JP3719052B2 - 光モジュール - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、光送受信あるいは光送信を行う場合に使用される光モジュールに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、通信用の光モジュールには、光導波路を有する光学用基板と、この光学用基板上の光導波路に接続する受・発光素子および光ファイバ等の光学素子とを備えたものが知られている。
このような光モジュールにおいては、発光素子からの光ビームが光導波路，光ファイバを介して外部に伝搬され、また外部からの光ビームが光ファイバ，光導波路を介して受光素子に伝搬される。
【０００３】
従来、この種の光モジュールには、特開平６−２７３６３１号公報（従来例１）および特開平９−２８１３５１号公報（従来例２）にそれぞれ「光導波路」と「高分子光導波路の製造方法」として開示されたものが提案されている。
【０００４】
「従来例１」
これは、図６に示すように光学用基板６１上に下方クラッド６２，コア６３および上方クラッド６４を順次積層し、次にこの積層体の側面を覆う側方クラッドを積層することにより、断面正方形状（ストリップライン形状）の光導波路を形成してなるものである。
【０００５】
「従来例２」
これは、転写型上にコアおよび第一クラッドを順次積層し、次にこの積層体から転写型を剥離させた後、コアの露呈面（第一クラッドと反対側の面）に第二クラッドを積層することにより、断面正方形状（ストリップライン形状）の光導波路を形成してなるものである。
【０００６】
このような光モジュールにおいては、図７に示すように、光学用基板７１上にそれぞれが互いに９０°異なる光路方向をもつ光導波路７２を形成する場合、二つの直線部７２ａ，７２ｂ間に曲線部７２ｃを介在させることが行われる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の光モジュールにおいて、光導波路７２の光路方向を曲げるには、曲線部７２ｃの曲率半径を光導波路７２の幅方向寸法より相当大きい寸法（光導波路７２の幅方向寸法の５００倍以上の寸法）に設定する必要が生じ、すなわち例えば光導波路７２の幅寸法を約１０μｍとすると、曲線部７２ｃの曲率半径が５ｍｍ程度の寸法となり、光学用基板７１上の全実装領域面積に対する光路（曲線部７２ｃ）の実装領域面積が比較的大きな割合で占められていた。
【０００８】
この結果、光学用基板７１の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が小さくなり、部品実装密度が低下するという問題があった。
また、両直線部７２ａ，７２ｂ間に大きい曲率半径をもつ曲線部７２ｃが介在することは、それだけ光伝送距離が大きくなり、光伝送時に光の減衰によって光伝送損失が大きくなるという問題もあった。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、各光路方向が互いに異なる二つの光導波路の接続に反射鏡を有する光結合素子を用いることにより、部品実装密度を高めることができるとともに、光伝送損失を低減することができる光モジュールの提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明の光モジュールは、各光路方向が互いに異なるクラッドおよびコアからなる少なくとも二つの光導波路を有する光学用基板と、この光学用基板上に配設され、かつ前記両光導波路に接続された光結合素子とを備え、この光結合素子は、前記両光導波路のうち一方の光導波路から他方の光導波路に光路を変換するための光反射鏡、及び、前記両光導波路のコアの屈折率より小さい屈折率の薄膜を有し、前記光結合素子を前記両光導波路のコア上面に接着剤によって接着したことで、前記コアから染み出した光を前記薄膜にて光結合素子に伝送させる構成としてある。
したがって、コアから染み出した光がコアの屈折率より小さい屈折率の薄膜を介して光結合素子に伝送される。
【００１１】
請求項２記載の発明は、前記光反射鏡を二つの光反射鏡で構成し、光結合素子の配置方向が傾斜しても光反射鏡に入射する光の曲げ角度を一定にすることによって、光結合素子と光導波路との位置ずれ許容度を高くした構成としてある。
【００１２】
請求項３記載の発明は、前記コアの平面形状を、前記光結合素子近傍より放物線状とした構成としてある。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。
図１および図２は本発明の第一実施形態に係る光モジュールを示す断面図と平面図、図３は本発明の第一実施形態に係る光モジュールにおける光結合素子の接続状態を示す平面図である。
図１〜図３において、符号１で示す光モジュールは、光学用基板２，光結合素子３，発光素子４および光ファイバ５を備えている。
【００１８】
光学用基板２は、一側端縁の角部近傍に断面Ｖ字状の凹溝２ａを有するシリコン基板によって形成されている。凹溝２ａは、弗化水素酸，硝酸，硫酸および酢酸等の酸性水溶液によってケミカルエッチング処理を施すことにより形成されている。これにより、光学用基板２に対する光ファイバ５の取り付けが、ファイバ先端部を凹溝２ａ内に位置付けて行われる。
【００１９】
なお、凹溝２ａの深さは、ファイバ取付状態において光ファイバ５（直径１２５μｍ）のコア５ａが光学用基板２の上面から３０μｍの高さになるような寸法、すなわちコア５ａが光学用基板２上における光導波路のコア（共に後述）に合致するような寸法に設定されている。
【００２０】
光学用基板２上には、それぞれが互いに平行な二つの光導波路６，８およびこれら両光導波路６，８に直角な光導波路７が形成されている。各光導波路６〜８はほぼ同一に、すなわち例えば光導波路６ａ，６ｂをそれぞれ光導波路７ａ，７ｂと光導波路８ａ，８ｂに対応させて構成されているため、光導波路６の構成についてのみ説明し、他の光導波路７，８の構成についての説明は省略する。
光導波路６は、光結合素子３に接続する光導波路６ａおよび発光素子４に接続する光導波路６ｂからなり、上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃを有している。
【００２１】
光導波路６ａは、図３に破線で示す放物線底部から放物線開口部までの距離を１．９２ｍｍとし、かつ開口幅を８０μｍとする放物線形状の輪郭（一部）を有し、光導波路６ｂに放物線底部から光結合素子３に向かって３０μｍ離間する接続部において連設されている。光導波路６ａの幅方向寸法は、光導波路６ｂとの接続部から光結合素子３に向かって９０μｍ離間する部位において２０μｍの寸法に設定され、またその接続部から光結合素子３に向かって１．８９ｍｍ離間する部位において８０μｍの寸法に設定されている。
【００２２】
そして、光導波路６ａは、光結合素子３の平面内であって底辺に連続する一辺近傍に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ８０μｍと３６６μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜（後述）を介して接着されている。これにより、光結合素子３に対する光導波路６ａから光束の大部分のエネルギーが導かれる。
この場合、接着剤としては、コア５Ｃの屈折率と同一の屈折率をもつ紫外線硬化エポキシ接着剤が用いられる。
【００２３】
なお、光導波路７ａは、光結合素子３の平面内であって底辺に連続する一辺近傍に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ８０μｍと３６６μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜（後述）を介して接着されている。これにより、光導波路７ａに対する光結合素子３から光束の大部分のエネルギーが導かれる。
【００２４】
一方、光導波路６ｂは平面がストリップライン（矩形）形状とする光路からなり、コア６Ｃが発光素子４の出射口４ａに光学的に結合されている。これにより、発光素子４の出射光が光導波路６ｂに導かれる。光導波路６ｂの幅方向寸法は、１０μｍの寸法に設定されている。
【００２５】
上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃは、液状エポキシオリゴマーを紫外線で硬化させて形成されている。両クラッド６Ａ，６Ｂは、屈折率を１．４９とし、厚さが３０μｍの寸法に設定されている。コア６Ｃは、屈折率を１．５１７とし、厚さが１０μｍの寸法に設定されている。
【００２６】
また、光学用基板２における光導波路６，７間および光導波路７，８間の接続部近傍には、紫外線硬化エポキシ樹脂からなる側方クラッド９，１０が形成されている。側方クラッド９，１０の厚さは、光導波路６ａの下方クラッド６Ｂの厚さにコア６Ｃの厚さを加算した４０μｍの寸法に設定されている。
光学用基板２の発光素子側（光ファイバ５の取付側と反対側）端縁には、各端部に端子１１ａ，１２ａを有する銅等の配線パターン１１，１２が形成されている。
【００２７】
光結合素子３は、光導波路６ａのコア６Ｃ（接着層を含む）とともに方向性結合器Ａを形成する二つの光結合素子（平面光学部品）３ａ，３ｂからなり、このうち光結合素子３ａが両光導波路６，７のコア６Ｃと側方クラッド９に、また光結合素子３ｂが両光導波路７，８のコア６Ｃと側方クラッド１０に接着されている。これら両光結合素子３はほぼ同一に構成されているため、一方の光結合素子３ａの構成のみについて説明し、他方の光結合素子３ｂの構成の説明については省略する。
【００２８】
光結合素子３ａは、素子本体３ａ1および薄膜３ａ2を有している。
素子本体３ａ1は、直角二等辺三角形の底辺および二辺の一部をそれぞれ底辺（長さ９０３μｍ）と二辺（各辺の長さ３６６μｍ）とし、かつこれら二辺のつくる挟角を頂角（１３５°）とする平面五角形状の光路変換素子からなり、全体が紫外線硬化性エポキシ樹脂あるいはクラウンガラス（ＢＫ７）等の透明体によって形成されている。
【００２９】
また、素子本体３ａ1は、屈折率を１．５１７とし、厚さが１０μｍの寸法に設定されている。素子本体３ａ1における頂角近傍の各光路方向端面には、光結合素子３ａの入射方向と出射方向を直角とするような光反射鏡ａ，ｂがアルミ蒸着して形成されている。これにより、光結合素子３の配置方向が傾斜しても、入射光を９０°曲げて出射光とするため、配向角度のずれ許容度が高い。また、光導波路６ａを８０μｍの幅に広げているので、光結合素子３の位置ずれが１０μｍ程度まで許容され、その許容度が高く、光導波路６ａと光結合素子３の位置合わせが簡単になる。
【００３０】
薄膜３ａ2は、素子本体３ａに紫外線硬化性エポキシ接着剤をスピンコート法によって積層してなり、光導波路６ａのコア６Ｃに接着されている。薄膜３ｂの屈折率は１．５０７とし、厚さが２μｍの寸法に設定されている。
【００３１】
方向性結合器Ａは、薄膜３ａ2の屈折率をコア６Ｃの屈折率で除した比屈折率をｎ（ｎ＝１．５０７÷１．５１７）とするとともに、光の屈折率をλとし、かつ薄膜３ａ2の厚さをｄとする結合器である場合、
ｅｘｐ［−２×π×｛（１−ｎ2）0.5｝×ｄ／λ］
程度の率で減衰して上下結合層に染み出した光（エバネッセント光）が伝送される。
【００３２】
例えば、比屈折率ｎをｎ＝０．９９３４（コア６Ｃおよび薄膜３ａ2の各屈折率が１．５１７と１．５０７）とするとともに、光の屈折率をλ＝１．３μｍすると、光伝送量は厚さｄがｄ＝１．３μｍで半減し、ｄ＝４．２μｍで１／１０以下に小さくなる。
【００３３】
ここで、光導波路６ａから薄膜３ａ2を介して素子本体３ａ1に光が染み出すモード結合定数をκとし、コア６Ｃの厚さと素子本体３ａ1の厚さが等しい場合にその厚さをｔとすると、κは
κ＝（λ／ｔ2）×ｅｘｐ［−２×π×｛（１−ｎ2）0.5｝×ｄ／λ］…（１）
となる。
【００３４】
そして、コア６Ｃから素子本体３ａ1に移行する光束は、上下結合層における光の進行方向長さ（Ｚ）に応じて周期的に変動する。
Ｚ＝（π／２）／κ …（２）
これにより、比屈折率ｎ，光の波長λ，コア６Ｃ（素子本体３ａ1）の厚さｔおよび薄膜３ａ2の厚さｄをそれぞれｎ＝０．９９３４，λ＝１．３μｍ，ｔ＝１０μｍ，ｄ＝２μｍとすると、ｚ＝３６６μｍが得られる。
【００３５】
また、光導波路６ｂのコア径ｄをｄ＝１０μｍとすると、その端面から出射する光の広がり角度（半角）は（４／π）×λ／ｄラジアンとなる。
例えば、光導波路６ｂのコア径ｄをｄ＝１０μｍとし、光導波路６ａに波長λ＝１．３の光が入射すると、その光の広がり角は０．１７ラジアン（９．７°）となり、光導波路６ａの放物線開口位置で光束幅が３２１ｍｍに広がる。
【００３６】
この場合、光導波路６ａの開口幅が８０μｍであるため、光束が光導波路６ａの側面で反射する。そして、光導波路６ａの開口位置において、光束の広がり角が補正され、光束幅ω0が８０μｍで広がり、広がり角θは０．２１ラジアンとなる。
ここで、光路の距離（Ｚ）の位置における光束幅ωは次式から導かれる。
ω＝ω0｛１＋（θ×Ｚ／ω0）2｝0.5 …（３）
【００３７】
これにより、光束が光結合素子３ａに入射して出射するまでの光路は、内側および外側でそれぞれ９５８μｍと１１１８μｍであるため、（３）式より距離Ｚの位置において光束幅は８０μｍ×１．０３となって３％広がる。
この場合、光伝送損失は、光導波路６ａと光結合素子３の結合部分において少なく、実用上問題がない。
【００３８】
発光素子４は、スポットサイズ変換素子付きのレーザダイオードからなり、配線パターン１１，１２の端子１１ａ，１２ａに出射口４ａを光導波路６ｂのコア６Ｃに合致させて半田バンプ４ｂ，４ｃ（直径約２６μｍ）を介して接続されている。
光ファイバ５は、約１０μｍのコア径をもつシングルモード光ファイバからなり、光学用基板２の凹溝２ａ内にコア５ａを光導波路８ｂのコア６Ｃに合致させて取り付けられている。
【００３９】
このように構成された光モジュールにおいては、発光素子４からレーザ光が出射すると、光導波路６，光結合素子３ａ，光導波路７，光結合素子３ｂおよび光導波路８を順次経て光ファイバ５に導かれる。
この場合、各光結合素子３ａ，３ｂにおいて、レーザ光が光反射鏡ａ，ｂで反射して光路方向を９０°変換する。
【００４０】
したがって、本実施形態においては、光導波路の光路方向を曲げる場合に従来のように大きな曲率半径をもって光路を形成する必要がないから、光学用基板２上の全実装領域面積に対する光路の実装領域面積が占める割合が小さくなり、それだけ光学用基板２の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が大きくなる。
また、本実施形態において、光結合素子３ａ，３ｂの光反射鏡ａ，ｂによってレーザ光を反射させて光路方向を変換させたことは、光導波路の曲線部によって光路方向を変換させる場合と比較して光伝送距離が小さくなるから、光伝送時の光減衰を少なくすることができる。
【００４１】
次に、第一実施形態における光モジュールの製造方法につき、図１，図２および図４（ａ）〜（ｌ）を用いて説明する。
図４（ａ）〜（ｌ）は本発明の第一実施形態に係る光モジュールの製造方法を説明するために示す断面図である。
本実施形態における光モジュールの製造は、「配線パターンと凹溝の形成」，「光導波路（下方クラッド層とコア層）の形成」，「光結合素子の接着」，「光導波路（上方クラッド層）の形成」および「発光素子と光ファイバの実装」を順次経て行われる。
【００４２】
「配線パターンと凹溝の形成」
先ず、図４（ａ）に示す光学用基板２に弗化水素酸，硝酸，硫酸あるいは酢酸の酸性水溶液でケミカルエッチング処理を施すことにより同図（ｂ）に示すように断面Ｖ字状の凹溝２ａを形成する。
次に、同図（ｃ）に示すように、光学用基板２の表面に銅めっき処理を施すことにより端子１１ａ，１２ａを有する配線パターン１１，１２を形成する。
【００４３】
「光導波路（下方クラッド層とコア層）の形成」
先ず、同図（ｄ）に示すように、光学用基板２が収容された深さ可変容器Ｖ内に液状エポキシオリゴマーおよび光重合開始剤を含む溶液を充満させる。
この場合、溶液の液面が光学用基板２の表面より上方３０μｍの高さになるように深さ可変容器Ｖの側壁ｖが高さ調整される。
なお、溶液としては、紫外線硬化後の屈折率が１．４９となるように成分調整したものが用いられる。
【００４４】
次に、光学用基板２の表面より上方１００μｍの高さに同図（ｄ）に二点鎖線で示す第一紫外線マスクｍを設置し、この第一紫外線マスクｍを介して深さ可変容器Ｖ内の溶液に光導波路６〜８のパターンで紫外線を照射することにより液状エポキシオリゴマーを硬化させて下方クラッド層４１を形成する。
【００４５】
そして、同図（ｅ）に示すように、光学用基板２と第一紫外線マスクｍの相対位置を固定したまま、側壁ｖを高さ調整して深さ可変容器Ｖ内に液状エポキシオリゴマーおよび光重合開始剤を含む溶液を充満させ、この溶液に光導波路６〜８のパターンで紫外線を照射することにより溶液の一部を硬化させてコア層４２を形成する。
この場合、溶液の液面が光学用基板２の表面より上方４０μｍ（下方クラッド層より上方１０μｍ）の高さになるように、深さ可変容器Ｖの側壁ｖが高さ調整される。
【００４６】
なお、溶液としては、紫外線硬化後の屈折率が１．５１７となるように成分調整したものが用いられている。
また、同図（ｄ）および（ｅ）において、符号４１ａおよび４２ａは下方クラッド層４１とコア層４２の紫外線硬化部分を示す。
【００４７】
その後、同図（ｆ）に示すように、光学用基板２と第一紫外線マスクｍの相対位置を固定したまま、側壁ｖを高さ調整して深さ可変容器Ｖ内に液体エッチングレジストを充満させてから、この液体エッチングレジストに光導波路６〜８のパターンで紫外線を照射することによりレジストの一部を硬化させ、同図（ｇ）に示すように現像してエッチングレジスト皮膜４３を形成する。
この場合、液体エッチングレジストの液面が光学用基板２の表面より上方７０μｍ（コア層より上方３０μｍ）の高さになるように、深さ可変容器Ｖの側壁ｖが高さ調整される。
【００４８】
そして、同図（ｈ）に示すように、下方クラッド層４１およびコア層４２の紫外線未硬化部分をイソプロパノール溶液で現像除去してエッチングレジスト皮膜４３，下方クラッド層４１およびコア層４２の紫外線硬化部分４１ａ，４２ａを残し、このうちコア層４２の紫外線硬化部分４２ａの側面を軟質ポリシャで境面研磨した後、エッチングレジスト皮膜４３を溶剤によって剥離除去する。
【００４９】
「光結合素子の接着」
予め、同図（ｉ）に示すように、光導波路（下方クラッド層とコア層）の形成後における光学用基板２上に紫外線硬化エポキシ樹脂を塗布することにより側方クラッド層４４を形成しておく。
この場合、側方クラッド層４４の素子実装面４４ａが光学用基板２の表面より上方４０μｍの高さになるように、その層厚が設定される。
なお、紫外線硬化エポキシ樹脂としては、紫外線硬化後の屈折率が１．４９となるように成分調整したものが用いられる。
【００５０】
そして、同図（ｊ）に示すように、側方クラッド層４４およびコア層４２（紫外線硬化部分４２ａ）上に紫外線硬化エポキシ接着剤によって光結合素子３を接着し、８０℃で２０分間乾燥させる。
【００５１】
「光導波路（上方クラッド層）の形成」
先ず、同図（ｋ）に示すように、光学用基板２上に光結合素子３およびコア層４２（コア）を覆うように紫外線硬化エポキシ樹脂を塗布し、８０℃で２０分間乾燥させることにより上方クラッド層４５を形成する。
この場合、光学用基板２の表面より上方７０μｍの高さになるように、上方クラッド層４５の層厚が設定される。
なお、紫外線硬化エポキシ樹脂としては、側方クラッド層４４を形成する場合と同様に、紫外線硬化後の屈折率が１．４９となるように成分調整したものが用いられる。
【００５２】
次に、上方クラッド層４５の上方に同図（ｋ）に二点鎖線で示す第二紫外線マスクｎを設置し、側方クラッド層４４および上方クラッド層４５に紫外線を照射することによりクラッド層一部を硬化させる。
この場合、紫外線の照射は、発光素子４および光ファイバ５の各実装領域を除き、光導波路６〜８のパターンに対して行われる。
【００５３】
そして、同図（ｌ）に示すように、側方クラッド４４および上方クラッド層４５の未硬化部分をイソプロパノール溶液で現像して除去し、１５０℃で３０分間加熱処理を施して側方クラッド層４４および上方クラッド層４５の硬化部分を完全硬化させる。
【００５４】
「発光素子と光ファイバの実装」
図１および図２に示すように、光学用基板２に対し、発光素子４を半田バンプ４ｂ，４ｃが配線パターン１１，１２の端子１１ａ，１２ａに位置するように実装するとともに、光ファイバ５をファイバ先端部が凹溝２ａ内に位置するように実装する。
この場合、発光素子４の出射口４ａおよび光ファイバ５のコア５ａをそれぞれ光導波路６，８のコア６Ｃに合致するような位置に位置付ける。また、半田バンプ４ｂ，４ｃが端子１１ａ，１２ａにセルフアライメント効果によって位置合わせされる。
このようにして、光モジュールを製造することができる。
【００５５】
次に、本発明の第二実施形態につき、図５を用いて説明する。
図５は本発明の第二実施形態に係る光モジュールを示す平面図で、同図において図１〜４と同一または同等の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
同図において、符号５１で示す光モジュールは、光学用基板５２，光結合素子５３，発光素子４，受光素子５４および光ファイバ５を備えている。
光学用基板５２は、第一実施形態に示す光学用基板２と同様に、一側端縁の角部近傍に断面Ｖ字状の凹溝５２ａを有するシリコン基板によって形成されている。
【００５６】
光学用基板５２上には、それぞれが互いに平行な二つの光導波路５５，５６が形成されている。
光導波路５５は、発光素子４および光ファイバ５にそれぞれ接続する二つの光導波路５５ａと、これら各光導波路５５ａに連接する二つの光導波路５５ｂとからなり、上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃ（図５に図示せず）を有している。
【００５７】
光導波路５５ａは、平面がストリップライン（矩形）形状とする光路からなり、各コア６Ｃが発光素子４の出射口４ａと光ファイバ５のコア５ａに光学的に結合されている。光導波路５５ａの幅方向寸法は、１０μｍの寸法に設定されている。
【００５８】
一方、光導波路５５ｂは、図５に破線で示す放物線底部から放物線開口部までの距離を３．００ｍｍとし、かつ開口幅を１００μｍとする放物線形状の輪郭（一部）を有し、それぞれが互いに開口部において連設され、かつ光導波路５５ａに放物線底部から光結合素子５３に向かって３０μｍ離間する接続部において連設されている。
【００５９】
そして、光導波路５５ｂは、光結合素子５３の平面内における片側側縁に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ１００μｍと１８３μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜（図示せず）を介して接着されている。これにより、光結合素子３に対する光導波路５５ｂから光束の半分のエネルギーが導かれる。
この場合、接着剤としては、コア５Ｃの屈折率と同一の屈折率をもつ紫外線硬化エポキシ接着剤が用いられる。
【００６０】
光導波路５６は、受光素子５３に接続する光導波路５６ａと、この光導波路５６ａに連接する光導波５６ｂとからなり、光導波路５５と同様に、上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃを有している。
【００６１】
光導波路５６ａは、平面がストリップライン（矩形）形状とする光路からなり、各コア６Ｃが受光素子５３の入射口５３ａに光学的に結合されている。光導波路５６ａの幅方向寸法は、１０μｍの寸法に設定されている。
【００６２】
一方、光導波路５６ｂは、図５に破線で示す放物線底部から放物線開口部までの距離を３．００ｍｍとし、かつ開口幅を１００μｍとする放物線形状の輪郭（一部）を有し、光導波路５６ａに放物線底部から光結合素子５３に向かって３０μｍ離間する接続部において連設されている。
【００６３】
そして、光導波路５６ｂは、光結合素子５３の平面内における片側側縁（光導波路５５ｂの接続部と反対側側縁）に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ１００μｍと３６６μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜を介して接着されている。これにより、光結合素子３に対する光導波路５３ｂから光束の全エネルギーが導かれる。
【００６４】
光結合素子５３は、素子本体５３ａおよび薄膜（図示せず）を有し、光導波路５５，５６のコア６Ｃ（接着層を含む）とともに方向性結合器Ａ（図５に図示せず）を形成する平面光学部品からなり、光導波路５５ｂ，５６ｂのコア６Ｃに接着されている。
【００６５】
素子本体５３ａは、入射方向光路部分および出射方向光路部分の長さがそれぞれ１８３μｍと３６６μｍとする二辺およびこれら二辺に４５°傾斜して連接しそれぞれが互いに平行な二辺をもち、かつ入射方向および出射方向と垂直な方向の寸法が１．２ｍｍ＋αとする平面七角形状の光路変換素子からなり、全体が紫外線硬化性エポキシ樹脂あるいはクラウンガラス（ＢＫ７）等の透明体によって形成されている。
【００６６】
また、素子本体３ａは、屈折率を１．５１７とし、厚さが１０μｍの寸法に設定されている。素子本体５３ａの二辺（４５°傾斜する二辺）を含む光路方向端面には、それぞれが光路方向に１．１ｍｍ離間し、入射光および出射光を互いに平行とするような光反射鏡ｓ，ｔが形成されている。これにより、一方の例えば光導波路５５から光が光結合素子５３に入射して各反射鏡ｓ，ｔで反射した後、光結合素子５３から入射方向と平行な方向に沿って他方の例えば光導波路５６に出射する。
【００６７】
一方、薄膜は、素子本体５３ａに紫外線硬化性エポキシ接着剤をスピンコート法によって積層してなり、各光導波路５５ｂ，５６ｂのコア６Ｃに接着されている。薄膜の屈折率は１．５０７とし、厚さが２μｍの寸法に設定されている。
【００６８】
受光素子５４は、受光口５４ａが光導波路５６ａのコア６Ｃに光学的に結合され、かつ光学用基板２上に半田バンプ（図示せず）を配線パターン１３の端子１３ａに接続して実装されている。
【００６９】
このように構成された光モジュールにおいては、発光素子４からレーザ光が図５に破線で示すように出射すると、光束エネルギーの半分が光導波路５５から光結合素子５３に移行し、光結合素子５３の光路方向端面で反射して外部に放出され、残りが光ファイバ５に導かれる。
一方、光ファイバ５からレーザ光が出射すると、光導波路５５から光結合素子５３ａに移行した後、光反射鏡ｓ，ｔで反射して光導波路５６に移行して受光素子５４に導かれる。
【００７０】
この場合、各光結合素子５３において、レーザ光が光反射鏡ｓ，ｔで反射して光路方向を９０°変換する。
なお、光ファイバ５からのレーザ光が、光導波路５５を介して発光素子４に到達しても、出射口４ａにおいて反射するだけで通信に利用されることはない。
【００７１】
したがって、本実施形態においては、第一実施形態と同様に、光導波路の光路方向を曲げる場合に従来のように大きな曲率半径をもって光路を形成する必要がないから、光学用基板２の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が大きくなる。
また、本実施形態において、光結合素子５３の光反射鏡ｓ，ｔによってレーザ光を反射させて光路方向を変換させたから、光伝送時の光減衰を少なくできることは第一実施形態と同様である。
【００７２】
なお、各実施形態においては、光学用基板としてシリコン基板からなる場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、金属製の基部材を絶縁性樹脂で被覆してなるものでもよく、他にセラミック基板，ガラス基板あるいは有機樹脂基板によって形成するものでもよい。
また、各実施形態においては、光結合素子が素子本体および薄膜からなる場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、素子本体のみからなるものでも各実施形態と同様の効果を奏する。
【００７３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、各光路方向が互いに異なる二つの光導波路を接続する光結合素子を、コアの屈折率より小さい屈折率の薄膜を介して両光導波路のコア上面に接着しているので、コアから染み出した光が薄膜を介して光結合素子に伝送される。
したがって、光伝送損失を低減させるため、従来のように大きな曲率半径をもって光導波路の光路を曲げる必要がないから、光学用基板上の全実装領域面積に対する光路の実装領域面積が占める割合が小さくなり、それだけ光学用基板の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が大きくなって部品実装密度を高めることができる。
【００７４】
また、光結合素子の各光反射鏡によってレーザ光を反射させて光路方向を変換させたことは、光導波路の曲線部によって光路方向を変換させる場合と比較して光伝送距離が小さくなるから、光伝送時の光減衰を少なくすることができ、光伝送損失を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の第一実施形態に係る光モジュールを示す断面図である。
【図２】本発明の第一実施形態に係る光モジュールを示す平面図である。
【図３】本発明の第一実施形態に係る光モジュールにおける光結合素子の接続状態を示す平面図である。
【図４】（ａ）〜（ｌ）は本発明の第一実施形態に係る光モジュールの製造方法を説明するために示す断面図である。
【図５】本発明の第二実施形態に係る光モジュールを示す平面図である。
【図６】従来の光モジュールを説明するために示す断面図である。
【図７】従来の光モジュールにおける光導波路の光路方向を変換する場合について説明するために示す平面図である。
【符号の説明】
１ 光モジュール
２ 光学用基板
２ａ 凹溝
３，３ａ，３ｂ 光結合素子
３ａ1 素子本体
３ａ2 薄膜
４ 発光素子
４ａ 出射口
４ｂ，４ｃ 半田バンプ
５ 光ファイバ
５ａ コア
６〜８ 光導波路
６Ａ 上方クラッド
６Ｂ 下方クラッド
６Ｃ コア
９，１０ 側方クラッド
１１，１２ 配線パターン
１１ａ，１２ａ 端子
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、光送受信あるいは光送信を行う場合に使用される光モジュールに関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、通信用の光モジュールには、光導波路を有する光学用基板と、この光学用基板上の光導波路に接続する受・発光素子および光ファイバ等の光学素子とを備えたものが知られている。
このような光モジュールにおいては、発光素子からの光ビームが光導波路，光ファイバを介して外部に伝搬され、また外部からの光ビームが光ファイバ，光導波路を介して受光素子に伝搬される。
【０００３】
従来、この種の光モジュールには、特開平６−２７３６３１号公報（従来例１）および特開平９−２８１３５１号公報（従来例２）にそれぞれ「光導波路」と「高分子光導波路の製造方法」として開示されたものが提案されている。
【０００４】
「従来例１」
これは、図６に示すように光学用基板６１上に下方クラッド６２，コア６３および上方クラッド６４を順次積層し、次にこの積層体の側面を覆う側方クラッドを積層することにより、断面正方形状（ストリップライン形状）の光導波路を形成してなるものである。
【０００５】
「従来例２」
これは、転写型上にコアおよび第一クラッドを順次積層し、次にこの積層体から転写型を剥離させた後、コアの露呈面（第一クラッドと反対側の面）に第二クラッドを積層することにより、断面正方形状（ストリップライン形状）の光導波路を形成してなるものである。
【０００６】
このような光モジュールにおいては、図７に示すように、光学用基板７１上にそれぞれが互いに９０°異なる光路方向をもつ光導波路７２を形成する場合、二つの直線部７２ａ，７２ｂ間に曲線部７２ｃを介在させることが行われる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の光モジュールにおいて、光導波路７２の光路方向を曲げるには、曲線部７２ｃの曲率半径を光導波路７２の幅方向寸法より相当大きい寸法（光導波路７２の幅方向寸法の５００倍以上の寸法）に設定する必要が生じ、すなわち例えば光導波路７２の幅寸法を約１０μｍとすると、曲線部７２ｃの曲率半径が５ｍｍ程度の寸法となり、光学用基板７１上の全実装領域面積に対する光路（曲線部７２ｃ）の実装領域面積が比較的大きな割合で占められていた。
【０００８】
この結果、光学用基板７１の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が小さくなり、部品実装密度が低下するという問題があった。
また、両直線部７２ａ，７２ｂ間に大きい曲率半径をもつ曲線部７２ｃが介在することは、それだけ光伝送距離が大きくなり、光伝送時に光の減衰によって光伝送損失が大きくなるという問題もあった。
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、各光路方向が互いに異なる二つの光導波路の接続に反射鏡を有する光結合素子を用いることにより、部品実装密度を高めることができるとともに、光伝送損失を低減することができる光モジュールの提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明の光モジュールは、各光路方向が互いに異なるクラッドおよびコアからなる少なくとも二つの光導波路を有する光学用基板と、この光学用基板上に配設され、かつ前記両光導波路に接続された光結合素子とを備え、この光結合素子は、前記両光導波路のうち一方の光導波路から他方の光導波路に光路を変換するための光反射鏡、及び、前記両光導波路のコアの屈折率より小さい屈折率の薄膜を有し、前記光結合素子を前記両光導波路のコア上面に接着剤によって接着したことで、前記コアから染み出した光を前記薄膜にて光結合素子に伝送させる構成としてある。
したがって、コアから染み出した光がコアの屈折率より小さい屈折率の薄膜を介して光結合素子に伝送される。
【００１１】
請求項２記載の発明は、前記光反射鏡を二つの光反射鏡で構成し、光結合素子の配置方向が傾斜しても光反射鏡に入射する光の曲げ角度を一定にすることによって、光結合素子と光導波路との位置ずれ許容度を高くした構成としてある。
【００１２】
請求項３記載の発明は、前記コアの平面形状を、前記光結合素子近傍より放物線状とした構成としてある。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。
図１および図２は本発明の第一実施形態に係る光モジュールを示す断面図と平面図、図３は本発明の第一実施形態に係る光モジュールにおける光結合素子の接続状態を示す平面図である。
図１〜図３において、符号１で示す光モジュールは、光学用基板２，光結合素子３，発光素子４および光ファイバ５を備えている。
【００１８】
光学用基板２は、一側端縁の角部近傍に断面Ｖ字状の凹溝２ａを有するシリコン基板によって形成されている。凹溝２ａは、弗化水素酸，硝酸，硫酸および酢酸等の酸性水溶液によってケミカルエッチング処理を施すことにより形成されている。これにより、光学用基板２に対する光ファイバ５の取り付けが、ファイバ先端部を凹溝２ａ内に位置付けて行われる。
【００１９】
なお、凹溝２ａの深さは、ファイバ取付状態において光ファイバ５（直径１２５μｍ）のコア５ａが光学用基板２の上面から３０μｍの高さになるような寸法、すなわちコア５ａが光学用基板２上における光導波路のコア（共に後述）に合致するような寸法に設定されている。
【００２０】
光学用基板２上には、それぞれが互いに平行な二つの光導波路６，８およびこれら両光導波路６，８に直角な光導波路７が形成されている。各光導波路６〜８はほぼ同一に、すなわち例えば光導波路６ａ，６ｂをそれぞれ光導波路７ａ，７ｂと光導波路８ａ，８ｂに対応させて構成されているため、光導波路６の構成についてのみ説明し、他の光導波路７，８の構成についての説明は省略する。
光導波路６は、光結合素子３に接続する光導波路６ａおよび発光素子４に接続する光導波路６ｂからなり、上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃを有している。
【００２１】
光導波路６ａは、図３に破線で示す放物線底部から放物線開口部までの距離を１．９２ｍｍとし、かつ開口幅を８０μｍとする放物線形状の輪郭（一部）を有し、光導波路６ｂに放物線底部から光結合素子３に向かって３０μｍ離間する接続部において連設されている。光導波路６ａの幅方向寸法は、光導波路６ｂとの接続部から光結合素子３に向かって９０μｍ離間する部位において２０μｍの寸法に設定され、またその接続部から光結合素子３に向かって１．８９ｍｍ離間する部位において８０μｍの寸法に設定されている。
【００２２】
そして、光導波路６ａは、光結合素子３の平面内であって底辺に連続する一辺近傍に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ８０μｍと３６６μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜（後述）を介して接着されている。これにより、光結合素子３に対する光導波路６ａから光束の大部分のエネルギーが導かれる。
この場合、接着剤としては、コア５Ｃの屈折率と同一の屈折率をもつ紫外線硬化エポキシ接着剤が用いられる。
【００２３】
なお、光導波路７ａは、光結合素子３の平面内であって底辺に連続する一辺近傍に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ８０μｍと３６６μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜（後述）を介して接着されている。これにより、光導波路７ａに対する光結合素子３から光束の大部分のエネルギーが導かれる。
【００２４】
一方、光導波路６ｂは平面がストリップライン（矩形）形状とする光路からなり、コア６Ｃが発光素子４の出射口４ａに光学的に結合されている。これにより、発光素子４の出射光が光導波路６ｂに導かれる。光導波路６ｂの幅方向寸法は、１０μｍの寸法に設定されている。
【００２５】
上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃは、液状エポキシオリゴマーを紫外線で硬化させて形成されている。両クラッド６Ａ，６Ｂは、屈折率を１．４９とし、厚さが３０μｍの寸法に設定されている。コア６Ｃは、屈折率を１．５１７とし、厚さが１０μｍの寸法に設定されている。
【００２６】
また、光学用基板２における光導波路６，７間および光導波路７，８間の接続部近傍には、紫外線硬化エポキシ樹脂からなる側方クラッド９，１０が形成されている。側方クラッド９，１０の厚さは、光導波路６ａの下方クラッド６Ｂの厚さにコア６Ｃの厚さを加算した４０μｍの寸法に設定されている。
光学用基板２の発光素子側（光ファイバ５の取付側と反対側）端縁には、各端部に端子１１ａ，１２ａを有する銅等の配線パターン１１，１２が形成されている。
【００２７】
光結合素子３は、光導波路６ａのコア６Ｃ（接着層を含む）とともに方向性結合器Ａを形成する二つの光結合素子（平面光学部品）３ａ，３ｂからなり、このうち光結合素子３ａが両光導波路６，７のコア６Ｃと側方クラッド９に、また光結合素子３ｂが両光導波路７，８のコア６Ｃと側方クラッド１０に接着されている。これら両光結合素子３はほぼ同一に構成されているため、一方の光結合素子３ａの構成のみについて説明し、他方の光結合素子３ｂの構成の説明については省略する。
【００２８】
光結合素子３ａは、素子本体３ａ1および薄膜３ａ2を有している。
素子本体３ａ1は、直角二等辺三角形の底辺および二辺の一部をそれぞれ底辺（長さ９０３μｍ）と二辺（各辺の長さ３６６μｍ）とし、かつこれら二辺のつくる挟角を頂角（１３５°）とする平面五角形状の光路変換素子からなり、全体が紫外線硬化性エポキシ樹脂あるいはクラウンガラス（ＢＫ７）等の透明体によって形成されている。
【００２９】
また、素子本体３ａ1は、屈折率を１．５１７とし、厚さが１０μｍの寸法に設定されている。素子本体３ａ1における頂角近傍の各光路方向端面には、光結合素子３ａの入射方向と出射方向を直角とするような光反射鏡ａ，ｂがアルミ蒸着して形成されている。これにより、光結合素子３の配置方向が傾斜しても、入射光を９０°曲げて出射光とするため、配向角度のずれ許容度が高い。また、光導波路６ａを８０μｍの幅に広げているので、光結合素子３の位置ずれが１０μｍ程度まで許容され、その許容度が高く、光導波路６ａと光結合素子３の位置合わせが簡単になる。
【００３０】
薄膜３ａ2は、素子本体３ａに紫外線硬化性エポキシ接着剤をスピンコート法によって積層してなり、光導波路６ａのコア６Ｃに接着されている。薄膜３ｂの屈折率は１．５０７とし、厚さが２μｍの寸法に設定されている。
【００３１】
方向性結合器Ａは、薄膜３ａ2の屈折率をコア６Ｃの屈折率で除した比屈折率をｎ（ｎ＝１．５０７÷１．５１７）とするとともに、光の屈折率をλとし、かつ薄膜３ａ2の厚さをｄとする結合器である場合、
ｅｘｐ［−２×π×｛（１−ｎ2）0.5｝×ｄ／λ］
程度の率で減衰して上下結合層に染み出した光（エバネッセント光）が伝送される。
【００３２】
例えば、比屈折率ｎをｎ＝０．９９３４（コア６Ｃおよび薄膜３ａ2の各屈折率が１．５１７と１．５０７）とするとともに、光の屈折率をλ＝１．３μｍすると、光伝送量は厚さｄがｄ＝１．３μｍで半減し、ｄ＝４．２μｍで１／１０以下に小さくなる。
【００３３】
ここで、光導波路６ａから薄膜３ａ2を介して素子本体３ａ1に光が染み出すモード結合定数をκとし、コア６Ｃの厚さと素子本体３ａ1の厚さが等しい場合にその厚さをｔとすると、κは
κ＝（λ／ｔ2）×ｅｘｐ［−２×π×｛（１−ｎ2）0.5｝×ｄ／λ］…（１）
となる。
【００３４】
そして、コア６Ｃから素子本体３ａ1に移行する光束は、上下結合層における光の進行方向長さ（Ｚ）に応じて周期的に変動する。
Ｚ＝（π／２）／κ …（２）
これにより、比屈折率ｎ，光の波長λ，コア６Ｃ（素子本体３ａ1）の厚さｔおよび薄膜３ａ2の厚さｄをそれぞれｎ＝０．９９３４，λ＝１．３μｍ，ｔ＝１０μｍ，ｄ＝２μｍとすると、ｚ＝３６６μｍが得られる。
【００３５】
また、光導波路６ｂのコア径ｄをｄ＝１０μｍとすると、その端面から出射する光の広がり角度（半角）は（４／π）×λ／ｄラジアンとなる。
例えば、光導波路６ｂのコア径ｄをｄ＝１０μｍとし、光導波路６ａに波長λ＝１．３の光が入射すると、その光の広がり角は０．１７ラジアン（９．７°）となり、光導波路６ａの放物線開口位置で光束幅が３２１ｍｍに広がる。
【００３６】
この場合、光導波路６ａの開口幅が８０μｍであるため、光束が光導波路６ａの側面で反射する。そして、光導波路６ａの開口位置において、光束の広がり角が補正され、光束幅ω0が８０μｍで広がり、広がり角θは０．２１ラジアンとなる。
ここで、光路の距離（Ｚ）の位置における光束幅ωは次式から導かれる。
ω＝ω0｛１＋（θ×Ｚ／ω0）2｝0.5 …（３）
【００３７】
これにより、光束が光結合素子３ａに入射して出射するまでの光路は、内側および外側でそれぞれ９５８μｍと１１１８μｍであるため、（３）式より距離Ｚの位置において光束幅は８０μｍ×１．０３となって３％広がる。
この場合、光伝送損失は、光導波路６ａと光結合素子３の結合部分において少なく、実用上問題がない。
【００３８】
発光素子４は、スポットサイズ変換素子付きのレーザダイオードからなり、配線パターン１１，１２の端子１１ａ，１２ａに出射口４ａを光導波路６ｂのコア６Ｃに合致させて半田バンプ４ｂ，４ｃ（直径約２６μｍ）を介して接続されている。
光ファイバ５は、約１０μｍのコア径をもつシングルモード光ファイバからなり、光学用基板２の凹溝２ａ内にコア５ａを光導波路８ｂのコア６Ｃに合致させて取り付けられている。
【００３９】
このように構成された光モジュールにおいては、発光素子４からレーザ光が出射すると、光導波路６，光結合素子３ａ，光導波路７，光結合素子３ｂおよび光導波路８を順次経て光ファイバ５に導かれる。
この場合、各光結合素子３ａ，３ｂにおいて、レーザ光が光反射鏡ａ，ｂで反射して光路方向を９０°変換する。
【００４０】
したがって、本実施形態においては、光導波路の光路方向を曲げる場合に従来のように大きな曲率半径をもって光路を形成する必要がないから、光学用基板２上の全実装領域面積に対する光路の実装領域面積が占める割合が小さくなり、それだけ光学用基板２の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が大きくなる。
また、本実施形態において、光結合素子３ａ，３ｂの光反射鏡ａ，ｂによってレーザ光を反射させて光路方向を変換させたことは、光導波路の曲線部によって光路方向を変換させる場合と比較して光伝送距離が小さくなるから、光伝送時の光減衰を少なくすることができる。
【００４１】
次に、第一実施形態における光モジュールの製造方法につき、図１，図２および図４（ａ）〜（ｌ）を用いて説明する。
図４（ａ）〜（ｌ）は本発明の第一実施形態に係る光モジュールの製造方法を説明するために示す断面図である。
本実施形態における光モジュールの製造は、「配線パターンと凹溝の形成」，「光導波路（下方クラッド層とコア層）の形成」，「光結合素子の接着」，「光導波路（上方クラッド層）の形成」および「発光素子と光ファイバの実装」を順次経て行われる。
【００４２】
「配線パターンと凹溝の形成」
先ず、図４（ａ）に示す光学用基板２に弗化水素酸，硝酸，硫酸あるいは酢酸の酸性水溶液でケミカルエッチング処理を施すことにより同図（ｂ）に示すように断面Ｖ字状の凹溝２ａを形成する。
次に、同図（ｃ）に示すように、光学用基板２の表面に銅めっき処理を施すことにより端子１１ａ，１２ａを有する配線パターン１１，１２を形成する。
【００４３】
「光導波路（下方クラッド層とコア層）の形成」
先ず、同図（ｄ）に示すように、光学用基板２が収容された深さ可変容器Ｖ内に液状エポキシオリゴマーおよび光重合開始剤を含む溶液を充満させる。
この場合、溶液の液面が光学用基板２の表面より上方３０μｍの高さになるように深さ可変容器Ｖの側壁ｖが高さ調整される。
なお、溶液としては、紫外線硬化後の屈折率が１．４９となるように成分調整したものが用いられる。
【００４４】
次に、光学用基板２の表面より上方１００μｍの高さに同図（ｄ）に二点鎖線で示す第一紫外線マスクｍを設置し、この第一紫外線マスクｍを介して深さ可変容器Ｖ内の溶液に光導波路６〜８のパターンで紫外線を照射することにより液状エポキシオリゴマーを硬化させて下方クラッド層４１を形成する。
【００４５】
そして、同図（ｅ）に示すように、光学用基板２と第一紫外線マスクｍの相対位置を固定したまま、側壁ｖを高さ調整して深さ可変容器Ｖ内に液状エポキシオリゴマーおよび光重合開始剤を含む溶液を充満させ、この溶液に光導波路６〜８のパターンで紫外線を照射することにより溶液の一部を硬化させてコア層４２を形成する。
この場合、溶液の液面が光学用基板２の表面より上方４０μｍ（下方クラッド層より上方１０μｍ）の高さになるように、深さ可変容器Ｖの側壁ｖが高さ調整される。
【００４６】
なお、溶液としては、紫外線硬化後の屈折率が１．５１７となるように成分調整したものが用いられている。
また、同図（ｄ）および（ｅ）において、符号４１ａおよび４２ａは下方クラッド層４１とコア層４２の紫外線硬化部分を示す。
【００４７】
その後、同図（ｆ）に示すように、光学用基板２と第一紫外線マスクｍの相対位置を固定したまま、側壁ｖを高さ調整して深さ可変容器Ｖ内に液体エッチングレジストを充満させてから、この液体エッチングレジストに光導波路６〜８のパターンで紫外線を照射することによりレジストの一部を硬化させ、同図（ｇ）に示すように現像してエッチングレジスト皮膜４３を形成する。
この場合、液体エッチングレジストの液面が光学用基板２の表面より上方７０μｍ（コア層より上方３０μｍ）の高さになるように、深さ可変容器Ｖの側壁ｖが高さ調整される。
【００４８】
そして、同図（ｈ）に示すように、下方クラッド層４１およびコア層４２の紫外線未硬化部分をイソプロパノール溶液で現像除去してエッチングレジスト皮膜４３，下方クラッド層４１およびコア層４２の紫外線硬化部分４１ａ，４２ａを残し、このうちコア層４２の紫外線硬化部分４２ａの側面を軟質ポリシャで境面研磨した後、エッチングレジスト皮膜４３を溶剤によって剥離除去する。
【００４９】
「光結合素子の接着」
予め、同図（ｉ）に示すように、光導波路（下方クラッド層とコア層）の形成後における光学用基板２上に紫外線硬化エポキシ樹脂を塗布することにより側方クラッド層４４を形成しておく。
この場合、側方クラッド層４４の素子実装面４４ａが光学用基板２の表面より上方４０μｍの高さになるように、その層厚が設定される。
なお、紫外線硬化エポキシ樹脂としては、紫外線硬化後の屈折率が１．４９となるように成分調整したものが用いられる。
【００５０】
そして、同図（ｊ）に示すように、側方クラッド層４４およびコア層４２（紫外線硬化部分４２ａ）上に紫外線硬化エポキシ接着剤によって光結合素子３を接着し、８０℃で２０分間乾燥させる。
【００５１】
「光導波路（上方クラッド層）の形成」
先ず、同図（ｋ）に示すように、光学用基板２上に光結合素子３およびコア層４２（コア）を覆うように紫外線硬化エポキシ樹脂を塗布し、８０℃で２０分間乾燥させることにより上方クラッド層４５を形成する。
この場合、光学用基板２の表面より上方７０μｍの高さになるように、上方クラッド層４５の層厚が設定される。
なお、紫外線硬化エポキシ樹脂としては、側方クラッド層４４を形成する場合と同様に、紫外線硬化後の屈折率が１．４９となるように成分調整したものが用いられる。
【００５２】
次に、上方クラッド層４５の上方に同図（ｋ）に二点鎖線で示す第二紫外線マスクｎを設置し、側方クラッド層４４および上方クラッド層４５に紫外線を照射することによりクラッド層一部を硬化させる。
この場合、紫外線の照射は、発光素子４および光ファイバ５の各実装領域を除き、光導波路６〜８のパターンに対して行われる。
【００５３】
そして、同図（ｌ）に示すように、側方クラッド４４および上方クラッド層４５の未硬化部分をイソプロパノール溶液で現像して除去し、１５０℃で３０分間加熱処理を施して側方クラッド層４４および上方クラッド層４５の硬化部分を完全硬化させる。
【００５４】
「発光素子と光ファイバの実装」
図１および図２に示すように、光学用基板２に対し、発光素子４を半田バンプ４ｂ，４ｃが配線パターン１１，１２の端子１１ａ，１２ａに位置するように実装するとともに、光ファイバ５をファイバ先端部が凹溝２ａ内に位置するように実装する。
この場合、発光素子４の出射口４ａおよび光ファイバ５のコア５ａをそれぞれ光導波路６，８のコア６Ｃに合致するような位置に位置付ける。また、半田バンプ４ｂ，４ｃが端子１１ａ，１２ａにセルフアライメント効果によって位置合わせされる。
このようにして、光モジュールを製造することができる。
【００５５】
次に、本発明の第二実施形態につき、図５を用いて説明する。
図５は本発明の第二実施形態に係る光モジュールを示す平面図で、同図において図１〜４と同一または同等の部材については同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
同図において、符号５１で示す光モジュールは、光学用基板５２，光結合素子５３，発光素子４，受光素子５４および光ファイバ５を備えている。
光学用基板５２は、第一実施形態に示す光学用基板２と同様に、一側端縁の角部近傍に断面Ｖ字状の凹溝５２ａを有するシリコン基板によって形成されている。
【００５６】
光学用基板５２上には、それぞれが互いに平行な二つの光導波路５５，５６が形成されている。
光導波路５５は、発光素子４および光ファイバ５にそれぞれ接続する二つの光導波路５５ａと、これら各光導波路５５ａに連接する二つの光導波路５５ｂとからなり、上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃ（図５に図示せず）を有している。
【００５７】
光導波路５５ａは、平面がストリップライン（矩形）形状とする光路からなり、各コア６Ｃが発光素子４の出射口４ａと光ファイバ５のコア５ａに光学的に結合されている。光導波路５５ａの幅方向寸法は、１０μｍの寸法に設定されている。
【００５８】
一方、光導波路５５ｂは、図５に破線で示す放物線底部から放物線開口部までの距離を３．００ｍｍとし、かつ開口幅を１００μｍとする放物線形状の輪郭（一部）を有し、それぞれが互いに開口部において連設され、かつ光導波路５５ａに放物線底部から光結合素子５３に向かって３０μｍ離間する接続部において連設されている。
【００５９】
そして、光導波路５５ｂは、光結合素子５３の平面内における片側側縁に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ１００μｍと１８３μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜（図示せず）を介して接着されている。これにより、光結合素子３に対する光導波路５５ｂから光束の半分のエネルギーが導かれる。
この場合、接着剤としては、コア５Ｃの屈折率と同一の屈折率をもつ紫外線硬化エポキシ接着剤が用いられる。
【００６０】
光導波路５６は、受光素子５３に接続する光導波路５６ａと、この光導波路５６ａに連接する光導波５６ｂとからなり、光導波路５５と同様に、上方クラッド６Ａ，下方クラッド６Ｂおよびコア６Ｃを有している。
【００６１】
光導波路５６ａは、平面がストリップライン（矩形）形状とする光路からなり、各コア６Ｃが受光素子５３の入射口５３ａに光学的に結合されている。光導波路５６ａの幅方向寸法は、１０μｍの寸法に設定されている。
【００６２】
一方、光導波路５６ｂは、図５に破線で示す放物線底部から放物線開口部までの距離を３．００ｍｍとし、かつ開口幅を１００μｍとする放物線形状の輪郭（一部）を有し、光導波路５６ａに放物線底部から光結合素子５３に向かって３０μｍ離間する接続部において連設されている。
【００６３】
そして、光導波路５６ｂは、光結合素子５３の平面内における片側側縁（光導波路５５ｂの接続部と反対側側縁）に幅方向寸法および光路方向寸法をそれぞれ１００μｍと３６６μｍとする領域にわたってコア６Ｃが薄膜を介して接着されている。これにより、光結合素子３に対する光導波路５３ｂから光束の全エネルギーが導かれる。
【００６４】
光結合素子５３は、素子本体５３ａおよび薄膜（図示せず）を有し、光導波路５５，５６のコア６Ｃ（接着層を含む）とともに方向性結合器Ａ（図５に図示せず）を形成する平面光学部品からなり、光導波路５５ｂ，５６ｂのコア６Ｃに接着されている。
【００６５】
素子本体５３ａは、入射方向光路部分および出射方向光路部分の長さがそれぞれ１８３μｍと３６６μｍとする二辺およびこれら二辺に４５°傾斜して連接しそれぞれが互いに平行な二辺をもち、かつ入射方向および出射方向と垂直な方向の寸法が１．２ｍｍ＋αとする平面七角形状の光路変換素子からなり、全体が紫外線硬化性エポキシ樹脂あるいはクラウンガラス（ＢＫ７）等の透明体によって形成されている。
【００６６】
また、素子本体３ａは、屈折率を１．５１７とし、厚さが１０μｍの寸法に設定されている。素子本体５３ａの二辺（４５°傾斜する二辺）を含む光路方向端面には、それぞれが光路方向に１．１ｍｍ離間し、入射光および出射光を互いに平行とするような光反射鏡ｓ，ｔが形成されている。これにより、一方の例えば光導波路５５から光が光結合素子５３に入射して各反射鏡ｓ，ｔで反射した後、光結合素子５３から入射方向と平行な方向に沿って他方の例えば光導波路５６に出射する。
【００６７】
一方、薄膜は、素子本体５３ａに紫外線硬化性エポキシ接着剤をスピンコート法によって積層してなり、各光導波路５５ｂ，５６ｂのコア６Ｃに接着されている。薄膜の屈折率は１．５０７とし、厚さが２μｍの寸法に設定されている。
【００６８】
受光素子５４は、受光口５４ａが光導波路５６ａのコア６Ｃに光学的に結合され、かつ光学用基板２上に半田バンプ（図示せず）を配線パターン１３の端子１３ａに接続して実装されている。
【００６９】
このように構成された光モジュールにおいては、発光素子４からレーザ光が図５に破線で示すように出射すると、光束エネルギーの半分が光導波路５５から光結合素子５３に移行し、光結合素子５３の光路方向端面で反射して外部に放出され、残りが光ファイバ５に導かれる。
一方、光ファイバ５からレーザ光が出射すると、光導波路５５から光結合素子５３ａに移行した後、光反射鏡ｓ，ｔで反射して光導波路５６に移行して受光素子５４に導かれる。
【００７０】
この場合、各光結合素子５３において、レーザ光が光反射鏡ｓ，ｔで反射して光路方向を９０°変換する。
なお、光ファイバ５からのレーザ光が、光導波路５５を介して発光素子４に到達しても、出射口４ａにおいて反射するだけで通信に利用されることはない。
【００７１】
したがって、本実施形態においては、第一実施形態と同様に、光導波路の光路方向を曲げる場合に従来のように大きな曲率半径をもって光路を形成する必要がないから、光学用基板２の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が大きくなる。
また、本実施形態において、光結合素子５３の光反射鏡ｓ，ｔによってレーザ光を反射させて光路方向を変換させたから、光伝送時の光減衰を少なくできることは第一実施形態と同様である。
【００７２】
なお、各実施形態においては、光学用基板としてシリコン基板からなる場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、金属製の基部材を絶縁性樹脂で被覆してなるものでもよく、他にセラミック基板，ガラス基板あるいは有機樹脂基板によって形成するものでもよい。
また、各実施形態においては、光結合素子が素子本体および薄膜からなる場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、素子本体のみからなるものでも各実施形態と同様の効果を奏する。
【００７３】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、各光路方向が互いに異なる二つの光導波路を接続する光結合素子を、コアの屈折率より小さい屈折率の薄膜を介して両光導波路のコア上面に接着しているので、コアから染み出した光が薄膜を介して光結合素子に伝送される。
したがって、光伝送損失を低減させるため、従来のように大きな曲率半径をもって光導波路の光路を曲げる必要がないから、光学用基板上の全実装領域面積に対する光路の実装領域面積が占める割合が小さくなり、それだけ光学用基板の全実装領域に対する他の光学素子等の実装領域が大きくなって部品実装密度を高めることができる。
【００７４】
また、光結合素子の各光反射鏡によってレーザ光を反射させて光路方向を変換させたことは、光導波路の曲線部によって光路方向を変換させる場合と比較して光伝送距離が小さくなるから、光伝送時の光減衰を少なくすることができ、光伝送損失を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の第一実施形態に係る光モジュールを示す断面図である。
【図２】本発明の第一実施形態に係る光モジュールを示す平面図である。
【図３】本発明の第一実施形態に係る光モジュールにおける光結合素子の接続状態を示す平面図である。
【図４】（ａ）〜（ｌ）は本発明の第一実施形態に係る光モジュールの製造方法を説明するために示す断面図である。
【図５】本発明の第二実施形態に係る光モジュールを示す平面図である。
【図６】従来の光モジュールを説明するために示す断面図である。
【図７】従来の光モジュールにおける光導波路の光路方向を変換する場合について説明するために示す平面図である。
【符号の説明】
１ 光モジュール
２ 光学用基板
２ａ 凹溝
３，３ａ，３ｂ 光結合素子
３ａ1 素子本体
３ａ2 薄膜
４ 発光素子
４ａ 出射口
４ｂ，４ｃ 半田バンプ
５ 光ファイバ
５ａ コア
６〜８ 光導波路
６Ａ 上方クラッド
６Ｂ 下方クラッド
６Ｃ コア
９，１０ 側方クラッド
１１，１２ 配線パターン
１１ａ，１２ａ 端子
Claims (3)
- 各光路方向が互いに異なるクラッドおよびコアからなる少なくとも二つの光導波路を有する光学用基板と、
この光学用基板上に配設され、かつ前記両光導波路に接続された光結合素子とを備え、
この光結合素子は、前記両光導波路のうち一方の光導波路から他方の光導波路に光路を変換するための光反射鏡、及び、前記両光導波路のコアの屈折率より小さい屈折率の薄膜を有し、
前記光結合素子を前記両光導波路のコア上面に接着剤によって接着したことで、前記コアから染み出した光を前記薄膜にて光結合素子に伝送させる
ことを特徴とする光モジュール。 - 前記光反射鏡を二つの光反射鏡で構成し、光結合素子の配置方向が傾斜しても光反射鏡に入射する光の曲げ角度を一定にすることによって、光結合素子と光導波路との位置ずれ許容度を高くしたことを特徴とする請求項１記載の光モジュール。
- 前記コアの平面形状を、前記光結合素子近傍より放物線状としたことを特徴とする請求項１記載の光モジュール。
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