JP3754164B2 - Sample inspection equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体ウエハを露光するためのフォトマスク等の試料の検査に際し、この試料に対する焦点の合ったところを検出して試料を検査する試料検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図4はフォトマスク等の試料に対する検査装置の構成図である。
レーザ光源1から出力されるレーザ光の光路上には、照明光学系2としての拡散板3及び各光学レンズ4〜6が配置されている。なお、光学レンズ4により各光源像7が形成される。
【0003】
この照明光学系2は、レーザ光源1から出力されたレーザ光をフォトマスク等の試料8に照射する。
この試料8は、試料ステージ9上に載置され、この試料ステージ9の駆動によりレーザ光の光軸方向に対して垂直方向に移動するものとなっている。
【0004】
このようにレーザ光の照射された試料8の像は、対物レンズ10及び結像レンズ11から成る結像光学系12によりCCDラインセンサ13上に結像する。
なお、試料8を試料ステージ9の駆動し、試料8の像がCCDラインセンサ13の各素子の並びと垂直な方向に走査されるようにし、試料8に対する2次元の画像を得る。
【0005】
画像処理装置14は、CCDラインセンサ13により撮像された試料8の2次元画像データを処理して試料8の検査を行う。
このような検査装置でピントの合った画像を得るために焦点検出が行われている。
【0006】
すなわち、レーザ光源20が設けられ、このレーザ光源20から出力される検出用のレーザ光を結像光学系12内に配置されたミラー21で反射し、対物レンズ10を通して試料8に照射する。
【0007】
この試料8で反射したレーザ光を、再び対物レンズ10、ミラー21を通して戻し、ハーフミラー22で反射してセンサ23に導く。
そして、このセンサ23での受光量が最も高くなるところを画像のピントの合ったところとして検出し、これに応じて結像光学系12やCCDラインセンサ13の位置を決めている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記焦点検出系では、試料8に対する検査系と全く別の光学系となっているため、例えば機械振動や空気の擾乱により、検査系の焦点と焦点検出系の焦点位置とが別々に変動を起こし、焦点検出系で得られた焦点情報により検査系をオートフォーカスしても、CCDラインセンサ13で得られる2次元画像に焦点ぼけが生じる。
【0010】
本発明は、機械振動や空気の擾乱などの影響を受けずに検査系の焦点を正確に検出して、焦点位置を常に安定して最適な状態に保って安定度の高い検査ができる試料検査装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光源から出力された照明光を照明光学系に通して試料に照射し、試料を透過した試料像を結像光学系に通して検査用センサに結像し、検査用センサから出力される画像信号に基づいて試料の検査を行う試料検査装置において、光源から出力された照明光の一部を検出用光として分岐し、検出用光を結像光学系に通して試料に照射する入射光学系と、検査用センサを保持し、かつ開口部が形成されたセンサ基板と、検査用センサの近傍に配置され、試料で反射して結像光学系により結像された検出用光を開口部に通して受光し、この受光量に応じた信号を出力するフォーカス用センサと、試料と共焦点の関係にあり、結像光学系により結像される検出用光を通過させてフォーカス用センサに入射させる微小なピンホールと、フォーカス用センサから出力される信号を入力し、フォーカス用センサの受光量が最も高くなるところを結像光学系による試料像のピントの合ったところとして検出する検出手段とを備えた試料検査装置である。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第1の実施の形態について図面を参照して説明する。
図1はフォトマスク等の試料に対する検査装置の構成図である。
レーザ光源1から出力されるレーザ光の光路上には、レーザ光源1から出力されたレーザ光をフォトマスク等の試料8に照射する照明光学系2として拡散板3及び各光学レンズ4〜6が配置されている。
【0020】
試料8は、試料ステージ9上に載置され、この試料ステージ9の駆動によりレーザ光の光軸方向に対して垂直方向に移動するものとなっている。
又、試料8を透過した試料8の像の光路上には、結像光学系12として対物レンズ10及び結像レンズ11が配置されている。
【0021】
そして、この結像光学系12の結像位置には、CCDラインセンサ13が配置されている。このCCDラインセンサ13は、結像された試料8の画像信号を出力するもので、この画像信号は画像処理装置14に送られている。
【0022】
この画像処理装置14は、CCDラインセンサ13により撮像された試料8の2次元画像データを処理して試料8の検査を行う機能を有している。
一方、この検査装置には、ピントの合った画像を得るために焦点検出系が備えられている。
【0023】
入射光学系30は、試料8に対する照明光と同一波長の検出用光を結像光学系12を通して試料8に照射するものである。
この入射光学系30の具体的な構成は、レーザ光源1から出力されるレーザ光の光路上に第1のハーフミラー31が配置されている。
【0024】
この第1のハーフミラー31は、レーザ光源1から出力されるレーザ光の一部を検出用光(以下、検出用レーザ光と称する)として分岐するものである。
この第1のハーフミラー31の分岐光路上には、光学レンズ32を介して光ファイバー33の一端が配置されている。
【0025】
この光ファイバー33は、レーザ光源1から出力されて分岐された検出用レーザ光を検査装置の結像光学系12の近傍、すなわち結像光学系12を構成する対物レンズ10と結像レンズ11との間まで導くものである。
【0026】
この光ファイバー33の他端から出射される検出用レーザ光の光路上には、焦点検出投光光学系34が配置されている。
この焦点検出投光光学系34は、光ファイバー33により導かれた検出用レーザ光を平行光に変換して対物レンズ10と結像レンズ11との間に送るものである。
【0027】
これら対物レンズ10と結像レンズ11との間には、第2のハーフミラー35が配置されており、この第2のハーフミラー35は、焦点検出投光光学系34により平行光に変換された検出用レーザ光を対物レンズ10を通して試料8に照射するものである。
【0028】
そして、検出用レーザ光を対物レンズ10を通して試料8に照射され、その反射検出用レーザ光の結像光学系12による結像位置は、CCDラインセンサ13の近傍に設定されている。
【0029】
この反射検出用レーザ光の結像光学系12による結像位置には、フォーカス用センサ36が配置されている。
このフォーカス用センサ36は、試料8で反射して結像光学系12により結像された検出用レーザ光を受光し、その受光量に応じた電気信号を出力する機能を有している。
【0030】
このフォーカス用センサ36の配置位置は、図2に具体的に示すようにCCDラインセンサ13の近傍で、かつこのCCDラインセンサ13を保持するセンサ基板37に開口部38を形成し、この開口部38の結像光学系12側に微小なピンホール39を取り付け、かつその反対側にフォーカス用センサ36を配置したものとなっている。
【0031】
ここで、ピンホール39の光軸方向の高さ位置は、CCDラインセンサ13の光電面と略同一高さ位置となっている。
又、試料8とピンホール39とは、共焦点の関係にあり、これによりフォーカス用センサ36での受光量が最も高くなるところが試料8の像のピントが最も合ったところとなる。
【0032】
このフォーカス用センサ36の配置位置は、平面から見ると、図3に示すようにCCDラインセンサ13の長手方向を直径とする円の内側となっている。
検出装置40は、フォーカス用センサ36から出力される電気信号を入力し、フォーカス用センサ36の受光量が最も高くなるところを試料8の像のピントの合ったところとして検出する機能を有している。
【0033】
なお、この検出装置40の機能は、画像処理装置14内に備えるようにしてもよい。
次に上記の如く構成された装置の作用について説明する。
【0034】
レーザ光源1から出力されたレーザ光は、第1のハーフミラー31を透過して照明光学系2に入り、この照明光学系2の拡散板3及び各光学レンズ4〜6を通して試料ステージ9上の試料8に照射される。
【0035】
このようにレーザ光の照射されたときの試料8の像は、対物レンズ10及び結像レンズ11から成る結像光学系12によりCCDラインセンサ13上に結像する。
【0036】
このとき試料8は、試料ステージ9上に載置され、この試料ステージ9の駆動によりレーザ光の光軸方向に対して垂直方向に移動する。
すなわち、試料8を試料ステージ9の駆動し、試料8の像がCCDラインセンサ13の各素子の並びと垂直な方向に走査されるようにし、試料8に対する2次元の画像を得る。
【0037】
画像処理装置14は、CCDラインセンサ13により撮像された試料8の2次元画像データを処理して試料8の検査を行う。
このような検査装置でピントの合った画像を得るために焦点検出が行われている。
【0038】
すなわち、レーザ光源1から出力されたレーザ光の一部は、第1のハーフミラー31により検出用レーザ光として分岐される。
この検出用レーザ光は、光学レンズ32を通して光ファイバー33の一端に入射し、この光ファイバー33内を伝搬し、結像光学系12を構成する対物レンズ10と結像レンズ11との間まで導かれる。
【0039】
この光ファイバー33の他端から出射される検出用レーザ光は、焦点検出投光光学系34により平行光に変換され、対物レンズ10と結像レンズ11との間に配置された第2のハーフミラー35に送られる。
【0040】
そして、検出用レーザ光は、第2のハーフミラー35で反射し、対物レンズ10を通して試料8に照射される。
この試料で反射した検出用レーザ光は、再び対物レンズ10から第2のハーフミラー35を通り、さらに結像レンズ11を通ってCCDラインセンサ13の近傍に結像する。
【0041】
そして、この検出用レーザ光は、図2に示すように微小なピンホール39を通り、さらにセンサ基板37に形成された開口部38を通ってフォーカス用センサ36に入射する。
【0042】
このフォーカス用センサ36は、試料8で反射して結像光学系12により結像された検出用レーザ光を受光し、その受光量に応じた電気信号を出力する。
検出装置40は、フォーカス用センサ36から出力される電気信号を入力し、フォーカス用センサ36の受光量が最も高くなるところを試料8の像のピントの最も合ったところとして検出する。
【0043】
このように上記一実施の形態においては、レーザ光源1からのレーザ光で照明された試料8からの像を結像光学系12を通してCCDラインセンサ13に結像し、その画像信号に基づいて試料8の検査を行う場合、試料8を照明するレーザ光の一部を検出用レーザ光として光ファイバー33により焦点検出投光光学系34に導き、ここで検出用光を平行光に変換し、この検出用光を結像光学系12内に配置された第2のハーフミラー35で反射して対物レンズ10を通して試料8に照射し、この試料8で反射した検出用レーザ光を結像光学系12により結像し、それをフォーカス用センサ36で受光し、その受光量が最も高くなるところを試料8の像のピントの最もたったところとして検出するので、焦点検出での検出用レーザ光を試料8を照明するレーザ光の波長と同一にでき、かつ試料8からの反射検出用レーザ光を試料8の像を得る光路と同一の結像光学系12を通すことができ、これにより焦点検出系と試料8の検査系とを共通して使用することができ、例えば機械振動や空気の擾乱、又、温度、気圧等の変動が生じても、同一条件で焦点検出と検査とができ、CCDラインセンサ13で得られる2次元画像に焦点ぼけが生じることはない。
【0044】
すなわち、機械振動や空気の擾乱、温度、気圧等の変動が焦点検出系と試料8の検査系とに対して同様に作用するので、焦点位置の変化も同様に変化するからである。
【0045】
従って、機械振動や空気の擾乱などの影響を受けずに検査系の焦点を正確に検出でき、焦点位置を常に安定して最適な状態に保つことができ、安定度の高い試料8の検査ができる。
【0046】
なお、本発明は、上記一実施の形態に限定されるものでなく次の通り変形してもよい。
例えば、試料8の検査は、試料8の透過画像により検査に限らず、試料8の反射光による画像等の焦点検出が必要な検査装置の全般に適用してもよい。
【0047】
又、レーザ光源1から出力されるレーザ光と同一波長のレーザ光を出力する検出用のレーザ光源を別途設け、このレーザ光源から出力されるレーザ光を焦点検出投光光学系34から第2のハーフミラー35、対物レンズを通して試料8に照射してもよい。
【0049】
【発明の効果】
以上詳記したように本発明によれば、同一条件で焦点検出と試料の検査とができ、かつ機械振動や空気の擾乱などの影響を受けずに検査系の焦点を正確に検出して、焦点位置を常に安定して最適な状態に保って安定度の高い検査ができる試料検査装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる焦点検出装置を適用した試料に対する検出装置の一実施の形態を示す構成図。
【図2】フォーカス用センサの配置位置を示す図。
【図3】フォーカス用センサの配置位置を平面的に見た示す図。
【図4】従来のフォトマスク等の試料に対する検査装置の構成図。
【符号の説明】
1…レーザ光源、
2…照明光学系、
8…試料、
12…結像光学系、
10…対物レンズ、
11…結像レンズ、
13…CCDラインセンサ、
14…画像処理装置、
30…入射光学系、
31…第1のハーフミラー、
33…光ファイバー、
34…焦点検出投光光学系、
35…第2のハーフミラー、
36…フォーカス用センサ、
40…検出装置。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a sample inspection apparatus for inspecting a sample by detecting a focused position on the sample, for example, when inspecting a sample such as a photomask for exposing a semiconductor wafer.
[0002]
[Prior art]
FIG. 4 is a configuration diagram of an inspection apparatus for a sample such as a photomask.
On the optical path of laser light output from the laser light source 1, a
[0003]
The illumination
The
[0004]
Thus, the image of the
The
[0005]
The
In order to obtain an in-focus image with such an inspection apparatus, focus detection is performed.
[0006]
That is, a
[0007]
The laser beam reflected by the
Then, the position where the amount of light received by the
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the focus detection system is an optical system that is completely different from the inspection system for the
[0010]
The present invention accurately detects the focal point of an inspection system without being affected by mechanical vibrations or air disturbances, and maintains a stable and optimum state of the focal point so that a highly stable inspection can be performed. An object is to provide an apparatus .
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The present invention irradiates a sample with illumination light output from a light source through an illumination optical system, forms an image of the sample transmitted through the sample through an imaging optical system, forms an image on an inspection sensor, and outputs the image from the inspection sensor. in the sample inspection apparatus for inspecting the sample based on an image signal, branches a part of the illumination light output from the light source as the detection light is irradiated to the sample through the detection light to the imaging optical system An incident optical system, a sensor substrate holding an inspection sensor and having an opening formed therein, and a detection light arranged near the inspection sensor and reflected by the sample and imaged by the imaging optical system A focusing sensor that receives light through the aperture and outputs a signal corresponding to the amount of light received, and has a confocal relationship with the sample, passes the detection light imaged by the imaging optical system, and is used for focusing Small pinholes that enter the sensor and focus Receives the signal outputted from the use sensor, is sample inspection apparatus equipped with a detector for detecting a place where the amount of light received by the focusing sensor is the highest as the place in focus of the sample image by the imaging optical system .
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a configuration diagram of an inspection apparatus for a sample such as a photomask.
On the optical path of the laser light output from the laser light source 1, a
[0020]
The
In addition, an
[0021]
A
[0022]
The
On the other hand, this inspection apparatus is provided with a focus detection system in order to obtain a focused image.
[0023]
The incident optical system 30 irradiates the
The specific configuration of the incident optical system 30 is such that the first half mirror 31 is disposed on the optical path of the laser light output from the laser light source 1.
[0024]
The first half mirror 31 branches a part of the laser light output from the laser light source 1 as detection light (hereinafter referred to as detection laser light).
One end of an
[0025]
The
[0026]
A focus detection light projecting
The focus detection light projecting
[0027]
A second half mirror 35 is disposed between the
[0028]
Then, the
[0029]
A
The
[0030]
As shown in FIG. 2 in detail, the focusing
[0031]
Here, the height position of the
Further, the
[0032]
When viewed from the plane, the arrangement position of the
The
[0033]
The function of the
Next, the operation of the apparatus configured as described above will be described.
[0034]
The laser light output from the laser light source 1 passes through the first half mirror 31 and enters the illumination
[0035]
In this way, the image of the
[0036]
At this time, the
That is, the
[0037]
The
In order to obtain an in-focus image with such an inspection apparatus, focus detection is performed.
[0038]
That is, a part of the laser light output from the laser light source 1 is branched as detection laser light by the first half mirror 31.
The detection laser light is incident on one end of the
[0039]
The detection laser light emitted from the other end of the
[0040]
Then, the detection laser light is reflected by the second half mirror 35 and irradiated onto the
The detection laser light reflected by this sample passes through the second half mirror 35 from the
[0041]
The detection laser light passes through a
[0042]
The
The
[0043]
As described above, in the above embodiment, an image from the
[0044]
That is, since changes in mechanical vibration, air disturbance, temperature, atmospheric pressure and the like act on the focus detection system and the inspection system of the
[0045]
Therefore, the focus of the inspection system can be accurately detected without being affected by mechanical vibrations or air disturbances, the focus position can always be kept stable and in an optimal state, and a highly
[0046]
In addition, this invention is not limited to the said one Embodiment, You may deform | transform as follows.
For example, the inspection of the
[0047]
A laser light source for detection that outputs laser light having the same wavelength as the laser light output from the laser light source 1 is separately provided, and the laser light output from the laser light source is sent from the focus detection light projecting
[0049]
【The invention's effect】
As described in detail above , according to the present invention , focus detection and sample inspection can be performed under the same conditions, and the focus of the inspection system can be accurately detected without being affected by mechanical vibration or air disturbance, It is possible to provide a sample inspection apparatus capable of performing a highly stable inspection while keeping the focal position always stable and in an optimum state.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a detection apparatus for a sample to which a focus detection apparatus according to the present invention is applied.
FIG. 2 is a diagram illustrating a position where a focus sensor is disposed.
FIG. 3 is a diagram showing the arrangement position of a focus sensor in a plan view.
FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional inspection apparatus for a sample such as a photomask.
[Explanation of symbols]
1 ... Laser light source,
2 ... Illumination optics,
8 ... Sample,
12: Imaging optical system,
10 ... objective lens,
11 ... Imaging lens,
13. CCD line sensor,
14 ... Image processing device,
30: Incident optical system,
31 ... first half mirror,
33 ... Optical fiber,
34: Focus detection and projection optical system,
35 ... Second half mirror,
36 ... Focus sensor,
40: Detection device.
Claims (2)
前記光源から出力された前記照明光の一部を検出用光として分岐し、前記検出用光を前記結像光学系に通して前記試料に照射する入射光学系と、
前記検査用センサを保持し、かつ開口部が形成されたセンサ基板と、
前記検査用センサの近傍に配置され、前記試料で反射して前記結像光学系により結像された前記検出用光を前記開口部に通して受光し、この受光量に応じた信号を出力するフォーカス用センサと、
前記試料と共焦点の関係にあり、前記結像光学系により結像される前記検出用光を通過させて前記フォーカス用センサに入射させる微小なピンホールと、
前記フォーカス用センサから出力される信号を入力し、前記フォーカス用センサの前記受光量が最も高くなるところを前記結像光学系による前記試料像のピントの合ったところとして検出する検出手段と、
を具備したことを特徴とする試料検査装置。 Illumination light output from the light source passes through the illumination optical system to irradiate the sample, the sample image transmitted through the sample passes through the imaging optical system, forms an image on the inspection sensor, and is output from the inspection sensor. In a sample inspection apparatus that inspects the sample based on an image signal ,
Tap a portion of the illumination light output from the light source as the detection light, an incident optical system for irradiating the sample through the detection light to the imaging optical system,
A sensor substrate holding the inspection sensor and having an opening formed thereon;
The detection light, which is arranged in the vicinity of the inspection sensor, is reflected by the sample and imaged by the imaging optical system, is received through the opening, and a signal corresponding to the received light amount is output. A focus sensor;
A small pinhole that is in a confocal relationship with the sample and allows the detection light imaged by the imaging optical system to pass through and enter the focus sensor;
A detection means for inputting a signal output from the focus sensor and detecting the point at which the received light amount of the focus sensor is the highest as the focus of the sample image by the imaging optical system ;
A sample inspection apparatus comprising:
前記第1のハーフミラーにより分岐された前記検出用光を導く光ファイバーと、
前記光ファイバーにより導かれた前記検出用光を平行光に変換する焦点検出投光系と、
前記結像光学系内に配置され、前記焦点検出投光系により平行光に変換された前記検出用光を前記結像光学系の対物レンズを通して前記試料に照射する第2のハーフミラーと、
を有することを特徴とする請求項1記載の試料検査装置。The incident optical system includes: a first half mirror that branches a part of the illumination light output from the light source as detection light;
An optical fiber for guiding the detection light branched by the first half mirror ;
And the focus detection light projecting system for converting the parallel light the detection light guided by said optical fiber,
Disposed within said imaging optical system, a second half mirror for irradiating the detection light converted into parallel light by the focus detection light projection system to the sample through the imaging optical system of the objective lens,
The sample inspection apparatus according to claim 1, further comprising:
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