JP3688070B2 - 皮ふの若返り及びシワ伸ばしのための方法と装置 - Google Patents

皮ふの若返り及びシワ伸ばしのための方法と装置 Download PDF

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一般に、電磁放射線を使用する皮ふの手入れ技法に関する。さらに特定すれば、本発明は、皮ふの外層を剥離することによる皮ふの若返りと、コラーゲンを加熱することによるシワ伸ばし（または収縮）のための、表皮を損傷することのない効果的な方法と装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近、外面的な若々しさを得るかまたは維持すること、もしくはその両方に対する強い願望がある。これを行う一つの方法は、シワを除去する（または減らす）ことである。さらにまた、皮ふの外層を剥がすことによって皮ふを若返らせることが望まれている。皮ふを剥がすことによってシワを除去するための周知の技法がある。また、皮ふを若返らせるための周知の技法もある。しかし残念ながら、すべての周知の技法は効きめに欠け、また患者に危険を及ぼす。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
皮ふを若返らせる一つの方法として、皮ふの下へのコラーゲンの注入がある。これは、牛のコラーゲンの注入を使用して実施されている。例えば、微細コラーゲンが眼周囲線に注入されてきた。コラーゲンの注入に伴う問題として、コラーゲンに対するアレルギーと長持ちしないことがある。さらにまた、シワが部分的にしか除去されないことが多い。
【０００４】
皮ふを若返らせるための他の周知の方法は、皮ふ外層のほとんどまたはすべてを剥がすことである。剥皮は化学的、機械的、または光熱的に実施することが可能である。化学的剥皮は、トリクロロ酢酸またはフェノールを使用して実施されることが多い。化学的剥皮に伴う問題の中には、剥皮深さ調節ができないこと、色素変化の可能性、及び傷の危険性がある。
【０００５】
機械的剥皮は経皮的眼瞼形成術と呼ばれており、皮ふ外層のそぎ落しを含む。下まぶたの眼瞼形成術中の皮ふ切除は望ましくない副作用、特に外反及び強膜の外観をもたらす結果となる。さらにまた、経皮的眼瞼形成術がシワの線のすべてを根絶することはほとんどない。
【０００６】
パルス二酸化炭素レーザ処理は、眼周囲のシワを除去する周知の光熱的方法である。しかしながら、レーザ光線は水にひどく吸収され、表皮の中では非常に短い範囲を有する。したがって、短いパルス継続時間による高いフルエンス（fluence）は皮ふ外層を蒸発させることになり、表皮のほとんどまたはすべてを剥皮する。
【０００７】
皮ふの若返りのためのＣＯ2レーザ光線の使用にも望ましくない副作用がある。例えば、ＣＯ2レーザは小さなスポットサイズ（３ｍｍまたはそれ以下）を有し、このためＣＯ2レーザの使用は、特に広い域にわたって表面を回生させる場合には窪み部と隆起部を生ずる結果となる。また、熱の拡散を制御することが困難であり、このため結果として生ずる組織の壞死の予測と制御が困難である。さらに、傷ついた組織は正常な皮ふと異なるＣＯ2レーザ光線の吸収を行い、したがってこのような処理に悪い影響を与える可能性がある。
【０００８】
このため、効果的なシワ除去と皮ふ若返りを行うことが可能になる新しい方法と装置が必要であることは明らかである。この装置は、組織の特性に従って処理パラメータを制御することができ、調整が容易に可能であることが好ましい。この新しい方法と装置は、副作用を最小にして効率のよいシワ伸ばしと皮ふの若返りをもたらすことが好ましい。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の一態様によれば、皮ふ処理のための方法と装置は、皮ふにパルス光線を当てて加熱し、皮ふ内部のコラーゲンを収縮させることを含み、これによってコラーゲンと皮ふの弾力性を回生させることを含む。一つの実施の形態では、この方法は皮ふの表皮と外層を冷却することによって皮ふの表皮と外層を保護することを含む。この冷却は、氷やゲルなどの冷却された透明な物質を皮ふに付けることによって達成してもよい。
【００１０】
一つの代替的実施の形態では、皮ふは、皮ふに透明な物質を塗布して、これを冷却することによって冷却される。
【００１１】
他の代替的実施の形態では、皮ふ内の温度分布は、冷却剤が塗布される時間と光線が当てられる時間との間の遅延を制御することによって調節される。選択された皮ふ温度プロファイルに応じて遅延時間を決定するためにマイクロプロセッサを使用することもできる。さらにまた、パルス持続時間を制御し複数パルスを加えることによって温度分布を制御することもできる。さらに他の実施の形態では、皮ふ内の温度分布は、光線を濾過し放射線スペクトルを制御することによって調節される。スペクトルは６００〜１２００ｎｍの範囲にある波長を有することが好ましい。
【００１２】
他の一つの実施の形態では、パルス光線は、フラッシュ灯によって作られるような非干渉性、またはＮｄ（ＹＡＧ）レーザまたはルビーレーザによって作られる光線のように干渉性であっても良い。
【００１３】
他の一つの実施の形態では、柔軟なまたは剛性のある光導体を使用してパルス光線は皮ふに向けられる。
【００１４】
本発明の第二態様によれば、選択された深さにおいて最高の温度を有する皮ふ領域の内部にある温度分布を発生させるための方法と装置は、皮ふの表皮と外層を冷却すること、及びパルス光線を皮ふに当てることを含む。
【００１５】
ある実施の形態では、冷却はゲルまたは氷などの冷却された透明な物質を皮ふに当てることによって達成される。代替的に、透明な物質を皮ふに当ててからこれを冷却することによって、冷却を達成してもよい。
【００１６】
温度の分布は、ある実施の形態では、冷却と光線適用との間の遅延を制御することによってさらに調節される。他の一つの実施の形態では、温度分布はパルスの持続時間の制御または複数パルスの適用もしくはその両方によって調節される。
【００１７】
本発明の第三態様によれば、皮ふを表面回生するための方法と装置はＥｒ：ＹＡＧレーザ光線を皮ふに向けることを含む。この光線をパルスにすることができ、パルス間では約０．５〜１０ミリ秒の遅延があることが好ましい。ある実施の形態では、パルスは約１００Ｊ／ｃｍ2のエネルギーフルエンスを有することが好ましい。
【００１８】
本発明の第四態様によれば、皮ふの表面回生またはシワの円滑化を含む皮ふ領域の回生のための装置は、フラッシュ灯やＥｒ：ＹＡＧレーザなどの非干渉性光源を含む。レーザは多重パルスモードで操作されることが可能である。送出システムが処理すべき領域に非干渉性光線とレーザ光線とを送出し、そしてこの領域を冷却してもよい。
【００１９】
本発明の他の主要特性と利点は、次に示す図面、詳細な説明記述、及び添付の特許請求の範囲を検討することによって当業者に明白になろう。
【００２０】
本発明の少なくとも一つの実施の形態を詳細に説明する前に、本発明が下記の説明記述の中で述べられているかまたは図面の中に示されている詳細構造または構成部分の配置に対する適用に制限がないことを理解されたい。本発明はその他の実施の形態が可能で、すなわち様々な方法で実用化され、または実施されることができる。また、ここで採用されている語法と用語は説明を目的とするものであり、制限するものであると見なしてはならないことを理解されたい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明は、シワを除去し皮ふを若返らせる新しい方法と装置に関するものである。一般に本発明によれば、シワは短い加熱パルス（熱的ショック）を使用してコラーゲン分子の収縮と皮ふ及びコラーゲンの弾力性の増加によって、伸ばされるか減少される。組織は光線放射によって数ミリメートルまでの深さで加熱され、その間、皮ふの表面は外部から冷却されて表皮の過熱を回避する。氷または冷たいゲルなどの事前冷却された（すなわち、周辺温度よりも低い温度）透明な物質を皮ふに当てることを含む、様々な方法で表皮を冷却することができる。この冷たい物質は処理前と処理中に皮ふを冷却しなければならない。光線（電磁放射線）が冷却材料を当てた後すぐにパルスとして皮ふに当てられる。代替案として、流体またはゲルを皮ふまたは皮ふ表面に当てて、それからパルス光線を皮ふに当てる少し前に（例えば熱電冷却装置を使用して）冷却することもできる。
【００２２】
光源は、組織の中への光の貫通深さが１ｍｍ台またはそれ以上であるようなスペクトルを提供することが好ましい。また光源は、１００Ｊ／ｃｍ2台のフルエンスと１０００Ｗ／ｃｍ2台のピーク電力を有するパルスを提供できることが好ましい。１０ｍｍ台のスポットサイズは、散乱ロスを減少するために好ましいものである。
【００２３】
適切であるべきレーザ光源として、Ｎｄ（ＹＡＧ）レーザ、ルビーレーザ、アレキサンドライトレーザ、ダイオードレーザが含まれ、またその他にも適当なものがある。キセノンフラッシュ灯などの非干渉性光源も適切であろう。
【００２４】
本発明による皮ふの表面回生（皮ふの若返り）のための方法は、２．９４μｍの最も効率的な波長を有するＥｒ：ＹＡＧレーザ光線の使用を含む。皮ふにおけるＥｒ：ＹＡＧレーザの吸収深さが非常に小さいので（２０ミクロン以下）、これによって（表皮には典型的な）１００ミクロン台またはそれ以上の深さまで除去することは困難かもしれない。しかしながら、レーザのパルス長を延長することによって、より深い剥皮深さを達成することができる。これはＥｒ：ＹＡＧレーザを使用して達成することは固有の短いレベルの寿命が原因で困難であるが、可変パルス間遅延を伴ういくつかのパルスを供給することによって、この制限を克服することもできる。パルス数とパルスパラメータ及びパルス間遅延の変化によって、蒸発した組織層の厚さを調節することもできる。
【００２５】
本発明はまた、表皮を損傷することなくシワを円滑化するための、フラッシュ灯光源または適切なパラメータを有する他の光源を使用する装置にも関する。またＥｒ：ＹＡＧレーザも、表皮の除去による効率的な皮ふの若返りのために使用される。
【００２６】
一般に、この装置は、コラーゲンを加熱するための６００〜１２００ｎｍの範囲にあるパルス光線を供給することのできるフラッシュ灯、約６００ｎｍ以下の放射線スペクトルを遮断することのできるフィルタシステム、適切なスポットサイズを提供することができ、また１００Ｊ／ｃｍ2台のフルエンスを提供することができる光導体、及び（切除剥離による）皮ふ若返りのための、５０ミリ秒以下のパルス間遅延を伴う多重パルスモードで操作することのできる１Ｊ台のパルスエネルギーを有するＥｒ：ＹＡＧレーザを含む。
【００２７】
一つの代替的実施の形態では、適切なパラメータを有するＮｄ（ＹＡＧ）レーザまたはルビーレーザなどの光源を、フラッシュ灯の代わりに使用することができる。
【００２８】
この装置はシワの除去と皮ふの若返りには非常に有効である。フラッシュ灯光源は、特に皮ふ表面の外的冷却と共に使用される場合には、光と冷却に応じた最大深さを有する皮ふの内部で温度分布を発生させる。したがって、表皮を損傷することなくコラーゲン分子を加熱することが可能である。皮ふ内の温度分布は、冷却と光線照射との間の遅延時間、パルスパラメータの選択、及び放射線スペクトルに敏感である。したがって、これらのパラメータの適切な制御によって温度分布の制御ができるようになる。複数パルスモードで操作されるＥｒ：ＹＡＧレーザは、皮ふの表面回生には非常に有効であり、また蒸発深さの調節を可能にする。このため、この装置は操作者にとっても患者にとっても不意の障害の危険性がほとんどなくて安全である。
【００２９】
上述のように、パルス加熱を使用してコラーゲン分子を収縮させることによってシワを伸ばすこともできる。本発明による方法は、表皮の過熱を回避するために皮ふ外表面を外から冷却するとともに、光線放射によって数ミリメータの深さまで組織を加熱することによって実現される。多くの方法によって表皮を冷却することができる。一つの好ましい方法は、処理前及び処理中に皮ふを冷却する氷または冷たいゲルのような予め冷却された透明な物質を皮ふに当てることである。図１に示されているものと類似の皮ふ内の温度分布は、冷却された物質を当てた後に（１秒台の）短い時間で形成される。
【００３０】
図に見ることができるように、温度分布では、表皮と皮ふの外層が皮ふのもっと深い部分よりも低温になっている。しかしながら、当てられた光線は皮ふの内部分よりも皮ふの表面部分をより多く加熱する。これは、深さによる光線エネルギーフルエンスの減衰と、表皮によるより高い光線吸収が原因である。
【００３１】
加熱の後に、温度分布は結果的に図２に示すようなものとなる。この図に見ることができるように、組織のより深い部分はコラーゲンの収縮を起こさせるのに十分な温度にまで加熱されるが、皮ふの外層部分（表皮）に損傷を与えることはない。
【００３２】
光線を当てる前に生ずる温度分布は（図１）、冷却物質の初期温度、及び冷却物質の適用と光線の適用との間の遅延時間との関数である。この時間を変えることによって、「冷却前面」の貫通深さを変えることができる。皮ふ表面に影響を及ぼすことなく、より深いコラーゲンを処理する必要があるときには、冷却剤適用と光線適用との間の遅延時間をより長くすることができる。表面のコラーゲンを処理する必要があるときには、より短い遅延時間を用いることができる。
【００３３】
一般的な処理においては、医師は処理の前に冷たいゲルを皮ふに当て、それから光源を当てる。本発明の一実施の形態によれば、処理装置は、所望の温度分布を達成するために冷却物質の適用の後に光源をいつ当てる必要があるかを医師に指示する。光線発生装置を制御するマイクロプロセッサは、医師のためにタイミング信号も発生させて本発明のこの態様を達成することができる。
【００３４】
出願者らは、下記のパラメータを有する光源が本発明を実行するために適当であると決定した。
【００３５】
光線放射は組織の中に１ミリメータの深さに貫通しなければならない。このパラメータに合致する光源の例としては、フラッシュ灯、ダイオードレーザ、Ｎｄ（ＹＡＧ）レーザ、及びルビーレーザがある。
【００３６】
光力は１００〜１０００Ｗ／ｃｍ2台でなければならない。
【００３７】
フルエンスは３０〜１５０Ｊ／ｃｍ2台でなければならない。
【００３８】
スポットサイズは数ミリメートルから数センチメートル台になるべきで、全範囲を通じて可変であることが好ましい。
【００３９】
ある好ましい実施の形態の詳細な説明を、図３を参照して記載する。図３に示すように、処理装置３００は、パルスモードで操作することのできるフラッシュ灯３０１、光線を形成してこれをフィルタシステム３０３、３０４を通じて光導体３０５に導く反射器３０２を含む。反射器３０２は処理ヘッド（すなわちハウジング）３０６の中に位置する。
【００４０】
フィルタシステム３０３、３０４は、放射線スペクトルを約５５０（または６００）〜８００ｎｍで遮断する一つまたは複数のフィルタを含む。フィルタ３０３は使用されない入射放射線の部分の反射をもたらし、吸収フィルタ３０４の加熱を防止する。吸収フィルタは放射線を約５５０〜８００ｎｍで遮断する。柔軟な光導体３０５は石英または他の形式の高品質光学ガラスでできている剛性のある光ガイドと相互に交換することができる。処理ヘッド３０６は広い域を処理するために有用である。
【００４１】
一実施の形態によれば、一連のパルスを使用して光線のエネルギーを皮ふに当てる。一連のパルスを適用することの一つの利点は、処理中に加熱されるコラーゲンの層に関連して表皮が冷えることである。装置は、数１０から数１００ミリ秒の範囲にあるパルス間の可変遅延を伴う一連のパルスを発生させることが好ましい。
【００４２】
パルス列あたりのパルスの総数を変えることもできる。さらに特定すれば、ひどい皮ふ色素沈着が原因で皮ふ吸収がより高い患者については、より多いパルス列あたりパルス数を使用することが好ましい。
【００４３】
同様に、コラーゲンを冷却することなく表皮を冷却できるようにするために、パルス列における各パルスのパルス持続時間を変えることもできる。いずれにしても、処理された領域への全照射量はパルスの数とパルス当たりフルエンスとの積である。パルス持続時間及びパルス列の長さは、ある実施の形態においてはマイクロプロセッサ３０９によって制御される。図３に示すように、マイクロプロセッサ３０９はパルス形成ネットワーク３１０に制御信号を送る。パルス形成ネットワーク３１０（一般には、ここに参照によって組み込んだ出願人所有の米国特許第５４０５３６８号に記載された形式のもの）は、フラッシュ灯３０１にパルスを供給する。
【００４４】
放射線スペクトルをフィルタシステム３０３、３０４によって制御することができる。さらに（または代替的に）、放射線スペクトルをフラッシュ灯を通じて電流密度を変化させることによって制御することができる。より深い加熱が必要である場合には、より長い波長の放射線が使用される。パルス持続時間を数ミリ秒から数１０ミリ秒までの範囲で変化させることもできる。
【００４５】
本発明の他の一実施の形態では、シワを伸ばすために非常に有効にもなりうるレーザ（適切な貫入を有するもの）の使用が含まれる。例えば、１．０６μｍで作動するフラッシュ灯ポンプ送り式のＮｄ（ＹＡＧ）レーザは深い貫入をもたらし、したがって有効である。レーザをパルス列モードで操作することもでき、これは、レーザをポンプで送るために使用されるフラッシュ灯をパルス式に操作すうことによるのが好ましい。同様に、ルビーレーザも使用することができる。しかしながらパルス持続時間は、これらのレーザのレーザ光発生レベルの限られた寿命値のせいで、あまりに長くすることはできない。このレーザの実施の形態では、光線は単色であるからフィルタを必要としない。さらにまた、この実施の形態では、レーザ適用のために柔軟な光導体を容易に入手することができるので、剛性のある光導体を使用する必要がなく、また低拡散レーザ光線を容易に直径の小さな光ファイバに絞ることができる。多重パルスの使用は、本発明のレーザ実施において限られたレーザ光発生レベルを克服するためには特に有効である。
【００４６】
本発明による皮ふの表面回生法は、ＣＯ2レーザ放射線の吸収深さよりはるかに小さな吸収深さを有する放射線を持つ、Ｅｒ：ＹＡＧレーザ光線を含み、５０ミクロン台のものが使用される。比較的小さな吸収深さにもかかわらず、適切な剥皮深さは多重パルスを供給することによって達成される。蒸発された組織の層の厚さは、パルスの数、パルス間の遅延、及びパルスパラメータの変化によって制御される。
【００４７】
Ｅｒ：ＹＡＧレーザは１Ｊまでのパルス当たりエネルギーを有する２．９４μｍの放射線を生成する。放射線の吸収深さは一般的には約１０μｍである。したがって、表皮を蒸発させるためには、パルスの列を使用しなければならない。一般的なレーザパルス間遅延は０．５〜１０ミリ秒の範囲になければならない。時間は表皮の熱緩和時間の程度またはこれより短いことが好ましい。
【００４８】
こうして、本発明によって、フラッシュ灯または他の実施の形態では近赤外パルスレーザ、Ｅｒ：ＹＡＧレーザ、及び上述の目的と利点を完全に満たすカップラを含む処理装置が提供されたことは、当然明白である。本発明をその特定の実施の形態に関連して説明したが、明らかに多くの代替案、改定案、及び変更案が当業者には明白になろう。したがって、添付の特許請求の範囲の意図と広い範囲の中に入るすべての上記の代替案、改定案、及び変更案を包括することを意図するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】冷たいゲルを適用した後の複数の様々な時間遅延について、冷たい流体を皮ふに当てた後の皮ふ内部において得られた温度分布である。
【図２】皮ふを予め冷却し、そして光源を当てることによって得られた温度分布である。
【図３】本発明の好ましい一実施の形態によるフラッシュ灯光源の概略図である。
【図４】フラッシュ灯光源の濾過された放射線スペクトルの正規化された出力である。
【符号の説明】
３００ 処理装置
３０１ フラッシュ灯
３０２ 反射器
３０３ フィルタシステム
３０４ フィルタシステム
３０５ 光導体
３０６ 処理ヘッド（ハウジング）
３０９ マイクロプロセッサ
３１０ パルス形成ネットワーク

Claims (10)

  1. 皮ふ領域においてコラーゲンを加熱し収縮し、これによってコラーゲン及び皮ふの弾力性を回生させることのできるパルス光源と、該光源が配置されているハウジングとを含む皮ふ領域を処理するための装置において、ハウジングが皮ふ領域に光線を向けるために適当な開口を含む装置。
  2. 選択された皮ふ温度プロファイルに応じて遅延時間を決定する前記パルス光源に結合されたマイクロプロセッサをさらに含む請求項１に記載の装置。
  3. 前記パルス光源に結合されており、冷却物質を皮ふ領域に当てた後に遅延時間が経過した時を指示するように構成された、タイミング回路をさらに含む請求項１または２に記載の装置。
  4. 前記冷却物質の温度を低下させるための手段をさらに含み、前記冷却手段は前記タイミング回路に冷却指示信号を供給するように配置されている請求項３に記載の装置。
  5. パルス形成回路とパルス持続時間入力をさらに含み、パルス持続時間回路は前記パルス光源に結合されており、かつ前記パルス持続時間入力に応じて前記パルス光源によって放射されたパルスの持続時間を制御するように構成されている請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
  6. パルス光源が非干渉性光源を含む請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
  7. 前記開口の付近に配置されたフィルタをさらに含み、皮ふ内における温度分布が、前記光線を濾過することによって生成される放射線スペクトルに応じて制御される請求項１から６のいずれか一項に記載の装置。
  8. 前記開口の近くに配置された光導体をさらに含む請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
  9. 前記パルス光源のパルスによって放射される連続する光パルスの間に０．５〜１０ミリ秒の範囲の遅延を生じるように構成されたパルス遅延回路をさらに含む請求項５から８のいずれか一項に記載の装置。
  10. 前記光源が１００Ｊ／ｃｍ２台のエネルギーフルエンスを有するパルスを供給するように構成されている請求項１から９のいずれか一項に記載の装置。
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