JP3818300B2 - 回路パターンの検査装置 - Google Patents
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Description
No.6, pp. 2804−2808(1992)(非特許文献3)、および、特開平5−258703号公報(特許文献1),米国特許第5,502,306号(特許文献2)に、通常のSEMの100倍以上(10nA以上)の電子線電流をもった電子線を、X線マスク等の導電性基板に照射し、発生する二次電子,反射電子,透過電子のいずれかを検出し、その信号から形成された画像を比較検査することにより欠陥を自動検出する検査装置、および検査方法が示されている。
61を一次電子線71で偏向電極52により走査し、走査と同時に試料移動ステージ56を走査と略直角方向に移動させて、試料61の検査領域のストライプ画像を取得する。
本発明の一実施例を説明する。
200マイクロメートル程度の移動なので、停止から加速させ、減速させて停止させる間の位置精度が低くなる。したがって、この移動のときは、電子線の走査は行わないようにしている。
以下、第一の参考例を説明する。
451に示すように走査し、二次電子72を検出する。検出後、各々の走査時点での有効データを選択し、検査領域3のみを画像化する方法である。この場合、図5に示すように、検出データに対して有効データは短くなる。したがって、有効データに使用されない検出データの部分の時間は無駄時間となる。
Claims (2)
- 回路パターンを有する基板の保持手段と、ほぼ直交する二方向に操作自由度を持ち前記保持手段を操作する移動手段と、前記基板に設定された複数のストライプ状の検査領域を電子線で走査して前記検査領域の電子線像を形成する手段と、前記複数のストライプ状の検査領域に含まれる第一および第二の領域の電子線像を記憶する手段と、前記第一および第二の領域の電子線像を比較し欠陥を検出する手段とを備えた回路パターンの検査装置において、前記移動手段により前記基板を連続移動させながら前記ストライプ状の検査領域に前記電子線を走査させて前記検査領域の電子線像を取得する際に、前記移動手段の前記ほぼ直交し操作自由度を持つ二方向のうちのひとつの方向に対して、前記複数のストライプ状の検査領域が大きく傾いている場合、前記移動手段は、前記複数のストライプ状の検査領域の長手方向を前記移動手段のほぼ直交する二方向に対して略45度の方向に整合させるとともに、前記ほぼ直交する二方向に対して略45度の方向へ操作されることを特徴とする回路パターンの検査装置。
- 回路パターンを有する基板の保持手段と、一方向へ移動する第一の移動手段と、前記第一の移動手段の移動方向と略直角方向へ移動する第二の移動手段と、前記保持手段を前記第一の移動手段と前記第二の移動手段の少なくともひとつが移動しながら前記基板に設定された複数のストライプ状の検査領域を電子線で走査して前記検査領域の電子線像を形成する手段と、前記複数のストライプ状の検査領域に含まれる第一および第二の領域の電子線像を記憶する手段と、前記第一および第二の領域の電子線像を比較し欠陥を検出する手段とを備えた回路パターンの検査装置において、さらに前記保持手段を略水平方向へ回転させる回転手段を有し、該回転手段は、前記基板の複数のストライプ状の検査領域の長手方向を前記第一の移動手段の移動方向と前記第二の移動手段の移動方向の間であって前記第二の移動手段の移動方向に対して略45度の方向に整合させ、前記移動手段により前記基板を連続移動させながら前記ストライプ状の検査領域に前記電子線を走査させて前記検査領域の電子線像を取得する際に、前記移動手段の前記ほぼ直交し操作自由度を持つ二方向のうちのひとつの方向に対して、前記複数のストライプ状の検査領域が大きく傾いている場合、前記第一の移動手段と前記第二の移動手段は、前記保持手段を前記第一の移動手段の移動方向と前記第二の移動手段の移動方向の間であって前記第二の移動手段の移動方向に対して略45度の方向に移動させることを特徴とする回路パターンの検査装置。
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