JP3815652B2 - ２光子マイクロ光造形方法およびその装置、２光子マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構 - Google Patents
２光子マイクロ光造形方法およびその装置、２光子マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3815652B2 JP3815652B2 JP34274399A JP34274399A JP3815652B2 JP 3815652 B2 JP3815652 B2 JP 3815652B2 JP 34274399 A JP34274399 A JP 34274399A JP 34274399 A JP34274399 A JP 34274399A JP 3815652 B2 JP3815652 B2 JP 3815652B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- stereolithography
- photon
- micro
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70375—Multiphoton lithography or multiphoton photopolymerization; Imaging systems comprising means for converting one type of radiation into another type of radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、従来の積層法を用いないで液状の光硬化性樹脂の内部にレーザスポットを走査し任意の３次元構造を形成する２光子吸収マイクロ光造形法およびその装置、さらには２光子吸収マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
マイクロ光造形法は、光を照射することによって光硬化樹脂を硬化させ任意のマイクロ構造を形成させるものである。発明者らはこれまでマイクロ流体システムなどのマイクロマシンの開発を目的としてマイクロ光造形法の開発を行ってきたが、こうした研究の中で従来の積層法を用いずに液状の光硬化性樹脂の内部にレーザスポットを走査し任意の３次元構造を形成する方法（紫外レーザーを光源とした内部硬化型マイクロ造形法：Ｓｕｐｅｒ ＩＨ ｐｒｏｃｅｓｓ 略してＳＩＨ）を開発し、またこの技術を利用してマイクロ可動機構作成に成功した。
【０００３】
しかしながら、前述の従来技術は光照射条件の最適化、光硬化性樹脂の硬化特性の最適化等各種の高度な最適化が必要であることや、深部での内部硬化が困難である等の問題がある。
即ち、従来のＳＩＨでは、光源として紫外レーザーを使用しているため液状樹脂内にビームを深く集光した場合、集光点に到達するまでの光吸収によって集光点の光強度が小さくなり、内部硬化が困難になる問題点がある。このため、液状樹脂内をピンポイント的に硬化することが出来ず、マイクロ部材の加工が出来なかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、透明性を有する近赤外パルスレーザ光に着目し、この近赤外パルスレーザ光を利用して２光子吸収を誘起することによって焦点近傍のみにおいて紫外レーザーと同じエネルギーに高め、ピンポイントで樹脂を硬化できる２光子マイクロ光造形方法およびその装置を提供することにより、上記問題点を解決することを目的とする。
【０００５】
２光子吸収とは、非線型光学現象の一つであり、２つのフォトンを同時に吸収することによって、照射させた光の２倍のエネルギーに相当する吸収が生じる現象である。本発明者らは、紫外レーザーを使用した光造形法の研究を進めて行くなかで樹脂に対して透明性をもつ近赤外パルスレーザ光の２光子吸収を利用すれば、紫外線の半分のエネルギーをもつ近赤外光を用いても光硬化樹脂を硬化させることができることを見いだした。
しかしながら、２光子吸収の発生確率が非常に小さいため、光子密度を非常に高くしなければ、２光子吸収を誘起することはできない。
【０００６】
このため２光子吸収を誘起するために、数キロワット程度のピーク強度を有する近赤外パルスレーザ光をレンズによって集光させることが必要である。
図４（ａ）に示すように近赤外パルスレーザ光をレンズで集光して、集光点近傍にフォトンの密度の高い領域を形成する場合を考える。このときビームの各断面を通過するフォトンの総数は一定なので、焦点面内でビームを２次元的に走査した場合、各断面における光強度の総和は一定である（図４（ｂ））。しかしながら、２光子吸収の発生確率は、光強度の二乗に比例するため、光強度の大きい集光点近傍にのみ、２光子吸収の発生の高い領域が形成される（図４（ｃ））。このように、近赤外パルスレーザ光をレンズによって集光させ２光子吸収を誘起することで、集光点近傍に光吸収を限定し、ピンポイント的に樹脂を硬化させることが可能となる。
本発明はこうした知見をもとになされたものであり、特に光源として近赤外パルスレーザ光を利用しさらにレンズで集光し、２光子吸収を誘起することで微細加工が可能な光造形法とした点に大きな特徴がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明が採用した技術解決手段は、
近赤外パルスレーザ光源からの光をミラースキャナーを通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂中に集光させて２光子吸収を誘起し、その２光子吸収によって焦点近傍のみにおいて樹脂を硬化させることを特徴とする２光子マイクロ光造形方法である。
また、近赤外パルスレーザ光源からの光をミラースキャナーを通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂中に集光させる手段と、Ｚステージとガルバノミラーを高速に走査することにより樹脂中の任意の位置に集光スポットを移動させることができる集光スポット移動手段とを備えていることを特徴とする２光子マイクロ光造形装置である。
【０００８】
【実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明に係る２光子マイクロ光造形法の説明をすると、図１は２光子マイクロ光造形装置の概略図、図２は同装置の要部拡大図である。
図において、１は光硬化樹脂液に対して透明性を有する近赤外パルスレーザ光（Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅ ｌａｓｅｒ）の光源、３は透過光量を時間的にコントロールするシャッター、４はＮＤフィルター、５はミラースキャナー、６はＺステージ、７は集光手段としてのレンズ、８はコンピュータ、９は光硬化性樹脂液、１０は光造形物である。
【０００９】
光源１からの近赤外パルスレーザ光はミラースキャナー５を通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂液９中に集光させる。集光スポットは集光スポット移動手段としてのＺステージ６とガルバノミラーにより樹脂液中を高速に走査される。この状態を図２においてさらに説明すると、レンズを通して集光された近赤外パルスレーザ光は、赤外レーザに対して透明性を持つ光硬化樹脂液内を通過し、集光点Ｓ近傍で２光子吸収を誘起し、光硬化性樹脂液は集光点近傍でのみエネルギーが倍となった近赤外レーザによりピンポイントで硬化される。集光点ＳはＺステージ６とガルバノミラーによって光硬化樹脂液内を自由に移動させることができるため、光硬化性樹脂液内において目的とする加工物を自在に形成することができる。
【００１０】
図３に本造形装置を使用して形成した可動機構としての一例であるマイクロギヤ機構の斜視図である。図３ではシャフト（直径７μｍ）に８個の歯を持つギヤ（内径１０μｍ、外径２４μｍ）が組み込まれた構造が形成されている。この構造は、本手法によりシャフトを形成した後に、可動部であるギアを樹脂の内部に直接造形する。このため従来のような犠牲層やサポート構造を必要とせず、また、ミクロンオーダーの微小な可動部を容易に造形でき、樹脂の内部で任意の３次元構造を容易に造形することができる。さらに、このような技術的方法によれば、ギヤとシャフトの組み合わせばかりでなく、各種機械部品、さらにはそれらを組付けて構成した可動機構等も容易に製造することが可能である。
【００１１】
また、図３に示すマイクロギヤは一平面上に多数連続して造形することも可能である。この方法によって例えば図３に示す部品を多数造形する場合には極めて短時間で造形が可能となる。本発明者による実験では高い歩留りで各構造とも精度よく可動機構を造形できており、大量生産にも適用可能であることがわかった。
【００１２】
以上の２光子マイクロ光造形法の特徴を述べると以下のようになる。
１）回折限界をこえる加工分解能（０．５μｍ）
２光子吸収の光強度にたいする非線型によって、光の回折限界を超えた加工分解能を実現できる。
２）超高速造形
２光子吸収を利用した場合、焦点以外の領域では、光硬化性樹脂が原理的にも硬化しない。このため照射させる光強度を大きくし、ビームのスキャン速度を速くすることができる。このため、造形速度を約１０倍向上することができる。
３）内部硬化の造形範囲が拡大
光硬化性樹脂は、２光子吸収を誘起する近赤外光に対して透明である。したがって焦点光を樹脂の内部へ深く集光した場合でも、内部硬化が可能である。従来のＳＩＨでは、ビームを深く集光した場合、光吸収によって集光点の光強度が小さくなり、内部硬化が困難になる問題点が、本発明ではこうした問題点を確実に解決することができる。
４）可動機構の造形が可能
樹脂の内部で造形を行うため、犠牲層やサポート構造をもちいることなくマイクロ可動機構を作成することができる。
５）高い歩留り
従来法では樹脂の粘性や表面張力によって造形物が破損、変形するという問題があったが、本手法では、樹脂の内部で造形を行うのでこうした問題は解消される。
６）大量生産への適用
超高速造形を利用することによって、短時間に、連続的に多数個の部品あるいは可動機構の製造が可能である。
【００１３】
本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明はその精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいかなる形でも実施できる。そのため、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず限定的に解釈してはならない。
【００１４】
【発明の効果】
本発明によれば、光源として近赤外パルスレーザ光を使用し、２光子吸収を誘起させることで、犠牲層やサポート構造を必要とせず、ミクロンオーダーの微小な可動部を容易に造形可能とした。２光子吸収を利用することで、光照射条件の最適化、光硬化性樹脂の硬化特性の最適化など、様々な最適化を必要とすることなく容易に樹脂の一点のみを硬化させることができる。高分解能、高精度、さらにはより高速な造形が可能である、等々の優れた効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る２光子マイクロ光造形装置の概略図である。
【図２】 同装置の要部拡大図である。
【図３】 本造形装置を使用して形成したマイクロギヤの斜視図である。
【図４】 近赤外パルスレーザ光が２光子吸収を誘起する状態の説明図である。
【符号の説明】
１ 光硬化樹脂液に対して透明性を有する近赤外パルスレーザ光（Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅ ｌａｓｅｒ）の光源
３ 透過光量を時間的にコントロールするシャッター
４ ＮＤフィルター
５ ミラースキャナー
６ Ｚステージ
７ レンズ
８ コンピュータ
９ 光硬化性樹脂液
１０ 光造形物
Ｓ 集光点
【発明の属する技術分野】
本発明は、従来の積層法を用いないで液状の光硬化性樹脂の内部にレーザスポットを走査し任意の３次元構造を形成する２光子吸収マイクロ光造形法およびその装置、さらには２光子吸収マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
マイクロ光造形法は、光を照射することによって光硬化樹脂を硬化させ任意のマイクロ構造を形成させるものである。発明者らはこれまでマイクロ流体システムなどのマイクロマシンの開発を目的としてマイクロ光造形法の開発を行ってきたが、こうした研究の中で従来の積層法を用いずに液状の光硬化性樹脂の内部にレーザスポットを走査し任意の３次元構造を形成する方法（紫外レーザーを光源とした内部硬化型マイクロ造形法：Ｓｕｐｅｒ ＩＨ ｐｒｏｃｅｓｓ 略してＳＩＨ）を開発し、またこの技術を利用してマイクロ可動機構作成に成功した。
【０００３】
しかしながら、前述の従来技術は光照射条件の最適化、光硬化性樹脂の硬化特性の最適化等各種の高度な最適化が必要であることや、深部での内部硬化が困難である等の問題がある。
即ち、従来のＳＩＨでは、光源として紫外レーザーを使用しているため液状樹脂内にビームを深く集光した場合、集光点に到達するまでの光吸収によって集光点の光強度が小さくなり、内部硬化が困難になる問題点がある。このため、液状樹脂内をピンポイント的に硬化することが出来ず、マイクロ部材の加工が出来なかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、透明性を有する近赤外パルスレーザ光に着目し、この近赤外パルスレーザ光を利用して２光子吸収を誘起することによって焦点近傍のみにおいて紫外レーザーと同じエネルギーに高め、ピンポイントで樹脂を硬化できる２光子マイクロ光造形方法およびその装置を提供することにより、上記問題点を解決することを目的とする。
【０００５】
２光子吸収とは、非線型光学現象の一つであり、２つのフォトンを同時に吸収することによって、照射させた光の２倍のエネルギーに相当する吸収が生じる現象である。本発明者らは、紫外レーザーを使用した光造形法の研究を進めて行くなかで樹脂に対して透明性をもつ近赤外パルスレーザ光の２光子吸収を利用すれば、紫外線の半分のエネルギーをもつ近赤外光を用いても光硬化樹脂を硬化させることができることを見いだした。
しかしながら、２光子吸収の発生確率が非常に小さいため、光子密度を非常に高くしなければ、２光子吸収を誘起することはできない。
【０００６】
このため２光子吸収を誘起するために、数キロワット程度のピーク強度を有する近赤外パルスレーザ光をレンズによって集光させることが必要である。
図４（ａ）に示すように近赤外パルスレーザ光をレンズで集光して、集光点近傍にフォトンの密度の高い領域を形成する場合を考える。このときビームの各断面を通過するフォトンの総数は一定なので、焦点面内でビームを２次元的に走査した場合、各断面における光強度の総和は一定である（図４（ｂ））。しかしながら、２光子吸収の発生確率は、光強度の二乗に比例するため、光強度の大きい集光点近傍にのみ、２光子吸収の発生の高い領域が形成される（図４（ｃ））。このように、近赤外パルスレーザ光をレンズによって集光させ２光子吸収を誘起することで、集光点近傍に光吸収を限定し、ピンポイント的に樹脂を硬化させることが可能となる。
本発明はこうした知見をもとになされたものであり、特に光源として近赤外パルスレーザ光を利用しさらにレンズで集光し、２光子吸収を誘起することで微細加工が可能な光造形法とした点に大きな特徴がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明が採用した技術解決手段は、
近赤外パルスレーザ光源からの光をミラースキャナーを通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂中に集光させて２光子吸収を誘起し、その２光子吸収によって焦点近傍のみにおいて樹脂を硬化させることを特徴とする２光子マイクロ光造形方法である。
また、近赤外パルスレーザ光源からの光をミラースキャナーを通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂中に集光させる手段と、Ｚステージとガルバノミラーを高速に走査することにより樹脂中の任意の位置に集光スポットを移動させることができる集光スポット移動手段とを備えていることを特徴とする２光子マイクロ光造形装置である。
【０００８】
【実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明に係る２光子マイクロ光造形法の説明をすると、図１は２光子マイクロ光造形装置の概略図、図２は同装置の要部拡大図である。
図において、１は光硬化樹脂液に対して透明性を有する近赤外パルスレーザ光（Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅ ｌａｓｅｒ）の光源、３は透過光量を時間的にコントロールするシャッター、４はＮＤフィルター、５はミラースキャナー、６はＺステージ、７は集光手段としてのレンズ、８はコンピュータ、９は光硬化性樹脂液、１０は光造形物である。
【０００９】
光源１からの近赤外パルスレーザ光はミラースキャナー５を通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂液９中に集光させる。集光スポットは集光スポット移動手段としてのＺステージ６とガルバノミラーにより樹脂液中を高速に走査される。この状態を図２においてさらに説明すると、レンズを通して集光された近赤外パルスレーザ光は、赤外レーザに対して透明性を持つ光硬化樹脂液内を通過し、集光点Ｓ近傍で２光子吸収を誘起し、光硬化性樹脂液は集光点近傍でのみエネルギーが倍となった近赤外レーザによりピンポイントで硬化される。集光点ＳはＺステージ６とガルバノミラーによって光硬化樹脂液内を自由に移動させることができるため、光硬化性樹脂液内において目的とする加工物を自在に形成することができる。
【００１０】
図３に本造形装置を使用して形成した可動機構としての一例であるマイクロギヤ機構の斜視図である。図３ではシャフト（直径７μｍ）に８個の歯を持つギヤ（内径１０μｍ、外径２４μｍ）が組み込まれた構造が形成されている。この構造は、本手法によりシャフトを形成した後に、可動部であるギアを樹脂の内部に直接造形する。このため従来のような犠牲層やサポート構造を必要とせず、また、ミクロンオーダーの微小な可動部を容易に造形でき、樹脂の内部で任意の３次元構造を容易に造形することができる。さらに、このような技術的方法によれば、ギヤとシャフトの組み合わせばかりでなく、各種機械部品、さらにはそれらを組付けて構成した可動機構等も容易に製造することが可能である。
【００１１】
また、図３に示すマイクロギヤは一平面上に多数連続して造形することも可能である。この方法によって例えば図３に示す部品を多数造形する場合には極めて短時間で造形が可能となる。本発明者による実験では高い歩留りで各構造とも精度よく可動機構を造形できており、大量生産にも適用可能であることがわかった。
【００１２】
以上の２光子マイクロ光造形法の特徴を述べると以下のようになる。
１）回折限界をこえる加工分解能（０．５μｍ）
２光子吸収の光強度にたいする非線型によって、光の回折限界を超えた加工分解能を実現できる。
２）超高速造形
２光子吸収を利用した場合、焦点以外の領域では、光硬化性樹脂が原理的にも硬化しない。このため照射させる光強度を大きくし、ビームのスキャン速度を速くすることができる。このため、造形速度を約１０倍向上することができる。
３）内部硬化の造形範囲が拡大
光硬化性樹脂は、２光子吸収を誘起する近赤外光に対して透明である。したがって焦点光を樹脂の内部へ深く集光した場合でも、内部硬化が可能である。従来のＳＩＨでは、ビームを深く集光した場合、光吸収によって集光点の光強度が小さくなり、内部硬化が困難になる問題点が、本発明ではこうした問題点を確実に解決することができる。
４）可動機構の造形が可能
樹脂の内部で造形を行うため、犠牲層やサポート構造をもちいることなくマイクロ可動機構を作成することができる。
５）高い歩留り
従来法では樹脂の粘性や表面張力によって造形物が破損、変形するという問題があったが、本手法では、樹脂の内部で造形を行うのでこうした問題は解消される。
６）大量生産への適用
超高速造形を利用することによって、短時間に、連続的に多数個の部品あるいは可動機構の製造が可能である。
【００１３】
本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明はその精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいかなる形でも実施できる。そのため、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず限定的に解釈してはならない。
【００１４】
【発明の効果】
本発明によれば、光源として近赤外パルスレーザ光を使用し、２光子吸収を誘起させることで、犠牲層やサポート構造を必要とせず、ミクロンオーダーの微小な可動部を容易に造形可能とした。２光子吸収を利用することで、光照射条件の最適化、光硬化性樹脂の硬化特性の最適化など、様々な最適化を必要とすることなく容易に樹脂の一点のみを硬化させることができる。高分解能、高精度、さらにはより高速な造形が可能である、等々の優れた効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る２光子マイクロ光造形装置の概略図である。
【図２】 同装置の要部拡大図である。
【図３】 本造形装置を使用して形成したマイクロギヤの斜視図である。
【図４】 近赤外パルスレーザ光が２光子吸収を誘起する状態の説明図である。
【符号の説明】
１ 光硬化樹脂液に対して透明性を有する近赤外パルスレーザ光（Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅ ｌａｓｅｒ）の光源
３ 透過光量を時間的にコントロールするシャッター
４ ＮＤフィルター
５ ミラースキャナー
６ Ｚステージ
７ レンズ
８ コンピュータ
９ 光硬化性樹脂液
１０ 光造形物
Ｓ 集光点
Claims (2)
- 近赤外パルスレーザ光源からの光をミラースキャナーを通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂中に集光させて２光子吸収を誘起し、その２光子吸収によって焦点近傍のみにおいて樹脂を硬化させることを特徴とする２光子マイクロ光造形方法。
- 近赤外パルスレーザ光源からの光をミラースキャナーを通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂中に集光させる手段と、Ｚステージとガルバノミラーを高速に走査することにより樹脂中の任意の位置に集光スポットを移動させることができる集光スポット移動手段とを備えていることを特徴とする２光子マイクロ光造形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34274399A JP3815652B2 (ja) | 1999-12-02 | 1999-12-02 | ２光子マイクロ光造形方法およびその装置、２光子マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34274399A JP3815652B2 (ja) | 1999-12-02 | 1999-12-02 | ２光子マイクロ光造形方法およびその装置、２光子マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001158050A JP2001158050A (ja) | 2001-06-12 |
| JP3815652B2 true JP3815652B2 (ja) | 2006-08-30 |
Family
ID=18356157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34274399A Expired - Fee Related JP3815652B2 (ja) | 1999-12-02 | 1999-12-02 | ２光子マイクロ光造形方法およびその装置、２光子マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3815652B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3520329B2 (ja) | 2000-11-20 | 2004-04-19 | 和歌山大学長 | マイクロ光造形法 |
| JP2003025454A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光造形装置及び方法 |
| CA2454490A1 (en) * | 2001-07-19 | 2003-01-30 | Japan Science And Technology Corporation | Chemical reaction circuit for cell-free protein synthesis |
| AU2003261883A1 (en) * | 2002-09-09 | 2004-03-29 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Two-photon absorption materials |
| JP4599553B2 (ja) * | 2004-10-01 | 2010-12-15 | 国立大学法人北海道大学 | レーザ加工方法および装置 |
| KR100928389B1 (ko) * | 2005-10-25 | 2009-11-23 | 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 흐름 리소그래피 및 중합에 의한 마이크로구조 합성 |
| JP2008196481A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-08-28 | Yokohama National Univ | マイクロポンプ |
| WO2009075970A1 (en) * | 2007-12-12 | 2009-06-18 | 3M Innovative Properties Company | Method for making structures with improved edge definition |
| JP2012025378A (ja) | 2010-06-25 | 2012-02-09 | Nissan Motor Co Ltd | 車両駐車支援制御装置及び車両駐車支援制御方法 |
| JP2012096286A (ja) * | 2010-10-07 | 2012-05-24 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び絶縁膜形成装置 |
| JP7331297B2 (ja) * | 2018-10-26 | 2023-08-23 | 株式会社Tkr | ３次元造形装置 |
| CN120620634B (zh) * | 2025-07-28 | 2026-01-23 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于双远心透镜的光固化增材制造方法及装置 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60247515A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | Oosakafu | 光学的造形法 |
| JP2769393B2 (ja) * | 1991-04-26 | 1998-06-25 | 直弘 丹野 | 立体光記録装置 |
| JP3252859B2 (ja) * | 1991-09-19 | 2002-02-04 | ソニー株式会社 | 立体形状成形装置および立体形状成形方法 |
| JP3233957B2 (ja) * | 1991-11-21 | 2001-12-04 | 科学技術振興事業団 | 極微小レーザー光源の形成方法とレーザー発振方法 |
| JPH05193009A (ja) * | 1992-01-17 | 1993-08-03 | Nippon Steel Corp | 三次元立体造形装置 |
| JPH07316262A (ja) * | 1994-05-30 | 1995-12-05 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光造形用樹脂組成物及びその硬化物 |
| JPH10249943A (ja) * | 1997-03-10 | 1998-09-22 | Hitachi Ltd | 光造形装置 |
| EP1084454B1 (en) * | 1998-04-21 | 2016-03-09 | University of Connecticut | Free-form nanofabrication using multi-photon excitation |
-
1999
- 1999-12-02 JP JP34274399A patent/JP3815652B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001158050A (ja) | 2001-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Eaton et al. | Femtosecond laser microstructuring for polymeric lab‐on‐chips | |
| JP3815652B2 (ja) | ２光子マイクロ光造形方法およびその装置、２光子マイクロ光造形法によって形成した部品および可動機構 | |
| Malinauskas et al. | Ultrafast laser processing of materials: from science to industry | |
| Malinauskas et al. | 3D microoptical elements formed in a photostructurable germanium silicate by direct laser writing | |
| WO2016015389A1 (zh) | 一种飞秒激光双光子聚合微纳加工系统及方法 | |
| Poleshchuk et al. | Laser technologies in micro-optics. Part 2. Fabrication of elements with a three-dimensional profile | |
| JP2010510089A (ja) | ポリマーオブジェクトオプティカル製造工程 | |
| JP2003001599A (ja) | 三次元微小構造物の製造方法及びその装置 | |
| Duc Nguyen et al. | Freeform three-dimensional embedded polymer waveguides enabled by external-diffusion assisted two-photon lithography | |
| Jonušauskas et al. | Augmentation of direct laser writing fabrication throughput for three-dimensional structures by varying focusing conditions | |
| Malinauskas et al. | Two-photon polymerization for fabrication of three-dimensional micro-and nanostructures over a large area | |
| Kim et al. | Fabrication of a fused silica based mold for the microlenticular lens array using a femtosecond laser and a CO2 laser | |
| WO2006109355A1 (ja) | 異波長レーザー光を用いた多光束微小構造物光造形方法及び装置 | |
| Epifanov et al. | Fabrication of micro-optical connectors for electro-optical sensor devices by a combined femtosecond laser system | |
| Maruo et al. | Two-photon-absorbed photopolymerization for three-dimensional microfabrication | |
| Kostyuk et al. | Microlens array fabrication on fused silica influenced by NIR laser | |
| CN109132998A (zh) | 单脉冲纳秒激光诱导透明介电材料表面周期性结构的方法 | |
| CN100392514C (zh) | 并行飞秒激光双光子光聚合微纳加工方法及其装置 | |
| Vehse et al. | A new micro-stereolithography-system based on diode laser curing (DLC) | |
| Steenhusen et al. | Two-photon polymerization of hybrid polymers for applications in micro-optics | |
| Xiong et al. | Laser additive manufacturing using nanofabrication by integrated two-photon polymerization and multiphoton ablation | |
| Bhole et al. | Fabrication of continuously varying thickness micro-cantilever using bulk lithography process | |
| JP2004314406A (ja) | 層厚可変のマイクロ光造形方法と層厚可変型マイクロ光造形装置 | |
| JP3805749B2 (ja) | 薄膜硬化型光造形装置 | |
| Maruo et al. | New microstereolithography (Super-IH process) to create 3D freely movable micromechanism without sacrificial layer technique |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040614 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060131 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060207 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060407 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060530 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060601 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100616 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |