JP3734207B2 - Ozone water production method - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、半導体や液晶製造工程に使用されるオゾン水の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、例えば、半導体や液晶製造工程の有機物除去に使用されるオゾン水は、水を電解するか或いは無声放電によって発生させたオゾンガスを超純水(本明細書においては、一般に必ずしも明確に定義分けされていない純水、超純水などの語で説明される高純度水を総称して「超純水」という。)に溶解して製造供給されている。すなわち、従来のオゾン水は、図6に示すように前処理システム1、一次純水システム2、サブシステム3から構成される超純水製造装置11で、工業用水、市水、井水等の原水を処理することにより製造された超純水に、オゾン溶解部4(オゾン溶解手段)でオゾンを溶解させて製造されている。
【0003】
図6中、凝集沈澱装置201、濾過器202及び濾過水タンク203等を備える前処理システム1では、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。イオン交換器204、紫外線殺菌器205、精密濾過膜装置206及び逆浸透膜装置207等を備える一次純水システム2では原水中のイオンや有機成分の除去を行う。なお、イオン交換器204では、塩類除去のほかにイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換されるTOC成分を除去する。逆浸透膜装置207では、塩類除去の他にイオン性、コロイド性のTOCを除去する。
【0004】
脱気器209、紫外線酸化器210、ポリッシャー(非再生式イオン交換器)211及び限外濾過膜装置212を備えるサブシステム3では、一次純水システム2から得られる処理水の純度を一層高め超純水にする。なお、紫外線酸化器210では、低圧紫外線ランプより出される185nmの紫外線によりTOC成分を有機酸さらにはCO2 まで分解する。分解された有機物及びCO2 は後段のイオン交換樹脂で除去される。限外濾過膜装置212では、微粒子が除去され且つイオン交換樹脂の流出粒子も除去される。得られた超純水は各ユースポイントに供給され、残部は一次純水タンク208に戻され、サブシステム3に供給される。一方、限外濾過膜装置212の下流で分岐された超純水にオゾン発生器214で得られたオゾンをオゾン溶解器213により、例えば2〜10mg/L溶解させてオゾン水を製造する。この様にして製造されたオゾン水は適宜各ユースポイントに供給され、ウエハ表面に付着する有機物の洗浄除去等に使用される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、オゾンは不安定な物質であり、水中において自己分解を起こして酸素に変換される。上述の従来の処理方法により製造された超純水にオゾンを溶解してオゾン水を製造した場合、オゾンの自己分解によって、溶存オゾン濃度が溶解直後の半分となる半減期は約1分である。このため、従来のオゾン水製造方法には次のような問題があった。
【0006】
(1)オゾン水移送時間が1分以内となるように配管設計をしたとしても、溶解直後のオゾン濃度は、ユースポイントで必要とされる濃度の倍以上でなければならず、必要量に対して大過剰のオゾンを製造しなければならない。
(2)オゾンは酸素に比べて水への溶解度が著しく高い。自己分解したオゾンは酸素となるが、ユースポイントで必要とされるオゾン濃度が高い場合は、配管移送中にオゾンの自己分解によって酸素過飽和となり、ユースポイントにおいて発泡して、安定したノズル噴射等を妨げる。
(3)オゾン水を複数のユースポイントに供給する場合などでは、各ユースポイントでの使用状況によって、使用オゾン水量が変化し、各ユースポイントへのオゾン水到達時間が一定とならない。このため、オゾン濃度の減少が一定とならず、ユースポイントでのオゾン濃度が不安定となる。
(4)移送時間に厳しい制限があるため、オゾン水製造装置は、通常、各ユースポイントの直近に設置されているが、ユースポイントが工場内の広い範囲に分散しているときは、多数のオゾン水製造装置を設置、運転する必要があり、1台のオゾン水製造装置でオゾン水を集中製造する場合に比べて、全体として大きな設置面積を必要とし、また、初期投資や維持管理費用が嵩む。
【0007】
従って、本発明の目的は、オゾン水の自己分解速度を遅くして、工場内の広範囲に分散した複数のユースポイントに対しても、1台のオゾン水製造装置でオゾン水を集中製造供給可能とすると共に、必要量に対して大過剰のオゾンを製造する必要がなく、ユースポイントにおける過飽和酸素による発泡が少なく、ユースポイントにおいて濃度の安定したオゾン水を供給できるオゾン水製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
かかる実情において、本発明者は鋭意検討を行った結果、従来の超純水製造装置において使用されていた紫外線殺菌器及び紫外線酸化器が超純水中に過酸化水素を約20〜100μg/L 生成させ、この過酸化水素が著しくオゾン分解を促進すること、及びオゾンを溶解させる超純水中の過酸化水素を特定濃度以下に制御することにより、オゾン水の寿命が著しく伸びることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】
すなわち、本発明は、(1)一次純水システムで得られた水を更に処理して得られる超純水にオゾンを溶解させてユースポイントで使用するオゾン水を製造するオゾン水製造方法において、前記一次純水システムで得られた水を、過酸化水素の生成量が15μg/lを超える強度の紫外線酸化手段及び該紫外線酸化手段により生成した過酸化水素を除去する過酸化水素除去手段に通水して過酸化水素濃度が10μg/l以下の超純水を得、次いで該超純水にオゾンを溶解して、オゾン濃度の半減期が4分以上のオゾン水を得ることを特徴とするオゾン水製造方法、(2)前記過酸化水素除去手段が、吸着材による吸着もしくは分解処理又はパラジウム担持イオン交換樹脂あるいは金属イオン型陽イオン交換樹脂による分解処理、あるいはこれらの処理とその後段の微粒子除去用濾過処理との組合せ処理であることを特徴とする前記オゾン水製造方法、(3)前記オゾンを溶解させる超純水のpHを酸性とすることを特徴とする前記オゾン水製造方法、(4)前記オゾンを溶解させる超純水のpHを酸性とする方法が、超純水に二酸化炭素を溶解させる方法であることを特徴とする前記オゾン水製造方法を提供するものである。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の参考形態におけるオゾン水製造装置を図1を参照して説明する。参考形態において使用される超純水を製造する超純水製造装置11aは、図6に示した従来の超純水製造装置から紫外線照射処理(紫外線殺菌器205及び紫外線酸化器210)を省略して過酸化水素濃度が15μg/L 以下の超純水を製造するものである。図中、前処理システム1は、凝集沈澱装置201、濾過器202及び濾過水タンク203等からなり、ここでは、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。一次純水システム2は、イオン交換器204、精密濾過膜装置206、逆浸透膜装置207及び一次純水タンク208等からなり、ここでは、原水中のイオンや有機成分の除去を行う。なお、イオン交換装置では、塩類除去のほかにイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換されるTOC成分を除去する。逆浸透膜装置207では、塩類除去の他にイオン性、コロイド性のTOCを除去する。
【0011】
サブシステム3は、脱気器209、ポリッシャー(非再生式イオン交換器)211及び限外濾過膜装置212等からなり、ここでは、一次純水システム2から得られる処理水の純度を一層高め超純水にする。限外濾過膜装置212では、微粒子が除去され且つイオン交換樹脂の流出粒子も除去される。得られた超純水は各ユースポイントに供給され、残部は一次純水タンク208に戻され、次いでサブシステム3に供給される。一般に超純水製造装置で製造される超純水は、工場において洗浄、リンス、薬品溶解等多目的に使用される。従って、本参考形態では、オゾン溶解用以外の超純水は従来通りの用途に使用され、オゾン溶解用の超純水のみ、超純水製造システムより一部を分岐した管路で取り出す構成とする。すなわち、超純水製造装置11aで得られる超純水が流通するメインの超純水流通管9から分岐した配管10に、オゾン発生器214と、これに連なるオゾン溶解器213からなるオゾン溶解部4(オゾン溶解手段)を組み込んだものである。本参考形態における超純水製造装置11aは、通常、使用される紫外線殺菌器(紫外線殺菌手段)と紫外線酸化器(紫外線酸化手段)を使用していないため、過酸化水素の生成は無く、超純水製造装置11aから得られる超純水中の過酸化水素濃度は極めて低濃度であり、ほとんど0μg/L である。このため、該超純水にオゾンを溶解させたオゾン水は自己分解が抑制され、その寿命は著しく延びる。
【0012】
超純水にオゾンガスを溶解させる方法としては、特に制限されず、超純水にガス透過膜を介してオゾンガスを注入して溶解させる膜溶解方法、超純水中にオゾンガスをバブリングして溶解させる方法、超純水中にエジェクターを介してオゾンガスを溶解させる方法、ガス溶解槽に超純水を供給するポンプの上流側にオゾンガスを供給し、ポンプ内の攪拌によって溶解させる方法等が挙げられる。上記膜溶解に用いられるガス透過性膜としては、オゾンの強い酸化力に耐え得る、フッ素樹脂系の疎水性多孔質膜が好適であるが、これに限定されるものではない。また、オゾン発生器としては、無声放電及び電解法等によるオゾン発生器が挙げられる。
【0013】
超純水にオゾンを溶解させることにより、例えば、半導体ウエハ等の表面の有機物の除去に好適な正の酸化還元電位を有する洗浄液とすることができるが、通常、溶存オゾン濃度が0.05mg/L以上、特に1〜10mg/Lとなるようにオゾンガスを溶解させることが好ましい。
【0014】
本発明の参考形態におけるオゾン水製造装置を図2を参照して説明する。図2中、図1のオゾン水製造装置と同一の構成要素には同一符号を付してその説明を省略し、図1と異なる点についてのみ主に説明する。すなわち、図1と異なる点は、一次純水システム2のイオン交換器204と精密濾過膜装置206の間に紫外線殺菌器205を設けたところにある。一般に、紫外線照射処理は、被処理水の殺菌及び/又は有機物分解除去を目的とし、被処理水に紫外線を照射する処理をいう。紫外線発生源としては、一般に水銀ランプが用いられ、水銀の発光波長の中、波長185nm付近及び波長254nm付近の紫外線が、各々有機物分解及び殺菌に有効とされている。紫外線照射処理装置には一般に、殺菌を主目的とし、波長254nm付近の紫外線を主とし、波長185nm付近の紫外線を光学フィルターによってほとんど遮断した紫外線殺菌器と、有機物分解除去を主目的とし、波長185nm付近及び波長254nm付近の紫外線を照射する紫外線酸化器がある。紫外線殺菌器及び紫外線酸化器は共に、超純水製造システムにおいて過酸化水素を生成するが、過酸化水素の生成量は有機物分解用の紫外線酸化器の方が多い。本参考形態におけるオゾン水製造供給装置では、紫外線酸化器を使用せず、一次純水システム2に紫外線殺菌器を設けたものであり、この場合、紫外線照射量や処理水流量にも依存するが、一般的にはオゾン水溶解器213に供給される超純水は、例えば、過酸化水素濃度約10μg/L 〜15μg/L のものが得られる。但し、超純水中の過酸化水素濃度を常時15μg/L 以下に持続するという観点から言えば、紫外線殺菌器205の後段に後述のような過酸化水素分解器を設けるのが望ましい。本第2の実施の形態のように、超純水製造過程において過酸化水素の生成量が15μg/L 以下となるような強度の紫外線照射処理を受けた超純水であれば、これにオゾンを溶解させたオゾン水の寿命は著しく延びる。
【0015】
参考形態におけるオゾン水製造装置を図3を参照して説明する。図3中、図1のオゾン水製造装置と同一の構成要素には同一符号を付してその説明を省略し、図1と異なる点についてのみ主に説明する。すなわち、図1と主に異なる点は、一次純水システム2のイオン交換器204と精密濾過膜装置206の間に紫外線殺菌器205を、またサブシステム3の脱気器209とイオン交換器211の間に紫外線酸化器210を設け、更に、上記サブシステム3の脱気器209と紫外線酸化器210との間の超純水流通管9から分岐した配管10a中に、有機物吸着器301(有機物除去手段)、イオン交換器302、限外濾過膜装置303を上流側から下流側に向けてこの順に設け、この限外濾過膜装置303の処理水である超純水をオゾン溶解器213に供給する構成とした点にある。すなわち、有機物吸着器301はメインの超純水流通管9中に配置した紫外線酸化器210に代わるものであり、この有機物吸着処理により、紫外線酸化器210の前段で配管10a側に分岐され、したがって紫外線酸化処理を受けていない超純水中に含まれる有機物が除去される。有機物吸着器301で使用される吸着剤としては、水又は水溶液中において有機物を吸着し得るものであれば特に制限されず、活性炭及び合成吸着剤を挙げることができる。活性炭は、一般に木材、のこくず、石炭、ヤシ殻などを原料とし、これらを炭化した後、賦活化したものである。その形状から、粒子径0.4〜1.7mm程度の粒状炭、粒子径がそれ以下の粉末炭に分けられる。この中、本発明の目的には、粒状炭が好ましい。また、合成吸着剤は、一般に有機系ポリマーであって、非イオン交換吸着を目的とするものであり、例えば、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体やアクリルエステル系共重合体が挙げられる。合成吸着剤の具体例としては、アンバーライトXAD-2 、同XAD-4 、同XAD-2000、同XAD-16、同XAD-7 、同XAD-8 等が例示される。更に、合成吸着剤を炭化したものも有機物吸着剤として用いることができ、例えば、アンバーソーブ252 を挙げることができる。
【0016】
また、紫外線酸化処理に代わる上述のような吸着剤による有機物吸着処理を行った場合、処理水中への微粒子の混入が問題となることがある。この場合、有機物除去手段の後段に、微粒子除去用濾過器を設ければよい。微粒子除去用濾過器としては、精密濾過膜装置、限外濾過膜装置等の膜処理装置が挙げられる。精密濾過膜には孔径0.1〜1μm 程度の細孔を有する有機膜を用いることができる。また、限外濾過膜には分画分子量3,000 〜10,000程度の細孔を有するポリスルホン膜、酢酸セルロース膜等を用いることができる。精密濾過膜装置及び限外濾過膜装置におけるモジュール形状は、ホローファイバー形、スパイラル形、チューブラー形及び平膜形等が使用できる。また、図3中、一次純水処理システム2の紫外線殺菌器205を省略してもよい。すなわち、紫外線殺菌器205をバイパスして通水することにより、オゾン溶解器213に供給される超純水中の過酸化水素濃度を更に低濃度とすることができる。本参考形態のように、超純水製造過程において紫外線酸化手段を使用しない場合、その代用として、有機物除去手段又は該有機物除去手段とその後段の微粒子除去手段を設けることにより、オゾンを溶解させる超純水中の有機物を有効に除去できる。
【0017】
本発明の実施の形態におけるオゾン水製造装置を図4を参照して説明する。図4中、図3のオゾン水製造装置と同一の構成要素には同一符号を付してその説明を省略し、図3と異なる点についてのみ主に説明する。すなわち、図3と主に異なる点は、サブシステム3の紫外線酸化器210と、ポリッシャー211との間の超純水流通管9から分岐した配管10b中に、上流側から下流側に向けて過酸化水素分解器401(過酸化水素除去手段)、イオン交換器402、二酸化炭素溶解器403、限外濾過膜装置404をこの順に設けると共に、限外濾過膜装置404の処理水をオゾン溶解器213に供給する構成とした点である。すなわち、本実施の形態は、従来の紫外線殺菌器及び紫外線酸化器を備える超純水製造装置において、これらの紫外線照射処理により生成する過酸化水素を過酸化水素除去手段により除去して、超純水中の過酸化水素濃度を15μg/L 以下とするものである。また、二酸化炭素溶解器403により、超純水中に二酸化炭素を溶解させて超純水を酸性とすることにより、オゾンの自己分解を抑制し、オゾン水の長寿命化を更に図ったものである。過酸化水素除去手段としては、過酸化水素を含有する水を活性炭又は合成吸着剤等の吸着剤に接触させて過酸化水素を吸着もしくは分解させる方法、過酸化水素を含有する水をパラジウム等を担持させたイオン交換樹脂又は金属イオン形陽イオン交換樹脂に接触させ、これらの触媒作用によって過酸化水素を分解させる方法等が挙げられる。活性炭又は合成吸着剤等の吸着剤としては、前記参考形態で使用する吸着剤と同様のものが使用できる。金属イオン形陽イオン交換樹脂は、例えば、鉄イオン、銅イオン、ニッケルイオン、クロムイオン、コバルトイオン等の金属イオンを強酸性の陽イオン交換樹脂に吸着させたものを使用することができる。また、これら過酸化水素除去手段の後段に、前述と同様の精密濾膜装置、限外濾過膜装置等の微粒子除去用濾過処理を行うことが、過酸化水素除去手段において混入する可能性のある微粒子を除去することができる点で好ましい。
【0018】
上記の如く、オゾンを溶解させる超純水中の過酸化水素を15μg/L 以下とすることにより、オゾンの自己分解を抑制し、オゾン水の長寿命化を図ることができるが、該超純水のpHを酸性とすれば、更にオゾン水の長寿命化を図ることができる。pHを酸性とするための手段としては、オゾン水の使用目的を阻害しない限り特に制限されないが、上述のごとく二酸化炭素を溶解させる方法が、残留性が無く比較的低コストである点で好ましい。超純水に二酸化炭素を溶解させる方法としては、超純水中への二酸化炭素のバブリング、ラインミキサーによる混合、ガス透過性の膜による膜溶解等が挙げられる。膜溶解に用いられるガス透過性の膜は、ポリジメチルシロキサン、ポリオレフィン、ポリスルフォン等の非多孔質膜;フッ素樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等の疎水性多孔質膜等を中空糸状やスパイラル状にモジュール化したもの等を用いることができる。
【0019】
本実施の形態のように、超純水が、超純水製造過程において過酸化水素の生成量が15μg/L を超える強度の紫外線照射処理を受けたものである場合に、該超純水に過酸化水素除去処理を行ってからオゾンを溶解させれば、得られるオゾン水の自己分解が抑制され、オゾン水の長寿命化を図ることができる。また、オゾン水を溶解させる超純水のpHを酸性とすれば、オゾン水は更に長寿命となる。
【0020】
本発明において、オゾンを溶解させる超純水は、上記実施の形態における超純水製造装置により製造された超純水に限定されず、懸濁物質の除去処理、イオン性物質の除去処理、殺菌処理、有機物除去処理、微粒子の除去処理、脱気処理等の処理を適宜組合せたシステムによって精製された水であればよく、その水質としては、抵抗率が10M Ω・cm以上のものが好ましく、更に17M Ω・cm以上のものが好ましい。また、超純水中の過酸化水素濃度は、オゾン溶解前において15μg/L 以下、好ましくは10μg/L 以下、更に好ましくは0μg/L である。
【0021】
本発明において、超純水中の低濃度過酸化水素の定量方法としては、公知のフェノールフタリン法、例えば、特公昭56−54582号公報に記載の方法に従えばよい。すなわち、過酸化水素を含んだ検液30mlを正確にビーカーに採取し、4×10-3Mのフェノールフタリンアルカリ溶液0.3mlを加え、更に、4×10-4Mの硫酸銅溶液0.3mlを加え、穏やかに攪拌し、数分間放置する。放置により桃赤色を呈する液を光路長50mmの比色セルに移し、540nmの波長で分光分析して吸光度を測定し、測定した吸光度に基づいて予め作成した吸光度−過酸化水素濃度の検量曲線から過酸化水素の濃度を決定すればよい。
【0022】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、これは単に例示であって、本発明を制限するものではない。
参考例1
工業用水を原料として、図1に示すオゾン水製造装置で処理したところ、オゾン溶解器213に供給される超純水の抵抗率は18.0M Ω・cm、超純水中の過酸化水素濃度は0μg/L であった。この超純水にオゾン溶解器213を使用してオゾンを溶解せしめ、オゾン濃度約10mg/Lのオゾン水を製造した。このオゾン水を各ユースポイントに送り、各ユースポイントにおけるオゾン濃度を測定した。オゾン濃度は前記のフェノールフタリン法で測定した。結果を図5に示した。図中、配管移送時間は各ユースポイントへの到達時間を言い、オゾン水流量及び各ユースポイントまでの管長から求められる。
【0023】
参考例2及び参考例3
オゾン水製造装置を図2に示すオゾン水製造装置として、オゾン溶解器213に供給される超純水中の過酸化水素濃度を10μg/L (参考例2)及び15μg/L (参考例3)とした以外は、参考例1と同様に行った。結果を図5に示す。
【0024】
比較例1
オゾン水製造装置を図6に示すオゾン水製造装置として、オゾン溶解器213に供給される超純水中の過酸化水素濃度を35μg/L とした以外は、参考例1と同様に行った。結果を図5に示す。
【0025】
図5より明らかなように、過酸化水素を35μg/L 含有する従来の超純水にオゾンを溶解してオゾン水を配管供給した場合(比較例1)、オゾン濃度の半減期は約1分である。例えば、オゾン溶解直後のオゾン濃度をユースポイントでの必要濃度の2倍としてオゾン水製造装置を設計する場合、従来の方法ではオゾン濃度の半減期が1分であるため、配管移送時間を1分以内としなければならない。通常行われているように、配管移送時の線速度を1.0〜1.5m/秒とすれば、従来の方法では、移送配管長は60〜90m以下に制限される。通常、工場内の配管は、発生源から移送先に対して直線状に敷設されることはなく、多くの曲折を含むから移送配管長が上記範囲に制限される従来の方法では、工場内の複数のユースポイントに対して、オゾン水を一括製造供給することは非常に困難であり、オゾン水製造装置を各ユースポイントの直近に個別に設置しなければならず、全体としての設計面積や維持管理費用を増大させる。これに対して、例えば、参考例2では超純水中の過酸化水素濃度が10μg/L であり、この場合、オゾン濃度の半減期を4分以上とすることができる。前記と同様に、オゾン溶解直後のオゾン濃度をユースポイントでの必要濃度の2倍としてオゾン水製造供給装置を設計する場合、配管移送時間を4分以内まで設定することができ、配管移送時の線速度を1.0〜1.5m/秒とした場合、配管長を240〜360mまで延長することが可能となる。240〜360mの配管長が可能となれば、ほとんどの工場において、工場内に分散した複数のユースポイントに対して、1台のオゾン水製造装置でオゾンを集中製造し供給することができ、全体としてオゾン水製造装置の設置面積を小さくできるので、初期投資や管理維持費用を節約することができる。
【0026】
また、既存のオゾン水製造装置を本発明の装置に改造する場合などのようにオゾン水の移送配管長が固定されている場合、本発明のオゾン水製造装置では従来の装置に比べて、オゾン溶解直後のオゾン濃度を低く抑えることができるので、オゾン発生部を小規模とすることが可能となり、初期投資を低減すると共に、オゾン製造のためのエネルギーを節約することができる。更に、自己分解によるオゾン濃度の減少が小さく抑えられることから、酸素過飽和に起因するユースポイントにおける発泡がほとんど無く、ユースポイントにおいて濃度が安定したオゾン水を供給することが可能となる。
【0027】
例えば、ユースポイントでのオゾン水必要量が10L/分、必要濃度が5mg/L、オゾン水配管移送時間が60秒の場合、比較例1の装置ではオゾン濃度の半減期は60秒であるため、溶解直後のオゾン濃度は10mg/L以上としなければならい。この場合、オゾンの溶解効率を90%としても、オゾン発生部のオゾン生成量は111mg/ 分以上でなければならない。これに対して、前記のオゾン水供給条件に実施例の装置を適用する場合、溶解直後のオゾン濃度は6mg/L以上あればよく、必要とされるオゾン生成量は66.7mg/ 分以上となり、オゾン発生部を小規模とすることが可能となり、初期投資を低減すると共に、オゾン製造のためのエネルギーを節約することができる。
【0028】
更に、前記の例において、比較例1の装置では、自己分解によるオゾン濃度減少、すなわち、酸素増加は5mg/Lにのぼる。これに対して、参考例の装置ではオゾン濃度減少はわずかに1mg/Lに抑えることができ、酸素過飽和に起因するユースポイントにおける発泡をほとんどなくすことができる。また、オゾン水を複数のユースポイントに供給する場合、各ユースポイントでの使用状況によって、使用オゾン水量が変化し、各ユースポイントへのオゾン水到達時間が一定とならないため、ユースポイントでのオゾン濃度が不安定となることがあるが、実施例の装置では、オゾン濃度減少量がわずかであるため、このような場合にも安定したオゾン濃度のオゾン水を供給することが可能である。
【0029】
参考例4
工業用水を原水として、図3に示すオゾン水製造装置を用いて処理した(但し、紫外線殺菌器205はバイパスせず)。有機物吸着器301には、合成吸着剤(商品名「アンバーソーブ252」ロームアンドハース社製)を使用した。図3中、オゾン溶解前の超純水の抵抗率、超純水中の過酸化水素濃度、TOC(全有機体炭素)成分及び微粒子を測定した。その結果、抵抗率は18.0M Ωcm、過酸化水素濃度は1μg/L 、TOC量は、1μg/L 、0.1μm 以上の微粒子は1個/mlであった。参考例4によれば、紫外線酸化器に代えて有機物吸着器を用いるため、被処理水中の有機物を有効に除去できる。また、過酸化水素の除去効果も認められた。
【0030】
実施例
工業用水を原水として、図4に示すオゾン水製造装置を用いて処理した。過酸化水素分解器401には、鉄イオン形強酸性陽イオン交換樹脂を用いた。このオゾン水製造装置において、紫外線酸化器210後に35μg/L あった過酸化水素は鉄イオン形陽イオン交換樹脂によって、0μg/L まで低減された。また、二酸化炭素溶解器403後のpHは4.7であった。このオゾン水製造装置で製造したオゾン水の濃度の減衰を図5に示した。実施例によれば、紫外線照射処理を行っても、その後段に過酸化水素除去手段を設ければ、オゾンを溶解させる超純水中の過酸化水素濃度を10μg/L 以下とすることができる。また、該超純水のpHを酸性とすることにより、更にオゾン水の長寿命化を達成することができる。
【0031】
【発明の効果】
本発明のオゾン水製造方法及び装置によれば、過酸化水素を生成させない処理方法で製造した超純水か、超純水製造中に生成した過酸化水素を後段処理により除去した超純水にオゾンを溶解させるか、或いは過酸化水素を含有せず且つpHを酸性とした超純水にオゾンを溶解させることにより、オゾン水中のオゾンの自己分解速度を遅くし、工場内の広範囲に分散した複数のユースポイントに対しても、1台のオゾン水製造装置でオゾン水を集中製造供給可能とすると共に、必要量に対して大過剰のオゾンを製造する必要がなくなり低コスト化が図れる。また、ユースポイントにおける過飽和酸素による発泡が少なく、且つユースポイントにおいて濃度の安定したオゾン水を供給できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の参考形態におけるオゾン水製造装置のブロック図である。
【図2】 本発明の参考形態におけるオゾン水製造装置のブロック図である。
【図3】 本発明の参考実施の形態におけるオゾン水製造装置のブロック図である。
【図4】 本発明の実施の形態におけるオゾン水製造装置のブロック図である。
【図5】 オゾン水の配管移送時間とオゾン濃度の減衰の関係を示す図である。
【図6】 従来のオゾン水製造装置のブロック図である。
【符号の説明】
1 前処理システム
2 一次純水システム
3 サブシステム
4 オゾン溶解部(オゾン溶解手段)
11、11a〜11d 超純水製造装置
201 凝集沈澱装置
202 濾過器
203 濾過水タンク
204 イオン交換器
205 紫外線殺菌器(紫外線殺菌手段)
206 精密濾過膜装置
207 逆浸透膜装置
208 一次純水タンク
209 脱気器
210 紫外線酸化器(紫外線酸化手段)
211、302、402 イオン交換器
212、303、404 限外濾過膜装置
213 オゾン溶解器
214 オゾン発生器
301 有機物吸着器(有機物除去手段)
401 過酸化水素分解器(過酸化水素除去手段)
403 二酸化炭素溶解器
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention provides a method for producing ozone water used in, for example, semiconductor and liquid crystal production processes.To the lawIt is related.
[0002]
[Prior art]
  Conventionally, for example, ozone water used for removing organic substances in a semiconductor or liquid crystal manufacturing process is obtained by ultrapure water (in this specification, it is not always clearly defined that ozone gas generated by electrolysis of water or silent discharge is used. High-purity water explained in terms of unpurified water, ultrapure water, and the like are collectively referred to as “ultra-pure water”) and manufactured and supplied. That is, conventional ozone water is an ultrapure water production apparatus 11 composed of a pretreatment system 1, a primary pure water system 2, and a subsystem 3 as shown in FIG. It is manufactured by dissolving ozone in ultrapure water manufactured by treating raw water with an ozone dissolving section 4 (ozone dissolving means).
[0003]
  In FIG. 6, the pretreatment system 1 including the coagulating sedimentation apparatus 201, the filter 202, the filtrate water tank 203, and the like removes suspended substances and colloidal substances in the raw water. In the primary pure water system 2 including the ion exchanger 204, the ultraviolet sterilizer 205, the microfiltration membrane device 206, the reverse osmosis membrane device 207, etc., ions and organic components in the raw water are removed. The ion exchanger 204 removes the TOC component adsorbed or ion-exchanged by the ion exchange resin in addition to the salt removal. The reverse osmosis membrane device 207 removes ionic and colloidal TOC in addition to salt removal.
[0004]
  In the subsystem 3 including the deaerator 209, the ultraviolet oxidizer 210, the polisher (non-regenerative ion exchanger) 211, and the ultrafiltration membrane device 212, the purity of the treated water obtained from the primary pure water system 2 is further increased. Use pure water. In the ultraviolet oxidizer 210, the TOC component is converted into an organic acid or CO 2 by 185 nm ultraviolet rays emitted from a low-pressure ultraviolet lamp.2Disassemble until Decomposed organic matter and CO2Is removed by a subsequent ion exchange resin. In the ultrafiltration membrane device 212, the fine particles are removed and the outflow particles of the ion exchange resin are also removed. The obtained ultrapure water is supplied to each use point, and the remainder is returned to the primary pure water tank 208 and supplied to the subsystem 3. On the other hand, ozone water obtained by the ozone generator 214 is dissolved in ultrapure water branched downstream of the ultrafiltration membrane device 212 by the ozone dissolver 213, for example, 2 to 10 mg / L to produce ozone water. The ozone water produced in this way is appropriately supplied to each use point and used for cleaning and removing organic substances adhering to the wafer surface.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
  However, ozone is an unstable substance and self-decomposes in water and is converted to oxygen. When ozone water is produced by dissolving ozone in the ultrapure water produced by the above-described conventional treatment method, the half-life at which the dissolved ozone concentration becomes half immediately after dissolution is about 1 minute due to the self-decomposition of ozone. . For this reason, the conventional ozone water production method has the following problems.
[0006]
(1) Even if the piping design is such that the ozone water transfer time is less than 1 minute, the ozone concentration immediately after dissolution must be more than double the concentration required at the point of use. A large excess of ozone must be produced.
(2) Ozone has significantly higher solubility in water than oxygen. Self-decomposed ozone becomes oxygen, but if the ozone concentration required at the point of use is high, oxygen is oversaturated by the self-decomposition of ozone during piping transfer, foaming at the point of use, and stable nozzle injection, etc. Hinder.
(3) When supplying ozone water to multiple use points, etc., the amount of ozone water used varies depending on the usage status at each use point, and the time for ozone water to reach each use point is not constant. For this reason, the decrease in ozone concentration is not constant, and the ozone concentration at the use point becomes unstable.
(4) Due to strict restrictions on the transfer time, ozone water production equipment is usually installed in the immediate vicinity of each use point, but when the use points are distributed over a wide area in the factory, It is necessary to install and operate an ozone water production device, which requires a larger installation area as compared to the case where ozone water is produced centrally with a single ozone water production device. Bulky.
[0007]
  Therefore, the object of the present invention is to slow down the self-decomposition rate of ozone water, and to produce and supply ozone water centrally with a single ozone water production device, even for multiple use points distributed over a wide area in the factory. In addition, there is no need to produce a large excess of ozone relative to the required amount, there is little foaming due to supersaturated oxygen at the point of use, and ozone water production method that can supply ozone water with a stable concentration at the point of useThe lawIt is to provide.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
  Under such circumstances, the present inventor has intensively studied, and as a result, the ultraviolet sterilizer and the ultraviolet oxidizer used in the conventional ultrapure water production apparatus have about 20-100 μg / L of hydrogen peroxide in ultrapure water. It is found that this hydrogen peroxide significantly promotes ozonolysis, and that the life of ozone water is significantly extended by controlling the hydrogen peroxide in ultrapure water that dissolves ozone below a specific concentration, The present invention has been completed.
[0009]
  That is, the present invention relates to (1) an ozone water production method for producing ozone water to be used at a use point by dissolving ozone in ultrapure water obtained by further processing water obtained by a primary pure water system. The water obtained by the primary pure water systemThe amount of hydrogen peroxide produced exceeds 15 μg / l.UV oxidation means andRemoval of hydrogen peroxide generated by the ultraviolet oxidation meansHydrogen peroxide removal handIn stepsPassing through water to obtain ultrapure water having a hydrogen peroxide concentration of 10 μg / l or less, and then dissolving ozone in the ultrapure water to obtain ozone water having an ozone concentration half life of 4 minutes or more. (2) The hydrogen peroxide removal means is an adsorption or decomposition treatment with an adsorbent, or a decomposition treatment with a palladium-supported ion exchange resin or a metal ion type cation exchange resin, or these treatments and subsequent stages. The ozone water production method, which is a combination treatment with a filtration treatment for removing fine particles, (3) the ozone water production method, wherein the pH of ultrapure water in which the ozone is dissolved is made acidic. (4) The method for producing ozone water is characterized in that the method of acidifying the pH of ultrapure water for dissolving ozone is a method of dissolving carbon dioxide in ultrapure water. .
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  Of the present inventionreferenceThe ozone water production apparatus in the embodiment will be described with reference to FIG.referenceThe ultrapure water production apparatus 11a for producing ultrapure water used in the embodiment omits the ultraviolet irradiation treatment (the ultraviolet sterilizer 205 and the ultraviolet oxidizer 210) from the conventional ultrapure water production apparatus shown in FIG. Ultrapure water having a hydrogen peroxide concentration of 15 μg / L or less is produced. In the figure, the pretreatment system 1 includes a coagulation / precipitation apparatus 201, a filter 202, a filtrate water tank 203, and the like, and here, suspended substances and colloid substances in raw water are removed. The primary pure water system 2 includes an ion exchanger 204, a microfiltration membrane device 206, a reverse osmosis membrane device 207, a primary pure water tank 208, and the like, and here, ions and organic components in raw water are removed. In the ion exchange device, in addition to removing salts, the TOC component adsorbed or ion exchanged by the ion exchange resin is removed. The reverse osmosis membrane device 207 removes ionic and colloidal TOC in addition to salt removal.
[0011]
  The sub system 3 includes a deaerator 209, a polisher (non-regenerative ion exchanger) 211, an ultrafiltration membrane device 212, and the like. Here, the purity of treated water obtained from the primary pure water system 2 is further increased. Use pure water. In the ultrafiltration membrane device 212, the fine particles are removed and the outflow particles of the ion exchange resin are also removed. The obtained ultrapure water is supplied to each use point, and the remainder is returned to the primary pure water tank 208 and then supplied to the subsystem 3. In general, ultrapure water produced by an ultrapure water production apparatus is used for various purposes such as cleaning, rinsing, and chemical dissolution in a factory. Therefore, the bookreferenceIn the embodiment, ultrapure water other than for ozone dissolution is used for conventional applications, and only ultrapure water for ozone dissolution is taken out from the ultrapure water production system through a branched pipe. That is, an ozone dissolving section comprising an ozone generator 214 and an ozone dissolver 213 connected to the pipe 10 branched from the main ultra pure water flow pipe 9 through which ultra pure water obtained by the ultra pure water production apparatus 11a flows. 4 (ozone dissolving means) is incorporated. BookreferenceSince the ultrapure water production apparatus 11a in the form does not normally use the ultraviolet sterilizer (ultraviolet sterilization means) and the ultraviolet oxidizer (ultraviolet oxidation means) that are used, there is no generation of hydrogen peroxide and ultrapure water. The concentration of hydrogen peroxide in the ultrapure water obtained from the production apparatus 11a is very low, almost 0 μg / L. For this reason, the ozone water in which ozone is dissolved in the ultrapure water is suppressed from self-decomposition and its life is significantly extended.
[0012]
  The method for dissolving ozone gas in ultrapure water is not particularly limited, and is a film dissolving method in which ozone gas is injected and dissolved in ultrapure water through a gas permeable membrane, and ozone gas is bubbled and dissolved in ultrapure water. Examples thereof include a method of dissolving ozone gas in ultrapure water via an ejector, a method of supplying ozone gas upstream of a pump that supplies ultrapure water to a gas dissolution tank, and a method of dissolving by stirring in the pump. The gas permeable membrane used for dissolving the membrane is preferably a fluororesin-based hydrophobic porous membrane that can withstand the strong oxidizing power of ozone, but is not limited thereto. Moreover, as an ozone generator, the ozone generator by a silent discharge, an electrolysis method, etc. is mentioned.
[0013]
  By dissolving ozone in ultrapure water, for example, a cleaning solution having a positive oxidation-reduction potential suitable for removal of organic substances on the surface of a semiconductor wafer or the like can be obtained, but usually the dissolved ozone concentration is 0.05 mg / It is preferable to dissolve ozone gas so as to be L or more, particularly 1 to 10 mg / L.
[0014]
  Of the present inventionreferenceThe ozone water production apparatus in the embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 2, the same components as those in the ozone water production apparatus in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only differences from FIG. 1 will be mainly described. That is, the difference from FIG. 1 is that an ultraviolet sterilizer 205 is provided between the ion exchanger 204 and the microfiltration membrane device 206 of the primary pure water system 2. In general, the ultraviolet irradiation treatment refers to a treatment for irradiating the water to be treated for the purpose of sterilizing the water to be treated and / or decomposing and removing organic matter. As the ultraviolet ray generation source, a mercury lamp is generally used, and among the emission wavelengths of mercury, ultraviolet rays having a wavelength of around 185 nm and a wavelength of around 254 nm are effective for organic matter decomposition and sterilization, respectively. In general, the ultraviolet irradiation treatment apparatus is mainly intended for sterilization, mainly for ultraviolet light having a wavelength of about 254 nm, and for ultraviolet light sterilizer in which the ultraviolet light having a wavelength of about 185 nm is almost blocked by an optical filter, and for the main purpose of decomposing and removing organic matter. There is an ultraviolet oxidizer that irradiates the ultraviolet rays in the vicinity and near the wavelength of 254 nm. Both the ultraviolet sterilizer and the ultraviolet oxidizer produce hydrogen peroxide in the ultrapure water production system, but the amount of hydrogen peroxide produced is larger in the ultraviolet oxidizer for decomposing organic matter. BookreferenceIn the ozone water production and supply apparatus in the embodiment, an ultraviolet oxidizer is not used, and an ultraviolet sterilizer is provided in the primary pure water system 2, and in this case, depending on the ultraviolet irradiation amount and the treated water flow rate, Specifically, the ultrapure water supplied to the ozone water dissolver 213 is, for example, one having a hydrogen peroxide concentration of about 10 μg / L to 15 μg / L. However, from the viewpoint that the concentration of hydrogen peroxide in the ultrapure water is constantly maintained at 15 μg / L or less, it is desirable to provide a hydrogen peroxide decomposer as described later in the subsequent stage of the ultraviolet sterilizer 205. As in the case of the second embodiment, if ultrapure water has been subjected to an ultraviolet irradiation treatment with an intensity such that the amount of hydrogen peroxide produced is 15 μg / L or less in the ultrapure water production process, ozone is added to this. The lifetime of the ozone water in which is dissolved is significantly increased.
[0015]
  BookreferenceThe ozone water production apparatus in the embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 3, the same components as those in the ozone water production apparatus in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted, and only differences from FIG. 1 will be mainly described. That is, the main difference from FIG. 1 is that the ultraviolet sterilizer 205 is placed between the ion exchanger 204 and the microfiltration membrane device 206 of the primary pure water system 2, and the deaerator 209 and ion exchanger 211 of the subsystem 3. In addition, an ultraviolet oxidizer 210 is provided between them, and an organic matter adsorber 301 (organic matter) is further provided in a pipe 10a branched from the ultrapure water flow pipe 9 between the deaerator 209 and the ultraviolet oxidizer 210 of the subsystem 3. Removing means), an ion exchanger 302, and an ultrafiltration membrane device 303 are provided in this order from the upstream side to the downstream side, and ultrapure water that is treated water of the ultrafiltration membrane device 303 is supplied to the ozone dissolver 213. It is in the point made into the structure to do. That is, the organic substance adsorber 301 is an alternative to the ultraviolet oxidizer 210 disposed in the main ultrapure water flow pipe 9, and is branched to the pipe 10a side before the ultraviolet oxidizer 210 by this organic substance adsorption treatment. Organic substances contained in ultrapure water that has not been subjected to ultraviolet oxidation treatment are removed. The adsorbent used in the organic substance adsorber 301 is not particularly limited as long as it can adsorb organic substances in water or an aqueous solution, and examples thereof include activated carbon and a synthetic adsorbent. Activated carbon is generally activated from wood, sawdust, coal, coconut shell, and the like, carbonized and activated. From its shape, it can be divided into granular charcoal having a particle diameter of about 0.4 to 1.7 mm and powdered charcoal having a particle diameter of less than that. Among these, granular coal is preferable for the purpose of the present invention. Synthetic adsorbents are generally organic polymers and are intended for non-ion exchange adsorption, and examples thereof include styrene-divinylbenzene copolymers and acrylic ester copolymers. Specific examples of the synthetic adsorbent include Amberlite XAD-2, XAD-4, XAD-2000, XAD-16, XAD-7, and XAD-8. Further, a carbonized synthetic adsorbent can also be used as the organic adsorbent, such as Ambersorb 252.
[0016]
  Moreover, when the organic substance adsorption process by the above adsorbents replaced with an ultraviolet oxidation process is performed, mixing of the fine particles into the treated water may be a problem. In this case, a particulate removing filter may be provided after the organic substance removing means. Examples of the fine particle removing filter include membrane treatment devices such as a microfiltration membrane device and an ultrafiltration membrane device. As the microfiltration membrane, an organic membrane having pores having a pore diameter of about 0.1 to 1 μm can be used. For the ultrafiltration membrane, a polysulfone membrane having a fractional molecular weight of about 3,000 to 10,000 or a cellulose acetate membrane can be used. As the module shape in the microfiltration membrane device and the ultrafiltration membrane device, a hollow fiber shape, a spiral shape, a tubular shape, a flat membrane shape, or the like can be used. In FIG. 3, the ultraviolet sterilizer 205 of the primary pure water treatment system 2 may be omitted. That is, by bypassing the ultraviolet sterilizer 205 and passing water, the concentration of hydrogen peroxide in the ultrapure water supplied to the ozone dissolver 213 can be further reduced. BookreferenceIf the ultraviolet oxidation means is not used in the ultrapure water production process as in the form, as an alternative, the ultrapure water that dissolves ozone by providing the organic substance removing means or the organic substance removing means and the fine particle removing means at the subsequent stage. The organic matter inside can be removed effectively.
[0017]
  The present inventionThe fruitThe ozone water production apparatus in the embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 4, the same components as those in the ozone water production apparatus in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only differences from FIG. 3 will be mainly described. That is, the main difference from FIG. 3 is that in the pipe 10b branched from the ultrapure water circulation pipe 9 between the ultraviolet oxidizer 210 and the polisher 211 of the subsystem 3, the excess is directed from the upstream side toward the downstream side. A hydrogen oxide decomposer 401 (hydrogen peroxide removing means), an ion exchanger 402, a carbon dioxide dissolver 403, and an ultrafiltration membrane device 404 are provided in this order, and treated water of the ultrafiltration membrane device 404 is supplied to an ozone dissolver 213. It is the point which was set as the structure supplied to. That is,RealIn an ultrapure water production apparatus equipped with a conventional ultraviolet sterilizer and ultraviolet oxidizer, the embodiment removes hydrogen peroxide generated by these ultraviolet irradiation treatments by hydrogen peroxide removing means, The hydrogen peroxide concentration is 15 μg / L or less. In addition, carbon dioxide is dissolved in ultrapure water by the carbon dioxide dissolver 403 to make the ultrapure water acidic, thereby suppressing the self-decomposition of ozone and further extending the life of ozone water. is there. As a means for removing hydrogen peroxide, water containing hydrogen peroxide is brought into contact with an adsorbent such as activated carbon or a synthetic adsorbent to adsorb or decompose hydrogen peroxide, and water containing hydrogen peroxide is replaced with palladium or the like. Examples thereof include a method of bringing hydrogen peroxide into contact with a supported ion exchange resin or metal ion type cation exchange resin and decomposing hydrogen peroxide by their catalytic action. As an adsorbent such as activated carbon or synthetic adsorbent, the above-mentionedreferenceThe same adsorbent used in the form can be used. As the metal ion type cation exchange resin, for example, a metal ion such as iron ion, copper ion, nickel ion, chromium ion, cobalt ion or the like adsorbed on a strongly acidic cation exchange resin can be used. In addition, it may be mixed in the hydrogen peroxide removing means after the hydrogen peroxide removing means is subjected to filtration processing for removing fine particles such as a microfiltration membrane device and an ultrafiltration membrane device as described above. This is preferable because fine particles can be removed.
[0018]
  As described above, by setting the hydrogen peroxide in the ultrapure water for dissolving ozone to 15 μg / L or less, the self-decomposition of ozone can be suppressed and the life of the ozone water can be extended. If the pH of water is made acidic, the lifetime of ozone water can be further extended. The means for making the pH acidic is not particularly limited as long as the purpose of use of the ozone water is not hindered, but the method of dissolving carbon dioxide as described above is preferable because it has no persistence and is relatively low in cost. Examples of the method for dissolving carbon dioxide in ultrapure water include bubbling carbon dioxide in ultrapure water, mixing with a line mixer, and dissolving a membrane with a gas permeable membrane. Gas-permeable membranes used for membrane dissolution are non-porous membranes such as polydimethylsiloxane, polyolefin, and polysulfone; hydrophobic porous membranes such as fluororesin, polyethylene, and polypropylene are modularized into hollow fibers and spirals. Can be used.
[0019]
  RealAs in the embodiment, when ultrapure water has been subjected to ultraviolet irradiation treatment with an intensity of hydrogen peroxide exceeding 15 μg / L in the process of producing ultrapure water, excess water is added to the ultrapure water. If ozone is dissolved after the hydrogen oxide removal treatment, self-decomposition of the obtained ozone water is suppressed, and the life of the ozone water can be extended. Further, if the pH of ultrapure water that dissolves ozone water is made acidic, the ozone water has a longer life.
[0020]
  In the present invention, the ultrapure water in which ozone is dissolved is not limited to the ultrapure water produced by the ultrapure water production apparatus in the above embodiment, but the suspended substance removal treatment, the ionic substance removal treatment, and the sterilization Water that has been purified by a system appropriately combined with treatment, organic matter removal treatment, particulate removal treatment, deaeration treatment, and the like, and the water quality is preferably one having a resistivity of 10 MΩ · cm or more, Further, those of 17 MΩ · cm or more are preferable. The concentration of hydrogen peroxide in the ultrapure water is 15 μg / L or less, preferably 10 μg / L or less, more preferably 0 μg / L before ozone dissolution.
[0021]
  In the present invention, as a method for quantifying low-concentration hydrogen peroxide in ultrapure water, a known phenol phthaline method, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 56-54582 may be used. That is, 30 ml of a test solution containing hydrogen peroxide was accurately collected in a beaker and 4 × 10 4-3Add 0.3 ml of M phenol phthalin alkaline solution and add 4 × 10-FourAdd 0.3 ml of M copper sulfate solution, stir gently and let stand for a few minutes. The solution exhibiting a pink red color is transferred to a colorimetric cell having an optical path length of 50 mm, and the absorbance is measured by spectroscopic analysis at a wavelength of 540 nm. From the absorbance-hydrogen peroxide concentration calibration curve prepared in advance based on the measured absorbance. What is necessary is just to determine the density | concentration of hydrogen peroxide.
[0022]
【Example】
  EXAMPLES Next, although an Example is given and this invention is demonstrated more concretely, this is only an illustration and does not restrict | limit this invention.
referenceExample 1
  When treated with the ozone water production equipment shown in Fig. 1 using industrial water as the raw material, the resistivity of the ultrapure water supplied to the ozone dissolver 213 is 18.0 MΩ · cm, and the hydrogen peroxide concentration in the ultrapure water Was 0 μg / L. Ozone was dissolved in this ultrapure water using an ozone dissolver 213 to produce ozone water having an ozone concentration of about 10 mg / L. This ozone water was sent to each use point, and the ozone concentration at each use point was measured. The ozone concentration was measured by the phenol phthaline method. The results are shown in FIG. In the figure, the pipe transfer time means the time to reach each use point, and is obtained from the ozone water flow rate and the pipe length to each use point.
[0023]
referenceExample 2 andreferenceExample 3
  As the ozone water production apparatus shown in FIG. 2, the concentration of hydrogen peroxide in the ultrapure water supplied to the ozone dissolver 213 is 10 μg / L (referenceExample 2) and 15 μg / L (referenceExcept for example 3)referencePerformed as in Example 1. The results are shown in FIG.
[0024]
Comparative Example 1
  The ozone water production apparatus shown in FIG. 6 is the ozone water production apparatus except that the hydrogen peroxide concentration in the ultrapure water supplied to the ozone dissolver 213 is 35 μg / L.referencePerformed as in Example 1. The results are shown in FIG.
[0025]
  As is clear from FIG. 5, when ozone is dissolved in conventional ultrapure water containing hydrogen peroxide of 35 μg / L and ozone water is supplied by piping (Comparative Example 1), the half-life of the ozone concentration is about 1 minute. It is. For example, when designing an ozone water production system with the ozone concentration immediately after ozone dissolution being twice the required concentration at the point of use, the half-life of the ozone concentration is 1 minute in the conventional method, so the pipe transfer time is 1 minute. Must be within. As is normally done, if the linear velocity during pipe transfer is 1.0 to 1.5 m / second, the transfer pipe length is limited to 60 to 90 m or less in the conventional method. Normally, the piping in the factory is not laid in a straight line from the source to the destination, and includes many bends. It is very difficult to produce and supply ozone water to multiple use points. Ozone water production equipment must be individually installed in the immediate vicinity of each use point, and the overall design area and maintenance are maintained. Increase management costs. In contrast, for example,referenceIn Example 2, the hydrogen peroxide concentration in the ultrapure water is 10 μg / L, and in this case, the half-life of the ozone concentration can be 4 minutes or more. Similarly to the above, when designing ozone water production and supply equipment by setting the ozone concentration immediately after ozone dissolution to twice the required concentration at the point of use, the pipe transfer time can be set to 4 minutes or less. When the linear velocity is 1.0 to 1.5 m / sec, the pipe length can be extended to 240 to 360 m. If a pipe length of 240 to 360 m is possible, in most factories, ozone can be centrally produced and supplied to a plurality of use points dispersed in the factory with a single ozone water production device. Since the installation area of the ozone water production apparatus can be reduced, the initial investment and management and maintenance costs can be saved.
[0026]
  In addition, when the length of the ozone water transfer pipe is fixed as in the case of remodeling an existing ozone water production apparatus to the apparatus of the present invention, the ozone water production apparatus of the present invention is less ozone than the conventional apparatus. Since the ozone concentration immediately after melting can be kept low, it is possible to reduce the size of the ozone generation unit, reduce initial investment, and save energy for ozone production. Further, since the decrease in ozone concentration due to self-decomposition is suppressed to a small level, there is almost no foaming at the use point due to oxygen supersaturation, and ozone water having a stable concentration at the use point can be supplied.
[0027]
  For example, if the ozone water required amount at the use point is 10 L / min, the required concentration is 5 mg / L, and the ozone water pipe transfer time is 60 seconds, the half-life of the ozone concentration is 60 seconds in the apparatus of Comparative Example 1. The ozone concentration immediately after dissolution must be 10 mg / L or more. In this case, even if the ozone dissolution efficiency is 90%, the ozone generation amount of the ozone generation section must be 111 mg / min or more. On the other hand, when the apparatus of the embodiment is applied to the above ozone water supply conditions, the ozone concentration immediately after dissolution should be 6 mg / L or more, and the required ozone generation amount is 66.7 mg / min or more. It is possible to reduce the size of the ozone generator, thereby reducing initial investment and saving energy for ozone production.
[0028]
  Furthermore, in the above example, in the apparatus of Comparative Example 1, the ozone concentration decrease due to autolysis, that is, the oxygen increase reaches 5 mg / L. On the contrary,referenceIn the example apparatus, the decrease in ozone concentration can be suppressed to only 1 mg / L, and the foaming at the point of use due to oxygen supersaturation can be almost eliminated. In addition, when supplying ozone water to multiple use points, the amount of ozone water used varies depending on the use conditions at each use point, and the time to reach the ozone water at each use point is not constant. Although the concentration may become unstable, in the apparatus of the embodiment, the ozone concentration decrease amount is small, so that even in such a case, it is possible to supply ozone water having a stable ozone concentration.
[0029]
referenceExample 4
  Industrial water was used as raw water and treated using the ozone water production apparatus shown in FIG. 3 (however, the ultraviolet sterilizer 205 was not bypassed). A synthetic adsorbent (trade name “Ambersorb 252” manufactured by Rohm and Haas) was used for the organic substance adsorber 301. In FIG. 3, the resistivity of ultrapure water before ozone dissolution, the hydrogen peroxide concentration in the ultrapure water, the TOC (total organic carbon) component, and the fine particles were measured. As a result, the resistivity was 18.0 MΩcm, the hydrogen peroxide concentration was 1 μg / L, the TOC amount was 1 μg / L, and the fine particles of 0.1 μm or more were 1 particle / ml.referenceAccording to Example 4, since the organic substance adsorber is used instead of the ultraviolet oxidizer, the organic substance in the for-treatment water can be effectively removed. Moreover, the removal effect of hydrogen peroxide was also recognized.
[0030]
Example1
  It processed using the ozone water manufacturing apparatus shown in FIG. 4 by making industrial water into raw | natural water. For the hydrogen peroxide decomposer 401, an iron ion type strongly acidic cation exchange resin was used. In this ozone water production apparatus, the hydrogen peroxide which was 35 μg / L after the UV oxidizer 210 was reduced to 0 μg / L by the iron ion type cation exchange resin. The pH after the carbon dioxide dissolver 403 was 4.7. The attenuation of the concentration of ozone water produced by this ozone water production apparatus is shown in FIG. Example1According to the present invention, even if ultraviolet irradiation treatment is performed, if hydrogen peroxide removing means is provided at the subsequent stage, the concentration of hydrogen peroxide in ultrapure water that dissolves ozone is reduced.10It can be less than μg / L. Further, by making the pH of the ultrapure water acidic, it is possible to further extend the life of ozone water.
[0031]
【The invention's effect】
  According to the ozone water production method and apparatus of the present invention, ultrapure water produced by a treatment method that does not produce hydrogen peroxide, or ultrapure water from which hydrogen peroxide produced during the production of ultrapure water has been removed by subsequent treatment. Dissolve ozone, or dissolve ozone in ultrapure water that does not contain hydrogen peroxide and have an acidic pH, thereby slowing the self-decomposition rate of ozone in ozone water and dispersing it over a wide area in the factory Even for a plurality of use points, it is possible to centrally manufacture and supply ozone water with one ozone water production apparatus, and it is not necessary to produce a large excess of ozone with respect to the required amount, thereby reducing the cost. In addition, it is possible to supply ozone water that has little foaming due to supersaturated oxygen at the use point and has a stable concentration at the use point.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 of the present inventionreferenceIt is a block diagram of the ozone water manufacturing apparatus in a form.
FIG. 2 of the present inventionreferenceIt is a block diagram of the ozone water manufacturing apparatus in a form.
FIG. 3 of the present inventionreferenceIt is a block diagram of the ozone water manufacturing apparatus in an embodiment.
FIG. 4 The present inventionThe fruitIt is a block diagram of the ozone water manufacturing apparatus in an embodiment.
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between ozone water pipe transfer time and ozone concentration attenuation;
FIG. 6 is a block diagram of a conventional ozone water production apparatus.
[Explanation of symbols]
  1 Pretreatment system
  2 Primary pure water system
  3 Subsystem
  4 Ozone dissolution part (ozone dissolution means)
  11, 11a-11d Ultrapure water production equipment
  201 Coagulation sedimentation equipment
  202 Filter
  203 Filtration water tank
  204 Ion exchanger
  205 UV sterilizer (UV sterilization means)
  206 Microfiltration membrane device
  207 Reverse osmosis membrane device
  208 Primary pure water tank
  209 Deaerator
  210 UV oxidizer (UV oxidizer)
  211, 302, 402 Ion exchanger
  212, 303, 404 Ultrafiltration membrane device
  213 Ozone dissolver
  214 Ozone generator
  301 Organic substance adsorber (Organic substance removal means)
  401 Hydrogen peroxide decomposer (hydrogen peroxide removing means)
  403 Carbon dioxide dissolver

Claims (4)

一次純水システムで得られた水を更に処理して得られる超純水にオゾンを溶解させてユースポイントで使用するオゾン水を製造するオゾン水製造方法において、前記一次純水システムで得られた水を、過酸化水素の生成量が15μg/lを超える強度の紫外線酸化手段及び該紫外線酸化手段により生成した過酸化水素を除去する過酸化水素除去手段に通水して過酸化水素濃度が10μg/l以下の超純水を得、次いで該超純水にオゾンを溶解して、オゾン濃度の半減期が4分以上のオゾン水を得ることを特徴とするオゾン水製造方法。In an ozone water production method for producing ozone water to be used at a use point by dissolving ozone in ultrapure water obtained by further processing water obtained in a primary pure water system, the ozone water production method obtained in the primary pure water system water, hydrogen peroxide concentration in Rohm hydrogen peroxide removal means to remove the formed hydrogen peroxide by UV oxidation means and said ultraviolet oxidation unit intensity produced amount of hydrogen peroxide is more than 15 [mu] g / l A method for producing ozone water, comprising obtaining ultrapure water of 10 μg / l or less and then dissolving ozone in the ultrapure water to obtain ozone water having a half-life of ozone concentration of 4 minutes or more. 前記過酸化水素除去手段が、吸着材による吸着もしくは分解処理又はパラジウム担持イオン交換樹脂あるいは金属イオン型陽イオン交換樹脂による分解処理、あるいはこれらの処理とその後段の微粒子除去用濾過処理との組合せ処理であることを特徴とする請求項1記載のオゾン水製造方法。  The hydrogen peroxide removing means is an adsorption or decomposition treatment with an adsorbent, a decomposition treatment with a palladium-supported ion exchange resin or a metal ion type cation exchange resin, or a combination treatment of these treatments and subsequent filtration treatment for removing fine particles. The method for producing ozone water according to claim 1, wherein: 前記オゾンを溶解させる超純水のpHを酸性とすることを特徴とする請求項1又は2記載のオゾン水製造方法。  The method for producing ozone water according to claim 1 or 2, wherein the pH of the ultrapure water in which the ozone is dissolved is made acidic. 前記オゾンを溶解させる超純水のpHを酸性とする方法が、超純水に二酸化炭素を溶解させる方法であることを特徴とする請求項3に記載のオゾン水製造方法。  The method for producing ozone water according to claim 3, wherein the method of acidifying the pH of the ultrapure water in which the ozone is dissolved is a method of dissolving carbon dioxide in the ultrapure water.
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