JP3795077B2 - ホスホン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

ホスホン酸誘導体の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3795077B2
JP3795077B2 JP50378396A JP50378396A JP3795077B2 JP 3795077 B2 JP3795077 B2 JP 3795077B2 JP 50378396 A JP50378396 A JP 50378396A JP 50378396 A JP50378396 A JP 50378396A JP 3795077 B2 JP3795077 B2 JP 3795077B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
molecules
phosphonomethylglycinonitrile
alkali
phosphonomethylglycine
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP50378396A
Other languages
English (en)
Inventor
英雄 宮田
透 佐々木
宏平 森川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Application granted granted Critical
Publication of JP3795077B2 publication Critical patent/JP3795077B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Description

技術分野
本発明は、除草剤または除草剤の原料などとして有用なホスホン酸誘導体であるN−ホスホノメチルグリシンおよびその塩の製造方法に関するする。
背景技術
N−ホスホノメチルグリシンおよびその塩、例えばグリホサート、グリホサート・ナトリウム塩、グリホサート・アンモニウム、グリホサート・モノジメチルアミン(Glyphosate-monodimethylamine)、グリホサート・トリメシウム塩(Sulfosate)、グリホサミン(Glyphosamine)などは生物的に分解され、また少量の使用で除草剤として有効であり、広く使用されているか、あるいはその有効性が検討されてきている。
N−ホスホノメチルグリシンの製造方法は多数知られているが、N−ホスホノメチルグリシノニトリルを原料または中間体とする方法があり、N−ホスホノメチルグリシノニトリルのニトリル基を加水分解することにより目的のN−ホスホノメチルグリシンに変換することができる。
なお、N−ホスホノメチルグリシノニトリルの製法としては、例えば特公昭60−4840号、特開平4−279595号、米国特許第4221583号などに記載がある。
N−ホスホノメチルグリシノニトリルの加水分解については、米国特許第4221583号中に水酸化ナトリウムによる加水分解が例示されている。
また、特開平4−279595号には、アミノメチルホスホン酸とグリコロニトリルの反応を、アミノメチルホスホン酸に対して2倍モル以上のアルカリ金属水酸化物を加えて反応させ、得られたN−ホスホノメチルグリシノニトリルのニトリル基の加水分解により生成するカルボン酸を中和するのに充分量のアルカリ金属水酸化物をさらに加えて加水分解を行うことが記載されている。
ところで、N−ホスホノメチルグリシノニトリルのアルカリ加水分解後の水溶液からN−ホスホノメチルグリシンを単離するには、酸により中和する方法がとられるため、アルカリ金属水酸化物の使用による塩の副生があり、その副生する塩の処理のための費用と労力がかかる。
この発明の目的は、N−ホスホノメチルグリシンをN−ホスホノメチルグリシノニトリルのアルカリ加水分解により製造する際に大きな課題となっているアルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類金属水酸化物などのアルカリの使用による塩の副生の軽減を図り、かつ高純度、高収率を達成し、工業的に有利なN−ホスホノメチルグリシンの製造方法を提供することにある。
発明の開示
本発明のホスホン酸誘導体の製造方法は、N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対して、アルカリカチオンが1価の場合2分子以上で3分子未満となるように、アルカリカチオンが2価の場合1分子以上で1.5分子未満となるようにアルカリを使用して加水分解を行い、N−ホスホノメチルグリシンまたはその塩を得る方法である。
上記アルカリとしては、アルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類金属水酸化物が好ましく用いられ、アルカリ金属水酸化物を用いる場合には、N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対して2分子以上3分子未満、好ましくは2.1分子以上2.7分子未満を用いることが望ましい。また、アルカリ土類金属水酸化物を用いる場合には、N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対して1分子以上1.5分子未満、好ましくは1.05分子以上1.35分子未満を使用することが望ましい。
また、加水分解反応を密閉形で行うことが望ましい。
さらに、本発明はアミノメチルホスホン酸とグリコロニトリルを該アミノメチルホスホン酸1分子に対してアルカリカチオンが1価の場合1.5分子以上2.5分子未満、2価の場合0.75分子以上1.25分子未満となるアルカリの存在下で反応させる第1工程と、第1工程で得られたN−ホスホノメチルグリシノニトリルを単離せずに、生成するカルボン酸を中和するのに充分なアルカリによって加水分解する第2工程を含むN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩を製造する際、第1工程と第2工程で使用するアルカリの合計量が該N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対してアルカリカチオンが1価の場合2分子以上3分子未満、2価の場合1分子以上1.5分子未満となるように反応させてN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩を得る方法である。
発明を実施するために最良の形態
本発明者らは、N−ホスホノメチルグリシンをN−ホスホノメチルグリシノニトリルのアルカリ加水分解により製造する方法を種々検討を重ねた結果、驚くべきことに、N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対して3分子未満のアルカリ金属水酸化物または1.5分子未満のアルカリ土類金属水酸化物の添加で加水分解が進行し、高収率で、高純度のN−ホスホノメチルグリシンが得られることを見出し、本発明を完成させた。
本発明で用いられるN−ホスホノメチルグリシノニトリルとしては、特に限定されず、例えば特公昭60−4840号、特開平4−279595号、米国特許第4221583号などに記載された製法によって得られたものが使用できる。
また、本発明で用いられるアルカリとしては、水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物が好ましいが、これ以外に水酸化アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウムリン酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの水溶液中でアルカリ性を示すアルカリを用いることができる。
本発明で使用されるアルカリ金属水酸化物としては、経済的観点からも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適である。アルカリ土類金属水酸化物としては水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。また、前記の添加量になるようにアルカリ金属水酸化物とアルカリ土類金属水酸化物を併用することができる。
本発明では、N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対して、アルカリカチオンが1価である場合には2分子以上3分子未満、好ましくは2.1分子以上2.7分子未満のアルカリを、アルカリカチオンが2価である場合には1分子以上1.5分子未満、好ましくは1.05分子以上1.35分子未満のアルカリを加えて加水分解する。
N−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して2分子未満のアルカリ金属水酸化物または1分子未満のアルカリ土類金属水酸化物の添加量の場合は反応速度が極めて小さく現実的ではない。一方、それぞれ3分子または1.5分子に近い場合は本発明の目的である副生する塩の量を減少させるという経済的効果が小さくなる。よって、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物の添加量は、それぞれ、N−ホスホノメチルグリシノニトリに対して2分子以上で3分子未満、1分子以上で1.5分子未満であり、好ましくは2.1分子以上で2.7分子未満、1.05分子以上で1.35分子未満である。
反応は解放系、または密閉系のいずれで行われても良い。解放系の場合は、反応温度は60℃から沸点までの範囲で行われ、反応時間はアルカリの量と反応温度によるが5〜20時間程度である。密閉系の場合は、反応温度は60℃以上で行われ、反応時間はアルカリの量と反応温度によるが0.5〜5時間程度である。密閉系の場合が解放系の場合よりも反応時間が短いのは反応温度を上げられるという理由とともにニトリルの加水分解により生じるアンモニアが系外に逃げないため反応溶液のpHが高く保持されることによるものと推定される。よって、密閉系では反応時間を短縮することができる。
かくして得られるN−ホスホノメチルグリシンの収率はN−ホスホノメチルグリシノニトリル基準で90%以上となる。この反応液中から、場合によっては反応液を適宜希釈あるいは濃縮した後、N−ホスホノメチルグリシンを酸析によって容易に単離することができる。あるいは、例えばイオン交換樹脂のような他の常法の手段を単独で、あるいは併用して単離精製することができるし、再結晶によってさらに精製することができる。
また、本発明にあっては、N−ホスホノメチルグリシノニトリルとして、アミノメチルホスホン酸とグロコロニトリルとを、該アミノメチルホスホン酸1分子に対してアルカリを、アルカリが1価の場合、1.5分子以上2.5分子未満、2価の場合0.75分子以上1.25分子未満となるアルカリの存在下で反応させて得られたものを単離することなく使用し、この生成物にさらにアルカリを追加して加水分解し、目的とするN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩を得ることもできる。
この方法の場合には、使用するアルカリの合計量がN−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対し、アルカリが1価の場合には2分子以上3分子未満、アルカリが2価の場合には1分子以上1.5分子未満とされる。
本発明のアルカリ加水分解によって得られたN−ホスホノメチルグリシンのアルカリ塩は常法により、例えば鉱酸により遊離酸のN−ホスホノメチルグリシンが得られる。また、アルキルアンモニウム塩(ジメチルアンモニウム塩,イソプロピルアンモニウム塩など)やアルキルスルホニウム塩(トリメチルスルホニウム塩など)は常法により、例えばアメリカ特許第3,799,758号、同第3,977,860号、ヨーロッパ特許369,076号などの方法により容易に所望の塩を製造することができる。
例えば、N−ホスホノメチルグリシンのイソプロピルアミン塩は、N−ホスホノメチルグリシンを水に溶解させた等モルのイソプロピルアミンとを室温前後で撹拌反応させた後、減圧下で加熱し、濃縮、乾燥後、結晶性固体として得られる。N−ホスホノメチルグリシンのトリメチルスルホニウム塩は、水酸化トリメチルホスホニウムをイソプロピルアミンの代わりに用いることによって得られる。
同様にして、例えばグリホサート、グリホサート・ナトリウム塩、グリホサート・アンモニウム、グリホサート・モノジメチルアミン(Glyphosate-monodimethylamine)、グリホサート・トリメシウム塩、グリホサミン(Glyphosamine)を製造することができる。
実施例
以下、本発明によるN−ホスホノメチルグリシンの製造方法について代表的な例を示し具体的に説明する。ただし、これらは本発明についての理解を容易にするための例示であり、本発明はこれのみに限定されないのは勿論のこと、これによって何ら限定的に解釈されるものではない。
(実施例1)
250mlの3ツ口フラスコに撹拌機、温度計および還流凝縮機をとりつけた。150gの水、17.5gの48%水酸化ナトリウム水溶液(210mmol)、15.0g(100mmol)のN−ホスホノメチルグリシノニトリルを入れ、撹拌下20時間加熱還流させた。反応終了後の液をHPLCで分析したところN−ホスホノメチルグリシンを90mmol含んでいた。反応収率は原料N−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して90%であった。またこの液のpH(pH7の緩衝液で20℃において較正したpHメーターで測定した。以下同じ)は10.0であった。
反応液を約半量に濃縮し濃塩酸によりpH1まで中和した後、一晩放置しN−ホスホノメチルグリシンを晶出させた。晶出したN−ホスホノメチルグリシンをろ別した。水洗、乾燥後の重量は13.0gでありHPLCから求めた純度は98%であった。
(実施例2)
48%水酸化ナトリウムの量を20.0g(240mmol)に、反応時間を14時間にした以外は実施例1と同様に行った。反応終了後の液をHPLCで分析したところN−ホスホノメチルグリシンの収率は原料のN−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して95%であった。またこの液のpHは10.4であった。
(実施例3)
48%水酸化ナトリウムの量を22.5g(270mmol)に、反応時間を12時間にした以外は実施例1と同様に行った。反応終了後の液をHPLCで分析したところN−ホスホノメチルグリシンの収率は原料のN−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して92%であった。またこの液のpHは10.9であった。
(実施例4)
300mlのSUSオートクレーブ中に150gの水、17.5gの48%水酸化ナトリウム水溶液(210mmol)、15.0g(100mmol)のN−ホスホノメチルグリシノニトリルを入れ、密閉下120℃の油浴上で2時間加熱撹拌した。反応終了後の液をHPLCで分析したところN−ホスホノメチルグリシンの収率は原料のN−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して88%であった。またこの液のpHは10.7であった。
(実施例5)
48%水酸化ナトリウムの量を20.0g(240mmol)に、反応時間を1時間にした以外は実施例4と同様に行った。反応終了後の液をHPLCで分析したところN−ホスホノメチルグリシンの収率は原料のN−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して92%であった。またこの液のpHは11.2であった。
(実施例6)
48%水酸化ナトリウムの代わりに8.9g(120mmol)の水酸化カルシウムを用いた以外は実施例5と同様に行った。反応終了後の液をHPLCで分析したところN−ホスホノメチルグリシンの収率は原料のN−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して91%であった。またこの液のpHは11.3であった。
(実施例7)
200mlの4ツ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロートおよび還流凝縮機をとりつけた。
55gの水、18.4gの48%水酸化ナトリウム水溶液(220mmol)、11.1gのアミノメチルホスホン酸(100mmol)の混合液を入れ、撹拌した。この時のpH(pH7の緩衝液で20℃において較正したpHメーターで測定した。以下同じ)は13.1であった。
反応器を氷水中で冷却し反応液を5℃以下に保ちながら、14.3gの40%グリコロニトリル溶液(100mmol)を30分かけて滴下した。滴下終了後、5℃以下で30分、室温に戻して1時間撹拌した。この時のpHは11.0であった。
次いで、20時間加熱環流させた。反応終了後の液をHPLCで分析したところ、N−ホスホノメチルグリシンを91mmol含んでいた。反応収率は原料アミノメチルホスホン酸およびグリコロニトリルに対して91%であった。
反応液を濃塩酸によりpH2まで中和した後、一晩放置しN−ホスホノメチルグリシンを晶出させた。晶出したN−ホスホノメチルグリシンをろ別した。水洗、乾燥後の重量は18.8gでありHPLCから求めた純度は98%であった。
(実施例8)
200mlの4ツ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロートおよび還流凝縮機をとりつけた。
50gの水、16.7gの48%水酸化ナトリウム水溶液(200mmol)、11.1gのアミノメチルホスホン酸(100mmol)の混合液を入れ、撹拌した。この時のpH(pH7の緩衝液で20℃において較正したpHメーターで測定した。以下同じ)は13.1であった。
反応器を氷水中で冷却し反応液を5℃以下に保ちながら、14.3gの40%グリコロニトリル溶液(100mmol)を30分かけて滴下した。滴下終了後、5℃以下で30分、室温に戻して1時間撹拌した。この時のpHは11.0であった。
次いで、4.2gの48%水酸化ナトリウム水溶液(50mmol)を加え、14時間加熱環流させた。反応終了後の液をHPLCで分析したところ、N−ホスホノメチルグリシンを95mmol含んでいた。反応収率は原料アミノメチルホスホン酸およびグリコロニトリルに対して95%であった。
反応液を濃塩酸によりpH2まで中和した後、一晩放置しN−ホスホノメチルグリシンを晶出させた。晶出したN−ホスホノメチルグリシンをろ別した。水洗、乾燥後の重量は19.3gでありHPLCから求めた純度は98%であった。
(比較例)
48%水酸化ナトリウムの量を27.5g(330mmol)に、反応時間を2時間にした以外は実施例4と同様に行った。反応終了後の液をHPLCで分析したところN−ホスホノメチルグリシンの収率は原料のN−ホスホノメチルグリシノニトリルに対して94%であった。またこの液のpHは12.5であった。
以上の実施例から明らかなように、本発明の製造方法によれば、N−ホスホノメチルグリシノニトリルのアルカリ加水分解によりN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩を製造し、これらを単離する際に副生成する塩の量が低減できる。
また、高純度のN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩を高収率で得ることができる。
産業上の利用可能性
本発明の製造方法によって製造されるN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩類は、生物分解性と優れた除草効果を有し、除草剤またはその原料として広く使用される。
本発明の製造方法によれば、このN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩類を高収率、高純度で得ることができ、しかも副生する塩の量を低減できる。

Claims (10)

  1. N−ホスホノメチルグリシノニトリルのアルカリ加水分解によってN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩を製造する方法において、該N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対してアルカリカチオンが1価の場合2分子以上で3分子未満、2価の場合1分子以上で1.5分子未満となるようにアルカリを使用して加水分解を行う工程を含む製造方法。
  2. N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対してアルカリ金属水酸化物が2分子以上で3分子未満を使用して加水分解を行う請求項1記載の製造方法。
  3. N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対してアルカリ土類金属水酸化物が1分子以上で1.5分子未満を使用して加水分解を行う請求項1記載の製造方法。
  4. 密閉系で行う請求項1の製造方法。
  5. N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対してアルカリ金属水酸化物が2.1分子以上で2.7分子未満を使用して加水分解を行う請求項1記載の製造方法。
  6. N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対してアルカリ土類金属水酸化物が1.05分子以上で1.35分子未満を使用して加水分解を行う請求項1記載の製造方法。
  7. アミノメチルホスホン酸とグリコロニトリルを該アミノメチルホスホン酸1分子に対してアルカリが1価の場合1.5分子以上2.5分子未満、2価の場合0.75分子以上1.25分子未満となるアルカリの存在下で反応させる第1工程と、第1工程で得られたN−ホスホノメチルグリシノニトリルを単離せずに、生成するカルボン酸を中和するのに充分なアルカリによって加水分解する第2工程を含むN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩の製造方法において、第1工程と第2工程で使用するアルカリの合計量が該N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対してアルカリが1価の場合2分子以上3分子未満、2価の場合1分子以上1.5分子未満となる請求項1記載の製造方法。
  8. アミノメチルホスホン酸とグリコロニトリルを該アミノメチルホスホン酸1分子に対してアルカリ金属水酸化物1.5〜2.5分子の存在下で反応させる第1工程と、第1工程で得られたN−ホスホノメチルグリシノニトリルを単離せずに、生成するカルボン酸を中和するのに充分なアルカリによって加水分解する第2工程を含むN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩の製造方法において、第1工程と第2工程でのアルカリ金属水酸化物の合計量が該N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対して2分子以上で3分子未満となるようにアルカリ金属水酸化物を使用する請求項1記載の製造方法。
  9. アミノメチルホスホン酸とグリコロニトリルを該アミノメチルホスホン酸1分子に対してアルカリ金属水酸化物1.5〜2.5分子の存在下で反応させる第1工程と、第1工程で得られたN−ホスホノメチルグリシノニトリルを単離せずに、生成するカルボン酸を中和するのに充分なアルカリによって加水分解する第2工程を含むN−ホスホノメチルグリシンまたはその塩の製造方法において、第1工程と第2工程でのアルカリ金属水酸化物の合計量が該N−ホスホノメチルグリシノニトリル1分子に対して2分子以上で3分子未満となるようにアルカリ金属水酸化物を使用する請求項4記載の製造方法。
  10. 次の工程が付加された請求項8記載の製造方法:
    第2工程で得られたN−ホスホノメチルグリシンのアルカリ金属塩を鉱酸で中和して遊離のN−ホスホノメチルグリシンを得てこれにアミンまたは水酸化トリアルキルスルホニウムを反応させて所望のN−ホスホノメチルグリシンのアミン塩またはトリアルキルスルホニウム塩を製造する工程。
JP50378396A 1994-07-01 1995-07-03 ホスホン酸誘導体の製造方法 Expired - Lifetime JP3795077B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15100494 1994-07-01
PCT/JP1995/001327 WO1996001264A1 (fr) 1994-07-01 1995-07-03 Procede pour la production de derives d'acide phosphonique

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP3795077B2 true JP3795077B2 (ja) 2006-07-12

Family

ID=15509191

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50378396A Expired - Lifetime JP3795077B2 (ja) 1994-07-01 1995-07-03 ホスホン酸誘導体の製造方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5679844A (ja)
EP (1) EP0717046B1 (ja)
JP (1) JP3795077B2 (ja)
AU (1) AU675393B2 (ja)
DE (1) DE69523265T2 (ja)
DK (1) DK0717046T3 (ja)
ES (1) ES2162924T3 (ja)
WO (1) WO1996001264A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5750774A (en) * 1996-03-11 1998-05-12 Showa Denko K.K. Method for producing N-phosphonomethylglycine
DE69626385T2 (de) * 1996-06-21 2003-12-11 Showa Denko K.K., Tokio/Tokyo Verfahren zur Herstellung von N-Phosphonomethylglyzin
ATE224186T1 (de) * 1996-12-30 2002-10-15 Monsanto Technology Llc Verfahren zur herstellung von cyanophosphonatderivaten aus phosphorsäureanhydrid und cyanid
CN1075507C (zh) * 1999-11-08 2001-11-28 浙江新安化工集团股份有限公司 草甘膦酸合成中水解辅续工序

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3799758A (en) * 1971-08-09 1974-03-26 Monsanto Co N-phosphonomethyl-glycine phytotoxicant compositions
US3977860A (en) * 1971-08-09 1976-08-31 Monsanto Company Herbicidal compositions and methods employing esters of N-phosphonomethylglycine
GB1445087A (en) * 1972-11-08 1976-08-04 Ici Ltd Preparing n-phosphonomethylglycine and nitrile intermediates therefor
US4221583A (en) * 1978-12-22 1980-09-09 Monsanto Company N-Phosphonomethylglycinonitrile and certain derivatives thereof
US4415503A (en) * 1982-09-28 1983-11-15 Stauffer Chemical Company Method for preparation of N-phosphonomethylglycine
JPS604840A (ja) * 1983-06-22 1985-01-11 Agency Of Ind Science & Technol 流体検出装置
JP2533006B2 (ja) * 1991-03-05 1996-09-11 昭和電工株式会社 N−ホスホノメチルグリシンの製造方法
JP3189252B2 (ja) * 1991-07-26 2001-07-16 ソニー株式会社 画像データエンコーダおよびデコーダ
JP2525977B2 (ja) * 1991-10-17 1996-08-21 昭和電工株式会社 N−アシルアミノメチルホスホン酸の製造法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69523265D1 (de) 2001-11-22
ES2162924T3 (es) 2002-01-16
EP0717046A1 (en) 1996-06-19
EP0717046A4 (ja) 1996-06-26
WO1996001264A1 (fr) 1996-01-18
EP0717046B1 (en) 2001-10-17
DK0717046T3 (da) 2001-11-26
AU2808395A (en) 1996-01-25
US5679844A (en) 1997-10-21
AU675393B2 (en) 1997-01-30
DE69523265T2 (de) 2002-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5312973A (en) Process for producing n-phosphono-methyl-imino-diacetic acid
JP3795077B2 (ja) ホスホン酸誘導体の製造方法
US4428888A (en) Method for preparation of N-phosphonomethylglycine
CA1339749C (en) Process for the preparation of n-phosphonomethylglycine
EP1244612B1 (en) Process for preparing alkylene diamine triacetic acid
NZ231515A (en) Preparation of n-acylaminomethylphosphonic acid derivatives
US5696287A (en) Process for making aqueous betaine solutions
JP2533006B2 (ja) N−ホスホノメチルグリシンの製造方法
JP3652391B2 (ja) N−ホスホノメチルグリシンの製造方法
EP0806428B1 (en) Method for isolating N-phosphonomethylglycine
CA1304400C (en) PROCESS FOR THE PREPARATION OF .alpha.-AMINOALKYLPHOSPHONIC ACIDS
US5750774A (en) Method for producing N-phosphonomethylglycine
EP0490907B1 (en) Process for the preparation of methylenebisphosphonic acids
EP0816369B1 (en) Method for producing N-phosphonomethylglycine
JPH08134088A (ja) N−ホスホノメチルグリシンの単離方法
JP2944233B2 (ja) N−長鎖アシル酸性アミノ酸モノアルカリ塩の製造方法
AU7027000A (en) Process for preparing methylene bisphosphonic and salts
US4719050A (en) Diphosponylated oxonitriles, processes and uses therefor, and compositions containing them
JP3823327B2 (ja) N−ホスホノメチルグリシンの製造方法
PL140413B1 (en) Process for preparing n-phosphonomethylglycine
JPS62212396A (ja) ホスホノギ酸アルカリの製法
HU199854B (en) Process for producing ethylenediamino-n,n'-bis(alkylphosphonic acid)s
JPH0437839B2 (ja)
JPS60161953A (ja) カルニチン類の製造法
HU194899B (en) Process for production of n-/phosphon-methil/-glycinalkaline salts

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050308

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060404

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060412

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120421

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120421

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150421

Year of fee payment: 9

EXPY Cancellation because of completion of term