JP3758495B2 - アンテナ装置及びアンテナ装置の製造方法 - Google Patents

アンテナ装置及びアンテナ装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3758495B2
JP3758495B2 JP2000337656A JP2000337656A JP3758495B2 JP 3758495 B2 JP3758495 B2 JP 3758495B2 JP 2000337656 A JP2000337656 A JP 2000337656A JP 2000337656 A JP2000337656 A JP 2000337656A JP 3758495 B2 JP3758495 B2 JP 3758495B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
antenna device
substrate
conductor
antenna
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000337656A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001168624A (ja
Inventor
英一郎 広瀬
明和 豊田
良臣 郷
信智 酒井
博明 谷所
直人 北原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP2000337656A priority Critical patent/JP3758495B2/ja
Publication of JP2001168624A publication Critical patent/JP2001168624A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3758495B2 publication Critical patent/JP3758495B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、携帯型通信機器等に用いられるアンテナ装置、及びそのアンテナ装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
携帯電話等の通信機器には従来ヘリカルアンテナ等の線状アンテナが用いられれているが、これらは通信機の筐体の外部に取り付けられ、小型化の妨げになるとともに、外力がアンテナに作用することにより破損や変形、特性劣化等の問題を引き起こす危険性がある。また実装には同軸ケーブルやコネクタを介するため、部品点数が多くなり、実装コスト面で好ましくない。
【0003】
これを解決する方法として、特開平9−64627号公報には、図19に示すような、回路基板上に表面実装できる小型アンテナが提案されている。このアンテナは、セラミック多層基板の技術を利用して、ヘリカルアンテナをセラミック基体30の内部に形成したものである。即ち、異なるセラミック層にそれぞれ導体31を形成し、内側に導体を充填したスルーホール32で接続することにより、全体として螺旋状導体とし、セラミック層を積層することにより、螺旋状放射導体を内包したセラミックアンテナとしている。またその基体30の端面にはその螺旋状導体に給電するための端子33が形成されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、このような構造では、焼成前のセラミックシートに導体形成し、これを積層後焼成するので、焼成収縮等を考慮した設計が必要で、また収縮率を一定にするためには極めて精度の高いプロセス管理が要求され、製造コスト低減は難しい。
【0005】
仮に導体をすべて焼成済みのセラミック導体表面に形成したとしても、表面が平坦なセラミックブロックでは、少なくとも4つの面に、印刷法等精緻な導体形状制御が行なえる方法により導体形成を行なう必要があり、これもコスト低減の妨げになる。
【0006】
本発明は上記事情に鑑み、製造コストの低減が図られたアンテナ装置、及びそのアンテナ装置の製造方法を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する本発明のアンテナ装置は、
上下面を有するとともに、凹部と凸部が交互に形成された一対の側面を有する、誘電体と磁性体のうちの少なくとも一方からなる基体と、
基体の上下面、および基体の上記一対の側面の凸部に形成され、全体として基体を螺旋状に取り巻く螺旋導体層とを備えたことを特徴とする。
【0008】
ここで、上記本発明のアンテナ装置において、上記側面の凸部の少なくとも1個が、螺旋導体層に給電するための端子であることが好ましい。
【0009】
また、上記本発明のアンテナ装置において、上記基体上に形成された螺旋導体層の少なくとも一部を覆う、誘電体と磁性体のうちの少なくとも一方からなる層を有するものであることが好ましい。
【0010】
本発明のアンテナ装置は、セラミック基体表面に螺旋状放射導体を形成したヘリカルアンテナであって、基体上下面の導体層は印刷法によって行なうことができる。また、側面凸部に導体層を形成する場合は、ディップ法やロールコータによる塗布法等高速に電極塗布が行なえる方法で凸部にだけ電極を形成することができる。特に凸部に電極を形成する場合にロールコータを適用すると印刷と比べ量産性に優れている。また凸部に電極を形成すると実装時において凸部の電極の接続にはんだを用いてもはんだブリッジしにくいという利点もある。このように、本発明によれば、大量生産が容易で、製造コストを大幅に低減できる。
【0011】
また、導体を形成した側面凸部はそのまま端子電極として利用できるので、表面実装アンテナが容易に製造できる。
【0012】
また、上記目的を達成する本発明のアンテナ装置の製造方法は、
基板にスナップラインを設けておく第1の工程と、
上記スナップライン上の所望の場所にスルーホールを設けておく第2の工程と、
上記基板の上面と下面それぞれに導体ペーストを焼成することにより所定の導体パターンを形成する第3の工程と、
上記導体パターンが形成された基板を、上記スルーホールが形成されたスナップラインに沿って分割する第4の工程と、
導体ペーストに、上記第4の工程において分割したことでスルーホールにより形成された凸部を浸漬し、凸部の先端のみ導体ペーストを塗布、乾燥、焼成する第5の工程と、
上記スルーホールが形成されたスナップラインとは別のスナップラインで最小単位に分割する第6の工程と
を有することを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
【0014】
図1は、本発明のアンテナ装置の第1実施形態の斜視図である。
【0015】
このアンテナ装置1の基体2は上面21、下面22、および凹部231と凸部232が交互に形成された一対の側面23を有する。またこの基体2の上面21には、一対の側面23の対応する凸部232どうしを結ぶ導体層3が形成され、基体2の下面22には、一対の側面23の、1つずれた凸部232どうしを結ぶ導体層4が形成され、さらに一対の側面23の凸部232にも導体層5が形成され、これらの導体層3,4,5は全体として基体2を螺旋状に取り巻く螺旋導体層となっている。
【0016】
ここで基体2は高周波帯において比誘電率(εr)、比透磁率(μr)が安定し、低損失で、共振周波数の温度係数(τf)の小さなものが好ましい。本例ではアルミナ系セラミックス(2GHzにおいてεr=8.5、Q=1000、τf=38ppm/℃)を用いた。導体は銅、銀、金、ニッケル等導体抵抗の低いものが好ましい。ここでは銀−白金ペースト(Dupont社QS−171)を用いた。
【0017】
図1に示すアンテナ装置1の製造工程を示す図2〜図5を参照しながら本発明のアンテナ装置の製造方法の第1実施形態について述べる。図2に示すようなアルミナ基板9を用意する。このアルミナ基板9には、後工程で所望のサイズに分割できるようにスナップライン10を設けておく。また、スナップライン上の所望の場所にスルーホール11を設けておく。ここでは50mm×50mm、厚さ1mmのアルミナ基板にスナップライン10は縦方向5mm間隔、横方向10mm間隔、スルーホール11は0.8φのものを、横方向のスナップライン上に2mm間隔で配置した。
【0018】
次にこのアルミナ基板9の上面91,下面92に、それぞれ図3(A),図3(B)のように導体パターン12,13を形成した。形成方法は、導体ペーストをスクリーン印刷して、乾燥後850℃で焼成した。
【0019】
次に、上下導体形成後のアルミナ基板9を、スルーホールが形成されたスナップラインに沿って図4のように分割した。そして、予め導体ペースト15をガラス板等の平板14上に、スキージ等を用いて厚さ0.2mm程度に伸ばしておき、その導体ペースト15に、先ほどのアルミナ基板の、スルーホールにより形成された凸部を浸漬し、凸部の先端のみ導体ペースト15を塗布、乾燥、焼成した。
【0020】
最後に図5のように、スナップラインで最小単位に分割することにより、アンテナ装置1を得た。このように、この構造のアンテナでは、一度に多数製造することが可能であり、製造コスト低減の効果が大きい。
【0021】
尚、上記実施形態については、アルミナ基板9を分割する前あるいは分割した後においてそのアルミナ基板上に形成した導体層の上にアルミナ基板9と同質の層を形成してもよい。こうすることにより同一の波長帯域送受信用のアンテナに関しさらに小型化を図ることができる。
【0022】
次に、上記のように製造した図1に示すアンテナ装置の性能について述べる。
【0023】
このアンテナ装置1を、図6のように25×50mm、厚さ0.8mmの評価基板上に搭載した。この評価基板は、絶縁基板16の表面にストリップライン17、裏面にグランド面18が形成され、一端に備えられたSMAコネクタ19からストッリプライン17を経由して他端に搭載したアンテナ装置1に電力を供給するものである。
【0024】
このときの反射損失−周波数特性を図7に示す。共振周波数2448MHz、反射損失が−6dB以下となる帯域幅は133MHzであった。
【0025】
また、図6におけるZX面の放射パターンを図8に示す。放射利得は、この面においてほぼ等方性となり、最大利得は−0.7dBi、最小利得はー2.3dBiであった。
【0026】
図9は、本発明のアンテナ装置の第2実施形態の斜視図である。
【0027】
このアンテナ装置1の基体2は上面21、下面22、および凹部231と凸部232が交互に形成された一対の側面23を有する。またこの基体2の上面21には、一対の側面23の対応する凸部232どうしを結ぶ導体層3が形成され、基体2の下面22には、一対の側面23の、1つずれた凸部232どうしを結ぶ導体層4が形成され、さらに一対の側面23の凸部232にも導体層5が形成され、これらの導体層3,4,5は全体として基体2を螺旋状に取り巻く螺旋導体層となっている。
【0028】
ここで、一対の側面23のうちの一方の側面23aの導体層5のうちの、全体として螺旋状に取り巻く螺旋導体層を構成している一番端の1つが給電電極5aであり、さらにその給電電極5aに隣接した位置に、螺旋導体層からは外れたグランド電極6aが形成され、さらに、螺旋導体層とグランド電極6aとを基体の上面を経由して接続する接続導体6bが形成されている。
【0029】
ここで基体2は高周波帯において比誘電率(εr)、比透磁率(μr)が安定し、低損失で、共振周波数の温度係数(τf)の小さなものが好ましい。本例ではアルミナ系セラミックス(2GHzにおいてεr=8.5、Q=1000、τf=38ppm/℃)を用いた。導体は銅、銀、金、ニッケル等導体抵抗の低いものが好ましい。ここでは銀−白金ペースト(Dupont社QS−171)を用いた。
【0030】
図9に示すアンテナ装置1の製造工程を示す図10〜図14を参照しながら本発明のアンテナ装置の製造方法の第2実施形態を述べる。図10に示すようなアルミナ基板9を用意する。このアルミナ基板9には、後工程で所望のサイズに分割できるようにスナップライン10を設けておく。また、スナップライン上の所望の場所にスルーホール11を設けておく。ここでは50mm×50mm、厚さ1mmのアルミナ基板にスナップライン10は縦方向5mm間隔、横方向10mm間隔、スルーホール11は0.8φのものを、横方向のスナップライン上に2mm間隔で配置した。
【0031】
次にこのアルミナ基板9の上面91,下面92に、それぞれ図11,図12のように導体パターン12,13を形成した。形成方法は、導体ペーストをスクリーン印刷して、乾燥後850℃で焼成した。
【0032】
次に、上下導体形成後のアルミナ基板9を、スルーホールが形成されたスナップラインに沿って図13のように分割した。そして、予め導体ペースト15をガラス板等の平板14上に、スキージ等を用いて厚さ0.2mm程度に伸ばしておき、その導体ペースト15に、先ほどのアルミナ基板の、スルーホールにより形成された凸部を浸漬し、凸部の先端のみ導体ペースト15を塗布、乾燥、焼成した。
【0033】
最後に図14のように、スナップラインで最小単位に分割することにより、アンテナ装置1を得た。このように、この構造のアンテナでは、一度に多数製造することが可能であり、製造コスト低減の効果が大きい。
【0034】
図15は、本発明のアンテナ装置の第3実施形態の斜視図である。図9に示す第2実施形態との相違点について説明する。図9に示す第2実施形態では、グランド電極6aは、基板を全体として螺旋状に取り巻く導体層と、接続導体6bを経由して、基体上面で接続されているが、図15に示す第3実施形態では、接続導体6bを経由して、グランド電極6aが形成された側面23aとは反対側の側面23bで接続されている。
【0035】
図16は、本発明のアンテナ装置の第4実施形態の斜視図である。
【0036】
この図16に示す第4実施形態では、基板を全体として螺旋状に取り巻く螺旋導体層のうちの、一方の側面23aに配列された複数の導体膜5のうちの、一番端の導体膜をグランド電極5b、それに隣接する導体膜を給電電極5aとし、このグランド電極5bがグランド導体を兼ねている。
【0037】
図17は、アンテナ装置のもう1つの例を示す斜視図である。
【0038】
この図17に示すアンテナ装置は、本発明のアンテナ装置の比較例である。
【0039】
この図17に示すアンテナ装置では、グランド電極6aは、接続導体6bにより、基体上面を経由し、グランド電極6aが形成された側面23aとは反対側の側面23bを経由し、さらに基体下面を経由して、基体を全体として螺旋状に取り巻く螺旋導体層に接続されている。
【0040】
次に、上記のように製造したアンテナ装置の性能について述べる。
【0041】
このアンテナ装置1を、図18のように25×50mm、厚さ0.8mmの評価基板上に搭載した。この評価基板は、絶縁基板16の表面にストリップライン17、裏面にグランド面18が形成され、一端に備えられたSMAコネクタ19からストッリプライン17を経由して他端に搭載したアンテナ装置1に電力を供給するものである。
【0042】
表1は、上記のようにして測定した結果を示すものである。「ばらつき3σ値」は、同じ仕様のアンテナ装置を多数製造したときの共振周波数のばらつきの3σ値を表わす。
【0043】
【表1】
Figure 0003758495
【0044】
この表1からわかるように、実施例1〜3では、比較例と比べ、ばらつきが抑えられている。
【0045】
以上の結果から、本発明によるアンテナ装置は、携帯通信機用アンテナとして十分な性能を有しているといえる。
【0046】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のアンテナ装置によれば、誘電体基体表面に螺旋状放射導体を形成したヘリカルアンテナにおいて、基体側面に設けた凸部に導体を形成し、上下面に形成した導体を接続して螺旋状放射導体とすることにより、量産が容易で、携帯通信端末に最適な表面実装型アンテナを供給できる。また、本発明のアンテナ装置の製造方法によれば、量産が容易で、携帯通信端末に最適な表面実装型アンテナを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のアンテナ装置の第1実施形態の斜視図である。
【図2】図1に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示す図である。
【図3】図1に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示す図である。
【図4】図1に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示す図である。
【図5】図1に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示す図である。
【図6】アンテナ装置の評価方法の説明図である。
【図7】アンテナ装置の反射損失−周波数特性を示す図である。
【図8】図6におけるZX面の放射パターンを示す図である。
【図9】本発明のアンテナ装置の第2実施形態の斜視図である。
【図10】図9に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示すである。
【図11】図9に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示すである。
【図12】図9に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示すである。
【図13】図9に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示すである。
【図14】図9に示すアンテナ装置の製造工程の途中段階を示すである。
【図15】本発明のアンテナ装置の第3実施形態の斜視図である。
【図16】本発明のアンテナ装置の第4実施形態の斜視図である。
【図17】アンテナ装置のもう1つの例を示す斜視図である。
【図18】アンテナ装置の評価方法の説明図である。
【図19】回路基板上に表面実装できる従来の小型アンテナの模式図である。
【符号の説明】
1 アンテナ装置
2 基体
3,4,5 導体層
5a 給電電極
6a 接地電極
6b 接続導体層
9 アルミナ基板
10 スナップライン
11 スルーホール
12,13 導体パターン
14 平板
15 導体ペースト
16 絶縁基板
17 ストリップライン
18 グランド面
19 SMAコネクタ
21 上面
22 下面
23 側面
91 上面
92 下面
231 凹部
232 凸部

Claims (4)

  1. 上下面を有するとともに、凹部と凸部が交互に形成された一対の側面を有する、誘電体と磁性体のうちの少なくとも一方からなる基体と、
    前記基体の上下面、および該基体の前記一対の側面の凸部に形成され、全体として該基体を螺旋状に取り巻く螺旋導体層とを備えたことを特徴とするアンテナ装置。
  2. 前記側面の凸部の少なくとも1個が、前記螺旋導体層に給電するための給電電極であることを特徴とする請求項1記載のアンテナ装置。
  3. 前記基体上に形成された螺旋導体層の少なくとも一部を覆う、誘電体と磁性体のうちの少なくとも一方からなる層を有することを特徴とする請求項1又は2記載のアンテナ装置。
  4. 基板にスナップラインを設けておく第1の工程と、
    前記スナップライン上の所望の場所にスルーホールを設けておく第2の工程と、
    前記基板の上面と下面それぞれに導体ペーストを焼成することにより所定の導体パターンを形成する第3の工程と、
    前記導体パターンが形成された基板を、前記スルーホールが形成されたスナップラインに沿って分割する第4の工程と、
    導体ペーストに、前記第4の工程において分割したことでスルーホールにより形成された凸部を浸漬し、凸部の先端のみ導体ペーストを塗布、乾燥、焼成する第5の工程と、
    前記スルーホールが形成されたスナップラインとは別のスナップラインで最小単位に分割する第6の工程と
    を有することを特徴とするアンテナ装置の製造方法。
JP2000337656A 1999-02-25 2000-11-06 アンテナ装置及びアンテナ装置の製造方法 Expired - Lifetime JP3758495B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000337656A JP3758495B2 (ja) 1999-02-25 2000-11-06 アンテナ装置及びアンテナ装置の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11-48679 1999-02-25
JP4867999 1999-02-25
JP2000337656A JP3758495B2 (ja) 1999-02-25 2000-11-06 アンテナ装置及びアンテナ装置の製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000027222A Division JP3178469B2 (ja) 1999-02-25 2000-01-31 アンテナ装置およびアンテナ装置組立体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001168624A JP2001168624A (ja) 2001-06-22
JP3758495B2 true JP3758495B2 (ja) 2006-03-22

Family

ID=26388983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000337656A Expired - Lifetime JP3758495B2 (ja) 1999-02-25 2000-11-06 アンテナ装置及びアンテナ装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3758495B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008001899A1 (fr) 2006-06-29 2008-01-03 Mitsubishi Materials Corporation Dispositif d'antenne

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102208712A (zh) * 2010-06-25 2011-10-05 无锡中科龙泽信息科技有限公司 用于MicroSD型无线网卡的天线及MicroSD型无线网卡
JP5712885B2 (ja) * 2011-09-29 2015-05-07 三菱マテリアル株式会社 アンテナ装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008001899A1 (fr) 2006-06-29 2008-01-03 Mitsubishi Materials Corporation Dispositif d'antenne
US7982682B2 (en) 2006-06-29 2011-07-19 Mitsubishi Materials Corporation Antenna apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001168624A (ja) 2001-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3296276B2 (ja) チップアンテナ
JP4284252B2 (ja) 表面実装型アンテナおよびそれを用いたアンテナ装置ならびに無線通信装置
JP2000022421A (ja) チップアンテナ及びそれを搭載した無線機器
JP3159084B2 (ja) 表面実装型アンテナおよびこれを用いた通信機
US7136021B2 (en) Ceramic chip antenna
JPH05259724A (ja) プリントアンテナ
CN100424928C (zh) 小型天线、表面安装型天线、天线装置和无线通信装置
JP2002330018A (ja) ミアンダ型アンテナおよびその共振周波数調整方法
EP1122810B1 (en) Antenna device
CN100418268C (zh) 表面安装型天线、天线设备及无线电通信设备
JP3758495B2 (ja) アンテナ装置及びアンテナ装置の製造方法
US20030222822A1 (en) Ceramic chip antenna
KR100372869B1 (ko) 판형 헬리컬 안테나
CN112821050A (zh) 天线组件及电子设备
JPH05160635A (ja) アクティブフェイズドアレイアンテナ
JP3178469B2 (ja) アンテナ装置およびアンテナ装置組立体
JP2000278036A (ja) 積層チップアンテナ
US20200083594A1 (en) Antenna assembly
JP2006121189A (ja) 板状広帯域アンテナ
JP2001077612A (ja) Rfユニット
JPH11205025A (ja) チップアンテナ
JP4041444B2 (ja) アンテナ一体型高周波素子収納用パッケージおよびアンテナ装置
JP2000165127A (ja) 薄型平面アンテナ
JPH11298222A (ja) チップアンテナ
KR200234973Y1 (ko) 판형 헬리컬 안테나

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040329

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051213

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051226

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3758495

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090113

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100113

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100113

Year of fee payment: 4

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100113

Year of fee payment: 4

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110113

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120113

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130113

Year of fee payment: 7

EXPY Cancellation because of completion of term