JP3791438B2 - 焼結設備の振分けシュート構造 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は焼結設備に付属する振分けシュート構造の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
高炉は鉄鉱石、コークス、石灰石などを主たる原料(高炉装入原料ともいう)とし、鉄鉱石の主成分である酸化鉄をコークスで還元し、鉄鉱石に含まれるリンや硫黄などの不純物を石灰石で除去容易なスラグに変化させて、銑鉄を得る大規模製銑設備である。
【0003】
前記鉄鉱石は高炉内での反応上、一定の大きさに揃える必要があり、一方、採掘や破砕の時に大量に発生する粉が主体の鉄鉱石は小さな粒である。そこで、従来から、焼結設備にて鉄鉱石を焼結処理し、これを分級して高炉へ装入することが行われていた。前記鉄鉱石を焼結処理した物を「焼結鉱」を呼ぶ。
【0004】
図6は従来の焼結設備の作動説明図であり、複数のパレット101・・・(・・・は複数個を示す。以下同じ)を繋いで無端コンベアとし、パレット101に床敷き材ホッパ102から床敷き材を供給し、その上に原料サージホッパ103から原料を供給する。パレット101を図右へ移動して点火炉104に臨ませ、そこで点火して焼結を開始する。焼結の際に発生するガスはウインドボックス105・・・及び排風管106にて設備外へ排出する。以上が焼結機100の主要素である。
【0005】
焼結の終わった原料107は、クーラ108で冷却し、クラッシャ109で砕き、第1スクリーン111に送り、第1スクリーン111で大粒鉱112と中小粒混合鉱113とに分級する。大粒鉱112は白抜き矢印を通って、Bコンベア114に落下し、このBコンベア114で高炉へ向かう。
【0006】
一方、中小粒混合鉱113は、第2スクリーン115で、中粒鉱116と小粒鉱117とに分級する。小粒鉱117は高炉装入には適さない細粒であるため、原料槽118へ戻し、再度焼結を実施する。
【0007】
第2スクリーン115で分級した中粒鉱116は、高炉装入原料と床敷き材の両方に使用することができる。そこで、中粒鉱116は、Aコンベア119を用いて床敷き材ホッパ102に向かわせる、又はBコンベア114を用いて高炉へ向かわせる。このときの振分けは振分けシュート120で行う。この振分けシュート120の構造は後述する。
【0008】
図7は図6の7部拡大図であり、パレット101は鋳造品であるため、耐熱度は高くない。一方、焼結工程では原料は高温になり、パレット101が熱的負担が大きくなる。そこで、パレット101に中粒鉱116を敷き、その上に小粒鉱117を含む原料を載せ、この小粒鉱117を含む原料の上面から点火し、パレット101に向かって原料を燃焼させる。中粒鉱116はその際に遮熱作用を発揮し、パレット101を保護する。また、中粒鉱116は小粒鉱117を含む原料がパレット101の隙間から落下することを防止する作用も発揮する。
【0009】
図8(a)、(b)は図6の8部拡大図兼作用図である。
(a)において、振分けシュート120は1本の上流部121から、2本の分流部122,123し、これらの分流部122,123の入口にスイング板124をスイング自在に取付け、このスイング板124で一方の分流部122を塞ぐことで、中粒鉱116の全量をBコンベア114へ振分ける。Bコンベア114では白抜き矢印で供給する大粒鉱112と合わせて焼結品を高炉へ向かわせる。
【0010】
(b)では、スイング板124を切り替えて、分流部123を塞ぎ、中粒鉱116の全量をAコンベア119へ振分けたことを示す。このときには、Bコンベア114では大粒鉱112のみを運ぶことになる。
以上の(a)、(b)は約10分ごとに切り替える。
【0011】
図9は従来のスイング板の動作波形図であり、横軸は時間、縦軸はBコンベアへ振分け(配分)量を示す。動作波形はきれいな鋸波形を描き、図8(a)で示した「Bコンベアへ100%配分」と、図8(b)で示した「Bコンベアへ0%配分」とを繰返すことを示す。
【0012】
図10は従来のBコンベアにおける粒度分布データを示すグラフであり、横軸は粒径、縦軸は割合を示す。
図8(a)においてBコンベア114の出口では、大粒鉱112と中粒鉱116とが混合しているため、図10に太線で示すように10mm以下の割合が高まる。
【0013】
これに対して、図8(b)ではBコンベア114には大粒鉱112のみが流れるため、図10に細線で示すように大径粒の比率が増加する。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
図10の太線と細線とが約10分ごとに切り替わった状態の焼結鉱(大粒鉱又は大中粒混合鉱)が高炉に向かう。高炉では焼結鉱とコークスとを層状に敷き詰めるため、焼結鉱に粒度ばらつきがあると、高炉内の通気抵抗にばらつきが発生し、高炉操業に悪影響を及ぼす。
そこで、本発明の目的は、高炉へ供給する焼結鉱の粒度を安定させることのできる技術を提供することにある。
【0021】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項は、焼結機で処理した焼結鉱を大粒・中粒及び小粒に分級し、このうち大粒鉱は高炉へ向かわせ、小粒鉱は再焼結処理のために焼結機に戻し、中粒鉱は振分けシュートで一部をパレットの床敷きのために焼結機に戻し、残部を高炉に向かわせる焼結設備において、振分けシュートは、1本の上流部と、この上流部から分岐した第1分流部及び第2分流部と、床敷きへの中粒鉱を流す第1分流部の入口と高炉への中粒鉱を流す第2分流部の入口を交互に塞ぐスイング板と、第2分流部から第1分流部へ中粒鉱をバイパスさせるバイパス通路と、で構成したことを特徴とする。
【0022】
先ずスイング板で第1分流部の入口を塞ぎ、中粒鉱を第2分流部に導く。第2分流部に流入した中粒鉱はその一部がパイパス通路を通って、第1分流部へ分流する。
残部が第2分流部を流れる。従って、第1分流部、第2分流部ともに中粒鉱を連続的に流すことができる。
第2分流部を流れた中粒鉱に大粒鉱を加えた大中混合鉱が高炉に向かう。この大中混合鉱は粒度分布が一定であるため、高炉へ供給する焼結鉱の粒度を安定させることができる。
【0023】
そして、床敷き材ホッパにおける貯留レベルが下限レベルに達したら、スイング板をスイングさせて第2分流部の入口を塞ぎ、中粒鉱の全量を床敷き材ホッパに向かわせ貯留レベルを回復させる。ただし第2分流部の入口を塞ぐ期間は、第1分流部の入口を塞ぐ期間よりごく短縮することができるため、実質的には高炉へ供給する焼結鉱の粒度を安定させることができる。
【0024】
請求項の振分けシュート構造では、バイパス通路にそこを流れる中粒鉱の流量を制御する流量制御手段を介設したことを特徴とする。
【0025】
流量制御手段でパイパス通路を流れる中粒鉱の流量を制御することで、床敷き材ホッパでの貯留レベルを一定に保つことができる。
【0026】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を添付図に基づいて以下に説明する。
図1は本発明に係る焼結設備の作動説明図であり、焼結設備10は、焼結機11と付帯装置とからなり、焼結機11は、複数のパレット12・・・を繋いだ無端コンベアと、パレット12に床敷き材を供給する床敷き材ホッパ13と、この床敷き材ホッパ13に備えた上限レベルセンサ14及び下限レベルセンサ15と、パレット12に敷いた床敷き材上に原料を供給する原料サージホッパ16と、この原料サージホッパ16へ原料を供給する原料槽17と、パレット12上の原料に点火する点火炉18と、焼結の際に発生するガスを設備外へ排出するウインドボックス19・・・及び排風管21とからなる。
【0027】
上記構成の焼結機11に備える付帯装置を次に説明する。
付帯装置は、焼結の終わった原料22を冷却するクーラ23と、原料22を砕くクラッシャ24と、砕いた原料を大粒鉱26と中小粒混合鉱27とに分級する第1スクリーン28と、中小粒混合鉱27を更に、中粒鉱29と小粒鉱31とに分級する第2スクリーン32と、分級後の中粒鉱29の一部を床敷き材ホッパ13へ向かわせるAコンベア33と、中粒鉱29の残部を高炉に向かわせるBコンベア34と、中粒鉱29をA・Bコンベア33,34へ振分ける振分けシュート40と、この振分けシュート40に備えたスイング板41や流量制御手段50を制御する制御部36と、からなる。
【0028】
図2は図1の2部拡大図であり、振分けシュート40は、1本の上流部42と、この上流部42から分岐した第1分流部43及び第2分流部44と、床敷きへの中粒鉱を流す第1分流部43の入口と高炉への中粒鉱を流す第2分流部44の入口を交互に塞ぐスイング板41と、第2分流部44から第1分流部43へ中粒鉱をバイパスさせるバイパス通路45と、このバイパス通路45に介設した流量制御手段50とからなり、更に、流量制御手段50はナイフゲート51と、このナイフゲート51をバイパス通路51に出し入れするゲートアクチュエータ52とからなる。ナイフゲート51はダンパ又は弁であってもよい。ゲートアクチュエータ52はエアシリンダ、油圧シリンダ又はこれに相当する駆動手段であれば、種類は問わない。
【0029】
図3(a)、(b)は本発明の振分けシュートの作用説明図である。
(a)において、先ずスイング板41で第1分流部43の入口を塞ぎ、中粒鉱29を第2分流部44に導く。第2分流部44に流入した中粒鉱29はその一部がバイパス通路45を通って、第1分流部43へ分流し、Aコンベア33に落下する。
【0030】
一方、中粒鉱29の残部は第2分流部44を流れてBコンベア34に落下する。Bコンベア34には白抜き矢印の通りに大粒鉱26も落下し、大中混合鉱が高炉に向かう。この大中混合鉱は粒度分布が一定であるため、高炉へ供給する焼結鉱の粒度を安定させることができる。
【0031】
なお、バイパス通路45を通る中粒鉱29の流量は図1で示す床敷き材ホッパ13の貯留レベルが一定になるように設定することが望ましい。しかし、それが難しければ、貯留レベルが徐々に下がる程度の小流量モードに設定する。この小流量モードで運転するときには何れ床敷き材ホッパ13が空になるので、次に説明する大流量モードが必要となる。
【0032】
(b)では、スイング板41をスイングさせて第2分流部44の入口を閉じ、中粒鉱29の全てをAコンベア33に落下させる。これで、床敷き材ホッパ13(図1参照)の貯留レベルを回復させることができる。このときを大流量モードといい、このモードを選択すると、Bコンベア34には大粒鉱26のみが流れる。
【0033】
図4は本発明に係るスイング板の動作波形図であり、横軸は時間、縦軸はBコンベアへ振分け(配分)量を示す。仮に図3(a)で「Bコンベアへ60%配分」に設定し、図3(b)で示した「Bコンベアへ0%配分」とを繰返す。ただし、60%配分の時間割合がほとんどであり、0%配分の時間割合は僅かである。
【0034】
図5は本発明のBコンベアにおける粒度分布データを示すグラフであり、横軸は粒径、縦軸は割合を示す。
図3(a)においてBコンベア34の出口では、大粒鉱26と中粒鉱29とが混合しているため、図5に太線で示すような粒度分布になる。
【0035】
これに対して、図3(b)ではBコンベア34には大粒鉱26のみが流れるため、図5に細線で示すように大径粒の比率が増加する。
しかし、本発明の図3(a)では大粒鉱26に比較的少ない量の中粒鉱29を加えるため、粒度分布の変化が少ない。このために、図5の太線と細線との差が小さくなる。この結果、高炉へは安定した粒度分布の焼結鉱を供給することができる。
【0036】
図1に戻って、制御部36の作用を説明する。制御部36で▲1▼オンオフ流量制御又は▲2▼連続流量制御を実施する。これらを順に説明する。
【0037】
▲1▼オンオフ流量制御では、焼結機11へ戻す中粒鉱は、床敷きのための中粒鉱を貯める床敷き材ホッパ13の貯留レベルが徐々に下がる小流量モードと、貯留レベルが上昇する大流量モードと、の2種類の流量モードを切り替えることで流量を制御することを特徴とする。
【0038】
具体的には制御部36は上限レベルセンサ14及び下限レベルセンサ15の情報に基づいてスイング板41を切り替える。すなわち、床敷き材ホッパ13に上限レベルを検出する上限レベルセンサ14及び下限レベルを検出する下限レベルセンサ15を備えておき、上限レベルまで中粒鉱を貯めたときから小流量モードでの運転を開始する。すると、貯留レベルは徐々に低下する。同レベルが下限レベルに達したら、モードを切り替え、大流量モードでの運転を開始する。すると、貯留レベルは上限レベルに回復する。
以上の制御は、基本的にオンオフ制御であるから、制御が容易であり、制御機器のコストを抑えることができる。
【0039】
▲2▼連続流量制御では、焼結機11へ戻す中粒鉱の流量は、床敷きのための中粒鉱を貯める床敷き材ホッパ13の貯留レベルが一定になるように制御することを特徴とする。
【0040】
具体的には、制御部36は床敷き材ホッパ13の貯留レベルをモニターし、貯留レベルが一定になるように流量制御手段50をPI制御又はPID制御することで貯留レベルを一定化する。そのためには、上限レベルセンサ14及び下限レベルセンサ15を、連続的にレベルを検出でき、レベルに対応した電気信号を発するアナログ式レベル計に置き換えることが望ましい。
【0041】
そして床敷き材ホッパの貯留レベルをモニターし、制御部36で流量制御手段50を作動させて貯留レベルが一定になるようにする。この結果、スイング板41をスイングさせる必要が殆どなく、又は全くなく、スイング板41を廃止することができる。
【0042】
ただし、▲2▼の連続流量制御は高価な制御部36が必要であるため、コストを低減することを目的とするなら▲1▼のオンオフ流量制御を採用すればよい。
【0046】
【発明の効果】
本発明は上記構成により次の効果を発揮する。
請求項は、焼結機で処理した焼結鉱を大粒・中粒及び小粒に分級し、このうち大粒鉱は高炉へ向かわせ、小粒鉱は再焼結処理のために焼結機に戻し、中粒鉱は振分けシュートで一部をパレットの床敷きのために焼結機に戻し、残部を高炉に向かわせる焼結設備において、振分けシュートは、1本の上流部と、この上流部から分岐した第1分流部及び第2分流部と、床敷きへの中粒鉱を流す第1分流部の入口と高炉への中粒鉱を流す第2分流部の入口を交互に塞ぐスイング板と、第2分流部から第1分流部へ中粒鉱をバイパスさせるバイパス通路と、で構成したことを特徴とする。
【0047】
先ずスイング板で第1分流部の入口を塞ぎ、中粒鉱を第2分流部に導く。第2分流部に流入した中粒鉱はその一部がパイパス通路を通って、第1分流部へ分流する。残部が第2分流部を流れる。従って、第1分流部、第2分流部ともに中粒鉱を連続的に流すことができる。
第2分流部を流れた中粒鉱に大粒鉱を加えた大中混合鉱が高炉に向かう。この大中混合鉱は粒度分布が一定であるため、高炉へ供給する焼結鉱の粒度を安定させることができる。
【0048】
そして、床敷き材ホッパにおける貯留レベルが下限レベルに達したら、スイング板をスイングさせて第2分流部の入口を塞ぎ、中粒鉱の全量を床敷き材ホッパに向かわせ貯留レベルを回復させる。ただし第2分流部の入口を塞ぐ期間は、第1分流部の入口を塞ぐ期間よりごく短縮することができるため、実質的には高炉へ供給する焼結鉱の粒度を安定させることができる。
【0049】
請求項の振分けシュート構造では、バイパス通路に、そこを流れる中粒鉱の流量を制御する流量制御手段を介設したことを特徴とし、流量制御手段でパイパス通路を流れる中粒鉱の流量を制御することで、床敷き材ホッパでの貯留レベルを一定に保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る焼結設備の作動説明図
【図2】図1の2部拡大図
【図3】本発明の振分けシュートの作用説明図
【図4】本発明に係るスイング板の動作波形図
【図5】本発明のBコンベアにおける粒度分布データを示すグラフ
【図6】従来の焼結設備の作動説明図
【図7】図6の7部拡大図
【図8】図6の8部拡大図兼作用図
【図9】従来のスイング板の動作波形図
【図10】従来のBコンベアにおける粒度分布データを示すグラフ
【符号の説明】
10…焼結設備、11…焼結機、12…パレット、13…床敷き材ホッパ、26…大粒鉱、29…中粒鉱、31…小粒鉱、36…制御部、40…振分けシュート、41…スイング板、42…上流部、43…第1分流部、44…第2分流部、45…バイパス通路、50…流量制御手段、51…ナイフゲート、52…ゲートアクチュエータ。

Claims (2)

  1. 焼結機で処理した焼結鉱を大粒・中粒及び小粒に分級し、このうち大粒鉱は高炉へ向かわせ、小粒鉱は再焼結処理のために焼結機に戻し、中粒鉱は振分けシュートで一部をパレットの床敷きのために焼結機に戻し、残部を高炉に向かわせる焼結設備において、前記振分けシュートは、1本の上流部と、この上流部から分岐した第1分流部及び第2分流部と、床敷きへの中粒鉱を流す第1分流部の入口と高炉への中粒鉱を流す第2分流部の入口を交互に塞ぐスイング板と、第2分流部から第1分流部へ中粒鉱をバイパスさせるバイパス通路と、で構成したことを特徴とする焼結設備の振分けシュート構造。
  2. 前記バイパス通路に、そこを流れる中粒鉱の流量を制御する流量制御手段を介設したことを特徴とする請求項記載の焼結設備の振分けシュート構造。
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