JP3708549B2 - カプロラクタムとヘキサメチレンジアミンの同時製造法 - Google Patents
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- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 132
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 76
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 138
- KBMSFJFLSXLIDJ-UHFFFAOYSA-N 6-aminohexanenitrile Chemical compound NCCCCCC#N KBMSFJFLSXLIDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 89
- BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N adiponitrile Chemical compound N#CCCCCC#N BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 76
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims abstract description 69
- ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N azepane Chemical compound C1CCCNCC1 ZSIQJIWKELUFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 52
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 49
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims abstract description 38
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 22
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- NLFBCYMMUAKCPC-KQQUZDAGSA-N ethyl (e)-3-[3-amino-2-cyano-1-[(e)-3-ethoxy-3-oxoprop-1-enyl]sulfanyl-3-oxoprop-1-enyl]sulfanylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\SC(=C(C#N)C(N)=O)S\C=C\C(=O)OCC NLFBCYMMUAKCPC-KQQUZDAGSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- FKLJPTJMIBLJAV-UHFFFAOYSA-N Compound IV Chemical compound O1N=C(C)C=C1CCCCCCCOC1=CC=C(C=2OCCN=2)C=C1 FKLJPTJMIBLJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 89
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 64
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 22
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 15
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 12
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 11
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 8
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- OBTZDIRUQWFRFZ-UHFFFAOYSA-N 2-(5-methylfuran-2-yl)-n-(4-methylphenyl)quinoline-4-carboxamide Chemical compound O1C(C)=CC=C1C1=CC(C(=O)NC=2C=CC(C)=CC=2)=C(C=CC=C2)C2=N1 OBTZDIRUQWFRFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 3
- -1 aminosilicate Chemical compound 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 3
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 3
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWCFTYITFDWLAY-UHFFFAOYSA-N 1-ethylazepan-2-one Chemical compound CCN1CCCCCC1=O GWCFTYITFDWLAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHKPTEOFUHYQFY-UHFFFAOYSA-N 2-aminohexanenitrile Chemical compound CCCCC(N)C#N FHKPTEOFUHYQFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 6-aminohexanoic acid Chemical compound NCCCCCC(O)=O SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 229960002684 aminocaproic acid Drugs 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);trinitrate Chemical compound [Ce+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O HSJPMRKMPBAUAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- NJNQDCIAOXIFTB-UHFFFAOYSA-N ethyl 6-aminohexanoate Chemical compound CCOC(=O)CCCCCN NJNQDCIAOXIFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVGZXCCKUMXEOU-UHFFFAOYSA-N 7-aminoazepan-2-one Chemical compound NC1CCCCC(=O)N1 JVGZXCCKUMXEOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N Pentanenitrile Chemical compound CCCCC#N RFFFKMOABOFIDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000310 actinide oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005219 aminonitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRHOFLXFAAEXEE-UHFFFAOYSA-J butanoate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O.CCCC([O-])=O ZRHOFLXFAAEXEE-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000012018 catalyst precursor Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SUCYXRASDBOYGB-UHFFFAOYSA-N cobalt rhodium Chemical compound [Co].[Rh] SUCYXRASDBOYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000311 lanthanide oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002611 lead compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229940100892 mercury compound Drugs 0.000 description 1
- 150000002731 mercury compounds Chemical class 0.000 description 1
- RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N methanediamine Chemical compound NCN RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFIWAIVSOUGHLI-UHFFFAOYSA-N selenium;tin Chemical compound [Sn]=[Se] MFIWAIVSOUGHLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- VFWRGKJLLYDFBY-UHFFFAOYSA-N silver;hydrate Chemical compound O.[Ag].[Ag] VFWRGKJLLYDFBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 1
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N tungsten disulfide Chemical compound S=[W]=S ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- IPCAPQRVQMIMAN-UHFFFAOYSA-L zirconyl chloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)=O IPCAPQRVQMIMAN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
本発明はアジポニトリルから出発する、カプロラクタムとヘキサメチレンジアミンの同時製造法に関する。
更に本発明は6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンを、これらを含有する物質から同時に分離するための優れた方法に関する。
アジポニトリルの6−アミノカプロニトリルへの、アンモニアおよび種々の触媒の存在下における部分水素化に関する記載が数多くの文献に見られる。例えば米国特許第4601859号明細書にはロジウムを基礎とする触媒の酸化マグネシウムに対する使用法が、米国特許第2762835号明細書にはラニーニッケルの使用法が、米国特許第2208598号明細書にはニッケルのアルミナに対する使用法が、ドイツ特許出願公開第848654号公報には銅/コバルト/亜鉛スピネルおよび鉄/コバルトスピネルを基礎とする固定床触媒が、ドイツ特許出願公開第954416号公報にはコバルトのシリカゲルに対する使用法が、ドイツ特許出願公開第4235466号公報には海綿鉄の使用法がそれぞれ記載されている。
WO92/21650には、ラニーニッケルの存在下に、転化率70%での収率60%のアミノカプロニトリルと、収率9%のヘキサメチレンジアミンが得られる旨の記載がある。転化率が80%では収率が62%となる。
また、6−アミノカプロニトリルを気相または液相の水と、触媒の存在下に反応させると、アンモニアが遊離され、カプロラクタムが得られることが公知である。例えば米国特許第2301964号明細書には6−アミノカプロニトリルの10〜25%の濃度の溶液を、液相にて250〜290℃で、76%までの収率でカプロラクタムに変換する方法が記載されている。
更に、220℃、濃度25〜35%のアミノカプロニトリルの水溶液に有機溶媒を添加して、亜鉛化合物、銅化合物、鉛化合物および水銀化合物の存在下に環化することがフランス特許出願公開第2029540号公報に記載されている。ここでは83%の収率におよぶカプロラクタムが得られている。
6−アミノカプロラクタムの環化は気相でも実施可能である(米国特許第2357484号明細書)すなわち、濃度80%の水溶液から、触媒としてアルミナを用い、305℃で収率92%のカプロラクタムが得られる。
ヨーロッパ特許出願公開第150295号公報によると、6−アミノカプロニトリルを気相で、銅/バナジウム触媒、水素、水およびアンモニアの存在下、290℃で変換し、収率77%のカプロラクタムが得られている。
更にドイツ特許出願公開第4319134号公報によると、液相の水中における6−アミノカプロニトリルを、触媒を用いずにカプロラクタムに変換する旨の記載がある。
アジポニトリルから出発して6−アミノカプロニトリルを経てカプロラクタムを得る方法、すなわちこの2工程を合わせた全体としての方法は、上記各文献に示されているものではない。
すなわち、本発明はアジポニトリルから出発してカプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンを同時に製造する方法を提供することをその課題とする。更に本発明はアジポニトリルの部分水素化において得られた反応混合物から連続的方法で純粋な6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンを得、この6−アミノカプロニトリルを次工程で環化し、カプロラクタムを得る方法を提供することを課題とする。更に、上記方法で得られた副生成物を可能な限り再利用すること、好ましくは処理初期段階で再利用することを課題とする。
本発明の上記課題は、アジポニトリルから出発する、カプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンの同時製造法であって、
(a)アジポニトリルを部分水素化し、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る混合物を得、
(b)(a)で得られた混合物を、塔底温度60〜220℃、圧力10〜30barで、蒸留条件下で不活性であり60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、アンモニアを完全に分離せず、
(c)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニア含有率が工程(b)で使用した混合物における割合より低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、圧力2〜15barとし、かつ第一および第二のカラムの圧力を相互に調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔頂温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
(d)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力0.1〜2barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留を行い、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得、
(e)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底化合物IIIを、第四のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力10〜500mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンとから構成される塔頂生成物KP1、および塔底化合物IVを得、
(f)塔頂生成物KP1を、第五のカラムで、塔底温度100〜220℃、50〜2000mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、および場合に応じて不活性化合物Bとから成る塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度のヘキサメチレンジアミンから主に成る塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の一部のみを第三のカラムに給送し、残りを排出し、および
(g)主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから成る塔底生成物IVを、第六のカラムで、塔底温度100〜200℃、1〜500mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得、
得られた6−アミノカプロニトリルを環化してカプロラクタムを得ることを特徴とする、カプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンの同時製造法により達成されることを本発明者等が見出した。
更に、本発明者等は、6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンを、これらを含有する混合物から同時に分離する方法を見出した。
アジポニトリルの部分水素化は、公知方法のいずれかにより、例えば米国特許第4601859号、同第2762835号、同第2208598号各明細書、ドイツ特許出願公開第848654号、同第954416、同第4235466号各公報、またはWO92/21650号に記載の方法のいずれかにより、一般的にはニッケル−、コバルト−、鉄−またはロジウム−含有触媒の存在下に水素化を行うことにより実施される。触媒は担体を有する触媒としても、担体を有さない触媒としても使用可能である。適する触媒の担体の例には、アルミナ、シリカ、二酸化チタン、酸化マグネシウム、活性炭およびスピネルがある。担体を有さない触媒の好適な例としては、ラニーニッケルおよびラニーコバルトが挙げられる。
触媒の空間速度は一般的に1時間当たり1リットルのアジポニトリルに対して0.05〜10kg、好ましくは0.1〜5kgとされる。
水素化は通常20〜200℃、好ましくは50〜150℃で、水素分圧0.1〜20MPa、好ましくは0.5〜10MPaで行われる。
水素化は溶媒、好ましくはアンモニアの存在下に行われると好適である。アンモニアの使用量はアジポニトリル1kgに対して、通常0.1〜10kg、好ましくは0.5〜3kgとされる。
6−アミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンのモル比、すなわちカプロラクタムとヘキサメチレンジアミンのモル比は、一定に調整されたアジポニトリル転化率により制御される。6−アミノカプロニトリルを高選択率で得るためには10〜80%、好ましくは30〜60%のアジポニトリル転化率が好ましい。
触媒と反応条件により、一般的に6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンの総量は95〜99%とされ、量的に最も重要な副生成物はヘキサメチレンイミンである。
好ましい実施の形態において、アンモニアおよび水酸化リチウムの存在下に、または40〜120℃、好ましくは50〜100℃、特に好ましくは60〜90℃で水酸化リチウムを形成するリチウム化合物の存在下に、圧力を一般的には2〜12Mpa、好ましくは3〜10Mpa、特に好ましくは4〜8Mpaとして反応を行う。滞留時間は主に、必要な収率、選択性、および所望の転化率に依存する。通常、最大限の収量が得られるように、反応時間を、例えば50〜275分、好ましくは70〜200分に設定する。
圧力および温度範囲を、液相で反応が行われるように設定すると好ましい。
通常アンモニアは、アンモニアとジニトリルの割合が9:1〜0.1:1、好ましくは2.3:1〜0.25:1、好ましくは1.5:1〜0.4:1となるような量で用いられる。
一般的に水酸化リチウムは触媒の使用量に対して0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%で用いられる。
反応条件下で水酸化リチウムを形成するリチウム化合物の例には、リチウム金属、アルキル−、アリールリチウム化合物、例えばn−ブチルリチウムおよびフェニルリチウムがある。これらの化合物の使用量は、上記の量の水酸化リチウムが得られるように選択される。
ニッケル−、ルテニウム−、ロジウム−およびコバルト−含有化合物、好ましくはこれらのラニー型のもの、特にラニーニッケルおよびラニーコバルトが触媒として好適に用いられる。これらの触媒は担体を有する触媒として使用可能であり、この場合に用いられる担体の例には、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、活性炭、または二酸化チタン(Appl.Het.Cat.1987、106−122、Catalysis4(1981)、1−30)がある。ラニーニッケル(例えばBASF社製、Degussa社製、Grace社製)が特に好ましい。
ニッケル、ルテニウム、ロジウムまたはコバルト触媒を、周期表VIB族(Cr、MoまたはW)およびVIII族(Fe、Ru、Os、Co(ニッケルの場合のみ)、Rh、Ir、PdまたはPt)の金属で変性する。これまでに、特に変性ラニーニッケル触媒、例えばクロムおよび/または鉄により変性されたラニーニッケルの使用により高いアミノニトリル選択性が得られることがわかっている(製造に関しては、ドイツ特許出願公開第2260978号公報、Bull.Soc.Chem.13(1946)、208参照のこと)。
一般的に、ジニトリルの使用量に対して、コバルト、ルテニウム、ロジウムまたはニッケルの使用量が1〜50重量%、好ましくは5〜20重量%となるように触媒の使用量を決定する。
触媒としては、液相またはかん液充填塔式方法による固定床触媒の形状、好ましくは懸濁触媒が用いられる。
他の好ましい実施の形態において、高温、加圧下に、溶媒および触媒の存在下に、
(a)ニッケル、コバルト、鉄、ルテニウムおよびロジウムから選択される金属を基礎とする化合物、
(b)(a)に対して0.01〜25重量%、好ましくは0.1〜5重量%の、パラジウム、白金、イリジウム、オスミウム、銅、銀、金、クロム、モリブデン、タングステン、マグネシウム、レニウム、亜鉛、カドミウム、鉛、アルミニウム、錫、燐、砒素、アンチモン、ビスマスおよび希土類から選択される金属を基礎とする促進剤、および
(c)(a)に対して0〜5重量%、好ましくは0.1〜3重量%の、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を基礎とする化合物を含み、
化合物(a)としてルテニウム、ロジウム、ルテニウムとロジウム、またはニッケルとロジウムのみを基礎とする化合物が用いられる場合、場合に応じて促進剤(b)を用いないことも可能な触媒を用いることによりアジポニトリルを部分水素化し、6−アミノカプロニトリルを得る。
適する触媒は、成分(a)としてニッケル、コバルトおよび鉄から選択される金属を基礎とする少なくとも1種類の化合物を、成分(a)から(c)の合計に対して10〜95重量%、ルテニウムおよび/またはロジウムを成分(a)〜(c)の合計に対して0.1〜5重量%の量で含有し、
(b)として銀、銅、マンガン、レニウム、鉛または燐から選択される金属を基礎とする少なくとも1種類の促進剤を、(a)に対して0.1〜5重量%含有し、および
(c)としてリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マンガンおよびカルシウムから選択されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属を基礎とする少なくとも1種類の化合物を、(a)に対して0.1〜5重量%含有する触媒である。
特に適する触媒は、
90重量%の酸化コバルト(CoO)、5重量%の酸化マンガン(Mn2O3)、3重量%の五酸化燐、および2重量%の酸化ナトリウム(Na2O)を含有する触媒A、
20重量%の酸化コバルト(CoO)、5重量%の酸化マンガン(Mn2O3)、0.3重量%の酸化銀(Ag2O)、70重量%のシリカ(SiO2)、3.5重量%のアルミナ(Al2O3)、0.4重量%の酸化鉄(Fe2O3)、0.4重量%の酸化マンガン(MgO)、および0.4重量%の酸化カルシウム(CaO)を含有する触媒B、および
20重量%の酸化ニッケル(NiO)、67.42重量%のシリカ(SiO2)、3.7重量%のアルミナ(Al2O3)、0.8重量%の酸化鉄(Fe2O3)、0.76重量%の酸化マンガン(MgO)、および1.92重量%の酸化カルシム(CaO)、3.4重量%の酸化ナトリウム(Na2O)および2.0重量%の酸化カリウム(K2O)を含有する触媒Cである。
適する触媒の例には担体を有さない、または有する触媒がある。担体を有する触媒の例には多孔質酸化物、例えばアルミナ、シリカ、アミノシリケート、酸化ランタン、二酸化チタン、二酸化ジルコン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、ゼオライト、活性炭、これらの混合物が挙げられる。
本発明の製造法は、通常、担体物質の存在下または不存在下に(使用する触媒の種類による)、成分(a)の先駆物質を、促進剤(成分(b))の先駆物質、および必要に応じて成分(c)の先駆物質と共に沈殿させ、必要に応じてこのように得られた触媒前駆物質を処理して押出物またはタブレットを得、生成物を乾燥し、次いで焼成することにより実施される。担体を有する触媒は、通常担体に成分(a)、(b)および必要に応じて(c)の溶液を含浸させることにより得られる。上記各成分は同時に添加しても、連続して添加してもよく、また公知方法により成分(a)、(b)および必要に応じて(c)を担体上に噴霧することによっても得られる。
成分(a)の適する前駆物質は、通常上記金属の水に易溶性の塩、例えば硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、蟻酸塩および硫酸塩、好ましくは硝酸塩である。
成分(b)の適する前駆物質は、通常上記金属の水に易溶性の塩または錯塩、例えば硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、蟻酸塩、硫酸塩、および特にヘキサクロロ白金酸塩、好ましくは硝酸塩およびヘキサクロロ白金酸塩である。
成分(c)の前駆物質としては、通常上記アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水に易溶性の塩、例えば水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、蟻酸塩および硫酸塩、好ましくは水酸化物および炭酸塩が好適に用いられる。
一般的に、沈殿剤を添加するか、pHを変化させるか、或いは温度を変化させることにより水溶液から沈殿が生成される。
当初この様に得られた触媒材料を一般的には、80〜150℃、好ましくは80〜120℃で乾燥させる。
150〜500℃、好ましくは200〜450℃で、空気または窒素を含む気流中で焼成を行うのが一般的である。
焼成の後、得られた触媒材料を、成分(a)としてルテニウムまたはロジウムを基礎とする触媒を用いる場合は80〜250℃、好ましくは80〜180℃で、また成分(a)としてニッケル、コバルトおよび鉄から選択される金属を基礎とする触媒を用いる場合は200〜500℃、好ましくは250〜400℃で、通常は還元性雰囲気下(活性化)、例えば水素雰囲気下または水素および不活性ガス、例えば窒素を含む気体混合物雰囲気下に2〜24時間置く。この場合、触媒1リットルあたりにおける、触媒の空間速度を100〜300リットルとすると好ましく、200リットルとすると特に好ましい。
触媒は合成反応器中で直接活性化されると有利である。すなわち一般的にはこの直接活性化により、直接活性化を行わない場合に必要とされる工程、すなわち空気などの酸素/窒素混合物により通常20〜80℃、好ましくは25〜35℃で表面を不動態化する工程が除外される。次いで不動態化された触媒を合成反応器中180〜500℃、好ましくは200〜350℃、水素含有雰囲気下で活性化する。
触媒は液相またはかん液充填塔式方法による固定床触媒の形状、または懸濁触媒の形状で使用可能である。
懸濁液中で反応を行う場合、温度は40〜150℃、好ましくは50〜100℃、特に好ましくは60〜90℃に設定されるのが一般的である。圧力は通常2〜20MPa、好ましくは3〜10MPa、特に好ましくは4〜9MPaの範囲に設定される。滞留時間は、主に所望の収量、選択性および必要な転化率に依存する。滞留時間は最大の収率が得られるように設定され、例えば50〜275分、好ましくは70〜200分とされる。
懸濁法の場合、溶媒として好ましくはアンモニア、炭素原子数1−6のアミン、ジアミン、およびトリアミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンおよびトリブチルアミン、またはアルコール、特にメタノールおよびメタノール、特に好ましくはアンモニアが用いられる。ジニトリルの濃度は、ジニトリルと溶媒の総和に対して10〜90重量%、好ましくは30〜80重量%、特に好ましくは40〜70重量%の範囲で設定されると有利である。
触媒の使用量はジニトリルの使用量に対して一般的に1〜50重量%、好ましくは5〜20重量%とされる
懸濁液の水素化はバッチ式でも行われるが、好ましくは連続的に、通常液相で行われる。
部分水素化は、バッチ式または連続式に固定床反応器中、かん液充填式または液相方法で、温度を20〜150℃、好ましくは30〜90℃とし、圧力を通常2〜30MPa、好ましくは3〜20MPaとして行われる。部分水素化は、溶媒、好ましくはアンモニア、炭素原子数1−6のアミン、ジアミン、トリアミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンおよびトリブチルアミン、またはアルコール、例えばメタノールおよびエタノール、特に好ましくはアンモニアの存在下に行われる。好ましい実施の形態において、アンモニアの含有量は1gのアジポニトリルに対して1〜10g、好ましくは2〜6gとされる。触媒の空間速度は1時間1リットルごとにアジポニトリル0.1〜2.0、好ましくは0.3〜1.0kgとされる。ここでも転化率、および選択性は滞留時間を変化させることにより調整される。
部分水素化は、この目的に適する慣用の反応器中で行われる(図中R1)。本発明において、第一のカラムにおける蒸留(工程(b)、図中K1)は、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る、工程(a)からの混合物、好ましくは以下の各成分(記載の数値は合計で100重量%となる)、すなわち
1〜70重量%、好ましくは5〜40重量%の6−アミノカプロニトリル、
1〜70重量%、好ましくは5〜40重量%のアジポニトリル、
0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜20重量%のヘキサメチレンジアミン、
0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜5重量%のヘキサメチレンイミン、および
5〜95重量%、好ましくは20〜85重量%のアンモニアから主に成る混合物を、通常は慣用の蒸留カラムで、塔底温度を60〜220℃、好ましくは100〜200℃、10〜30bar、好ましくは12〜25barで、蒸留条件下で不活性であり、60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留に付し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、このアンモニアは完全に分離しないものとする。
本発明において、適する化合物Aは蒸留条件下で不活性であり、18barにおける沸点が60〜220℃、好ましくは60〜150℃の物質である。このような物質の例は、アルカン、シクロアルカン、芳香族化合物、ナフタレン、アルコール、エーテル、ニトリル、アミンのうち上述の特性を有するもの、特にC5−C8アルカン、C2−C4アルカノール、特に好ましくはn−ペンタン、シクロヘキサン、トリエチルアミン、エタノール、アセトニトリル、n−ヘキサン、ジ−n−プロピルエーテル、イソプロパノール、n−ブチルアミンまたはベンゼン、特に好ましくはエタノールがある。
通常は化合物Aを、塔底生成物Iに対して0.1〜50重量%、特に1〜10重量%の量で添加する。
工程(c)では、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニアの含有比が工程(a)で得られ、工程(b)で用いられた混合物における含有比よりも低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、圧力2〜15bar、好ましくは4〜12barとし、かつ第一および第二のカラム(図中のK2)の圧力を相互の調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔頂温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
工程(d)では、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラム(図中のK3)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、圧力0.1〜2bar、好ましくは0.2〜1barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、好ましくは60〜150℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留し、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得る。
化合物Bの例は、アルカン、シクロアルカン、芳香族化合物、ナフテン、アルコール、エーテル、ニトリルおよびアミンのうち、上記特性を有するもの、特にジ−n−ブチルエーテル、バレロニトリル、n−オクタン、シクロオクタン、n−ヘキシルアミンおよびヘキサメチレンイミン、特に好ましくはヘキサメチレンイミンが挙げられる。
好ましい実施の形態における化合物Bとしてヘキサメチレンイミンが用いられるが、他の化合物Bが添加されない場合が特に好ましい。
化合物Bは塔底生成物IIに対して0.1〜50重量%、好ましくは0.5〜10重量%の量で添加すると好ましい。
工程(e)では、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底生成物IIIを、第四のカラム(図中のK4)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは40〜200℃、圧力10〜500bar、好ましくは140〜200barで蒸留し、主にヘキサメチレンイミン、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンから構成される塔頂生成物KP1を得ると共に、塔底化合物IVを得る。
工程(f)では、塔頂生成物KP1を、第五のカラム(図中K5)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、50〜2000bar、好ましくは300〜1000barで蒸留し、主にヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから構成される塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度、好ましくは99〜9.9%の純度のヘキサメチレンジアミンから主に構成される塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の一部を第三のカラムに給送し、残りを排出する。
主にヘキサメチレンイミンと、必要に応じて化合物Bから、または化合物Bが添加されない場合または化合物Bとしてヘキサメチレンイミンを用いる場合(工程(d)参照)の好ましくは主にヘキサメチレンイミンのみから構成される塔頂生成物KP2の一部を排出することにより、ヘキサメチレンイミンおよび場合に応じて化合物Bの濃縮を回避することが一般的に可能となる。
工程(g)では、主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから構成される塔底生成物IVを、第六のカラム(図中、K6)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、1〜500mbar、好ましくは5〜100mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上、好ましくは99〜9.9%の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得る。
本発明では、得られた6−アミノカプロニトリルをカプロラクタムに変換する。この環化は、公知の液相または気相方法により、例えば米国特許第2301964号、同第2357484号明細書、ヨーロパ特許出願公開第150295号、同第4319134号各公報のいずれかに記載の方法により、通常は6−アミノカプロニトリルと水とを液相で反応させることによりカプロラクタムとアンモニアとを得る。
触媒を用いない反応においては、温度200〜375℃、反応時間10〜90分、好ましくは10〜30分に設定される。通常使用される溶媒は水であり、水に対する6−アミノカプロニトリルの含有量は一般的に30重量%、好ましくは10〜25重量%とされる。
触媒の存在下における液相反応では、反応温度50〜330℃、6−アミノカプロニトリル1モルに対する水の使用量1.3〜50モル、好ましくは1.3〜30モル、反応時間10分〜数時間とされる。有機溶媒、特にアルコールを使用する場合、水の使用量を、6−アミノカプロニトリル1モルに対して1.3〜5モルとするのが一般的である。
環化により得られた反応混合物をまず蒸留により後処理に付し、アンモニア、水、必要に応じて溶媒を除去する。触媒が用いられる場合、触媒は塔底生成物中に存在し、これを公知方法のいずれかによりカプロラクタムから分離し、環化反応器(図中R2)に給送し、再利用する。通常、粗カプロラクタムは蒸留などの公知精製法により純粋なラクタムとされ、得られた純粋なラクタムは次いで重合に用いられポリカプロラクタムとされる。
好ましい実施の形態において、6−アミノカプロニトリルと水とを液相で不均質触媒を用いて反応させる。
反応は液相中、通常140〜320℃、好ましくは160〜280℃で、圧力を通常1〜250bar、好ましくは5〜150barとして実施する。この時用いる反応条件下で、反応混合物が主に液相状態を保つことを確実とする必要がある。滞留時間は通常1〜120分、好ましくは1〜90分、特に1〜60分である。場合によっては、1〜10分の滞留時間で完全に十分であることもわかっている。
一般的に、6−アミノカプロニトリル1モルに対して、少なくとも0.01、好ましくは0.1〜20、好ましくは1〜5モルの水が使用される。
6−アミノカプロニトリルを1〜50重量%、好ましくは5〜50重量%、特に好ましくは5〜30重量%の濃度の水溶液の形態で(この場合、溶媒は同時に反応対として作用する)、または水/溶媒混合物中の溶液の形態で用いると好適である。溶媒の例には、アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノールおよびtert−ブタノール、ポリオール、例えばジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、炭化水素、例えば石油エーテル、ベンゼン、トルエンおよびキシレン、ラクタム、例えばピロリドンおよびカプロラクタム、およびアルキル置換ラクタム、例えばN−メチルピロリドン、N−メチルカプロラクタムおよびN−エチルカプロラクタム、およびカルボン酸エステル、好ましくは炭素原子数1−8のカルボン酸エステルがある。反応にアンモニアが介在してもよい。有機溶媒の混合物ももちろん使用可能である。水/アルカノール重量比が1−75/25−99、好ましくは1−50/50−99の、水とアルカノールとの混合物も場合によっては極めて有利に用いられることがわかっている。
原則として6−アミノカプロニトリルを反応体としておよび同時に溶媒として用いることも可能である。
使用可能な不均質系触媒の例には、周期表第2、3または4主族の元素の酸性、塩基性または両性酸化物、例えば酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化硼素、アルミナ、酸化錫または熱分解法シリカの形態のシリカ、シリカゲル、多孔質珪藻土、石英またはこれらの混合物、周期表第2〜5副族の金属の酸化物、例えば酸化チタン(非晶質またはアナターゼまたはルチル)、酸化ジルコン、酸化亜鉛、酸化マンガンまたはこれらの混合物がある。ランタニドおよびアクチニドの酸化物、例えば酸化セリウム、酸化トリウム、酸化プラセオジム、酸化サマリウム、希土類混合酸化物、またはこれらの上記酸化物との混合物も使用可能である。他の触媒の例には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化鉄、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステンまたはこれらの混合物がある。
これらの酸化物相互の混合物も使用可能である。硫化物、セレン化物、テルル化物、例えばテルル化亜鉛、セレン化錫、硫化モリブデン、硫化タングステン、およびニッケル、亜鉛およびクロムの硫化物も使用される。
上記化合物は、周期表1−7主族の化合物でドープしてもよく、これらの化合物を含むことも可能である。
ゼオライト、燐酸塩、ヘテロポリ酸、酸性、アルカリ性イオン交換体、例えばNaphion(登録商標)が更に好ましい触媒として挙げられる。
必要に応じて、これらの触媒は50重量%までの銅、錫、亜鉛、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、パラジウム、白金、銀、ロジウムを含有してもよい。
触媒の組成によっては、担体を有さないまたは有する担体と共に使用可能である。例えば二酸化チタンは、二酸化チタンの押出物として、または担体上に薄層として施された二酸化チタンとして用いることもできる。文献に記載されているあらゆる方法により、シリカ、アルミナ、二酸化ジルコン等の担体上に二酸化チタンを施すことができる。すなわち、二酸化チタンの薄層を、チタンオルガニル、例えばチタンイソプロピラートまたはチタンブチラートの加水分解により、またはTiCl4または他の無機チタン含有化合物の加水分解により施すことが可能である。二酸化チタンを含有するゾルを使用してもよい。
この他の適する化合物は、塩化ジルコニル、硝酸アルミニウムおよび硝酸セリウムである。
適する担体は、上述の酸化物自体または他の安定な酸化物、例えばシリカの粉末、押出物、またはペレットである。使用される担体は、大量輸送の性能を向上させるためマクロポーラスであってもよい。
他の好ましい実施の形態において、液相の6−アミノカプロニトリルの水溶液を、触媒を添加せずに反応器中で加熱により環化させ、主に水、カプロラクタムおよび高沸点留分(高沸点成分)から成る混合物を得る。この好ましい実施の形態において、水を過剰量で、すなわち1モルの6−アミノカプロニトリルに対して好ましくは10〜150モル、特に20〜100モルの水が用いられ、6−アミノカプロニトリルの水溶液が得られると好ましい。更に好ましい実施の形態においては、1モルの6−アミノカプロニトリルに対して通常5〜25モルの水が用いられ、得られた溶液に有機溶媒を添加して、更に6−アミノカプロニトリルの5〜25モルまで希釈することもできる。
適する溶媒の例は以下の通りである。すなわち、
C1−C4アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノールおよびブタノール、グリコール、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、エーテル、例えばメチルtert−ブチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテル、C6−C10アルカン、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナンおよびn−デカン、およびシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ラクタム、例えばピロリドンおよびカプロラクタム、およびN−C1−C4アルキルラクタム、例えばN−メチルピロリドン、N−メチルカプロラクタムおよびN−エチルカプロラクタム。
他の実施の形態では、0〜5重量%、好ましくは0.1〜2重量%のアンモニア、水素または窒素を、反応混合物に添加してもよい。
反応を、200〜370℃、好ましくは220〜350℃、特に好ましくは240〜320℃で実施すると好ましい。
一般的には、加圧下に、通常は0.1〜50MPa、好ましくは5〜25MPaの範囲の圧力で反応を行い、この結果反応混合物が液相で存在すると好ましい。
反応時間は、主に設定される処理パラメータに依存し、連続的方法において通常20〜180分、好ましくは20から90分とされる。通常は反応時間が短い場合は転化率が低下し、また反応時間が長い場合は煩わしいオリゴマー生成の起こることがわかっている。
環化は連続的に、好ましくは環状反応器、攪拌子付容器、またはこれらの組み合わせを用いて行うと好ましい。
環化はバッチ式に行うこともできる。この場合は30〜180分にわたり反応が起こる。
通常、廃液混合物は、水50〜98重量%、好ましくは80〜95重量%と、50〜90重量%、好ましくは65〜85重量%のカプロラクタムおよび10〜50重量%、好ましくは15〜35重量%の高沸点留分(高沸点成分)の混合物2〜50重量%、好ましくは5〜20重量%との混合物から主に構成される。
好ましい実施の形態においては、部分的水素化の後であっても、アンモニアと不活性化合物A(カラム3の塔底生成物)の除去の後に存在する、摩耗した触媒材料および不揮発性高沸点成分を、望ましくない物質を塔底生成物として得るための蒸発工程で除去する。
更に好ましい実施の形態において、アジポニトリルと高沸点成分を含むカラム6の塔底生成物から蒸留によりアジポニトリルを分離し、工程(a)に給送する。更にカラム6の底部からブリードストリームを排出することも可能である。
他の実施の形態において、塔底生成物IIIを第四のカラムに給送し、ヘキサメチレンイミンと、必要に応じて化合物Bとを含有する塔頂生成物と、塔底生成物IV’とが得られるように蒸留を行うことも可能である。塔頂生成物の一部分をカラムIIIに再給送し、濃縮を避けるために残りを排出する。
塔底生成物IV’を第五のカラムに給送し、ヘキサメチレンジアミンを含む塔頂生成物と、塔底生成物V’が得られる条件下で蒸留を行う。塔底生成物V’を第六のカラムに給送し、塔頂生成物として6−アミノカプロニトリルを、塔底生成物としてアジポニトリルを得る。
最後に挙げた実施の形態における第四のカラムでの蒸留は、塔底温度100〜220、好ましくは140〜200℃で、50〜2000mbar、好ましくは300〜1000mbarで行うと好ましい。
最後に挙げた実施の形態における第五のカラムでの蒸留は、塔底温度100〜220、好ましくは140〜200℃で、10〜500mbar、好ましくは40〜200mbarで行うと好ましい。
最後に挙げた実施の形態における第六のカラムでの蒸留は、塔底温度100〜220、好ましくは140〜200℃で、1〜500mbar、好ましくは5〜100mbarで行うと好ましい。
この好ましい実施の形態により得られた生成物のヘキサメチレンジアミン、6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルを更に処理するにあたり、新規方法と同様に行うと好適である。
他の好ましい実施の形態において、塔底生成物を第四のカラムに給送する前に、塔底生成物IIIから蒸留により高沸点成分を除去する。このように、アジポニトリルを含有するカラム6の塔底生成物から高沸点成分を除去する工程を省略することが可能である。
本発明により得られたヘキサメチレンジアミンを慣用の方法により更に精製し、重合体および共重合体、例えばポリアミド66の製造に使用することができる。
本発明によると、アジポニトリルからのカプロラクタムの製造法の所定部分を主にこれらの化合物を含有する混合物の蒸留による6−アミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンとの同時分離に使用することもできる。この方法において、
(a)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る混合物を、塔底温度60〜220℃、圧力10〜30barで、蒸留条件下で不活性であり60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、アンモニアを完全に分離せず、
(b)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニア含有率が工程(a)で使用した混合物における割合より低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、圧力2〜15barとし、かつ第一および第二のカラムの圧力を相互に調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔頂温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
(c)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力0.1〜2barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留を行い、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得、
(d)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底化合物IIIを、第四のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力10〜500barで蒸留し、主にヘキサメチレンイミン、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンから構成される塔頂生成物KP1、および塔底化合物IVを得、
(e)塔頂生成物KP1を、第五のカラムで、塔底温度100〜220℃、50〜2000mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、および場合に応じて不活性化合物Bとから成る塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度のヘキサメチレンジアミンから主に成る塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の少なくとも一部を第三のカラムに給送し、残りを排出し、および
(f)主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから成る塔底生成物IVを、第六のカラムで、塔底温度100〜220℃、1〜500mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得る。
新規方法は、ヘキサメチレンジアミンを同時に得られるカプロラクタムの連続的製造法が、アジポニトリルから開始可能であるという利点を有する。
実施例
実施例1
(a)アジポニトリルの6−アミノカプロニトリルへの水素化
4.6kgのアジポニトリル(ADN)、4.6kgのアンモニア、0.45kgの懸濁ラニーニッケル(H 1−50、BASF)および8gの水酸化リチウムの混合物を、攪拌子付きオートクレーブで、80℃、全圧70barで1時間水素化に付した(H2分圧=40bar)。
ラニーニッケルを分離した後に排出した水素化混合物は以下の組成を有した。ADN:2.5kg、6−アミノカプロニトリル(ACN):2kg、ヘキサメチレンジアミン(HMD):0.2kg、ヘキサメチレンイミン(HMI):10g、およびアンモニア:4.5kg。
(b)排出された水素化混合物の、蒸留による処理
(a)により得られ、触媒を含有しない、排出された水素化混合を理論段数2の第一のカラムの頂部に給送した。200ppmのACNを含有するアンモニア4.5kgを頂部から、47℃、19barで分離し、水素化に使用した(工程(a))。
第一のカラムの塔底生成物であるエタノールと少量のアンモニアを含有する反応混合物を塔底温度180℃で理論段数13の第二のカラムに給送した。
25重量%のアンモニアと、75重量%のエタノールとの混合物0.4kgを、50℃、10barのこのカラムの頂部から第一のカラムに再給送した。
30重量%のエタノールと30ppmのアンモニアを含み、180℃の第二のカラムの塔底生成物を理論段数14の第三のカラムに給送した。2kgのエタノールをこのカラムから、50℃/300mbarで除去し、第二のカラムに再給送した。
ヘキサメチレンイミン(HMI)含有率2重量%の生成物4.8kgを、180℃の第三のカラムの底部から除去し、理論段数20の第四のカラムに給送した。65重量%のHMD、35重量%のHMI、および1000ppmのACNを含有する生成物0.3kgを、この90℃/85mbarのカラムから除去した。
第四のカラムから除去された塔頂生成物を理論段数15の第五のカラムに給送した。1000ppmのHMDと100ppmのADNとを含有するACN2kgをこの111℃/15mbarのカラムの頂部から除去し、排出した。500ppmのACNを含有するADN2.5kgを底部から排出した。
(c)6−アミノカプロニトリルのカプロラクタムへの環化
2kgのACN((b)による)、0.64kgの水、および17.4kgのエタノールの溶液を、4mmの二酸化チタン押出物が充填され、長さ/直径比が100の油加熱環状反応器を、230℃、80bar、滞留時間15分で通過させた。排出された反応混合物は1.8kgのカプロラクタム、0.05kgの6−アミノカプロン酸エチル、0.04kgの6−アミノカプロニトリル(ガスクロマトグラフィーにより測定)および0.11kgの6−アミノカプロン酸、およびカプロラクタムのオリゴマーとポリマー(HPLCにより測定)を含有していた。ここから分別蒸留により1.7kgのカプロラクタムを得た。
実施例2
(a)アジポニトリルの6−アミノカプロニトリルへの水素化
長さ2m、内径2.5cmの環状反応器に、90重量%のCoO、5重量%のMn2O3、3重量%のP2O5、および2重量%のNa2Oから成る触媒750ミリリットル(1534g)を充填し、次いで48時間にわたり、水素流下(500リットル/時間)、大気圧にて温度を30℃から280℃に上昇させながら触媒を活性化させた。温度を42℃(注入口)、80℃(放出口)に低下させた後、それぞれ1時間当たり380gのアジポニトリル、380gのアンモニア、500リットルの水素の混合物を200bar(全圧)の反応器に給送した。更に、4倍の供給量(約3kg/h)を循環させ、熱を除去した。アジポニトリル60%を同様の条件下で反応させた。反応混合物は50重量%のアンモニア、20重量%のADN、18重量%のACN、11.9重量%のHMD、0.05重量%のHMI、および0.05重量%の多種成分(好ましくは各高沸点成分)から構成されていた。(ACN選択性:60%、ACN+HMD選択性:>99%)。
(b)排出された水素化混合物の蒸留による処理
(a)により排出された水素化混合物10kgを理論段数2の第一のカラムの頂部に給送した。20ppのACNを含有するアンモニア5.0kgを47℃、19barで頂部から分離し、水素化に使用した(工程(a))。
第一のカラムの塔底生成物である、エタノールと少量のアンモニアを含有する反応混合物を、理論段数10の第二のカラムに底部温度180℃で給送した。
30重量%のアンモニアと70重量%のエタノールとの混合物1.2kgをこのカラムの頂部から、50℃、10barで第一のカラム再給送した。
40重量%のエタノールと90ppmのアンモニアを含有し、177℃の第二のカラムの塔底生成物を、理論段数10の第三のカラムに給送した。3.2kgのエタノールを47℃/300mbarでこのカラムの頂部から第二のカラムに再給送した。
HMI含有率0.55重量%の生成物5kgを、180℃の第三のカラムの底部から除去し、理論段数20の第四のカラムに給送した。2.2重量%のHMI、97.8重量%のHMD、および1000ppmのACNから成る生成物1.22kgをこのカラムの頂部から90℃/85mbarで除去した。
第四のカラムから除去した塔頂生成物を理論段数15の第五のカラムに給送した。114℃/500mbarで、1000ppmのHMDを含有する26gのHMIを塔頂生成物として除去し、このうち22gを第三のカラムに再給送した。100ppmのHMIを含有する1.19kgのHMDを177℃のカラムの底部から取り出し、操作から除外した。
第四のカラムから取り除いた塔底生成物を理論段数15の第六のカラムに給送した。1000ppmのHMDと100ppmのADNとを含有する1.8kgのACNを、111℃/15mbarでこのカラムの頂部から除去し、排出した。500ppmのACNを含有する2.0kgのADNを頂部から排出した。
(c)6−アミノカプロニトリルのカプロラクタムへの環化
2kgのANC(実施例2(b)による)、0.64kgの水、および17.4kgのエタノールの溶液を、4mmの二酸化チタン押出物が充填され、長さ/直径比が100の油加熱環状反応器を、230℃、80bar、滞留時間15分で通過させた。排出された反応混合物は1.8kgのカプロラクタム、0.05kgの6−アミノカプロン酸エチル、0.04kgの6−アミノカプロニトリル(ガスクロマトグラフィーにより測定)および0.11kgの6−アミノカプロン酸、およびカプロラクタムのオリゴマーとポリマー(HPLCにより測定)を含有した。これから分別蒸留により1.7kgのカプロラクタムを得た。
更に本発明は6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンを、これらを含有する物質から同時に分離するための優れた方法に関する。
アジポニトリルの6−アミノカプロニトリルへの、アンモニアおよび種々の触媒の存在下における部分水素化に関する記載が数多くの文献に見られる。例えば米国特許第4601859号明細書にはロジウムを基礎とする触媒の酸化マグネシウムに対する使用法が、米国特許第2762835号明細書にはラニーニッケルの使用法が、米国特許第2208598号明細書にはニッケルのアルミナに対する使用法が、ドイツ特許出願公開第848654号公報には銅/コバルト/亜鉛スピネルおよび鉄/コバルトスピネルを基礎とする固定床触媒が、ドイツ特許出願公開第954416号公報にはコバルトのシリカゲルに対する使用法が、ドイツ特許出願公開第4235466号公報には海綿鉄の使用法がそれぞれ記載されている。
WO92/21650には、ラニーニッケルの存在下に、転化率70%での収率60%のアミノカプロニトリルと、収率9%のヘキサメチレンジアミンが得られる旨の記載がある。転化率が80%では収率が62%となる。
また、6−アミノカプロニトリルを気相または液相の水と、触媒の存在下に反応させると、アンモニアが遊離され、カプロラクタムが得られることが公知である。例えば米国特許第2301964号明細書には6−アミノカプロニトリルの10〜25%の濃度の溶液を、液相にて250〜290℃で、76%までの収率でカプロラクタムに変換する方法が記載されている。
更に、220℃、濃度25〜35%のアミノカプロニトリルの水溶液に有機溶媒を添加して、亜鉛化合物、銅化合物、鉛化合物および水銀化合物の存在下に環化することがフランス特許出願公開第2029540号公報に記載されている。ここでは83%の収率におよぶカプロラクタムが得られている。
6−アミノカプロラクタムの環化は気相でも実施可能である(米国特許第2357484号明細書)すなわち、濃度80%の水溶液から、触媒としてアルミナを用い、305℃で収率92%のカプロラクタムが得られる。
ヨーロッパ特許出願公開第150295号公報によると、6−アミノカプロニトリルを気相で、銅/バナジウム触媒、水素、水およびアンモニアの存在下、290℃で変換し、収率77%のカプロラクタムが得られている。
更にドイツ特許出願公開第4319134号公報によると、液相の水中における6−アミノカプロニトリルを、触媒を用いずにカプロラクタムに変換する旨の記載がある。
アジポニトリルから出発して6−アミノカプロニトリルを経てカプロラクタムを得る方法、すなわちこの2工程を合わせた全体としての方法は、上記各文献に示されているものではない。
すなわち、本発明はアジポニトリルから出発してカプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンを同時に製造する方法を提供することをその課題とする。更に本発明はアジポニトリルの部分水素化において得られた反応混合物から連続的方法で純粋な6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンを得、この6−アミノカプロニトリルを次工程で環化し、カプロラクタムを得る方法を提供することを課題とする。更に、上記方法で得られた副生成物を可能な限り再利用すること、好ましくは処理初期段階で再利用することを課題とする。
本発明の上記課題は、アジポニトリルから出発する、カプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンの同時製造法であって、
(a)アジポニトリルを部分水素化し、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る混合物を得、
(b)(a)で得られた混合物を、塔底温度60〜220℃、圧力10〜30barで、蒸留条件下で不活性であり60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、アンモニアを完全に分離せず、
(c)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニア含有率が工程(b)で使用した混合物における割合より低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、圧力2〜15barとし、かつ第一および第二のカラムの圧力を相互に調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔頂温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
(d)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力0.1〜2barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留を行い、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得、
(e)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底化合物IIIを、第四のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力10〜500mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンとから構成される塔頂生成物KP1、および塔底化合物IVを得、
(f)塔頂生成物KP1を、第五のカラムで、塔底温度100〜220℃、50〜2000mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、および場合に応じて不活性化合物Bとから成る塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度のヘキサメチレンジアミンから主に成る塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の一部のみを第三のカラムに給送し、残りを排出し、および
(g)主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから成る塔底生成物IVを、第六のカラムで、塔底温度100〜200℃、1〜500mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得、
得られた6−アミノカプロニトリルを環化してカプロラクタムを得ることを特徴とする、カプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンの同時製造法により達成されることを本発明者等が見出した。
更に、本発明者等は、6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンを、これらを含有する混合物から同時に分離する方法を見出した。
アジポニトリルの部分水素化は、公知方法のいずれかにより、例えば米国特許第4601859号、同第2762835号、同第2208598号各明細書、ドイツ特許出願公開第848654号、同第954416、同第4235466号各公報、またはWO92/21650号に記載の方法のいずれかにより、一般的にはニッケル−、コバルト−、鉄−またはロジウム−含有触媒の存在下に水素化を行うことにより実施される。触媒は担体を有する触媒としても、担体を有さない触媒としても使用可能である。適する触媒の担体の例には、アルミナ、シリカ、二酸化チタン、酸化マグネシウム、活性炭およびスピネルがある。担体を有さない触媒の好適な例としては、ラニーニッケルおよびラニーコバルトが挙げられる。
触媒の空間速度は一般的に1時間当たり1リットルのアジポニトリルに対して0.05〜10kg、好ましくは0.1〜5kgとされる。
水素化は通常20〜200℃、好ましくは50〜150℃で、水素分圧0.1〜20MPa、好ましくは0.5〜10MPaで行われる。
水素化は溶媒、好ましくはアンモニアの存在下に行われると好適である。アンモニアの使用量はアジポニトリル1kgに対して、通常0.1〜10kg、好ましくは0.5〜3kgとされる。
6−アミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンのモル比、すなわちカプロラクタムとヘキサメチレンジアミンのモル比は、一定に調整されたアジポニトリル転化率により制御される。6−アミノカプロニトリルを高選択率で得るためには10〜80%、好ましくは30〜60%のアジポニトリル転化率が好ましい。
触媒と反応条件により、一般的に6−アミノカプロニトリルおよびヘキサメチレンジアミンの総量は95〜99%とされ、量的に最も重要な副生成物はヘキサメチレンイミンである。
好ましい実施の形態において、アンモニアおよび水酸化リチウムの存在下に、または40〜120℃、好ましくは50〜100℃、特に好ましくは60〜90℃で水酸化リチウムを形成するリチウム化合物の存在下に、圧力を一般的には2〜12Mpa、好ましくは3〜10Mpa、特に好ましくは4〜8Mpaとして反応を行う。滞留時間は主に、必要な収率、選択性、および所望の転化率に依存する。通常、最大限の収量が得られるように、反応時間を、例えば50〜275分、好ましくは70〜200分に設定する。
圧力および温度範囲を、液相で反応が行われるように設定すると好ましい。
通常アンモニアは、アンモニアとジニトリルの割合が9:1〜0.1:1、好ましくは2.3:1〜0.25:1、好ましくは1.5:1〜0.4:1となるような量で用いられる。
一般的に水酸化リチウムは触媒の使用量に対して0.1〜20重量%、好ましくは1〜10重量%で用いられる。
反応条件下で水酸化リチウムを形成するリチウム化合物の例には、リチウム金属、アルキル−、アリールリチウム化合物、例えばn−ブチルリチウムおよびフェニルリチウムがある。これらの化合物の使用量は、上記の量の水酸化リチウムが得られるように選択される。
ニッケル−、ルテニウム−、ロジウム−およびコバルト−含有化合物、好ましくはこれらのラニー型のもの、特にラニーニッケルおよびラニーコバルトが触媒として好適に用いられる。これらの触媒は担体を有する触媒として使用可能であり、この場合に用いられる担体の例には、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、活性炭、または二酸化チタン(Appl.Het.Cat.1987、106−122、Catalysis4(1981)、1−30)がある。ラニーニッケル(例えばBASF社製、Degussa社製、Grace社製)が特に好ましい。
ニッケル、ルテニウム、ロジウムまたはコバルト触媒を、周期表VIB族(Cr、MoまたはW)およびVIII族(Fe、Ru、Os、Co(ニッケルの場合のみ)、Rh、Ir、PdまたはPt)の金属で変性する。これまでに、特に変性ラニーニッケル触媒、例えばクロムおよび/または鉄により変性されたラニーニッケルの使用により高いアミノニトリル選択性が得られることがわかっている(製造に関しては、ドイツ特許出願公開第2260978号公報、Bull.Soc.Chem.13(1946)、208参照のこと)。
一般的に、ジニトリルの使用量に対して、コバルト、ルテニウム、ロジウムまたはニッケルの使用量が1〜50重量%、好ましくは5〜20重量%となるように触媒の使用量を決定する。
触媒としては、液相またはかん液充填塔式方法による固定床触媒の形状、好ましくは懸濁触媒が用いられる。
他の好ましい実施の形態において、高温、加圧下に、溶媒および触媒の存在下に、
(a)ニッケル、コバルト、鉄、ルテニウムおよびロジウムから選択される金属を基礎とする化合物、
(b)(a)に対して0.01〜25重量%、好ましくは0.1〜5重量%の、パラジウム、白金、イリジウム、オスミウム、銅、銀、金、クロム、モリブデン、タングステン、マグネシウム、レニウム、亜鉛、カドミウム、鉛、アルミニウム、錫、燐、砒素、アンチモン、ビスマスおよび希土類から選択される金属を基礎とする促進剤、および
(c)(a)に対して0〜5重量%、好ましくは0.1〜3重量%の、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を基礎とする化合物を含み、
化合物(a)としてルテニウム、ロジウム、ルテニウムとロジウム、またはニッケルとロジウムのみを基礎とする化合物が用いられる場合、場合に応じて促進剤(b)を用いないことも可能な触媒を用いることによりアジポニトリルを部分水素化し、6−アミノカプロニトリルを得る。
適する触媒は、成分(a)としてニッケル、コバルトおよび鉄から選択される金属を基礎とする少なくとも1種類の化合物を、成分(a)から(c)の合計に対して10〜95重量%、ルテニウムおよび/またはロジウムを成分(a)〜(c)の合計に対して0.1〜5重量%の量で含有し、
(b)として銀、銅、マンガン、レニウム、鉛または燐から選択される金属を基礎とする少なくとも1種類の促進剤を、(a)に対して0.1〜5重量%含有し、および
(c)としてリチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マンガンおよびカルシウムから選択されるアルカリ金属またはアルカリ土類金属を基礎とする少なくとも1種類の化合物を、(a)に対して0.1〜5重量%含有する触媒である。
特に適する触媒は、
90重量%の酸化コバルト(CoO)、5重量%の酸化マンガン(Mn2O3)、3重量%の五酸化燐、および2重量%の酸化ナトリウム(Na2O)を含有する触媒A、
20重量%の酸化コバルト(CoO)、5重量%の酸化マンガン(Mn2O3)、0.3重量%の酸化銀(Ag2O)、70重量%のシリカ(SiO2)、3.5重量%のアルミナ(Al2O3)、0.4重量%の酸化鉄(Fe2O3)、0.4重量%の酸化マンガン(MgO)、および0.4重量%の酸化カルシウム(CaO)を含有する触媒B、および
20重量%の酸化ニッケル(NiO)、67.42重量%のシリカ(SiO2)、3.7重量%のアルミナ(Al2O3)、0.8重量%の酸化鉄(Fe2O3)、0.76重量%の酸化マンガン(MgO)、および1.92重量%の酸化カルシム(CaO)、3.4重量%の酸化ナトリウム(Na2O)および2.0重量%の酸化カリウム(K2O)を含有する触媒Cである。
適する触媒の例には担体を有さない、または有する触媒がある。担体を有する触媒の例には多孔質酸化物、例えばアルミナ、シリカ、アミノシリケート、酸化ランタン、二酸化チタン、二酸化ジルコン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、ゼオライト、活性炭、これらの混合物が挙げられる。
本発明の製造法は、通常、担体物質の存在下または不存在下に(使用する触媒の種類による)、成分(a)の先駆物質を、促進剤(成分(b))の先駆物質、および必要に応じて成分(c)の先駆物質と共に沈殿させ、必要に応じてこのように得られた触媒前駆物質を処理して押出物またはタブレットを得、生成物を乾燥し、次いで焼成することにより実施される。担体を有する触媒は、通常担体に成分(a)、(b)および必要に応じて(c)の溶液を含浸させることにより得られる。上記各成分は同時に添加しても、連続して添加してもよく、また公知方法により成分(a)、(b)および必要に応じて(c)を担体上に噴霧することによっても得られる。
成分(a)の適する前駆物質は、通常上記金属の水に易溶性の塩、例えば硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、蟻酸塩および硫酸塩、好ましくは硝酸塩である。
成分(b)の適する前駆物質は、通常上記金属の水に易溶性の塩または錯塩、例えば硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、蟻酸塩、硫酸塩、および特にヘキサクロロ白金酸塩、好ましくは硝酸塩およびヘキサクロロ白金酸塩である。
成分(c)の前駆物質としては、通常上記アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水に易溶性の塩、例えば水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、塩酸塩、酢酸塩、蟻酸塩および硫酸塩、好ましくは水酸化物および炭酸塩が好適に用いられる。
一般的に、沈殿剤を添加するか、pHを変化させるか、或いは温度を変化させることにより水溶液から沈殿が生成される。
当初この様に得られた触媒材料を一般的には、80〜150℃、好ましくは80〜120℃で乾燥させる。
150〜500℃、好ましくは200〜450℃で、空気または窒素を含む気流中で焼成を行うのが一般的である。
焼成の後、得られた触媒材料を、成分(a)としてルテニウムまたはロジウムを基礎とする触媒を用いる場合は80〜250℃、好ましくは80〜180℃で、また成分(a)としてニッケル、コバルトおよび鉄から選択される金属を基礎とする触媒を用いる場合は200〜500℃、好ましくは250〜400℃で、通常は還元性雰囲気下(活性化)、例えば水素雰囲気下または水素および不活性ガス、例えば窒素を含む気体混合物雰囲気下に2〜24時間置く。この場合、触媒1リットルあたりにおける、触媒の空間速度を100〜300リットルとすると好ましく、200リットルとすると特に好ましい。
触媒は合成反応器中で直接活性化されると有利である。すなわち一般的にはこの直接活性化により、直接活性化を行わない場合に必要とされる工程、すなわち空気などの酸素/窒素混合物により通常20〜80℃、好ましくは25〜35℃で表面を不動態化する工程が除外される。次いで不動態化された触媒を合成反応器中180〜500℃、好ましくは200〜350℃、水素含有雰囲気下で活性化する。
触媒は液相またはかん液充填塔式方法による固定床触媒の形状、または懸濁触媒の形状で使用可能である。
懸濁液中で反応を行う場合、温度は40〜150℃、好ましくは50〜100℃、特に好ましくは60〜90℃に設定されるのが一般的である。圧力は通常2〜20MPa、好ましくは3〜10MPa、特に好ましくは4〜9MPaの範囲に設定される。滞留時間は、主に所望の収量、選択性および必要な転化率に依存する。滞留時間は最大の収率が得られるように設定され、例えば50〜275分、好ましくは70〜200分とされる。
懸濁法の場合、溶媒として好ましくはアンモニア、炭素原子数1−6のアミン、ジアミン、およびトリアミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンおよびトリブチルアミン、またはアルコール、特にメタノールおよびメタノール、特に好ましくはアンモニアが用いられる。ジニトリルの濃度は、ジニトリルと溶媒の総和に対して10〜90重量%、好ましくは30〜80重量%、特に好ましくは40〜70重量%の範囲で設定されると有利である。
触媒の使用量はジニトリルの使用量に対して一般的に1〜50重量%、好ましくは5〜20重量%とされる
懸濁液の水素化はバッチ式でも行われるが、好ましくは連続的に、通常液相で行われる。
部分水素化は、バッチ式または連続式に固定床反応器中、かん液充填式または液相方法で、温度を20〜150℃、好ましくは30〜90℃とし、圧力を通常2〜30MPa、好ましくは3〜20MPaとして行われる。部分水素化は、溶媒、好ましくはアンモニア、炭素原子数1−6のアミン、ジアミン、トリアミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンおよびトリブチルアミン、またはアルコール、例えばメタノールおよびエタノール、特に好ましくはアンモニアの存在下に行われる。好ましい実施の形態において、アンモニアの含有量は1gのアジポニトリルに対して1〜10g、好ましくは2〜6gとされる。触媒の空間速度は1時間1リットルごとにアジポニトリル0.1〜2.0、好ましくは0.3〜1.0kgとされる。ここでも転化率、および選択性は滞留時間を変化させることにより調整される。
部分水素化は、この目的に適する慣用の反応器中で行われる(図中R1)。本発明において、第一のカラムにおける蒸留(工程(b)、図中K1)は、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る、工程(a)からの混合物、好ましくは以下の各成分(記載の数値は合計で100重量%となる)、すなわち
1〜70重量%、好ましくは5〜40重量%の6−アミノカプロニトリル、
1〜70重量%、好ましくは5〜40重量%のアジポニトリル、
0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜20重量%のヘキサメチレンジアミン、
0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜5重量%のヘキサメチレンイミン、および
5〜95重量%、好ましくは20〜85重量%のアンモニアから主に成る混合物を、通常は慣用の蒸留カラムで、塔底温度を60〜220℃、好ましくは100〜200℃、10〜30bar、好ましくは12〜25barで、蒸留条件下で不活性であり、60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留に付し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、このアンモニアは完全に分離しないものとする。
本発明において、適する化合物Aは蒸留条件下で不活性であり、18barにおける沸点が60〜220℃、好ましくは60〜150℃の物質である。このような物質の例は、アルカン、シクロアルカン、芳香族化合物、ナフタレン、アルコール、エーテル、ニトリル、アミンのうち上述の特性を有するもの、特にC5−C8アルカン、C2−C4アルカノール、特に好ましくはn−ペンタン、シクロヘキサン、トリエチルアミン、エタノール、アセトニトリル、n−ヘキサン、ジ−n−プロピルエーテル、イソプロパノール、n−ブチルアミンまたはベンゼン、特に好ましくはエタノールがある。
通常は化合物Aを、塔底生成物Iに対して0.1〜50重量%、特に1〜10重量%の量で添加する。
工程(c)では、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニアの含有比が工程(a)で得られ、工程(b)で用いられた混合物における含有比よりも低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、圧力2〜15bar、好ましくは4〜12barとし、かつ第一および第二のカラム(図中のK2)の圧力を相互の調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔頂温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
工程(d)では、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラム(図中のK3)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、圧力0.1〜2bar、好ましくは0.2〜1barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、好ましくは60〜150℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留し、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得る。
化合物Bの例は、アルカン、シクロアルカン、芳香族化合物、ナフテン、アルコール、エーテル、ニトリルおよびアミンのうち、上記特性を有するもの、特にジ−n−ブチルエーテル、バレロニトリル、n−オクタン、シクロオクタン、n−ヘキシルアミンおよびヘキサメチレンイミン、特に好ましくはヘキサメチレンイミンが挙げられる。
好ましい実施の形態における化合物Bとしてヘキサメチレンイミンが用いられるが、他の化合物Bが添加されない場合が特に好ましい。
化合物Bは塔底生成物IIに対して0.1〜50重量%、好ましくは0.5〜10重量%の量で添加すると好ましい。
工程(e)では、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底生成物IIIを、第四のカラム(図中のK4)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは40〜200℃、圧力10〜500bar、好ましくは140〜200barで蒸留し、主にヘキサメチレンイミン、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンから構成される塔頂生成物KP1を得ると共に、塔底化合物IVを得る。
工程(f)では、塔頂生成物KP1を、第五のカラム(図中K5)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、50〜2000bar、好ましくは300〜1000barで蒸留し、主にヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから構成される塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度、好ましくは99〜9.9%の純度のヘキサメチレンジアミンから主に構成される塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の一部を第三のカラムに給送し、残りを排出する。
主にヘキサメチレンイミンと、必要に応じて化合物Bから、または化合物Bが添加されない場合または化合物Bとしてヘキサメチレンイミンを用いる場合(工程(d)参照)の好ましくは主にヘキサメチレンイミンのみから構成される塔頂生成物KP2の一部を排出することにより、ヘキサメチレンイミンおよび場合に応じて化合物Bの濃縮を回避することが一般的に可能となる。
工程(g)では、主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから構成される塔底生成物IVを、第六のカラム(図中、K6)で、塔底温度100〜220℃、好ましくは140〜200℃、1〜500mbar、好ましくは5〜100mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上、好ましくは99〜9.9%の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得る。
本発明では、得られた6−アミノカプロニトリルをカプロラクタムに変換する。この環化は、公知の液相または気相方法により、例えば米国特許第2301964号、同第2357484号明細書、ヨーロパ特許出願公開第150295号、同第4319134号各公報のいずれかに記載の方法により、通常は6−アミノカプロニトリルと水とを液相で反応させることによりカプロラクタムとアンモニアとを得る。
触媒を用いない反応においては、温度200〜375℃、反応時間10〜90分、好ましくは10〜30分に設定される。通常使用される溶媒は水であり、水に対する6−アミノカプロニトリルの含有量は一般的に30重量%、好ましくは10〜25重量%とされる。
触媒の存在下における液相反応では、反応温度50〜330℃、6−アミノカプロニトリル1モルに対する水の使用量1.3〜50モル、好ましくは1.3〜30モル、反応時間10分〜数時間とされる。有機溶媒、特にアルコールを使用する場合、水の使用量を、6−アミノカプロニトリル1モルに対して1.3〜5モルとするのが一般的である。
環化により得られた反応混合物をまず蒸留により後処理に付し、アンモニア、水、必要に応じて溶媒を除去する。触媒が用いられる場合、触媒は塔底生成物中に存在し、これを公知方法のいずれかによりカプロラクタムから分離し、環化反応器(図中R2)に給送し、再利用する。通常、粗カプロラクタムは蒸留などの公知精製法により純粋なラクタムとされ、得られた純粋なラクタムは次いで重合に用いられポリカプロラクタムとされる。
好ましい実施の形態において、6−アミノカプロニトリルと水とを液相で不均質触媒を用いて反応させる。
反応は液相中、通常140〜320℃、好ましくは160〜280℃で、圧力を通常1〜250bar、好ましくは5〜150barとして実施する。この時用いる反応条件下で、反応混合物が主に液相状態を保つことを確実とする必要がある。滞留時間は通常1〜120分、好ましくは1〜90分、特に1〜60分である。場合によっては、1〜10分の滞留時間で完全に十分であることもわかっている。
一般的に、6−アミノカプロニトリル1モルに対して、少なくとも0.01、好ましくは0.1〜20、好ましくは1〜5モルの水が使用される。
6−アミノカプロニトリルを1〜50重量%、好ましくは5〜50重量%、特に好ましくは5〜30重量%の濃度の水溶液の形態で(この場合、溶媒は同時に反応対として作用する)、または水/溶媒混合物中の溶液の形態で用いると好適である。溶媒の例には、アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノールおよびtert−ブタノール、ポリオール、例えばジエチレングリコール、テトラエチレングリコール、炭化水素、例えば石油エーテル、ベンゼン、トルエンおよびキシレン、ラクタム、例えばピロリドンおよびカプロラクタム、およびアルキル置換ラクタム、例えばN−メチルピロリドン、N−メチルカプロラクタムおよびN−エチルカプロラクタム、およびカルボン酸エステル、好ましくは炭素原子数1−8のカルボン酸エステルがある。反応にアンモニアが介在してもよい。有機溶媒の混合物ももちろん使用可能である。水/アルカノール重量比が1−75/25−99、好ましくは1−50/50−99の、水とアルカノールとの混合物も場合によっては極めて有利に用いられることがわかっている。
原則として6−アミノカプロニトリルを反応体としておよび同時に溶媒として用いることも可能である。
使用可能な不均質系触媒の例には、周期表第2、3または4主族の元素の酸性、塩基性または両性酸化物、例えば酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化硼素、アルミナ、酸化錫または熱分解法シリカの形態のシリカ、シリカゲル、多孔質珪藻土、石英またはこれらの混合物、周期表第2〜5副族の金属の酸化物、例えば酸化チタン(非晶質またはアナターゼまたはルチル)、酸化ジルコン、酸化亜鉛、酸化マンガンまたはこれらの混合物がある。ランタニドおよびアクチニドの酸化物、例えば酸化セリウム、酸化トリウム、酸化プラセオジム、酸化サマリウム、希土類混合酸化物、またはこれらの上記酸化物との混合物も使用可能である。他の触媒の例には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化鉄、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステンまたはこれらの混合物がある。
これらの酸化物相互の混合物も使用可能である。硫化物、セレン化物、テルル化物、例えばテルル化亜鉛、セレン化錫、硫化モリブデン、硫化タングステン、およびニッケル、亜鉛およびクロムの硫化物も使用される。
上記化合物は、周期表1−7主族の化合物でドープしてもよく、これらの化合物を含むことも可能である。
ゼオライト、燐酸塩、ヘテロポリ酸、酸性、アルカリ性イオン交換体、例えばNaphion(登録商標)が更に好ましい触媒として挙げられる。
必要に応じて、これらの触媒は50重量%までの銅、錫、亜鉛、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、パラジウム、白金、銀、ロジウムを含有してもよい。
触媒の組成によっては、担体を有さないまたは有する担体と共に使用可能である。例えば二酸化チタンは、二酸化チタンの押出物として、または担体上に薄層として施された二酸化チタンとして用いることもできる。文献に記載されているあらゆる方法により、シリカ、アルミナ、二酸化ジルコン等の担体上に二酸化チタンを施すことができる。すなわち、二酸化チタンの薄層を、チタンオルガニル、例えばチタンイソプロピラートまたはチタンブチラートの加水分解により、またはTiCl4または他の無機チタン含有化合物の加水分解により施すことが可能である。二酸化チタンを含有するゾルを使用してもよい。
この他の適する化合物は、塩化ジルコニル、硝酸アルミニウムおよび硝酸セリウムである。
適する担体は、上述の酸化物自体または他の安定な酸化物、例えばシリカの粉末、押出物、またはペレットである。使用される担体は、大量輸送の性能を向上させるためマクロポーラスであってもよい。
他の好ましい実施の形態において、液相の6−アミノカプロニトリルの水溶液を、触媒を添加せずに反応器中で加熱により環化させ、主に水、カプロラクタムおよび高沸点留分(高沸点成分)から成る混合物を得る。この好ましい実施の形態において、水を過剰量で、すなわち1モルの6−アミノカプロニトリルに対して好ましくは10〜150モル、特に20〜100モルの水が用いられ、6−アミノカプロニトリルの水溶液が得られると好ましい。更に好ましい実施の形態においては、1モルの6−アミノカプロニトリルに対して通常5〜25モルの水が用いられ、得られた溶液に有機溶媒を添加して、更に6−アミノカプロニトリルの5〜25モルまで希釈することもできる。
適する溶媒の例は以下の通りである。すなわち、
C1−C4アルカノール、例えばメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノールおよびブタノール、グリコール、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、エーテル、例えばメチルtert−ブチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテル、C6−C10アルカン、例えばn−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナンおよびn−デカン、およびシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ラクタム、例えばピロリドンおよびカプロラクタム、およびN−C1−C4アルキルラクタム、例えばN−メチルピロリドン、N−メチルカプロラクタムおよびN−エチルカプロラクタム。
他の実施の形態では、0〜5重量%、好ましくは0.1〜2重量%のアンモニア、水素または窒素を、反応混合物に添加してもよい。
反応を、200〜370℃、好ましくは220〜350℃、特に好ましくは240〜320℃で実施すると好ましい。
一般的には、加圧下に、通常は0.1〜50MPa、好ましくは5〜25MPaの範囲の圧力で反応を行い、この結果反応混合物が液相で存在すると好ましい。
反応時間は、主に設定される処理パラメータに依存し、連続的方法において通常20〜180分、好ましくは20から90分とされる。通常は反応時間が短い場合は転化率が低下し、また反応時間が長い場合は煩わしいオリゴマー生成の起こることがわかっている。
環化は連続的に、好ましくは環状反応器、攪拌子付容器、またはこれらの組み合わせを用いて行うと好ましい。
環化はバッチ式に行うこともできる。この場合は30〜180分にわたり反応が起こる。
通常、廃液混合物は、水50〜98重量%、好ましくは80〜95重量%と、50〜90重量%、好ましくは65〜85重量%のカプロラクタムおよび10〜50重量%、好ましくは15〜35重量%の高沸点留分(高沸点成分)の混合物2〜50重量%、好ましくは5〜20重量%との混合物から主に構成される。
好ましい実施の形態においては、部分的水素化の後であっても、アンモニアと不活性化合物A(カラム3の塔底生成物)の除去の後に存在する、摩耗した触媒材料および不揮発性高沸点成分を、望ましくない物質を塔底生成物として得るための蒸発工程で除去する。
更に好ましい実施の形態において、アジポニトリルと高沸点成分を含むカラム6の塔底生成物から蒸留によりアジポニトリルを分離し、工程(a)に給送する。更にカラム6の底部からブリードストリームを排出することも可能である。
他の実施の形態において、塔底生成物IIIを第四のカラムに給送し、ヘキサメチレンイミンと、必要に応じて化合物Bとを含有する塔頂生成物と、塔底生成物IV’とが得られるように蒸留を行うことも可能である。塔頂生成物の一部分をカラムIIIに再給送し、濃縮を避けるために残りを排出する。
塔底生成物IV’を第五のカラムに給送し、ヘキサメチレンジアミンを含む塔頂生成物と、塔底生成物V’が得られる条件下で蒸留を行う。塔底生成物V’を第六のカラムに給送し、塔頂生成物として6−アミノカプロニトリルを、塔底生成物としてアジポニトリルを得る。
最後に挙げた実施の形態における第四のカラムでの蒸留は、塔底温度100〜220、好ましくは140〜200℃で、50〜2000mbar、好ましくは300〜1000mbarで行うと好ましい。
最後に挙げた実施の形態における第五のカラムでの蒸留は、塔底温度100〜220、好ましくは140〜200℃で、10〜500mbar、好ましくは40〜200mbarで行うと好ましい。
最後に挙げた実施の形態における第六のカラムでの蒸留は、塔底温度100〜220、好ましくは140〜200℃で、1〜500mbar、好ましくは5〜100mbarで行うと好ましい。
この好ましい実施の形態により得られた生成物のヘキサメチレンジアミン、6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルを更に処理するにあたり、新規方法と同様に行うと好適である。
他の好ましい実施の形態において、塔底生成物を第四のカラムに給送する前に、塔底生成物IIIから蒸留により高沸点成分を除去する。このように、アジポニトリルを含有するカラム6の塔底生成物から高沸点成分を除去する工程を省略することが可能である。
本発明により得られたヘキサメチレンジアミンを慣用の方法により更に精製し、重合体および共重合体、例えばポリアミド66の製造に使用することができる。
本発明によると、アジポニトリルからのカプロラクタムの製造法の所定部分を主にこれらの化合物を含有する混合物の蒸留による6−アミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンとの同時分離に使用することもできる。この方法において、
(a)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る混合物を、塔底温度60〜220℃、圧力10〜30barで、蒸留条件下で不活性であり60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、アンモニアを完全に分離せず、
(b)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニア含有率が工程(a)で使用した混合物における割合より低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、圧力2〜15barとし、かつ第一および第二のカラムの圧力を相互に調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔頂温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
(c)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力0.1〜2barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留を行い、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得、
(d)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底化合物IIIを、第四のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力10〜500barで蒸留し、主にヘキサメチレンイミン、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンから構成される塔頂生成物KP1、および塔底化合物IVを得、
(e)塔頂生成物KP1を、第五のカラムで、塔底温度100〜220℃、50〜2000mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、および場合に応じて不活性化合物Bとから成る塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度のヘキサメチレンジアミンから主に成る塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の少なくとも一部を第三のカラムに給送し、残りを排出し、および
(f)主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから成る塔底生成物IVを、第六のカラムで、塔底温度100〜220℃、1〜500mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得る。
新規方法は、ヘキサメチレンジアミンを同時に得られるカプロラクタムの連続的製造法が、アジポニトリルから開始可能であるという利点を有する。
実施例
実施例1
(a)アジポニトリルの6−アミノカプロニトリルへの水素化
4.6kgのアジポニトリル(ADN)、4.6kgのアンモニア、0.45kgの懸濁ラニーニッケル(H 1−50、BASF)および8gの水酸化リチウムの混合物を、攪拌子付きオートクレーブで、80℃、全圧70barで1時間水素化に付した(H2分圧=40bar)。
ラニーニッケルを分離した後に排出した水素化混合物は以下の組成を有した。ADN:2.5kg、6−アミノカプロニトリル(ACN):2kg、ヘキサメチレンジアミン(HMD):0.2kg、ヘキサメチレンイミン(HMI):10g、およびアンモニア:4.5kg。
(b)排出された水素化混合物の、蒸留による処理
(a)により得られ、触媒を含有しない、排出された水素化混合を理論段数2の第一のカラムの頂部に給送した。200ppmのACNを含有するアンモニア4.5kgを頂部から、47℃、19barで分離し、水素化に使用した(工程(a))。
第一のカラムの塔底生成物であるエタノールと少量のアンモニアを含有する反応混合物を塔底温度180℃で理論段数13の第二のカラムに給送した。
25重量%のアンモニアと、75重量%のエタノールとの混合物0.4kgを、50℃、10barのこのカラムの頂部から第一のカラムに再給送した。
30重量%のエタノールと30ppmのアンモニアを含み、180℃の第二のカラムの塔底生成物を理論段数14の第三のカラムに給送した。2kgのエタノールをこのカラムから、50℃/300mbarで除去し、第二のカラムに再給送した。
ヘキサメチレンイミン(HMI)含有率2重量%の生成物4.8kgを、180℃の第三のカラムの底部から除去し、理論段数20の第四のカラムに給送した。65重量%のHMD、35重量%のHMI、および1000ppmのACNを含有する生成物0.3kgを、この90℃/85mbarのカラムから除去した。
第四のカラムから除去された塔頂生成物を理論段数15の第五のカラムに給送した。1000ppmのHMDと100ppmのADNとを含有するACN2kgをこの111℃/15mbarのカラムの頂部から除去し、排出した。500ppmのACNを含有するADN2.5kgを底部から排出した。
(c)6−アミノカプロニトリルのカプロラクタムへの環化
2kgのACN((b)による)、0.64kgの水、および17.4kgのエタノールの溶液を、4mmの二酸化チタン押出物が充填され、長さ/直径比が100の油加熱環状反応器を、230℃、80bar、滞留時間15分で通過させた。排出された反応混合物は1.8kgのカプロラクタム、0.05kgの6−アミノカプロン酸エチル、0.04kgの6−アミノカプロニトリル(ガスクロマトグラフィーにより測定)および0.11kgの6−アミノカプロン酸、およびカプロラクタムのオリゴマーとポリマー(HPLCにより測定)を含有していた。ここから分別蒸留により1.7kgのカプロラクタムを得た。
実施例2
(a)アジポニトリルの6−アミノカプロニトリルへの水素化
長さ2m、内径2.5cmの環状反応器に、90重量%のCoO、5重量%のMn2O3、3重量%のP2O5、および2重量%のNa2Oから成る触媒750ミリリットル(1534g)を充填し、次いで48時間にわたり、水素流下(500リットル/時間)、大気圧にて温度を30℃から280℃に上昇させながら触媒を活性化させた。温度を42℃(注入口)、80℃(放出口)に低下させた後、それぞれ1時間当たり380gのアジポニトリル、380gのアンモニア、500リットルの水素の混合物を200bar(全圧)の反応器に給送した。更に、4倍の供給量(約3kg/h)を循環させ、熱を除去した。アジポニトリル60%を同様の条件下で反応させた。反応混合物は50重量%のアンモニア、20重量%のADN、18重量%のACN、11.9重量%のHMD、0.05重量%のHMI、および0.05重量%の多種成分(好ましくは各高沸点成分)から構成されていた。(ACN選択性:60%、ACN+HMD選択性:>99%)。
(b)排出された水素化混合物の蒸留による処理
(a)により排出された水素化混合物10kgを理論段数2の第一のカラムの頂部に給送した。20ppのACNを含有するアンモニア5.0kgを47℃、19barで頂部から分離し、水素化に使用した(工程(a))。
第一のカラムの塔底生成物である、エタノールと少量のアンモニアを含有する反応混合物を、理論段数10の第二のカラムに底部温度180℃で給送した。
30重量%のアンモニアと70重量%のエタノールとの混合物1.2kgをこのカラムの頂部から、50℃、10barで第一のカラム再給送した。
40重量%のエタノールと90ppmのアンモニアを含有し、177℃の第二のカラムの塔底生成物を、理論段数10の第三のカラムに給送した。3.2kgのエタノールを47℃/300mbarでこのカラムの頂部から第二のカラムに再給送した。
HMI含有率0.55重量%の生成物5kgを、180℃の第三のカラムの底部から除去し、理論段数20の第四のカラムに給送した。2.2重量%のHMI、97.8重量%のHMD、および1000ppmのACNから成る生成物1.22kgをこのカラムの頂部から90℃/85mbarで除去した。
第四のカラムから除去した塔頂生成物を理論段数15の第五のカラムに給送した。114℃/500mbarで、1000ppmのHMDを含有する26gのHMIを塔頂生成物として除去し、このうち22gを第三のカラムに再給送した。100ppmのHMIを含有する1.19kgのHMDを177℃のカラムの底部から取り出し、操作から除外した。
第四のカラムから取り除いた塔底生成物を理論段数15の第六のカラムに給送した。1000ppmのHMDと100ppmのADNとを含有する1.8kgのACNを、111℃/15mbarでこのカラムの頂部から除去し、排出した。500ppmのACNを含有する2.0kgのADNを頂部から排出した。
(c)6−アミノカプロニトリルのカプロラクタムへの環化
2kgのANC(実施例2(b)による)、0.64kgの水、および17.4kgのエタノールの溶液を、4mmの二酸化チタン押出物が充填され、長さ/直径比が100の油加熱環状反応器を、230℃、80bar、滞留時間15分で通過させた。排出された反応混合物は1.8kgのカプロラクタム、0.05kgの6−アミノカプロン酸エチル、0.04kgの6−アミノカプロニトリル(ガスクロマトグラフィーにより測定)および0.11kgの6−アミノカプロン酸、およびカプロラクタムのオリゴマーとポリマー(HPLCにより測定)を含有した。これから分別蒸留により1.7kgのカプロラクタムを得た。
Claims (7)
- アジポニトリルから出発する、カプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンの同時製造法であって、
(a)アジポニトリルを部分水素化し、主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る混合物を得、
(b)(a)で得られた混合物を、塔底温度60〜220℃、圧力10〜30barで、蒸留条件下で不活性であり60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、アンモニアを完全に分離せず、
(c)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニア含有率が工程(b)で使用した混合物における割合より低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、圧力2〜15barとし、かつ第一および第二のカラムの圧力を相互に調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔頂温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
(d)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力0.1〜2barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留を行い、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得、
(e)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底化合物IIIを、第四のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力10〜500mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンとから構成される塔頂生成物KP1、および塔底化合物IVを得、
(f)塔頂生成物KP1を、第五のカラムで、塔底温度100〜220℃、50〜2000mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、および場合に応じて不活性化合物Bとから成る塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度のヘキサメチレンジアミンから主に成る塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の一部のみを第三のカラムに給送し、残りを排出し、および
(g)主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから成る塔底生成物IVを、第六のカラムで、塔底温度100〜200℃、1〜500mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得、得られた6−アミノカプロニトリルを環化してカプロラクタムを得ることを特徴とする、カプロラクタムおよびヘキサメチレンジアミンの同時製造法。 - アジポニトリルと高沸点成分とから成る、カラム6の塔底生成物からアジポニトリルを蒸留により分離し、工程(a)に給送することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 6−アミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンの、主にこれらの化合物から成る混合物の蒸留による同時分離法であって、
(a)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アンモニア、アジポニトリルおよびヘキサメチレンイミンから成る混合物を、塔底温度60〜220℃、圧力10〜30barで、蒸留条件下で不活性であり60〜220℃、18barで沸騰する化合物Aの存在下に蒸留し、塔頂生成物としてアンモニア、および塔底生成物Iを得、アンモニアを完全に分離せず、
(b)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、不活性化合物Aおよびアンモニアから成り、アンモニア含有率が工程(a)で使用した混合物における割合より低い塔底生成物Iを、塔底温度100〜220℃、圧力2〜15barとし、かつ第一および第二のカラムの圧力を相互に調和させ、それぞれ塔底温度が220℃以下の場合に塔底温度が20℃を超過する条件下で第二の蒸留に付し、塔頂生成物として不活性化合物Aおよびアンモニアから構成される混合物、および塔底生成物IIを得、
(c)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および不活性化合物Aから成る塔底生成物IIを、第三のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力0.1〜2barとし、かつ塔頂生成物として得られた不活性化合物Aを第二のカラムに給送し、必要に応じて蒸留条件下で不活性であり50〜220℃、0.3barで沸騰する化合物Bの存在下に蒸留を行い、塔頂生成物として不活性化合物A、および塔底生成物IIIを得、
(d)主に6−アミノカプロニトリル、ヘキサメチレンジアミン、アジポニトリル、ヘキサメチレンイミン、および場合に応じて不活性化合物Bから成る塔底化合物IIIを、第四のカラムで、塔底温度100〜220℃、圧力10〜500barで蒸留し、主にヘキサメチレンイミン、場合に応じて不活性化合物Bおよびヘキサメチレンジアミンから構成される塔頂生成物KP1、および塔底化合物IVを得、
(e)塔頂生成物KP1を、第五のカラムで、塔底温度100〜220℃、50〜2000mbarで蒸留し、主にヘキサメチレンイミンと、および場合に応じて不活性化合物Bとから成る塔頂生成物KP2を得ると共に、95%以上の純度のヘキサメチレンジアミンから主に成る塔底生成物Vを得、塔頂生成物KP2を第三のカラムに給送するか、場合に応じて塔頂生成物の少なくとも一部を第三のカラムに給送し、残りを排出し、および
(f)主に6−アミノカプロニトリルおよびアジポニトリルから成る塔底生成物IVを、第六のカラムで、塔底温度100〜220℃、1〜500mbarで蒸留し、塔頂生成物として95%以上の純度の6−アミノカプロニトリルを、および塔底生成物としてアジポニトリルを得ることを特徴とする、6−アミノカプロニトリルとヘキサメチレンジアミンの同時分離法。 - 1〜70重量%の6−アミノカプロニトリル、
1〜70重量%のアジポニトリル、
0.1〜30重量%のヘキサメチレンジアミン、
0.01〜10重量%のヘキサメチレンイミン、および
5〜95重量%のアンモニアから主に成り、上記数値の合計が100重量%となる混合物を工程(b)で使用することを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - 1〜70重量%の6−アミノカプロニトリル、
1〜70重量%のアジポニトリル、
0.1〜30重量%のヘキサメチレンジアミン、
0.01〜10重量%のヘキサメチレンイミン、および
5〜95重量%のアンモニアから主に成り、上記数値の合計が100重量%となる混合物を工程(a)で使用することを特徴とする請求項3に記載の方法。 - 不活性化合物Aとしてエタノールを用いることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
- 成分Bとしてヘキサメチレンイミンを用いることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19500222.9 | 1995-01-05 | ||
DE19500222A DE19500222A1 (de) | 1995-01-05 | 1995-01-05 | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Caprolactam und Hexamethylendiamin |
PCT/EP1995/005115 WO1996020931A1 (de) | 1995-01-05 | 1995-12-22 | Verfahren zur gleichzeitigen herstellung von caprolactam und hexamethylendiamin |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10511361A JPH10511361A (ja) | 1998-11-04 |
JP3708549B2 true JP3708549B2 (ja) | 2005-10-19 |
Family
ID=7751046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52005596A Expired - Fee Related JP3708549B2 (ja) | 1995-01-05 | 1995-12-22 | カプロラクタムとヘキサメチレンジアミンの同時製造法 |
Country Status (18)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0801647B1 (ja) |
JP (1) | JP3708549B2 (ja) |
KR (1) | KR100386706B1 (ja) |
CN (1) | CN1064353C (ja) |
AT (1) | ATE242217T1 (ja) |
AU (1) | AU4347396A (ja) |
BG (1) | BG63431B1 (ja) |
BR (1) | BR9510133A (ja) |
CZ (1) | CZ289886B6 (ja) |
DE (2) | DE19500222A1 (ja) |
ES (1) | ES2201127T3 (ja) |
FI (1) | FI972839A0 (ja) |
MY (1) | MY112196A (ja) |
PL (1) | PL187887B1 (ja) |
RU (1) | RU2153493C2 (ja) |
SK (1) | SK84297A3 (ja) |
TW (1) | TW340839B (ja) |
WO (1) | WO1996020931A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19636766A1 (de) | 1996-09-10 | 1998-03-12 | Basf Ag | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von 6-Aminocapronitril und Hexamethylendiamin |
DE19636765A1 (de) * | 1996-09-10 | 1998-03-12 | Basf Ag | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von 6-Aminocapronitril und Hexamethylendiamin |
DE19704613A1 (de) | 1997-02-07 | 1998-08-13 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennung von 6-Aminocapronsäurenitril aus Mischungen, die 6-Aminocapronsäurenitril und ein Imin enthalten |
DE19704616A1 (de) * | 1997-02-07 | 1998-08-13 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennung von 2-Aminomethylcyclopentylamin aus einer Mischung enthaltend Hexamethylendiamin und 2-Aminomethylcyclopentylamin |
DE19704614A1 (de) | 1997-02-07 | 1998-08-13 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennnung eines Imins aus einer Mischung enthaltend ein Amin und ein Imin |
DE19704620A1 (de) | 1997-02-07 | 1998-08-13 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennung von 6-Aminocapronitril aus Mischungen, die 6-Aminocapronitril und ein Imin enthalten |
DE19704612A1 (de) * | 1997-02-07 | 1998-08-13 | Basf Ag | Verfahren zur Gewinnung von Hexamethylendiamin aus Hexamethylendiamin enthaltenden Mischungen |
DE19812427A1 (de) * | 1998-03-20 | 1999-09-23 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennung eines Azepin-Derivats aus einer Mischung enthaltend ein Amin und ein Azepin-Derivat |
DE19842905A1 (de) | 1998-09-18 | 2000-03-23 | Basf Ag | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung eines cyclischen Lactams und eines cyclischen Amins |
DE10010825A1 (de) * | 2000-03-08 | 2001-09-13 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennung eines Azepin-Derivats aus einer Mischung enthaltend ein Amin und ein Azepin-Derivat |
MY127068A (en) * | 2000-06-05 | 2006-11-30 | Basf Ag | Removal of ammonia from solutions including caprolactam and ammonia |
DE10029187A1 (de) * | 2000-06-19 | 2001-12-20 | Basf Ag | Verfahren zur Abtrennung von 6-Aminocapronitril aus Gemischen, die 6-Aminocapronitril, Adipodinitril und Hexamethylendiamin enthalten |
DE10223827A1 (de) | 2002-05-28 | 2003-12-11 | Basf Ag | Verfahren zur Reduzierung des Gehalts an einem ungesättigten Amin in einer Mischung enthaltend ein Aminonitril, ein Diamin, ein Dinitril oder deren Gemische |
US7208632B2 (en) * | 2004-09-10 | 2007-04-24 | Invista North America S.A R.L. | Separation of 6-aminocapronitrile and hexamethylenediamine from a mixture comprising hexamethylenediamine, 6-aminocapronitrile and tetrahydroazepine |
FR2892118B1 (fr) | 2005-10-18 | 2010-12-10 | Rhodia Recherches & Tech | Procede de fabrication d'hexamethylene diamine et d'aminocapronitrile. |
FR2902425B1 (fr) * | 2006-06-20 | 2008-07-18 | Rhodia Recherches & Tech | Procede de fabrication de diamines primaires |
CN112876381B (zh) * | 2021-04-14 | 2024-01-26 | 江苏扬农化工集团有限公司 | 一种气相法制备6-氨基己腈的模拟移动床装置及方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE954416C (de) * | 1952-11-04 | 1956-12-20 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Aminonitrilen und Diaminen |
GB1179706A (en) * | 1966-07-22 | 1970-01-28 | Ici Ltd | Organic Amines |
DE2606364C3 (de) * | 1976-02-18 | 1988-05-26 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur Stofftrennung aus einem flüssigen Gemisch durch fraktionierte Kristallisation |
-
1995
- 1995-01-05 DE DE19500222A patent/DE19500222A1/de not_active Withdrawn
- 1995-02-09 TW TW084101079A patent/TW340839B/zh active
- 1995-12-20 MY MYPI95003990A patent/MY112196A/en unknown
- 1995-12-22 AT AT95942198T patent/ATE242217T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-12-22 SK SK842-97A patent/SK84297A3/sk unknown
- 1995-12-22 CN CN95197256A patent/CN1064353C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-22 WO PCT/EP1995/005115 patent/WO1996020931A1/de active IP Right Grant
- 1995-12-22 DE DE59510717T patent/DE59510717D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-22 BR BR9510133A patent/BR9510133A/pt not_active IP Right Cessation
- 1995-12-22 PL PL32126795A patent/PL187887B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1995-12-22 ES ES95942198T patent/ES2201127T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-22 JP JP52005596A patent/JP3708549B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-22 RU RU97113741/04A patent/RU2153493C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1995-12-22 AU AU43473/96A patent/AU4347396A/en not_active Abandoned
- 1995-12-22 CZ CZ19972027A patent/CZ289886B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1995-12-22 EP EP95942198A patent/EP0801647B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-22 KR KR1019970704616A patent/KR100386706B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-06-24 BG BG101661A patent/BG63431B1/bg unknown
- 1997-07-02 FI FI972839A patent/FI972839A0/fi not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100386706B1 (ko) | 2003-08-21 |
KR19980701227A (ko) | 1998-05-15 |
CZ202797A3 (cs) | 1998-02-18 |
MX9704863A (es) | 1997-10-31 |
DE19500222A1 (de) | 1996-07-11 |
CZ289886B6 (cs) | 2002-04-17 |
CN1064353C (zh) | 2001-04-11 |
ATE242217T1 (de) | 2003-06-15 |
BR9510133A (pt) | 1997-12-30 |
TW340839B (en) | 1998-09-21 |
BG101661A (en) | 1998-02-27 |
FI972839A (fi) | 1997-07-02 |
EP0801647B1 (de) | 2003-06-04 |
PL321267A1 (en) | 1997-11-24 |
AU4347396A (en) | 1996-07-24 |
BG63431B1 (bg) | 2002-01-31 |
CN1171782A (zh) | 1998-01-28 |
WO1996020931A1 (de) | 1996-07-11 |
SK84297A3 (en) | 1998-03-04 |
DE59510717D1 (de) | 2003-07-10 |
ES2201127T3 (es) | 2004-03-16 |
FI972839A0 (fi) | 1997-07-02 |
PL187887B1 (pl) | 2004-10-29 |
MY112196A (en) | 2001-04-30 |
EP0801647A1 (de) | 1997-10-22 |
JPH10511361A (ja) | 1998-11-04 |
RU2153493C2 (ru) | 2000-07-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050705 |
|
A977 | Report on retrieval |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |