JP3703451B2 - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度かつ片面読み取りを実現するための2層式光ディスクの構造、及び、この光ディスクを読み取り再生する再生ヘッドの焦点位置の設計に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ディジタルビデオディスク(DVD)の規格の一つとして、片側から2つの信号面を再生できる2層式光ディスクが、将来の大容量メディアとして有望視されている。
【0003】
以下に、従来の片面読み取り型2層式光ディスクの構造について述べる。
(a)第1層(読み出しレーザー光入射側)として、信号層(信号面は第2層側)
(b)第2層として、半透明膜
(c)第3層として、2つの信号層を分離するための中間層
(d)第4層として、反射膜
(e)第5層として、第4層側に信号ピットが形成された信号層
【0004】
このような片面読み取り型2層式光ディスクを再生する場合、光ディスクの第1層側に配置された再生ヘッドを用いて、再生ヘッドからの読み出しレーザー光を光ディスクに集束させて入射させ、例えばその読み出しレーザー光が最も絞られる焦点位置に第1層の信号面を設けたり、あるいは、第1層の信号面でレーザー光が最も絞られるように再生ヘッドの焦点位置を設計していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来技術においては、再生ヘッドからの読み出しレーザー光の最も絞られる焦点位置が第1層(読み取りレーザー光入射側信号層)の信号面にあるため、もう一方の信号層である第5層の信号面に読み出しレーザー光の最も絞られる焦点位置を移行すると、中間層の厚み(光路長が長くなる)による収差を発生し、第1層再生時と比較してレーザー光の絞りが大きくなる。その結果、第1層の信号再生時より第5層の信号再生時の方が前後左右の信号ピットも再生してしまい、再生信号のジッタ(信号読み取りばらつき率)が悪くなる。
【0006】
本発明は、従来技術の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであり、読み出しレーザー光の最も絞られる位置を二つの信号層の中間位置とすることにより、再生信号のジッタを均等化できる高密度の光記録媒体及びその製造方法を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のうちで請求項1に記載の発明は、第1信号層と半透明膜と中間層と反射膜と第2信号層とが順次形成され、前記第1信号層の前記半透明膜側に信号面が形成されるとともに、前記第2信号層の前記反射膜側に信号面が形成された光記録媒体において、前記半透明膜の波長650nmのレーザー光に対する反射率が20%以上40%以下であり、前記反射膜の前記レーザー光に対する反射率が70%以上であり、前記中間層の厚みが40μm以上60μm以下であり、前記第1信号層の厚みが0.56mm以上0.58mm未満であり、前記第1信号層および前記第2信号層の各信号面を読み取る際の戻り光強度が、(前記半透明膜からの戻り光強度)>(前記反射膜からの戻り光強度)であることを特徴とする。
【0008】
また、請求項2に記載の発明は、第1信号層と半透明膜と中間層と反射膜と第2信号層とが順次形成され、前記第1信号層の前記半透明膜側に信号面が形成されるとともに、前記第2信号層の前記反射膜側に信号面が形成された光記録媒体において、前記半透明膜の波長650nmのレーザー光に対する反射率が20%以上40%以下であり、前記反射膜の前記レーザー光に対する反射率が70%以上であり、前記中間層の厚みが40μm以上60μm以下であり、前記第1信号層の厚みが0.58mm以上0.60mm未満であり、前記第1信号層および前記第2信号層の各信号面を読み取る際の戻り光強度が、(前記半透明膜からの戻り光強度)<(前記反射膜からの戻り光強度)であることを特徴とする。
【0009】
さらに、請求項3に記載の発明は、前記第1信号層の、波長650nmのレーザー光に対する屈折率が1.45以上1.65以下であることを特徴とする。
【0010】
また、請求項4に記載の発明は、請求項1あるいは3に記載の光記録媒体の製造方法であって、前記第1信号層の厚みが0.56mm以上0.58mm未満の場合、前記第1信号層の厚みに応じて前記反射膜の反射率を70%以上で、前記半透明膜の反射率を20%以上40%以下の範囲に適宜選定することにより、レーザー光の波長が650nmで、対物レンズの開口数が0.6である再生ヘッドを用いて前記第1信号層及び前記第2信号層の各信号層を読み取る際の戻り光強度を、(前記半透明膜からの戻り光強度)>(前記反射膜からの戻り光強度)とすることを特徴とする。
【0011】
また、請求項5に記載の発明は、請求項2あるいは3に記載の光記録媒体の製造方法であって、前記第1信号層の厚みが0.58mm以上0.60mm未満の場合、前記第1信号層の厚みに応じて前記反射膜の反射率を70%以上で、前記半透明膜の反射率を20%以上40%以下の範囲に適宜選定することにより、レーザー光の波長が650nmで、対物レンズの開口数が0.6である再生ヘッドを用いて前記第1信号層及び前記第2信号層の各信号層を読み取る際の戻り光強度を、(前記半透明膜からの戻り光強度)<(前記反射膜からの戻り光強度)とすることを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
参考例1
まず、本発明の参考例1として、信号層の基板材料としてポリカーボネート、半透明膜としてAu、中間層の材料としてUV硬化樹脂、反射膜としてAl、再生系のレーザー波長として略650nm、再生ヘッドの対物レンズの開口NAとして略0.6のものを用いた場合を例として説明する。
【0013】
図1は、本発明の参考例にかかる片面読み取り型2層ディスクの断面図を示している。
図1において、2は読みだしレーザー光に対してほぼ透明で(ほぼ透過し)、屈折率が1.45〜1.65程度の読み出しレーザー光入射側の第1信号層で、樹脂圧縮成形等により片面にスパイラル状に信号ピットが形成されている厚さ0.56〜0.58mm程度の円板からなる。4は第1信号層2の信号面側にスパッタリング等の方法で膜付けされ、第1信号層2からレーザー光を入射させた場合その入射光量に対して20〜40%程度の反射率をもつ半透明膜で、入射されたレーザー光を一部反射、残りを透過する性質があり、誘電体膜等の光吸収率の低い材料を用いることでも実現可能である。6は読み出しレーザー光に対してほぼ透明で(ほぼ透過し)、屈折率が1.35〜1.75程度の中間層で、再生ヘッドからの読み出しレーザー光が最も絞られるように設計された焦点位置FPから、ディスク面に対して略垂直に置かれた読み出しレーザー光の光軸OA方向にそれぞれ20〜30μm程度ずつの厚みを持っている。8は中間層6側に信号ピットが形成され、第1信号層2と同様の構造の第2信号層で、片面にスパイラル状に信号ピットが形成されている円板からなる。10は第2信号層8にスパッタリング等の方法で膜付けされた反射率70%以上の反射膜であり、RAはディスクが回転するときの回転中心軸である。
なお、上記反射率は分光光度計を用いて測定した値であり、以下に記載する反射率についても、同様に分光光度計を用いて測定した値である。
【0014】
上記構成の片面読み取り型2層式光ディスクに対して、まず読み出しレーザー光入射側の第1信号面を再生する場合、再生ヘッドのレンズに入射した読み取りレーザー光が回転中心軸RAを中心に線速一定で回転しているディスクの信号面上で絞り込まれるように再生ヘッドのフォーカス制御を行い、続いて信号列を追従するためにトラッキング制御を行い、信号面からの反射光を受光ディテクタで検出し、アナログ信号として読み出す。また、もう一方の信号面である読み出しレーザー光入射奥側の第2信号面を再生する際は、この信号面上でレーザー光が絞り込まれるように再生ヘッドのフォーカス制御を行い、続いて信号列を追従するためにトラッキング制御を行い、再生光入射側の第1信号面を再生するときと同様に、信号の検出を行う。
【0015】
表1は、本発明の参考例にかかる片面読み取り型2層式光ディスクの両信号面を再生したときと、従来の片面読み取り型2層式光ディスクの両信号面を再生したときの再生信号ジッタ(信号読み取りばらつき率)を示している。
【表1】
【0016】
表1から明らかなように、本発明の参考例にかかる片面読み取り型2層式光ディスクは従来の片面読み取り型2層式光ディスクと比べ、それぞれの信号面での再生信号ジッタが変わらず、両信号面をほぼ同条件で再生することが可能である。
【0017】
なお、読み出しレーザー光入射奥側の第2信号層8として、従来用いられている基板厚さ約0.6mmで基板材料を作製し使用することも可能で、例えば、読み出しレーザー光入射側の第1信号層2の厚みと、中間層6の厚みの略1/2の厚さを足したものに近い厚みを持つ信号層とすることもできる。また、上記参考例1に用いた材料に代わる材料を使用することも可能である。
【0018】
参考例2
次に、本発明の参考例2にかかる再生ヘッドを使用して従来の片面読み取り型2層式光ディスクを読み取る場合を説明する。なお、光ディスクの材料としては、参考例1と同様に、信号層の基板材料としてポリカーボネート、半透明膜としてAu、中間層としてUV硬化樹脂、反射膜としてAlを使用している。
【0019】
図2に示されるように、本発明の参考例2にかかる再生ヘッドHは、読み出しレーザー光を出射するレーザー光源としての半導体レーザー12と、この半導体レーザー12から出射されたレーザー光を透過する一方、光ディスクからの反射光を90度横方向に反射するビームスプリッタ14と、ビームスプリッタ14の光ディスク側に配置される1/4波長板16と、1/4波長板16のさらに光ディスク側に配置される少なくとも一つの再生レンズ18と、ビームスプリッタ14で反射されたレーザー光を絞り込む絞り込みレンズ20と、絞り込みレンズ20で絞り込まれたレーザー光が入射する受光ディテクタ22とを備えている。
【0020】
上記構成の再生ヘッドHにおいて、半導体レーザー12を適宜選定して出射するレーザー光の波長を従来(略650nm)より短くすることにより、あるいは、再生レンズ18を適宜選定してその開口NAを従来(略0.6)より大きくすることにより、再生ヘッドHにより最も絞られるレーザー光の焦点位置をレーザー光入射側の第1信号面とレーザー光入射奥側の第2信号面との間で、例えば中間層6の厚みを略1/2に分ける中心線上に位置させることができる(図3参照)。
【0021】
次に、この再生ヘッドHを使用して、従来の片面読み取り型2層式光ディスクのレーザー光入射側の第1信号面を再生する方法について説明する。
【0022】
中央でクランプされた光ディスクをスピンドルにより線速一定で回転させる。光ディスクに反りがある場合、この回転動作により静止状態のヘッドの焦点位置から見た信号面は上下に揺れる。この時、図2に示されるように、焦点位置を中心に信号面が上下するようにヘッドもしくはディスクの高さ調整を行う。ディスクに反りがない場合、信号面に焦点位置がくるようにヘッドもしくはディスクの高さ調整を行う。
【0023】
半導体レーザー12より出射されたレーザー光は、ビームスプリッタ14及び1/4波長板16を透過し、再生レンズ18によりディスクに照射される。ディスクに照射されたレーザー光のうち、第1信号面で反射したレーザー光は、再び再生レンズ18に入射し、1/4波長板16を透過してビームスプリッタ14で反射し、絞り込みレンズ20で絞り込まれて受光ディテクタ22に入射する。受光ディテクタ22で検出されたレーザー光は、レーザー光の焦点位置から信号面までのズレ量であるフォーカスエラー信号としてフォーカスエラー検出回路24により検出され、光信号から電気信号に変換される。この電気信号はコイルドライバ26に入力され、焦点位置と信号面とのズレ量をキャンセルするようにヘッドを上下駆動させるための電流を上下駆動用コイル28に供給することによりヘッドのフォーカス制御を行う。続いて、信号ピット列を追従するためのトラッキングエラー信号がトラッキングエラー検出回路30により検出され、フォーカス制御と同様、光信号から電気信号に変換される。この電気信号はコイルドライバ32に入力され、信号ピット列から再生レーザースポットのズレ量をキャンセルするようにヘッドを左右駆動するための電流を左右駆動用コイル34に供給することによりトラッキング制御を行い、再生信号をアナログ信号として読み出す。
【0024】
一方、レーザー光入射奥側の第2信号面を再生する場合、第2信号面でレーザー光が最も絞り込めるように再生ヘッドHのフォーカス制御を行い、続いて信号列を追従するためのトラッキング制御を行い、再生光入射側の第1信号面を再生するときと同様、信号の検出を行う。
【0025】
表2は、本発明の参考例2にかかる再生ヘッドHで片面読み取り型2層式光ディスクの両信号面を再生したときと、従来の再生ヘッドで両信号面を再生したときの再生信号ジッタ(信号読み取りばらつき率)を示している。
【表2】
【0026】
表2から明らかなように、本発明の参考例2にかかる再生ヘッドHは従来の再生ヘッドと比べ、片面読み取り型2層式光ディスクのそれぞれの信号面を再生したときの再生信号ジッタが変わらず、両信号面をほぼ同条件で再生することが可能である。
【0027】
実施形態
本発明の実施形態の片面読み取り型2層式光ディスクとして、参考例1の片面読み取り型2層式光ディスク(図1)と比較して説明する。
【0028】
参考例1の片面読み取り型2層式光ディスクを試作したものとして、信号層2,8の基板材料としてポリカーボネートを使用するとともに、半透明膜4としてAuを使用し、レーザー光入射側の第1信号層2からレーザー光を入射し、その入射光量に対して略25%程度の反射率となるようにした。また、中間層6としてUV硬化樹脂を使用するとともに、反射膜10としてAlを用い、その反射率を70%以上とすることにより、反射膜10で反射され再生ヘッドに戻ってくる光強度と半透明膜4の反射光強度とを略等しくした。再生系のレーザー波長としては略650nmものを使用し、再生ヘッドの対物レンズの開口NAとしては略0.6(信号層の基板材料及びUV硬化樹脂の厚みが略0.6mmの位置で収差がもっとも少なくなる)のものを用いた。この構造をとるときに、再生ヘッドにより再生光をディスクに入射して、反射膜10で反射された再生光が再び再生ヘッドに戻ってくるときの光強度は次式で表すことができる。
【0029】
また、本発明の実施形態の片面読み取り型2層式光ディスクを試作したものとして、信号層の基板材料としてポリカーボネートを使用するとともに、半透明膜としてAuを使用し、レーザー光入射側の第1信号層からレーザー光を入射し、その入射光量に対して略20%の反射率となるようにした。また、中間層としてUV硬化樹脂を使用するとともに、反射膜としてAlを用い、その反射率を70%以上とした。再生系のレーザー波長及び再生ヘッドの対物レンズの開口NAとしては参考例1と同一のものを選定し、それぞれ略650nm及び略0.6のものを用いた。
【0030】
この構造では、再生ヘッドにより再生光をディスクに入射して、反射膜で反射された再生光が再び再生ヘッドに戻ってくるときの光強度は、基板の材料として参考例1と同じ樹脂材料を使用すると、半透明膜の透過率が上がることにより反射膜で反射され再生ヘッドに戻ってくる光強度の方が半透明膜の反射光強度より大きくなる。
【0031】
図4は、本発明の実施形態の片面読み取り型2層式光ディスクの断面図である。
図4において、42は読みだしレーザー光に対してほぼ透明で、樹脂圧縮成形等により片面にトラックピッチ0.74μm程度、最短ピット長が略0.44μmのスパイラル状の信号ピットが形成された読み出しレーザー光入射側の第1信号層で、屈折率が1.45〜1.65程度、厚さ0.56〜0.58mm程度の円板からなる。44は第1信号層42の信号面側にスパッタリング等の方法で膜付けされ、第1信号層42からレーザー光を入射させた場合その入射光量に対して20〜40%程度の反射率をもつ半透明膜で、入射されたレーザー光を一部反射、残りを透過する特性がある。46は読み出しレーザー光に対して透明で、再生ヘッド焦点位置FPからディスク面に対して略垂直に置かれた読み出しレーザー光の光軸OA方向にそれぞれ20〜30μm程度ずつの厚みをもつ中間層である。48は中間層46側に信号ピットが形成され、第1信号層42と同様の構造のレーザー光入射奥側の第2信号層で、樹脂圧縮成形等により片面にトラックピッチ0.74μm程度、最短ピット長が略0.44μmのスパイラル状の信号ピットが形成されており、屈折率が1.45〜1.65程度、厚さ0.56〜0.58mm程度の円板からなる。50は第2信号層48にスパッタリング等の方法で膜付けされた反射率70%以上の反射膜であり、RAはディスクが回転するときの中心軸である。
【0032】
上記構成の片面読み取り型2層式光ディスクに対して、まず読み出しレーザー光入射側の第1信号面を再生する場合、再生ヘッドのレンズに入射した読み取りレーザー光が回転中心軸RAを中心に回転しているディスク中の信号面上で絞り込めるように再生ヘッドのフォーカス制御を行い、続いて信号列を追従するためにトラッキング制御を行い、信号面からの反射光を受光ディテクタで検出し、アナログ信号として読み出す。また、もう一方の信号面である読み出しレーザー光入射奥側の第2信号面を再生する際は、この信号面上でレーザー光が絞り込めるように再生ヘッドのフォーカス制御を行い、続いて信号列を追従するためにトラッキング制御を行い、再生光入射側の第1信号面を再生するときと同様に信号の検出を行う。
【0033】
参考例1の片面読み取り型2層式光ディスクを試作し、再生測定を行った結果を図5の(a),(b),(c)に示し、本発明の実施形態の片面読み取り型2層式光ディスクを試作し、再生測定を行った結果を図6の(a),(b),(c)に示す。それぞれの図は再生信号ジッタ(信号読み取りばらつき率)を縦軸に、再生レーザー光がディスク内に入射してから再生する信号面までの距離(光路長)を横軸にとっている。
【0034】
図5の(a)は再生光入射側基板2の厚みとして、0.54mm,0.56mm,0.58mm程度のものを使用し、中間層6の厚みを略30μm、半透明膜4として第1信号層2からレーザー光を入射しその入射光量に対して略25%の反射率をもつものを用い、反射膜10の反射率を70%以上、再生光入射奥側の第2信号層基板8としてディスクの総厚みが1.14〜1.5mm程度となるように厚み調整を施し、試作した3種のディスクを再生測定した結果である。52はそのディスクの再生光入射側基板2の信号面を再生測定した結果であり、54は再生光入射奥側基板8の信号面を再生測定した結果である。図5の(b)は再生光入射側基板2の厚みとして、0.54mm,0.56mm,0.58mm,0.6mm程度のものを使用し、中間層6の厚みを略40μm、半透明膜4として第1信号層2からレーザー光を入射しその入射光量に対して略25%の反射率をもつものを用い、反射膜10の反射率を70%以上、再生光入射奥側の第2信号層基板8としてディスクの総厚みが1.14〜1.5mm程度となるように厚み調整を施し、試作した4種のディスクを再生測定した結果である。56はそのディスクの再生光入射側基板2の信号面を再生測定した結果であり、58は再生光入射奥側基板8の信号面を再生測定した結果である。図5の(c)は再生光入射側基板2の厚みとして、0.61mm,0.62mm,0.63mm程度のものを使用し、中間層6の厚みを略50μm、半透明膜4として第1信号層2からレーザー光を入射しその入射光量に対して略25%程度の反射率をもつものを用い、反射膜10の反射率を70%以上、再生光入射奥側の信号層基板8としてディスクの総厚みが1.14〜1.5mm程度となるように厚み調整を施し、試作した3種のディスクを再生測定した結果である。60はそのディスクの再生光入射側基板2の信号面を再生測定した結果であり、62は再生光入射奥側基板8の信号面を再生測定した結果である。
【0035】
ここで、ディスクの信号面を再生する場合、個々のディスクによって反り,偏心,複屈折等の製造ばらつきが生じ、また再生ヘッドに関しても同様に製造ばらつきが生じる。このことを考慮すれば再生信号ジッタは10%以内に抑えなければならない。
【0036】
図5の(a)によれば、中間層6の厚み略30μmでは、上記再生信号ジッタの限界である10%以内を満足していない。これは中間層6の厚みが薄いために、どちらかの信号層を再生した際に他方の信号層まで再生し、信号層間のクロストークとして再生信号ジッタを劣化させていると考えられる。
【0037】
図5の(b)から、中間層6の厚み略40μmでは、再生信号ジッタの限界である10%以内を満足するためには再生光入射側基板2が0.54mm以上なくてはならない。また、再生ヘッドが再生光を最も絞ることができる基板材及び樹脂の厚みが略0.6mmに対して、信号面をその位置から再生光の光軸方向に等距離離れた位置に有することにより、再生信号ジッタを両信号面上でほぼ同じにしている。
【0038】
図5の(c)から、中間層6の厚み略50μmでは、再生信号ジッタの限界である10%以内を満足するためには再生光入射奥側基板2までの長さが0.66mm以下でなくてはならない。
【0039】
しかしながら、この参考例1の片面読み取り型2層式光ディスクに関しては、信号面上に膜付けされる半透明膜4及び反射膜10の膜厚,基板2,8及び中間層6の厚みの製造ばらつきに対して高度な制御が必要である。実際の製造工程に於いては、半透明膜4の膜付け制御は反射率で略15%程度のマージンが必要となる。図6は、その製造ばらつきによってディスク再生装置が認識できる半透明膜4及び反射膜10の反射率限界の条件、すなわち、本発明の実施形態の片面読み取り型2層式光ディスクを試作し、測定したものである。
【0040】
図6の(a)は再生光入射側基板42の厚みとして、0.56mm,0.58mm,0.61mm程度のものを使用し、中間層46の厚みを略30μm、半透明膜44として第1信号層42からレーザー光を入射しその入射光量に対して略20%程度の反射率をもつものを用い、反射膜50の反射率を70%以上、再生光入射奥側の第2信号層基板48としてディスクの総厚みが1.14〜1.5mm程度となるように厚み調整を施し、試作した3種のディスクを再生測定した結果である。64はそのディスクの再生光入射側基板42の信号面を再生測定した結果であり、66は再生光入射奥側基板48の信号面を再生測定した結果である。図6の(b)は再生光入射側基板42の厚みとして、0.54mm,0.58mm,0.6mm程度のものを使用し、中間層46の厚みを略40μm、半透明膜44として第1信号層42からレーザー光を入射しその入射光量に対して略20%の反射率をもつものを用い、反射膜50の反射率を70%以上、再生光入射奥側の信号層基板48としてディスクの総厚みが1.14〜1.5mm程度となるように厚み調整を施し、試作した3種のディスクを再生測定した結果である。68はそのディスクの再生光入射側基板42の信号面を再生測定した結果であり、70は再生光入射奥側基板48の信号面を再生測定した結果である。図6の(c)は再生光入射側基板42の厚みとして、0.61mm,0.63mm程度のものを使用し、中間層46の厚みを略50μm、半透明膜44として第1信号層42からレーザー光を入射しその入射光量に対して略20%の反射率をもつものを用い、反射膜50の反射率を70%以上、再生光入射奥側の信号層基板48としてディスクの総厚みが1.14〜1.5mm程度となるように厚み調整を施し、試作した2種のディスクを再生測定した結果である。72はそのディスクの再生光入射側基板42の信号面を再生測定した結果であり、74は再生光入射奥側基板48の信号面を再生測定した結果である。
【0041】
上記実施形態の片面読み取り型2層式光ディスクを再生したときの結果より、再生光入射奥側信号面を再生したときよりも、再生光入射側信号面を再生したときの方がジッタ値が大きい。これは各信号面上の反射膜50と半透明膜44から再生ヘッドへの戻り光量に差があるためで、反射光量の少ない再生光入射側の信号面を再生したときの受光ディテクタ内に戻ってくる光信号及びその光信号を電気信号に変換し測定するまでにノイズ成分が影響しているためである。
【0042】
図6の(a)によれば、中間層46の厚み略30μmの再生光入射側信号層を再生したときの再生信号ジッタが、限界である10%以内を満足していない。これは参考例1の片面読み取り型2層式光ディスクの中間層6の厚み略30μmを再生したときと同様、中間層厚みが薄いためにどちらかの信号層を再生した際に他方の信号層まで再生し、信号層間のクロストークとして再生信号ジッタを劣化させていると考えられる。
【0043】
図6の(b)から、中間層46の厚み略40μmでは再生信号ジッタの限界である10%以内を満足するためには再生光入射側基板42が0.56mm以上なくてはならない。また、ここで再生光入射側基板42を0.6mm程度としたときに、再生光入射側信号面を再生したときのジッタが8.1%、再生光入射奥側信号面を再生したときのジッタが8.0%と、ジッタを均等に分けた結果となっている。これは再生光入射側信号面を再生したときに信号面上の半透明膜からの戻り光量が少なく、外部ノイズに影響されやすい分を、信号面を再生ヘッドのもっとも絞れる位置すなわち厚み略0.6mmの位置に設定することにより収差を最小としている。逆に再生光入射奥側信号面を再生したときは、再生ヘッドのもっとも絞れる位置すなわち0.6mmの位置から中間層の厚み分である略40μm離れることによる収差でのジッタ劣化を、再生光入射側信号面上の反射膜からの戻り光量を多くすることによりノイズからの影響を少なくしている。
【0044】
すなわち、レーザー光が最も絞られる焦点位置を中間層46の光軸OA方向における略中央と半透明膜44との間に設定するとともに、半透明膜44の反射率を適宜選定し、半透明膜からの戻り光強度より反射膜からの戻り光強度を大きくすることにより再生光入射側の信号面を再生した時と再生光入射奥側信号面を再生した時のジッタを略均等化することができる。
【0045】
本実施形態によれば、ディスクの製造ばらつきを考慮すると、半透明膜及び反射膜の反射率マージンはそれぞれ20〜40%程度、光路長すなわち再生光入射側基板42として0.56mm〜0.58mm程度、中間層厚みは40〜60μm程度(再生光入射奥側基板48の信号面までの光路長0.64mm以内)が適当であると考えられる。
【0046】
なお、上記実施形態において、反射膜で反射され再生ヘッドに戻ってくる光強度を半透明膜の反射光量より大きくしたが、逆に、反射膜で反射され再生ヘッドに戻ってくる光強度を半透明膜の反射光量より小さくすることもできる。
【0047】
すなわち、レーザー光が最も絞られる焦点位置を中間層46の光軸OA方向における略中央と反射膜50との間に設定するとともに、半透明膜44の反射率を適宜選定し、半透明膜からの戻り光強度より反射膜からの戻り光強度を小さくすることにより再生光入射側の信号面を再生した時と再生光入射奥側信号面を再生した時のジッタを略均等化することができる。
【0048】
以上のように、本発明の実施形態を用いることにより、再生ヘッドの焦点位置から不等距離離れた位置に信号面を設けることでも、半透明膜と反射膜とで戻り光量に差をもたせることで各信号層を再生したときのジッタを略均等化することが可能である。
【0049】
この片面読み取り型2層式光ディスクの条件として、半透明膜の反射率を30%、反射膜の反射率が70%以上でも上記実施形態と同様のディスク構造マージン結果が得られる。
【0050】
また、各信号面を再生した際に戻り光量が少ない信号面側に焦点位置を設定できる開口NAをもつ再生ヘッドを用いたり、半導体レーザーから出射されるレーザー光の波長を適宜選定することにより、各信号層を再生したときのジッタを略均等化することもできる。
【0051】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したように構成されているので、以下に記載されるような効果を奏する。
【0052】
本発明によれば、読み出しレーザー光が最も絞られる焦点位置を二つの信号面の間にくるようにしたので、各信号面を再生した時のジッタを略均等化でき、各信号面からの再生信号の品質を略同等にすることができる。
【0053】
また、焦点位置から光軸方向にほぼ等距離離れた位置に各信号面があるので、それぞれの信号面を再生したときの各信号面上の光スポットの絞り径は収差による劣下でほぼ等しくなり、またその戻り光強度がほぼ等しいために再生信号へのノイズ影響度もほぼ等しく、両信号面をほぼ同条件で再生することが可能である。
【0054】
さらに、二つの信号層の厚みを同じにしたので、同じ基板材料を使用することができる。
【0055】
また、入射奥側信号層の厚みを入射側信号層の厚みに中間層の厚みの略1/2を加えた厚みとしたので、従来用いられている基板材料の厚みを調整することなく入射奥側信号層として作製し使用することができる。
【0056】
さらに、再生ヘッドによって読み出しレーザー光が最も絞られるように設計された焦点位置から信号面が遠く、収差による影響が大きい信号面に関しては、その信号面上の反射膜もしくは半透明膜から再生ヘッドへの戻り光強度を上げることによりノイズの影響度を低減させ、またもう一方の信号面を再生するときに関しては、再生ヘッドによって読み出しレーザー光が最も絞られるように設計された焦点位置から信号面が近く、収差による影響が小さいのでその信号面上の反射膜もしくは半透明膜から再生ヘッドへの戻り光強度を下げることにより、各信号面を再生したときの再生信号の品質をほぼ同等にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の参考例1にかかる片面読み取り型2層式光ディスクの断面図である。
【図2】 本発明の参考例2にかかる再生ヘッドの概略構成図である。
【図3】 図2の再生ヘッドからの読み出しレーザー光が最も絞られる焦点位置を片面読み取り型2層式光ディスクの中間層の光軸方向における略中央に設定した場合の断面図である。
【図4】 本発明の実施形態にかかる片面読み取り型2層式光ディスクの断面図である。
【図5】 図1の片面読み取り型2層式光ディスクを使用して、ジッタの測定を行った結果を示しており、(a)は中間層厚みを略30μm、(b)は中間層厚みを略40μm、(c)は中間層厚みを略50μmに設定した場合を示している。
【図6】 図4の片面読み取り型2層式光ディスクを使用して、ジッタの測定を行った結果を示しており、(a)は中間層厚みを略30μm、(b)は中間層厚みを略40μm、(c)は中間層厚みを略50μmに設定した場合を示している。
【符号の説明】
2,42 第1信号層
4,44 半透明膜
6,46 中間層
8,48 第2信号層
10,50 反射膜
12 半導体レーザー
14 ビームスプリッタ
16 1/4波長板
18 再生レンズ
20 絞り込みレンズ
22 受光ディテクタ
24 フォーカスエラー検出回路
26,32 コイルドライバ
28,34 コイル
30 トラッキングエラー検出回路
H 再生ヘッド
FP 焦点位置
OA 光軸
RA 回転中心軸
Claims (5)
- 第1信号層と半透明膜と中間層と反射膜と第2信号層とが順次形成され、前記第1信号層の前記半透明膜側に信号面が形成されるとともに、前記第2信号層の前記反射膜側に信号面が形成された光記録媒体において、
前記半透明膜の波長650nmのレーザー光に対する反射率が20%以上40%以下であり、前記反射膜の前記レーザー光に対する反射率が70%以上であり、前記中間層の厚みが40μm以上60μm以下であり、前記第1信号層の厚みが0.56mm以上0.58mm未満であり、前記第1信号層および前記第2信号層の各信号面を読み取る際の戻り光強度が、(前記半透明膜からの戻り光強度)>(前記反射膜からの戻り光強度)であることを特徴とする光記録媒体。 - 第1信号層と半透明膜と中間層と反射膜と第2信号層とが順次形成され、前記第1信号層の前記半透明膜側に信号面が形成されるとともに、前記第2信号層の前記反射膜側に信号面が形成された光記録媒体において、
前記半透明膜の波長650nmのレーザー光に対する反射率が20%以上40%以下であり、前記反射膜の前記レーザー光に対する反射率が70%以上であり、前記中間層の厚みが40μm以上60μm以下であり、前記第1信号層の厚みが0.58mm以上0.60mm未満であり、前記第1信号層および前記第2信号層の各信号面を読み取る際の戻り光強度が、(前記半透明膜からの戻り光強度)<(前記反射膜からの戻り光強度)であることを特徴とする光記録媒体。 - 前記第1信号層の、波長650nmのレーザー光に対する屈折率が1.45以上1.65以下であることを特徴とする請求項1あるいは2に記載の光記録媒体。
- 請求項1あるいは3に記載の光記録媒体の製造方法であって、
前記第1信号層の厚みが0.56mm以上0.58mm未満の場合、前記第1信号層の厚みに応じて前記反射膜の反射率を70%以上で、前記半透明膜の反射率を20%以上40%以下の範囲に適宜選定することにより、レーザー光の波長が650nmで、対物レンズの開口数が0.6である再生ヘッドを用いて前記第1信号層及び前記第2信号層の各信号層を読み取る際の戻り光強度を、(前記半透明膜からの戻り光強度)>(前記反射膜からの戻り光強度)とすることを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 請求項2あるいは3に記載の光記録媒体の製造方法であって、
前記第1信号層の厚みが0.58mm以上0.60mm未満の場合、前記第1信号層の厚みに応じて前記反射膜の反射率を70%以上で、前記半透明膜の反射率を20%以上40%以下の範囲に適宜選定することにより、レーザー光の波長が650nmで、対物レンズの開口数が0.6である再生ヘッドを用いて前記第1信号層及び前記第2信号層の各信号層を読み取る際の戻り光強度を、(前記半透明膜からの戻り光強度)<(前記反射膜からの戻り光強度)とすることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
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2002
- 2002-11-08 JP JP2002325558A patent/JP3703451B2/ja not_active Expired - Lifetime
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