JP3739830B2 - Chip-shaped electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、チップ抵抗器やチップコンデンサなどのチップ状電子部品およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年の電子機器の軽薄短小化に対する要求がますます増大していく中、回路基板の配線密度を高めるため、電子部品には非常に小型な電子部品が多く用いられるようになってきた。
【0003】
従来のチップ状電子部品のうち角形チップ抵抗器の構造の一例を示し説明する。図7は斜視図、図8は断面図である。
【0004】
従来の角形チップ抵抗器は96%アルミナ基板10と、このアルミナ基板10上に形成された一対の銀系サーメット厚膜電極による一対の上面電極層11と、前記上面電極層11と接続するように形成されたルテニウム系厚膜抵抗による抵抗層12と、抵抗層12を完全に覆うガラスによる保護層14と、上面電極層11の一部と重なる銀系サーメット厚膜の側面電極層13とからなっている。なお、露出電極面にははんだ付け性を確保するためにニッケルメッキ層15とはんだメッキ層16を形成し、これにより外部電極を形成している。また他の従来例としては、低温プロセス化を狙い銀系サーメット厚膜による端面電極を、Ni−Cr系薄膜電極をスパッタ工法により形成する方法や、銅粉体あるいは銀などの導電性金属粉体を、エポキシ系樹脂、あるいはフェノール系樹脂などのバインダと混合した導電性樹脂によって構成する方法もある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、この角形チップ抵抗器の側面電極層13は銀系サーメット厚膜ペーストを、約600℃程度の温度で焼成し形成するため、側面電極形成以前に形成された、一対の側面電極層13間の抵抗値が、抵抗層12の熱影響により変化する。この抵抗値の変化は近年市場が大きくなっている精密(±1%,±0.5%)級の角形チップ抵抗器の製造歩留が悪化する主要因となっている。
【0006】
本発明は、このような課題を解決するもので、外部電極間の電気特性値が変化しない低温度(250℃〜400℃)で従来の厚膜電極等と同等以上の強度を有する外部電極を形成することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
そしてこの目的を達成するために本発明は、導電性材料として複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化して形成した第1層の電極層と、この第1層の電極層の上に第2層として設けたスズコート層あるいは、はんだコート層とにより外部電極を構成するものである。
【0008】
【作用】
本発明では、複数個の突起を有する金属粉からなる導電性材料と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布し、例えば150℃〜250℃の低温度で熱処理することにより、溶剤の揮発と樹脂材料の硬化反応により金属粉の充填密度が上昇するとともに、樹脂バインダーと突起を有する金属粉体表面との間に強力なアンカー力が発現される様になる。このため、低温度で熱処理しても従来の厚膜サーメット系電極等と同等以上の強度を有する外部電極が形成でき、しかも低温による熱処理のため電気的特性変化が少なく、製造歩留が向上する。
【0009】
【実施例】
(実施例1)
以下、本発明の実施例1について、図1、図2を用いて説明する。本実施例ではチップ状電子部品の中で最も数量が多い角形チップ抵抗器を例に説明する。
【0010】
図1は本発明の実施例1を示す斜視図であり、図2は図1のA−A断面図である。
【0011】
図1、図2に示すごとく、本実施例による角形チップ抵抗器は、96%アルミナ基板1と、前記アルミナ基板1上の銀系サーメット厚膜の一対の上面電極層2と、前記上面電極層2の一部に重なるルテニウム系厚膜の抵抗層4と、前記抵抗層4を完全に覆う樹脂による保護層6と、前記上面電極層2を完全に覆う厚さ10〜50μmの、複数個のいぼ状の突起を有する銅系金属粉と複数個のいぼ状の突起を有するニッケル系金属粉の混合粉体と、バインダとして熱硬化性ポリマーを混合した導電性ペーストを塗布硬化した一対の側面電極層3と、前記側面電極層3の露出部分に形成された、はんだコート層7より構成される。そしてこれら側面電極層3とはんだコート層7により外部電極が構成されている。
【0012】
次に、図1、図2に示した本発明の実施例1の製造方法について説明する。まず、耐熱性および絶縁性に優れた96%アルミナ基板1を用意した。このアルミナ基板1には短冊状、および個片状に分割するために、分割のための溝(グリーンシート時に金型成形)が形成されている。次に、前記アルミナ基板1の表面に厚膜銀ペーストをスクリーン印刷・乾燥し、ベルト式連続焼成炉によって850℃の温度で、ピーク時間6分、IN−OUT時間45分のプロファイルによって焼成し上面電極層2を形成した。次に上面電極層2の一部に重なるように、RuO2を主成分とする厚膜抵抗ペーストをスクリーン印刷し、ベルト式連続焼成炉により850℃の温度でピーク時間6分、IN−OUT時間45分のプロファイルによって焼成し、抵抗層4を形成した。次に、前記上面電極層2間の前記抵抗層4の抵抗値を揃えるために、レーザー光によって、前記抵抗層4の一部を切断破壊し抵抗値修正(Lカット,30mm/秒,12KHz,5W)を行った。続いて、前記抵抗層4を完全に覆うように、エポキシ系樹脂ペーストをスクリーン印刷し、ベルト式連続硬化炉によって200℃の温度で、ピーク時間30分、IN−OUT時間50分の硬化プロファイルによって硬化し、保護層6を形成した。次に、外部電極を形成するための準備工程として、アルミナ基板1を個片に分割し、外部電極を形成する箇所を露出させておく。
【0013】
第1層の電極層となるペーストは、複数個のいぼ状の突起を有する銅系金属粉50%(粒径約2〜30μm、表面を厚さ1μm以下の銀にて被覆)と複数個のいぼ状の突起を有するニッケル系金属粉50%(粒径約2〜10μm、表面を厚さ1μm以下の銀にて被覆)の混合粉体とレゾール系フェノール樹脂をブチルカルビトールを溶剤として3本ロールにて混練した導電性樹脂ペーストとしておく。これをあらかじめ約200μmの膜厚で均一にステンレス金属上に膜形成して置き、ディップ法により先ほどのアルミナ基板1の分割された個片の側面に塗布し、ベルト式連続遠赤外線硬化炉によって、ピーク時間160℃−15分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行い、側面部の厚みが約30〜40μmの側面電極層3を形成した。この形成後の断面の模式図を図6に示す。アルミナ基板1上に形成した導電性金属粉3aがそのいぼ状突起で熱硬化した樹脂バインダー3bに強力にアンカー効果を表していることを表現している。次に、これをフラックスに浸漬後、予熱−はんだ浸漬(230℃10秒間)を経て側面電極層3上に、はんだコート層7を形成した。以上の工程により、本発明の実施例1による角形チップ抵抗器を作成した。
【0014】
(実施例2)
次に、本発明の実施例2について、図3、図4を用いて説明する。これもチップ状電子部品の中で最も数量が多い角形チップ抵抗器を例に説明する。
【0015】
図3は本発明の実施例2を示す斜視図であり、図4は図3のA−A断面図である。
【0016】
図3、図4において、本実施例による角形チップ抵抗器は、96%アルミナ基板1と、前記アルミナ基板1上の銀系サーメット厚膜の一対の上面電極層2と、前記上面電極層2の一部に重なるルテニウム系厚膜の抵抗層4と、前記抵抗層4を完全に覆う樹脂による保護層6と、前記上面電極層2の一部に重なる10〜50μmの、複数個のいぼ状の突起を有するニッケル系金属粉体と、バインダとして熱硬化性ポリマーを混合した導電性ペーストを塗布硬化した一対の側面電極層3と、前記側面電極層3の露出部分に形成された、ニッケルコート層8とその上のはんだコート層7より構成される。
【0017】
次に、図3、図4に示した本発明の実施例2の製造方法について説明する。アルミナ基板1上に上面電極層2、抵抗層4、保護層6を形成するのは実施例1と同様の工法である。第1層の側面電極層3となるペーストは複数個の突起を有するニッケル粉体(平均粒径:5μm)とエポキシ変成フェノール樹脂をブチルカルビトールを溶剤として3本ロールにて混練した導電性樹脂ペーストとしておく。これをローラーにより塗布し、ベルト式連続遠赤外線硬化炉によって、ピーク時間160℃−15分、IN−OUT時間40分の温度プロファイルによって熱処理を行い、側面部の厚みが約30〜40μmの側面電極層3を形成した。次に電気メッキの準備工程として、前記短冊状アルミナ基板を個片状に分割した。最後に、露出している上面電極層2および側面電極層3上に、電気メッキ工法によりニッケルコート層8を形成し、その上にはんだコート層7を形成した。以上の工程により、本発明の実施例2による角形チップ抵抗器を作成した。
【0018】
この本発明の実施例1、2による角形チップ抵抗器と従来の角形チップ抵抗器および側面電極として銀系サーメット厚膜電極、銀系樹脂電極を用いた比較品の引張強度試験を実施し、またそれぞれの角形チップ抵抗器の抵抗値分布(出荷抵抗値選別前)を測定した結果を(表1)に示す。併せて(表1)には完成品の製造1ロットの抵抗値バラツキも示す。引張強度の試験は、図5に斜視図を示すように、チップ抵抗器21の外部電極をはんだ22で金属線23および24に接続して、金属線23を固定し、金属線24を引っ張るものである。
【0019】
【表1】

Figure 0003739830
【0020】
(表1)より、本発明品は従来品より優れた抵抗値分布を有している。すなわち抵抗トリミング後の抵抗値シフトが極めて少ないことが分かる。
【0021】
また、本発明品は従来品(銀系厚膜電極品)と比べほぼ同等以上の引張強度を有し、従来の銀系樹脂電極品による比較品と比べて強い引張強度を有していることがわかる。なお、本発明の上記実施例において側面電極層3の金属粉にはニッケル粉や銅粉を用いたが本発明における側面電極層3の金属粉の材質としてはこれに限られるものではない。例えばAu,Ag,Pdなどの貴金属、Fe,Al,Sn,Znなどの卑金属、あるいは実施例1にあるような表面に異種金属を被覆した複合金属粉などが適用可能である。
【0022】
また金属粉の大きさは基本的に最大粒径100μm以下であれば構わないが、好ましくは平均粒径2〜15μmのものが用いられる。さらに金属粉の形状は問わないが粉体表面に凹凸突起のあることが必要である。凹凸突起の大きさ及びその分布状態の大小は粉体の体積換算の比表面積(比表面積×真比重)で表されるが、上記実施例1、2品ではこの値が1.2〜7(m2/cm3)のものが適していた。
【0023】
また側面電極層3に用いられる導電粉は上記金属粉を全導電粉の50%以上含む。上記の表面に突起を有する金属粉以外の導電粉としては材質に制限はなく、通常導電性ペースト材料に用いられるものが使用可能である(金属粉に限らず導電性セラミック粉、カーボン粉などでも可)。ただし、これらは必須成分ではなく必要に応じて用いられる。
【0024】
なお、この実施例1、2において側面電極層3のバインダにはレゾール系フェノール樹脂を用いたが、はんだ濡れ性および電気メッキ性を阻害せず、十分低い導体抵抗を確保できればノボラック、アラルキルのような高耐熱のフェノール樹脂やイミド系、エポキシ系の樹脂あるいはこれら樹脂の共重合物、変成物でも可能である。但し、樹脂の特性上フェノール系樹脂が前出特性を満足する上では最も適当であった。
【0025】
また、保護層6としてエポキシ系樹脂を用いたが、その他の密閉性に優れた樹脂(ポリイミド系、アクリル系等)でも可能であるし、ガラスを保護層として用いた場合でも、抵抗値分布(3σ/平均抵抗値)は0.5%程度になり従来の厚膜サーメット電極品よりも分布が小さくなるという効果を確認している(この場合にはレーザートリミング前にプリコートガラスの印刷・焼成が必要となる。)。
【0026】
また、実施例1ではんだコート層7は、230℃10秒間のはんだ浸漬により形成したが、これは、スズあるいははんだを主成分とするペーストの材料を、側面電極層3を覆うようにディップあるいは転写印刷し、200℃〜280℃の雰囲気中で熱処理することにより形成しても同等の性能が得られることを確認している。また、大量のチップ状電子部品にコートする場合には電解メッキ工法によりはんだコート層を形成する工法がコスト的にも有利である。
【0027】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように本発明では、導電性材料として複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化した電極層と、この電極層の上に第2層として設けたスズコート層あるいは、はんだコート層とにより外部電極を構成するものであるので、低温度の熱処理で強度の強い外部電極を形成でき、したがって熱処理による電気的特性変化が少なく、製造歩留を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の角形チップ抵抗器の構造を示す斜視図
【図2】本発明の実施例1の角形チップ抵抗器の構造を示す断面図
【図3】本発明の実施例2の角形チップ抵抗器の構造を示す斜視図
【図4】本発明の実施例2の角形チップ抵抗器の構造を示す断面図
【図5】引張試験方法を説明する斜視図
【図6】本発明品の樹脂電極の模式断面図
【図7】従来の角形チップ抵抗器の構造を示す斜視図
【図8】従来の角形チップ抵抗器の構造を示す断面図
【符号の説明】
1 アルミナ基板
2 上面電極層
3 側面電極層
3a 導電性金属粉
3b 樹脂バインダー
4 抵抗層
6 保護層
7 はんだコート層
8 ニッケルコート層[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a chip-shaped electronic component such as a chip resistor or a chip capacitor, and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
In recent years, with the increasing demand for lighter, thinner, and smaller electronic devices, very small electronic components have come to be used in many cases in order to increase the wiring density of circuit boards.
[0003]
An example of the structure of a square chip resistor among conventional chip-shaped electronic components will be described and described. 7 is a perspective view, and FIG. 8 is a cross-sectional view.
[0004]
The conventional square chip resistor is connected to the 96% alumina substrate 10, a pair of upper surface electrode layers 11 formed of a pair of silver-based cermet thick film electrodes formed on the alumina substrate 10, and the upper surface electrode layer 11. The formed resistance layer 12 is formed of a ruthenium-based thick film resistor, the protective layer 14 is made of glass that completely covers the resistance layer 12, and the side electrode layer 13 is formed of a silver-based cermet thick film that overlaps a part of the upper surface electrode layer 11. ing. A nickel plating layer 15 and a solder plating layer 16 are formed on the exposed electrode surface to ensure solderability, thereby forming an external electrode. Other conventional examples include a method of forming an end face electrode with a silver-based cermet thick film and a Ni-Cr-based thin film electrode by a sputtering method aiming at low temperature processing, or a conductive metal powder such as copper powder or silver. There is also a method in which a conductive resin mixed with a binder such as an epoxy resin or a phenol resin is used.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the side electrode layer 13 of this square chip resistor is formed by baking a silver-based cermet thick film paste at a temperature of about 600 ° C., a gap between the pair of side electrode layers 13 formed before the side electrode formation is formed. The resistance value changes due to the thermal effect of the resistance layer 12. This change in resistance value is a major factor that deteriorates the manufacturing yield of precision (± 1%, ± 0.5%) grade square chip resistors, which have become increasingly popular in recent years.
[0006]
The present invention solves such a problem, and an external electrode having a strength equal to or higher than that of a conventional thick film electrode or the like at a low temperature (250 ° C. to 400 ° C.) at which the electrical characteristic value between the external electrodes does not change. The purpose is to form.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve this object, the present invention provides a first electrode layer formed by applying and curing a conductive paste in which a conductive metal powder having a plurality of protrusions and a resin binder are mixed as a conductive material. The external electrode is constituted by a tin coat layer or a solder coat layer provided as a second layer on the electrode layer of the first layer.
[0008]
[Action]
In the present invention, by applying a conductive paste in which a conductive material made of metal powder having a plurality of protrusions and a resin binder are mixed and heat-treated at a low temperature of, for example, 150 ° C. to 250 ° C. The filling density of the metal powder is increased by the curing reaction of the resin material, and a strong anchor force is developed between the resin binder and the metal powder surface having the protrusions. For this reason, even if heat treatment is performed at a low temperature, an external electrode having a strength equal to or higher than that of a conventional thick film cermet electrode or the like can be formed. .
[0009]
【Example】
Example 1
Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to FIGS. In this embodiment, a rectangular chip resistor having the largest quantity among chip-shaped electronic components will be described as an example.
[0010]
FIG. 1 is a perspective view showing Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
[0011]
As shown in FIGS. 1 and 2, the rectangular chip resistor according to the present embodiment includes a 96% alumina substrate 1, a pair of upper surface electrode layers 2 of a silver-based cermet thick film on the alumina substrate 1, and the upper surface electrode layer. 2, a ruthenium thick film resistive layer 4 that overlaps a part of the protective layer 6, a protective layer 6 made of a resin that completely covers the resistive layer 4, and a thickness of 10 to 50 μm that completely covers the upper electrode layer 2. A pair of side electrodes formed by applying and curing a conductive paste in which a mixed powder of copper-based metal powder having warped protrusions and nickel-based metal powder having a plurality of warped protrusions and a thermosetting polymer as a binder are mixed. It comprises a layer 3 and a solder coat layer 7 formed on the exposed portion of the side electrode layer 3. The side electrode layer 3 and the solder coat layer 7 constitute an external electrode.
[0012]
Next, the manufacturing method of Example 1 of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 will be described. First, a 96% alumina substrate 1 having excellent heat resistance and insulation was prepared. In order to divide the alumina substrate 1 into strips and individual pieces, grooves for dividing (mold forming at the time of green sheet) are formed. Next, a thick film silver paste is screen-printed and dried on the surface of the alumina substrate 1, and baked in a belt type continuous baking furnace at a temperature of 850 ° C. with a peak time of 6 minutes and an IN-OUT time of 45 minutes. Electrode layer 2 was formed. Next, a thick film resistance paste mainly composed of RuO 2 is screen-printed so as to overlap a part of the upper electrode layer 2, and a belt type continuous firing furnace is used at a temperature of 850 ° C. for a peak time of 6 minutes and an IN-OUT time. The resistance layer 4 was formed by firing with a profile of 45 minutes. Next, in order to make the resistance value of the resistance layer 4 between the upper surface electrode layers 2 uniform, a part of the resistance layer 4 is cut and broken by laser light to correct the resistance value (L cut, 30 mm / second, 12 KHz, 5W). Subsequently, an epoxy resin paste is screen-printed so as to completely cover the resistance layer 4, and is cured by a belt type continuous curing furnace at a temperature of 200 ° C. with a peak time of 30 minutes and an IN-OUT time of 50 minutes. It hardened | cured and the protective layer 6 was formed. Next, as a preparatory step for forming the external electrode, the alumina substrate 1 is divided into individual pieces, and the portion where the external electrode is formed is exposed.
[0013]
The paste used as the first electrode layer is made of 50% copper-based metal powder having a plurality of wart-shaped protrusions (particle size is about 2 to 30 μm, and the surface is coated with silver having a thickness of 1 μm or less) and a plurality of Three mixed powders of nickel-based metal powder with wart-like protrusions 50% (particle diameter of about 2 to 10 μm, surface coated with silver having a thickness of 1 μm or less) and resol-based phenol resin using butyl carbitol as a solvent The conductive resin paste is kneaded with a roll. This is preliminarily formed on a stainless metal with a film thickness of about 200 μm, and is applied to the side surface of the divided piece of the alumina substrate 1 by the dipping method, and by a belt type continuous far infrared curing furnace, Heat treatment was performed with a temperature profile having a peak time of 160 ° C. for 15 minutes and an IN-OUT time of 40 minutes to form a side electrode layer 3 having a side part thickness of about 30 to 40 μm. A schematic diagram of the cross section after this formation is shown in FIG. It expresses that the conductive metal powder 3a formed on the alumina substrate 1 has a strong anchor effect on the resin binder 3b thermally cured by the wart-like projections. Next, after this was immersed in a flux, a solder coat layer 7 was formed on the side electrode layer 3 through preheating-solder immersion (230 ° C. for 10 seconds). Through the above steps, a rectangular chip resistor according to Example 1 of the present invention was produced.
[0014]
(Example 2)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This will also be described by taking as an example a rectangular chip resistor having the largest quantity among chip-like electronic components.
[0015]
3 is a perspective view showing a second embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
[0016]
3 and 4, the rectangular chip resistor according to the present embodiment includes a 96% alumina substrate 1, a pair of upper surface electrode layers 2 of a silver-based cermet thick film on the alumina substrate 1, and the upper surface electrode layer 2. A ruthenium thick film resistive layer 4 that partially overlaps, a protective layer 6 made of a resin that completely covers the resistive layer 4, and a plurality of wart-shaped 10-50 μm layers that partially overlap the top electrode layer 2 A nickel-based metal powder having protrusions, a pair of side electrode layers 3 coated and cured with a conductive paste mixed with a thermosetting polymer as a binder, and a nickel coat layer formed on an exposed portion of the side electrode layer 3 8 and a solder coat layer 7 thereon.
[0017]
Next, the manufacturing method of Example 2 of the present invention shown in FIGS. 3 and 4 will be described. The top electrode layer 2, the resistance layer 4, and the protective layer 6 are formed on the alumina substrate 1 in the same manner as in the first embodiment. The paste used as the side electrode layer 3 of the first layer is a conductive resin obtained by kneading a nickel powder (average particle size: 5 μm) having a plurality of protrusions and an epoxy-modified phenolic resin in a three-roll using butyl carbitol as a solvent. Leave as a paste. This is coated with a roller, and heat-treated by a belt type continuous far-infrared curing furnace with a temperature profile having a peak time of 160 ° C. for 15 minutes and an IN-OUT time of 40 minutes, and a side electrode having a thickness of about 30 to 40 μm. Layer 3 was formed. Next, as a preparation step for electroplating, the strip-like alumina substrate was divided into individual pieces. Finally, a nickel coat layer 8 was formed on the exposed upper electrode layer 2 and side electrode layer 3 by electroplating, and a solder coat layer 7 was formed thereon. Through the above steps, a square chip resistor according to Example 2 of the present invention was produced.
[0018]
A tensile strength test was performed on a comparative product using the rectangular chip resistor according to Examples 1 and 2 of the present invention, a conventional rectangular chip resistor, and a silver-based cermet thick film electrode and a silver-based resin electrode as side electrodes. Table 1 shows the results of measuring the resistance value distribution (before shipping resistance value selection) of each square chip resistor. In addition, (Table 1) also shows the resistance variation of one lot of finished product production. As shown in the perspective view of FIG. 5, the tensile strength test involves connecting the external electrode of the chip resistor 21 to the metal wires 23 and 24 with the solder 22, fixing the metal wire 23, and pulling the metal wire 24. It is.
[0019]
[Table 1]
Figure 0003739830
[0020]
From Table 1, the product of the present invention has a resistance distribution superior to that of the conventional product. That is, it can be seen that there is very little resistance value shift after resistance trimming.
[0021]
In addition, the product of the present invention has a tensile strength almost equal to or higher than that of the conventional product (silver-based thick film electrode product), and has a stronger tensile strength than the comparative product of the conventional silver-based resin electrode product. I understand. In the above embodiment of the present invention, nickel powder or copper powder is used as the metal powder of the side electrode layer 3, but the material of the metal powder of the side electrode layer 3 in the present invention is not limited to this. For example, a noble metal such as Au, Ag, Pd, a base metal such as Fe, Al, Sn, Zn, or a composite metal powder having a surface coated with a different metal as in the first embodiment is applicable.
[0022]
The size of the metal powder may be basically a maximum particle size of 100 μm or less, but preferably an average particle size of 2 to 15 μm is used. Further, the shape of the metal powder is not limited, but it is necessary that the powder surface has uneven projections. The size of the projections and depressions and the size of the distribution state are represented by the specific surface area of the powder in terms of volume (specific surface area × true specific gravity), but in the above Examples 1 and 2, this value is 1.2 to 7 ( m 2 / cm 3 ) was suitable.
[0023]
Moreover, the conductive powder used for the side electrode layer 3 contains the metal powder in an amount of 50% or more of the total conductive powder. The conductive powder other than the metal powder having protrusions on the surface is not limited in material, and those normally used for conductive paste materials can be used (not only metal powder but also conductive ceramic powder, carbon powder, etc. Yes). However, these are not essential components and are used as necessary.
[0024]
In Examples 1 and 2, resol phenolic resin was used as the binder of the side electrode layer 3, but it does not impede solder wettability and electroplating properties, and if it can secure a sufficiently low conductor resistance, such as novolak and aralkyl. It is also possible to use a highly heat-resistant phenolic resin, imide-based or epoxy-based resin, or a copolymer or modified product of these resins. However, the phenolic resin was most suitable for satisfying the above-mentioned characteristics due to the characteristics of the resin.
[0025]
Moreover, although the epoxy resin was used as the protective layer 6, other resins having excellent sealing properties (polyimide type, acrylic type, etc.) can be used. Even when glass is used as the protective layer, the resistance value distribution ( (3σ / average resistance value) is about 0.5%, confirming the effect that the distribution is smaller than that of conventional thick film cermet electrode products (in this case, printing and firing of the pre-coated glass are performed before laser trimming). Required).
[0026]
Further, in Example 1, the solder coat layer 7 was formed by solder immersion at 230 ° C. for 10 seconds. This was done by dip or paste a paste material mainly composed of tin or solder so as to cover the side electrode layer 3. It has been confirmed that equivalent performance can be obtained even if formed by transfer printing and heat treatment in an atmosphere of 200 ° C. to 280 ° C. In addition, when coating a large amount of chip-shaped electronic components, a method of forming a solder coat layer by an electrolytic plating method is advantageous in terms of cost.
[0027]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, in the present invention, an electrode layer obtained by applying and curing a conductive paste in which a conductive metal powder having a plurality of protrusions and a resin binder as a conductive material is mixed, and on the electrode layer Since the external electrode is constituted by the tin coat layer or solder coat layer provided as the second layer, a strong external electrode can be formed by a low-temperature heat treatment, and therefore there is little change in electrical characteristics due to the heat treatment, and manufacturing Yield can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a rectangular chip resistor according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of a rectangular chip resistor according to a first embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of a square chip resistor according to Example 2 of the present invention. FIG. 5 is a perspective view illustrating a tensile test method. FIG. 7 is a perspective view showing the structure of a conventional square chip resistor. FIG. 8 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional square chip resistor.
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Alumina substrate 2 Upper surface electrode layer 3 Side electrode layer 3a Conductive metal powder 3b Resin binder 4 Resistance layer 6 Protective layer 7 Solder coat layer 8 Nickel coat layer

Claims (7)

チップ状電子部品本体の側面部に外部電極を設け、この外部電極は、複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化して形成した第1層の電極層と、この第1層の電極層の上に第2層として設けたスズコート層あるいは、はんだコート層とにより構成されたチップ状電子部品であって、前記導電性金属粉を、表面を厚さ1μm以下の銀にて被覆した粒径約2〜30μmの銅粉50%と、表面を厚さ1μm以下の銀にて被覆した粒径約2〜10μmのニッケル粉50%とからなり、且つ体積換算の比表面積が1.2〜7(m 2 /cm 3 )の混合粉体とし、前記樹脂バインダーをフェノール樹脂とし、前記外部電極の引張強度が約350kg/cm□であるチップ状電子部品。 An external electrode is provided on the side surface portion of the chip-shaped electronic component body, and the external electrode is formed of a first layer formed by applying and curing a conductive paste in which a conductive metal powder having a plurality of protrusions and a resin binder are mixed. A chip-like electronic component constituted by an electrode layer and a tin coat layer or a solder coat layer provided as a second layer on the first electrode layer , the surface of the conductive metal powder being thick 50% copper powder having a particle size of about 2 to 30 μm coated with silver having a thickness of 1 μm or less, and 50% nickel powder having a particle size of about 2 to 10 μm having a surface coated with silver having a thickness of 1 μm or less, and Chip-shaped electronic component having a mixed powder having a volume specific surface area of 1.2 to 7 (m 2 / cm 3 ), the resin binder being phenol resin, and the external electrode having a tensile strength of about 350 kg / cm □ . チップ状電子部品本体の側面部に外部電極を設け、この外部電極は、複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化して形成した第1層の電極層と、この第1層の電極層の上に第2層として設けたスズコート層あるいは、はんだコート層とにより構成されたチップ状電子部品であって、前記導電性金属粉を平均粒径5μm、且つ体積換算の比表面積を1.2〜7(m 2 /cm 3 )のニッケル粉とし、前記樹脂バインダーをフェノール樹脂とし、前記外部電極の引張強度が約340kg/cm□であるチップ状電子部品。 An external electrode is provided on the side surface portion of the chip-shaped electronic component body, and the external electrode is formed of a first layer formed by applying and curing a conductive paste in which a conductive metal powder having a plurality of protrusions and a resin binder are mixed. A chip-shaped electronic component comprising an electrode layer and a tin coat layer or solder coat layer provided as a second layer on the first electrode layer, the conductive metal powder having an average particle size of 5 μm In addition, a chip-like electron whose volumetric specific surface area is 1.2 to 7 (m 2 / cm 3 ) nickel powder, the resin binder is phenol resin, and the external electrode has a tensile strength of about 340 kg / cm □. parts. 第1層と第2層の電極層間に、第3層としてニッケルコート層を介在させた請求項1または2記載のチップ状電子部品。 The chip-shaped electronic component according to claim 1 or 2, wherein a nickel coat layer is interposed as a third layer between the electrode layers of the first layer and the second layer . 請求項1または2に記載のチップ状電子部品を製造する製造方法であって、チップ状電子部品本体の側面部に外部電極を設け、この外部電極は、複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化して形成した第1層の電極層と、この第1層の電極層の上に設けた、はんだコート層とにより構成され、前記はんだコート層は200℃〜250℃の溶融はんだ槽中にディップし形成することを特徴とするチップ状電子部品の製造方法。 A manufacturing method for manufacturing a chip-shaped electronic component according to claim 1 or 2, wherein an external electrode is provided on a side surface of the chip-shaped electronic component main body, and the external electrode is a conductive metal powder having a plurality of protrusions. A first electrode layer formed by applying and curing a conductive paste mixed with a resin binder, and a solder coat layer provided on the first electrode layer, and the solder coat layer. Is formed by dipping into a molten solder bath at 200 ° C. to 250 ° C. 請求項1または2に記載のチップ状電子部品を製造する製造方法であって、チップ状電子部品本体の側面部に外部電極を設け、この外部電極は、複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化して形成した第1層の電極層と、この第1層の電極層の上に設けたスズコート層あるいは、はんだコート層とにより構成され、前記スズコート層あるいは、はんだコート層は電気メッキ工法により形成することを特徴とするチップ状電子部品の製造方法。 A manufacturing method for manufacturing a chip-shaped electronic component according to claim 1 or 2, wherein an external electrode is provided on a side surface of the chip-shaped electronic component main body, and the external electrode is a conductive metal powder having a plurality of protrusions. A first electrode layer formed by applying and curing a conductive paste mixed with a resin binder and a tin coat layer or a solder coat layer provided on the first electrode layer, A method for manufacturing a chip-shaped electronic component, wherein the tin coat layer or the solder coat layer is formed by an electroplating method . 請求項1または2に記載のチップ状電子部品を製造する製造方法であって、チップ状電子部品本体の側面部に外部電極を設け、この外部電極は、複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化して形成した第1層の電極層と、この第1層の電極層の上に設けたスズコート層あるいは、はんだコート層とにより構成され、前記スズコート層あるいは、はんだコート層は、スズあるいははんだを主成分とするペーストの材料を、ディップあるいは転写印刷し、200℃〜280℃の雰囲気中で熱処理することにより形成するチップ状電子部品の製造方法。 A manufacturing method for manufacturing a chip-shaped electronic component according to claim 1 or 2, wherein an external electrode is provided on a side surface of the chip-shaped electronic component main body, and the external electrode is a conductive metal powder having a plurality of protrusions. A first electrode layer formed by applying and curing a conductive paste mixed with a resin binder and a tin coat layer or a solder coat layer provided on the first electrode layer, The tin coat layer or the solder coat layer is formed by subjecting a paste material mainly composed of tin or solder to dip or transfer printing and heat-treating in an atmosphere of 200 ° C. to 280 ° C. . 請求項1または2に記載のチップ状電子部品を製造する製造方法であって、チップ状電子部品本体の側面部に外部電極を設け、この外部電極は、複数個の突起を有する導電性金属粉と樹脂バインダーとを混合した導電性ペーストを塗布硬化して形成した第1層の電極層と、この第1層上に設けたニッケルコート層と、このニッケルコート層上に設けたスズコート層あるいは、はんだコート層とにより構成され、前記ニッケルコート層と、スズコート層あるいははんだコート層を電気メッキ工法により形成するチップ状電子部品の製造方法。 A manufacturing method for manufacturing a chip-shaped electronic component according to claim 1 or 2, wherein an external electrode is provided on a side surface of the chip-shaped electronic component main body, and the external electrode is a conductive metal powder having a plurality of protrusions. A first electrode layer formed by applying and curing a conductive paste mixed with a resin binder, a nickel coat layer provided on the first layer, a tin coat layer provided on the nickel coat layer, or A method for manufacturing a chip-shaped electronic component , comprising a solder coat layer, wherein the nickel coat layer and a tin coat layer or a solder coat layer are formed by an electroplating method .
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