JP3767872B2

JP3767872B2 - 電子ビーム装置及びその調整方法

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Publication number: JP3767872B2
Application number: JP14394697A
Authority: JP
Inventors: 雅文浅井; 一郎本荘
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1997-06-02
Filing date: 1997-06-02
Publication date: 2006-04-19
Anticipated expiration: 2017-06-02
Also published as: JPH10334845A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）やＳＥＭ像を取得できる電子ビームテスタ及び電子ビーム露光装置等の電子ビーム装置及びその調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図９に示すＳＥＭ像１は、１０００倍の配線パターンであり、倍率をさらに１０倍上げてＳＥＭ像１中の点線で囲まれた範囲を観察すると、ＳＥＭ像２が揺れる。この揺れは、真空ポンプの機械的振動、電子ビーム装置鏡筒の共振、真空ポンプや冷却ファンのモータから発生する電波等の浮遊電磁界、及び、電子銃やレンズの電源回路に商用電源周波数のノイズが乗ること等の外乱に起因している。浮遊電磁界については、特に低周波浮遊磁界をシールドすることは容易でない。電子ビーム装置では、その分解能が高くなるにつれ、このような外乱によるＳＥＭ像の揺れがより一層問題となってくる。
【０００３】
従来では、浮遊磁界に対しては、電子ビーム鏡筒の周囲あるいは装置全体を磁気シールド板で覆ったり、磁気シールド板を備えた装置専用の部屋を用意するなどのパッシブな対策や、鏡筒近傍の磁界を検出し装置全体を覆ったヘルムホルツコイルに検出信号をフイードバックしてキャンセル用磁界を発生させるアクティブな制御方法などが取られている．また、機械振動に対しては、固有振動数が数Ｈｚの除振台で、床から電子ビーム装置への振動伝達を抑制するパッシブな対策や、試料の揺れをレーザー干渉計で検出し電子ビームにフイードバックするアクティブな制御方法が取られてきた。
【０００４】
また、商用電源周波数成分については、電子ビーム走査信号に商用電源からの正弦波を重畳し、この正弦波の位相及び振幅を調整して、電子ビームの揺れを補正する方法が用いられていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、浮遊磁界に対する磁気シールド板はその効果を上げていこうとするとその厚みを増すか幾重にも覆う必要があるので、装置の小型化が妨げられる。ヘルムホルツコイルを用いた方法は効果的であるが、高価である。また機械振動については、大きな除振装置が装置の小型化を妨げる。また、このような方法は浮遊磁界と機械的振動とに分けて対処しなくてはならないので、構成が複雑になる。
【０００６】
また、正弦波重畳法は、商用電源周波数成分のみについてしか揺れ低減効果が得られなかった。
本発明の目的は、このような問題点に鑑み、小型かつ簡単な構成でＳＥＭ像の揺れを効果的に低減することが可能な電子ビーム装置及びその調整方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその作用効果】
本発明の第１態様は、ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置調整方法であって、
周期的な補正信号を偏向器に供給し、電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子を検出し、
２次電子検出波形の周波数成分の振幅が極小になるように、該補正信号の、該周波数成分と略同一周波数の周波数成分の位相及び振幅を調整する。
【０００８】
この電子ビーム装置調整方法によれば、各種原因によるＳＥＭ像の揺れを、小型かつ簡単な構成で効果的に、しかも容易に低減することができるという効果を奏し、電子ビーム装置の解像度向上に寄与するところが大きい。
本発明の第２態様の電子ビーム装置調整方法では、第１態様において、上記２次電子検出波形の周波数スペクトルを取得し、
上記補正信号の周波数成分の周波数を、該周波数スペクトルのピーク位置に略一致させる。
【０００９】
この電子ビーム装置調整方法によれば、補正信号の周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効果的に行うことができるという効果を奏する。
本発明の第３態様の電子ビーム装置調整方法では、第１又は２態様において、上記試料のＳＥＭ像を取得し、該ＳＥＭ像から上記試料上パターンエッジ部を決定する。
本発明の第４態様では、ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置調整方法であって、
周期的な補正信号を偏向器に供給し、
電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンに照射し、照射点を走査させて試料のＳＥＭ像を取得し、
該ＳＥＭ像の画素値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジの傾斜の絶対値が最大になるように該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整する。
【００１０】
この電子ビーム装置調整方法によっても、上記第１態様の効果が得られる。
本発明の第５態様の電子ビーム装置調整方法では、第４態様において、上記投影加算波形の微分波形を算出し、該微分波形のピーク値の絶対値が最大になるようにすることにより、該投影加算波形のエッジの傾斜の絶対値が最大になるようにする。
【００１１】
本発明の第６態様の電子ビーム装置調整方法では、第４又は５態様において、上記電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子の検出波形の周波数スペクトルを取得し、
上記補正信号の周波数成分の周波数を、該周波数スペクトルのピーク位置に略一致させる。
【００１２】
この電子ビーム装置調整方法によれば、補正信号の周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効果的に行うことができるという効果を奏する。
本発明の第７態様では、試料に電子ビームを照射し、照射点から放出された２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビーム装置において、
周期的な補正信号を出力する補正信号源と、
該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器と、
該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射させるビーム制御装置と、
該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射したときに該２次電子検出器から得られる２次電子検出波形のスペクトルを取得するスペクトルアナライザと、
該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整するための補正信号調整装置とを有する。
【００１３】
この調整は、手動又は自動のいずれであってもよい。
本発明の第８態様の電子ビーム装置では、第７態様において、上記補正信号調整装置は、上記補正信号の周波数成分について、上記スペクトルの、周波数が該周波数成分のそれに等しいスペクトル強度が極小になるように、該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整する。
【００１４】
この電子ビーム装置によれば、補正信号の周波数成分の位相及び振幅の調整が自動的に行われるという効果を奏する。
本発明の第９態様では、試料に電子ビームを照射し、照射点から放出された２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビーム装置において、
周期的な補正信号を出力する補正信号源と、
該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器と、
該電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンに照射させ、照射点を走査させるビーム制御装置と、
該走査により該２次電子検出器から得られる信号がＳＥＭ像として格納されるフレームメモリと、
該フレームメモリに格納されたＳＥＭ像の画素値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジの傾斜を求める画像処理と、
該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整するための補正信号調整装置とを有する。
【００１５】
この調整は、手動又は自動のいずれであってもよい。
本発明の第１０態様の電子ビーム装置では、第９態様において、上記補正信号調整装置は、上記エッジの傾斜の絶対値が最大になるように上記補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整する。
この電子ビーム装置によれば、補正信号の周波数成分の位相及び振幅の調整が自動的に行われるという効果を奏する。
【００１６】
本発明の第１１態様の電子ビーム装置では、第９又は１０態様において、上記ビーム制御装置は、上記電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射させ、
該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射したときに上記２次電子検出器から得られる２次電子検出波形のスペクトルを取得するスペクトルアナライザを有する。
【００１７】
この電子ビーム装置によれば、補正信号の周波数成分の周波数調整をより容易迅速かつ効果的に行うことが可能になるという効果を奏する。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。
［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態の電子ビーム装置概略構成図である。
電子ビーム装置本体１０では、電子銃コラムの上部に配置された電子銃チップ１１から電子ビーム１２が射出され、これが偏向器１３及び対物レンズ１４を通り、試料室内の移動ステージ１５に搭載された試料１６上に照射される。照射点から放出された２次電子１８は、２次電子検出器１９で検出される。偏向器１３の上方には、ＳＥＭ像の揺れを補正するための補正用偏向器２０が配置されている。補正用偏向器２０は、Ｘ軸方向に対向配置された一対の偏向コイル２０Ｘ１及び２０Ｘ２と、Ｙ軸方向に対向配置された一対の２０Ｙ１及び２０Ｙ２とからなる。偏向コイル２０Ｘ１と２０Ｘ２とは直列接続され、偏向コイル２０Ｘ２の一端が接地されている。同様に、偏向コイル２０Ｙ１と２０Ｙ２とが直列接続され、偏向コイル２０Ｙ２の一端が接地されている。
【００１９】
２次電子検出器１９の出力信号は増幅回路２１で増幅され、次にＡ／Ｄ変換器２２でデジタル化され、画像入力回路２３を介してフレームメモリ２４に格納される。フレームメモリ２４に格納された画像データは、表示装置２５に供給されて表示される。
操作者により不図示の入力装置が操作され、その入力信号は、システム制御装置２６に供給される。この操作により、システム制御装置２６からビーム制御装置２７へＳＥＭ像取得指令が供給されると、ビーム制御装置２７により偏向器１３を介して電子ビーム１２が試料１６上で走査され、画像入力回路２３にＡ／Ｄ変換器２２の出力が選択的に供給され、表示装置２５に例えば図９に示すようなＳＥＭ像１が表示される。操作者は、この像を見て、表示範囲の中心及び新たな拡大倍率を指定する操作を行う。これにより、上記同様にして、表示装置２５に、図２（Ａ）に示すようなＳＥＭ像３が表示される。図中のハッチングを施した部分は、配線パターンであり、その周囲よりも輝度が高くなっている。
【００２０】
操作者は、ＳＥＭ像３内の電子ビーム照射点ＰＸを不図示のポインティングデバイスで指定して、その信号をシステム制御装置２６に供給させる。システム制御装置２６は、試料１６上のパターンのレイアウト設計データが格納された記憶装置を備えており、この電子ビーム照射点ＰＸを設計データ上の位置に対応させて、ビーム制御装置２７に対しこの位置への照射指令を供給する。
【００２１】
ビーム制御装置２７は、これに応答して、偏向器１３で電子ビーム１２を偏向させ、電子ビーム照射点ＰＸに対応した試料１６上の位置に、電子ビーム１２を照射させる。この場合、Ａ／Ｄ変換器２２から出力された一連のデータは、周波数アナライザ２８内のメモリに２次電子検出波形として格納される。周波数アナライザ２８は、例えばＦＦＴ（高速フーリエ変換）等により、この２次電子検出波形を、図３に示すようなスペクトルに変換する。画像入力回路２３は、このスペクトルを選択的にフレームメモリ２４に格納させる。これにより、表示装置２５にこのスペクトルが表示される。
【００２２】
この電子ビーム装置で用いられる商用電源の周波数は５０Ｈｚであり、図３に示す５０Ｈｚのピークは、この商用電源で駆動される荒引き用真空ポンプや冷却ファン等のモータから出る電磁波等の浮遊電磁界、並びに、これらのモータの機械的振動及び電子ビーム装置本体１０の共振等に起因している。１００Ｈｚ及び１５０Ｈｚのピークは、５０Ｈｚの高調波成分に対応している。４３０Ｈｚは、真空ポンプに含まれる高真空用ターボ分子ポンプに起因したものである。
【００２３】
操作者は、このスペクトルを見て、ピーク位置であるｆ１＝５０Ｈｚ及びｆ２＝４３０Ｈｚをシステム制御装置２６に対し指定する。システム制御装置２６は、この指定値ｆ１及びｆ２を周波数アナライザ２８及び補正信号調整装置２９に供給し、周波数アナライザ２８はこれに応答して、スペクトル上の周波数ｆ１及びｆ２での振幅Ａ（ｆ１）及びＡ（ｆ２）を補正信号調整装置２９に供給する。
【００２４】
ここで、補正信号源３０は、周波数、位相及び振幅が調整可能な交流源３１〜３４と、交流源３１と３３の出力を加算する加算増幅回路３５と、交流源３２と３４の出力を加算する加算増幅回路３６とを備えている。加算増幅回路３５及び３６の出力はそれぞれ、偏向コイル２０Ｙ１及び２０Ｘ１に供給される。
交流源３１〜３４の出力振幅は最初、補正信号調整装置２９により０に初期設定されている。補正信号調整装置２９は、交流源３１及び３３の周波数をｆ１＝５０Ｈｚに調整し、交流源３２及び３４の周波数をｆ２＝４３０Ｈｚに調整する。次に補正信号調整装置２９は、交流源３１に対し位相及び振幅の調整を行う。この調整の手順の概略を図４に示す。以下、交流源３１の出力をＢ・ｓｉｎ（２π・ｆ１・ｔ＋φ）とする。
【００２５】
（４０）繰り返し回数ｉに初期値０を代入する。
（４１）補正信号調整装置２９は、位相φを微小値Δφとしたときの振幅Ａ（ｆ１）の値と、位相φを−Δφとしたときの振幅Ａ（ｆ１）の値とを比較し、振幅Ａ（ｆ１）の値が小さくなる方へ位相φの値をΔφずつ変化させていき、振幅Ａ（ｆ１）が極小となるまでこの処理を繰り返す。振幅Ａ（ｆ１）はこの変化毎に取得する。
【００２６】
例えば、補正前の補正用偏向器２０の位置での電子ビーム１２のＸ方向の揺れと、偏向コイル２０Ｙ１と２０Ｙ２とで生成される磁界から電子ビーム１２が受ける力の揺れとの位相が逆の場合に、この高さ位置での電子ビーム１２の揺れが極小になる。ＳＥＭ像の揺れの原因は、補正用偏向器２０の下方にも存在し、この原因によるＳＥＭ像の揺れも低減するように、補正用偏向器２０の磁界から電子ビーム１２が力を受ける。
【００２７】
（４２）Ａ（ｆ１）≦εであれば処理を終了し、そうでなければ次のステップ４３へ進む。ここにεは、正の小さな許容最大値である。
（４３）補正信号調整装置２９は、振幅Ｂを微小値ΔＢとしたときの振幅Ａ（ｆ１）の値と、振幅Ｂを−ΔＢとしたときの振幅Ａ（ｆ１）の値とを比較し、振幅Ａ（ｆ１）の値が小さくなる方へ振幅Ｂの値をΔＢずつ変化させていき、振幅Ａ（ｆ１）が極小となるまでこの処理を繰り返す。振幅Ａ（ｆ１）はこの変化毎に取得する。
【００２８】
（４４）Ａ（ｆ１）≦εであれば処理を終了し、そうでなければ次のステップ４５へ進む。
（４５）繰り返し回数ｉを１だけインクリメントする。
（４６）ｉ＜Ｎであればステップ４１へ戻り、ｉ＝Ｎとなれば処理を終了する。ここにＮは、処理打切用設定回数である。
【００２９】
次に、図１の交流源３３の位相及び振幅の調整を、上記同様にして行う。この場合、上記振幅Ａ（ｆ１）の代わりに振幅Ａ（ｆ２）を用いる。
次に、上記同様にして図２（Ｂ）に示すようなＳＥＭ像４を表示装置２５に表示させ、電子ビーム照射点ＰＹを指定し、上記同様にして交流源３２及び３４の位相及び振幅を調整する。
【００３０】
補正信号調整装置２９はマニュアルモードも備えており、操作者は、調整後に表示装置２５に表示されたスペクトルを見て、上記のような自動調整が充分でないと判断した場合には、マニュアルモードに切り換える。そして、表示装置２５に表示されたスペクトルを見ながら、補正信号調整装置２９を介し補正信号源３０に対する周波数、位相及び振幅の調整を行う。
【００３１】
このような調整が行われた補正信号源３０の出力を、ＳＥＭ像観察中に補正用偏向器２０に供給することにより、像の揺れが低減されて、電子ビーム装置の分解能が向上する。
この調整は例えば、試料１６上のコントラストが特に顕著なパターンエッジ部を特定しておき、画像観察中において、定期的に又は像揺れが大きくなった時に、この部分に電子ビーム１２を照射して行う。
【００３２】
本第１実施形態では上記のように、電子ビーム１２を補正用偏向器２０に通して試料１６上のパターンエッジ部へ照射し、照射点から放出された２次電子を２次電子検出器１９で検出し、２次電子検出波形のスペクトルの周波数ｆｊの振幅Ａ（ｆｊ）が極小になるように補正信号源３０の周波数ｆｊの成分の位相及び振幅を調整しているので、各種原因によるＳＥＭ像の揺れを、簡単な構成で容易に低減することができる。
【００３３】
［第２実施形態］
上記第１実施形態では、電子ビーム装置本体１０に新たな補正用偏向器２０を備えてＳＥＭ像の揺れを補正する場合を説明したが、既存の偏向器に対して補正信号を重ね合わせることにより、ＳＥＭ像の揺れを低減する構成であってもよい。図５は、このような構成の電子ビーム装置の概略を、第２実施形態として示す。
【００３４】
ビーム制御装置２７Ａは、図１のビーム制御装置２７から、偏向器１３を駆動する増幅回路を除いたものであり、電子ビーム装置はこの増幅回路の代わりに加算増幅回路２７１及び２７２を備えている。加算増幅回路２７１及び２７２の一方の入力端には、電子ビーム１２を偏向器１３で通常のように偏向させるための信号がビーム制御装置２７から供給され、加算増幅回路２７１及び２７２の他方の入力端には、加算増幅回路３５及び３６からの補正信号が供給される。
【００３５】
偏向器１３は、Ｘ軸方向に対向配置された一対の偏向電極１３Ｘ１及び１３Ｘ２と、Ｙ軸方向に対向配置された一対の偏向電極１３Ｙ１及び１３Ｙ２とからなる。加算増幅回路２７１及び２７２の出力はそれぞれ、偏向器１３の偏向電極１３Ｘ１及び１３Ｙ１に供給される。偏向電極１３Ｘ２及び１３Ｙ２には、接地電位又は加算増幅回路２７１及び２７２の出力の符号を反転した信号が供給される。
【００３６】
他の点は、上記第１実施形態と同一である。
［第３実施形態］
図６は、本発明の第３実施形態の電子ビーム装置概略構成図である。
図７（Ａ）は、図６の交流源３１〜３４の出力を０にしたときのＳＥＭ像５を示している。ハッチングを施した部分は、配線パターンである。
【００３７】
ＳＥＭ像５内の画素の座標（Ｘ，Ｙ）における画素値をＰ（Ｘ，Ｙ）と表記し、Ｘ及びＹの範囲をそれぞれ０≦Ｘ≦Ｘｍａｘ、０≦Ｙ≦Ｙｍａｘとする。ＳＥＭ像５のＸ軸への投影加算値Ｓ（Ｘ）、すなわち投影加算値Ｓ（Ｘ）＝Ｐ（Ｘ，０）＋Ｐ（Ｘ，１）＋Ｐ（Ｘ，２）＋・・・＋Ｐ（Ｘ，Ｙｍａｘ）を算出すると、図７（Ｂ）に示す如くなる。
【００３８】
ＳＥＭ像５が揺れているので、投影加算値Ｓのエッジ部の傾斜は比較的緩やかになっている。投影加算値Ｓの微分波形は、図７（Ｃ）に示す如くなり、投影加算値Ｓのエッジ部でピークを持つ。
図６において、交流源３１〜３４の振幅は、上記第１実施形態と同じ方法で調整しておく。画像処理装置５０は、フレームメモリ２４に格納されたＳＥＭ像に対し、図７に示す加算微分値ｄＳ／ｄＸを求め、例えばその１つのピーク値の絶対値ＰＫを、補正信号調整装置２９Ａに供給する。補正信号調整装置２９Ａは、このピーク値ＰＫが極大になるように、上記第１実施形態と同様にして交流源３１〜３４の位相及び振幅を調整する。この補正信号調整においては、交流源３１〜３４の位相又は振幅をそれぞれ上記のようにΔφ及びΔＢだけ変化させる毎に、電子ビーム１２を走査させてフレームメモリ２４に格納されるＳＥＭ像を更新する。
【００３９】
図８は図７に対応しており、図８（Ａ）は補正信号調整後のＳＥＭ像を示す図であり、図８（Ｂ）はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す図であり、図８（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図である。
この第３実施形態によっても、上記第１実施形態で述べた効果が得られる。
なお、本発明には外にも種々の変形例が含まれる。例えば、周波数アナライザ２８において、得られたスペクトルからそのピーク値を検出し、ピーク値の大きい方から順に補正信号源３０の周波数を自動調整する構成であってもよい。補正信号の調整は全て手動のみであってもよい。また、本発明の調整原理から明らかなように、補正信号源３０で調整できる周波数の数は３以上であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の電子ビーム装置概略構成図である。
【図２】（Ａ）及び（Ｂ）はいずれもＳＥＭ像中の補正信号調整用電子ビーム照射点を示す図である。
【図３】図２の照射点に電子ビームを照射したときの２次電子検出波形のスペクトル図である。
【図４】補正信号調整手順を示す概略フローチャートである。
【図５】本発明の第２実施形態の電子ビーム装置概略構成図である。
【図６】本発明の第３実施形態の電子ビーム装置概略構成図である。
【図７】（Ａ）は補正信号調整前のＳＥＭ像を示す図であり、（Ｂ）はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す図であり、（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図である。
【図８】（Ａ）は補正信号調整後のＳＥＭ像を示す図であり、（Ｂ）はこのＳＥＭ像のＸ軸投影加算波形を示す図であり、（Ｃ）は、この波形の微分波形を示す図である。
【図９】従来技術の問題点説明図である。
【符号の説明】
１〜５ＳＥＭ像
１１電子銃チップ
１３偏向器
１３Ｘ１、１３Ｘ２、１３Ｙ１、１３Ｙ２偏向電極
１６試料
１９２次電子検出器
２０補正用偏向器
２４フレームメモリ
２５表示装置
２８周波数アナライザ
２９補正信号調整装置
３０補正信号源
３１〜３４交流源
３５、３６加算増幅回路
５０画像処理装置

Claims

ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置調整方法であって、
周期的な補正信号を偏向器に供給し、電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子を検出し、
２次電子検出波形の周波数スペクトルを取得し、該周波数スペクトルのピーク位置の振幅が極小になるように、該周波数スペクトルのピーク位置の周波数と一致する該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整する、
ことを特徴とする電子ビーム装置調整方法。
上記周波数スペクトルは、上記２次電子検出波形を高速フーリエ変換することにより得られることを特徴とする請求項１記載の電子ビーム装置調整方法。
上記試料のＳＥＭ像を取得し、該ＳＥＭ像から上記試料上パターンエッジ部を決定する、
ことを特徴とする請求項１記載の電子ビーム装置調整方法。
ＳＥＭ像の揺れを低減させる電子ビーム装置調整方法であって、
周期的な補正信号を偏向器に供給し、
電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンに照射し、照射点を走査させて試料のＳＥＭ像を取得し、
該ＳＥＭ像の画素値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジの傾斜の絶対値が最大になるように該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整する、
ことを特徴とする電子ビーム装置調整方法。
上記投影加算波形の微分波形を算出し、該微分波形のピーク値の絶対値が最大になるようにすることにより、該投影加算波形のエッジの傾斜の絶対値が最大になるようにする、
ことを特徴とする請求項４記載の電子ビーム装置調整方法。
上記電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射し、照射点から放出された２次電子の検出波形の周波数スペクトルを取得し、
上記補正信号の周波数成分の周波数を、該周波数スペクトルのピーク位置に略一致させる、
ことを特徴とする請求項４又は５記載の電子ビーム装置調整方法。
試料に電子ビームを照射し、照射点から放出された２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビーム装置において、
周期的な補正信号を出力する補正信号源と、
該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器と、
該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射させるビーム制御装置と、
該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射したときに該２次電子検出器から得られる２次電子検出波形のスペクトルを取得するスペクトルアナライザと、
該スペクトルアナライザで取得したスペクトルのピーク位置のスペクトル強度が極小になるように、該スペクトルのピーク位置の周波数と一致する該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整するための補正信号調整装置と、
を有することを特徴とする電子ビーム装置。
上記スペクトルアナライザは、上記２次電子検出波形を高速フーリエ変換することにより上記スペクトルを取得することを特徴とする請求項７記載の電子ビーム装置。
試料に電子ビームを照射し、照射点から放出された２次電子を２次電子検出器で検出する電子ビーム装置において、
周期的な補正信号を出力する補正信号源と、
該補正信号が供給され、該電子ビームが通される偏向器と、
該電子ビームを該偏向器に通して試料上パターンに照射させ、照射点を走査させるビーム制御装置と、
該走査により該２次電子検出器から得られる信号がＳＥＭ像として格納されるフレームメモリと、
該フレームメモリに格納されたＳＥＭ像の画素値を一軸上に投影加算し、その投影加算波形のエッジの傾斜を求める画像処理と、
該補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整するための補正信号調整装置と、
を有することを特徴とする電子ビーム装置。
上記補正信号調整装置は、上記エッジの傾斜の絶対値が最大になるように上記補正信号の周波数成分の位相及び振幅を調整する、
ことを特徴とする請求項９記載の電子ビーム装置。
上記ビーム制御装置は、上記電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射させ、
該電子ビームを試料上パターンエッジ部に照射したときに上記２次電子検出器から得られる２次電子検出波形のスペクトルを取得するスペクトルアナライザを有し、
上記補正信号調整装置は、上記補正信号の周波数成分の周波数を、該スペクトルアナライザで取得したスペクトルのピーク位置に一致させる、
ことを特徴とする請求項９又は１０記載の電子ビーム装置。