046】
【表4】
Figure 0003834593
【0047】
これらの結果から、Ho以外のランタノイド元素の酸化物の含有により、比誘電率、tanδおよび耐破壊電圧のいずれも良好な値を示すことがわかる。これまでに効果があるとして知られているYの酸化物を含有するものに比較すれば、比誘電率はやや劣る傾向があるが、誘電損失tanδは、同等ないしはそれ以下ですぐれており、耐破壊電圧はランタノイド元素酸化物を含むものがY酸化物を含むものよりすぐれている。また、高温負荷試験後の絶縁抵抗値および容量変化率も、Yの酸化物を含むものよりもすぐれている。Hoの酸化物(Ho 2 3 )を含有する試番 207 は、比誘電率、 tan δおよび耐破壊電圧のすべてにおいてY 2 3 を含む比較例の試番 201 よりも優れており、かつ、他のランタノイド元素の酸化物を含有する参考例にも勝る
【0048】
〔実施例3〕
耐破壊電圧の向上は、誘電層の厚さを薄くしてコンデンサチップを小型化し大容量化するのに有効である。そこで誘電体を、実施例1の副成分中のAl23を0.1質量%含む試番103と同一組成のもの、またはSiO2を0.1質量%含む試番108と同一組成のもとし、焼成後の厚さが5〜22μmとなるグリーンシートを作製した。得られたシートを用い、他の製造条件や処理方法は実施例1とまったく同じにして積層セラミックチップコンデンサを作製した。これらのチップにより誘電損失tanδ、25℃における比誘電率εSおよび耐破壊電圧を測定した。
【0049】
焼成後の誘電体厚さと、これらの特性の測定結果をもあわせて表5に示す。
【0050】
【表5】
Figure 0003834593
【0051】
試番306〜310の試験結果から明らかなように、副成分中にSiO2を用いると誘電体の厚さ減少とともに、誘電損失の増大および耐破壊電圧の低下が著しい。これに対し、SiO2ではなく同量のAl23を含む試番301〜305では、誘電損失の増加が小さく、かつ耐破壊電圧の低下が少なくなり、しかも十分高い誘電率が得られる。
【0052】
〔実施例4〕
5a族または6a族元素の酸化物の含有効果を検討した。誘電体の主成分において、x=0.05、y=0.2、A/B=1.005(ただしA+B=1)はすべて実施例1と同じとし、Lのランタノイド元素をHo、α=0、0.005または0.015とし、副成分の焼結助剤として、MnOは0.2質量%の一定、Al23は0.1質量%の一定となるように配合した。これに、TaまたはMoの酸化物を表6に示す量となるように種々変えて加え、焼成後の厚さが5μmとなるグリーンシートとした。これらのグリ−ンシートにて、実施例1と同様にして積層チップコンデンサを作製した。
【0053】
これらのコンデンサについて、誘電損失tanδ、25℃における誘電体の比誘電率、絶縁抵抗値を測定し、さらに85℃にて100Vの直流電圧を1000時間印加する高温負荷試験の後、誘電損失tanδ、25℃における誘電体の比誘電率、絶縁抵抗値および試験前後の容量変化率を求めた。結果を表7に示す。
【0054】
【表6】
Figure 0003834593
【0055】
【表7】
Figure 0003834593
【0056】
ランタノイド元素を含まない試番401の場合、高温負荷試験にてショートし、誘電体特性を測定できなかった。試番402または412の場合は、Hoが含まれており、絶縁抵抗は改善されているが、5a族または6a族の元素の酸化物は含有していない。これと比較すれば、本発明のさらに5a族または6a族の元素の酸化物を含むものは、容量変化率が小さくなっており、誘電体としてすぐれていることがわかる。また5a族または6a族の元素の酸化物を添加すると絶縁抵抗値は小さくなる傾向にあるが高温負荷試験後の絶縁抵抗値の劣化は少なくなる。
【0057】
5a族または6a族の元素の酸化物の合計量が0.4%を超える試番419、423、425、426または427の場合は、絶縁抵抗値が著しく低くなっている。
【0058】
〔実施例5〕
副成分中の5a族元素酸化物と6a族元素酸化物との複合添加の効果を調べた。誘電体の主成分を実施例1と同様に、x=0.05、y=0.2、A/B=1.005、LをHoとし、αは0.002または0.004、副成分の焼結助剤としては、MnOを0.2質量%、Al23を0.1質量%のそれぞれ一定を含有させた。これに副成分の5a族元素酸化物としてV25、Nb25またはTa25を、6a族元素酸化物としてMoO3またはWO3を用い、それぞれの含有量を表8に示すように変えてグリ−ンシートを作製し、実施例1と同じ方法にて積層チップコンデンサを作製した。
【0059】
これらのコンデンサにより、実施例4と同じく、85℃にて100Vの直流電圧を1000時間印加する高温負荷試験の後、誘電損失tanδ、25℃における誘電体の比誘電率、絶縁抵抗および試験前後の容量変化率を求めた。結果を表9に示す。
【0060】
【表8】
Figure 0003834593
【0061】
【表9】
Figure 0003834593
【0062】
副成分中の酸化物として、試番501または516は、5a族元素または6a族元素をいずれも含まないもの、試番504〜506、508〜510、519〜521または523〜525は5a族元素および6a族元素の両方を含むもの、その他は5a族元素あるいは6a族元素のいずれか一方を含むものである。これら3者の結果を比較すれば、まず5a族元素または6a族元素の酸化物を含ませることにより、とくに高温負荷試験の容量変化率が顕著に低減していることが明らかである。さらに、含有量が同じとすれば、5a族元素または6a族元素のいずれか一方の含有よりも、両族の元素を複合して添加する方がより一層効果の大きいことがわかる。
【0063】
〔実施例6〕
副成分中に5a族元素酸化物または6a族元素酸化物を含む場合の、主成分のL23に対応する希土類元素酸化物それぞれの効果の比較をおこなった。誘電体の主成分を、αまたはL23以外は実施例1と同様にし、表10にその組成を示すように、L23にはY23、Nd23、Sm23、Eu23、Gd23、Tb23、Dy23、Ho23、Er23またはYb23を用い、αは0または0.003の一定とした。また、副成分中酸化物の5a族元素および6a族元素の酸化物としては、それぞれV酸化物とW酸化物を選び、その合計量を0.10%の一定として、実施例1の場合と同じ方法にて積層コンデンサを作製した。
【0064】
これらのコンデンサにより、実施例4と同じく、85℃にて100Vの直流電圧を1000時間印加する高温負荷試験の後、25℃における誘電体の比誘電率、誘電損失tanδ、絶縁抵抗および試験前後の容量変化率を求めた。結果を表11に示す。
【0065】
【表10】
Figure 0003834593
【0066】
【表11】
Figure 0003834593
【0067】
試番602〜604はL23をY23としたもので、本発明の範囲外ではあるが、副成分中に5a族元素または6a族元素の酸化物を含ませることにより、すぐれた誘電体特性を持つコンデンサとなっている。これに対し、23のLをランタノイド元素とした場合、Yを用いたものと同等ないしはそれ以上の性能の誘電体が得られる。すなわち、原子番号が60のNdでは、Yの場合と同等かややすぐれている程度であるが、原子番号の大きい元素になるにつれて絶縁抵抗が高くなり、高温負荷試験の容量変化率は顕著に減少している。そして、原子番号64〜68の辺がもっともよく、67のHoにて絶縁抵抗はほぼ極大でYの約2倍、容量変化率はほぼ極小でYの場合の約1/3となっている。
【0068】
【発明の効果】
本発明のセラミック誘電体は、内部電極としてNiなどの安価な卑金属を用いることができ、耐破壊電圧が高く、誘電損失が小さく、高誘電率であるから、この誘電体を用いれば誘電体層を薄くした高性能の小型で大容量の積層セラミックチップコンデンサを低コストで製造することができる。またこの誘電体によるコンデンサは、高温負荷試験による絶縁抵抗低下や容量変化が小さく、信頼性が高いものである。

Claims (5)

  1. 主成分の組成が
    (1−α){(Ba1-xCaxO)A(Ti1-yZry2)B}・αL23
    ただし
    0.0005≦α≦0.015
    0.03≦x≦0.15
    0.01≦y≦0.25
    1.00≦A/B≦1.02
    2 3 で示される酸化物が、Hoの酸化物、またはHoを主とするランタノイド元素の酸化物で、
    副成分として質量%で
    MnO:0.01〜1.0%
    Al23を主要成分とする酸化物:0.005〜0.5%
    を含むことを特徴とするセラミック誘電体。
  2. 主成分の組成が
    (1−α){(Ba1-xCaxO)A(Ti1-yZry2)B}・αL23
    ただし
    0.0005≦α≦0.015
    0.03≦x≦0.15
    0.01≦y≦0.25
    1.00≦A/B≦1.02
    2 3 で示される酸化物が、Hoの酸化物、またはHoを主とするランタノイド元素の酸化物で、
    副成分として質量%で
    MnO:0.01〜1.0%
    Al23を主要成分とする酸化物:0.005〜0.5%
    V酸化物、Nb酸化物、Ta酸化物、Mo酸化物およびW酸化物の1種以上の合計:0.01〜0.4%を含むことを特徴とするセラミック誘電体。
  3. V酸化物、Nb酸化物およびTa酸化物の1種以上の酸化物の0.01質量%以上と、Mo酸化物およびW酸化物の一種以上の0.01質量%以上とを、副成分中に複合して含むことを特徴とする、請求項2に記載のセラミック誘電体。
  4. セラミック誘電体と電極とを積層したコンデンサであって、請求項1、2または3に記載の誘電体と、NiまたはNiを主とする合金の内部電極とを積層して焼成したものであること特徴とする積層セラミックチップコンデンサ。
  5. 対向する内部電極の間のセラミック誘電体層の厚さが、7μm以下であることを特徴とする請求項4に記載の積層セラミックチップコンデンサ。
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