JP3684267B2 - 超高シリカフォージャサイト型ゼオライトおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、超高シリカフォージャサイト型ゼオライトおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
フォージャサイト型ゼオライトは触媒、触媒担体、吸着剤等として極めて有用なゼオライトである。一般的にゼオライトはSiO2/Al2O3モル比が高くなるほど熱的安定性が増し、疎水性が増すと考えられることからフォージャサイト型ゼオライトにおいても種々の方法で高シリカ化が行われている。しかし、一次合成法では通常SiO2/Al2O3モル比が約6以上のゼオライトは合成が困難で、仮に合成できたとしても結晶化時間が大幅に長くなる。また近年高価な有機テンプレートの使用によりSiO2/Al2O3モル比が約12程度までが合成されている。しかし両方法とも経済性の点で実用的ではない。
【0003】
一方、SiO2/Al2O3モル比が6程度までのNaYをアンモニウムイオン交換した後焼成し、再度アンモニウムイオン交換して少なくとも500℃以上の高温でスチーム処理する方法もよく知られているし、またスチーム処理と脱アルミニウム剤による脱アルミを併用する方法も知られている(いずれも特開平2−74517号公報参照)。
【0004】
しかし、スチーム処理を行う方法では、高い結晶度および比表面積を維持したままSiO2/Al2O3モル比が100以上の高い疎水性を示すフォージャサイト型ゼオライトを得ることは困難である。
【0005】
ゼオライトの特性は骨格を構成するSiO2/Al2O3モル比に大きく依存する。SiO2/Al2O3モル比の低いA型ゼオライトやX、Y型ゼオライトは触媒活性点を多く有するが熱的安定性、耐酸性は低い。
【0006】
一方、SiO2/Al2O3モル比の高いモルデナイト、ZSM−5、シリカライト等は熱的安定性、耐酸性は高いが活性点の数が少ない。
【0007】
また、A型ゼオライト、X、Y型ゼオライト、モルデナイトは親水性が高く、ZSM−5およびシリカライトは疎水性を示す。特にシリカライトは水蒸気の吸着量が非常に低く極めて疎水性であることが知られている。更にこれらのゼオライトは互いに結晶構造、細孔構造が異なるため分子フルイ効果に基づく触媒反応特性、吸着特性が大きく異なる。
【0008】
この中で最も大きな細孔を有するY型ゼオライトは接触分解、水素化分解用触媒として用いられている極めて有用なフォージャサイト型ゼオライトであり、高SiO2/Al2O3モル比のフォージャサイト型ゼオライトが得られれば大幅な性能改善が期待される。またZSM−5以上の高SiO2/Al2O3モル比を有するフォージャサイト型ゼオライトが得られればシリカライトのように疎水性表面を持つと共に、シリカライトの約2倍の比表面積と細孔容積を有することからシリカライト以上の吸着量を持つ優れた疎水性吸着剤となることが期待される。このため前述したように種々の方法で高シリカ化が試みられているが高結晶度で且つSiO2/Al2O3モル比の高いフォージャサイト型ゼオライトはまだ得られていない。
【0009】
スチーム処理法は、前述したように高温でのカ焼、スチーム処理工程を必要とし、高結晶度且つ高比表面積のものが得られず、またそのための補足的工程、例えば濾過分離、洗浄、乾燥、粉砕、アルカリ分析管理等を必要とする。
【0010】
本発明者は、フォージャサイト型ゼオライトをカ焼することなく、可溶性シリカ共存下で硝酸、塩酸、硫酸等の鉱酸により脱アルミニウム処理することにより結晶度の高い高シリカゼオライトが得られることを見いだしている(特開平4−228417号公報参照)。この方法は、単に脱アルミを起こすだけでなく共存する可溶性シリカに由来する珪酸イオンをゼオライト骨格におけるアルミニウムの脱離した部位(ヒドロキシネスト)に挿入して高シリカ化する方法であるが、一回の脱アルミ処理では高結晶度を維持したままSiO2/Al2O3モル比を20より高くすることは困難であった。この理由は、脱アルミニウムの速度と珪酸イオンの挿入速度のバランスをとることが困難で、脱アルミニウムが優先的に起きた場合は格子欠陥が増大して結晶崩壊につながり、珪酸イオンの供給が珪酸イオンの挿入速度を上回った場合は水相中の珪酸イオン濃度が高くなり珪酸イオンの縮重合がおきるために珪酸イオンが減少し、珪酸イオンの挿入が起きなくなりこの場合も結晶崩壊につながり、更にこの場合縮重合して生成したシリカがゼオライト粒子上に沈着し、更にこの沈着シリカが珪酸イオンの挿入を阻害するものと考えられる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的はカ焼、スチーム処理といったたぐいの高温処理を全く必要としないで、優れた特性を有する超高シリカフォージャサイト型ゼオライトを製造する方法およびそれにより得られた超高シリカフォージャサイト型ゼオライトを提供する点にある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明者は高結晶度を維持しながらSiO2/Al2O3モル比が100以上のフォージャサイト型ゼオライトを得るために種々検討した結果、可溶性シリカの共存下で脱アルミした後、アルカリ溶液で処理して前述の沈着シリカの除去を少なくとも1回行い、脱アルミニウム後のゼオライトのSiO2/Al2O3モル比が10〜20になった場合にはアルカリ処理に引き続き珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液の共存下で水熱処理し、シリコン又はアルミニウムの挿入により格子欠陥(ヒドロキシネスト)を減少させた後再び可溶性シリカ存在下で脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させることによって高結晶度、高比表面積を有するSiO2/Al2O3モル比100以上で、シリカライト並みの水分吸着量とシリカライト以上のノルマル−ヘキサン吸着量を有し、極めて優れた疎水性をもつフォージャサイト型ゼオライトが得られることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【0013】
本発明の第一は、水蒸気圧2Kpaでの水分吸着量が18wt%以下、ノルマル−ヘキサン蒸気圧20Kpaでのノルマルーヘキサン吸着量が15〜22wt%の範囲であって、SiO2/Al2O3モル比が100〜17000、結晶度が90〜130%、比表面積が500〜800m2/gの範囲である超高シリカフォージャサイト型ゼオライトに関する。
【0014】
本発明の第二は、
(a)SiO2/Al2O3モル比が3〜6のフォージャサイト型ゼオライトを水相中において可溶性シリカの存在下に脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させて脱アルミニウムを行なう工程
(b)前記工程で得られたゼオライトに付着したシリカをアルカリ溶液で除去する工程
以上(a)工程とそれにつづく(b)工程を一回以上必要回数繰り返して最終の(a)工程終了時点のゼオライトにおけるSiO2/Al2O3モル比を10〜20とし、ついで、
(c)得られたゼオライトを珪酸アルカリ溶液とアルミン酸アルカリ溶液共存下で水熱処理する工程
(d)得られたゼオライトを再び可溶性シリカの存在下で脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させる工程
よりなることを特徴とする請求項1記載の超高シリカフォージャサイト型ゼオライトの製造方法に関する。
【0015】
本発明のゼオライトの水分吸着量およびノルマル−ヘキサン吸着量は一般的に知られている真空排気可能な装置に内装した石英スプリングバランスによる重量法で測定した。
(1)水分吸着量の測定
所定量のゼオライトを計量した後、真空下600℃で2時間加熱処理し、25℃に冷却後、25℃に保った食塩の飽和水溶液(水蒸気圧2Kpa)の蒸気を吸着させ24時間後の値を平衡吸着量として求めた。
(2)ノルマル−ヘキサン吸着量の測定
所定量のゼオライトを計量した後、真空下600℃で2時間加熱処理し、25℃に冷却後、25℃に保ったノルマル−ヘキサン(蒸気圧20Kpa)の蒸気を吸着させ24時間後の値を平衡吸着量として求めた。
【0016】
ゼオライトの結晶度は、X−Ray回折により各ピーク高の和を求め、リンデ社SK−40を100%とした相対結晶度で示した。
また、ゼオライトのSiO2/Al2O3モル比は化学分析によって求めた。
【0017】
【発明の実施形態】
本発明における高シリカフォージャサイト型ゼオライトの製造は、まずSiO2/Al2O3モル比が3〜6のフォージャサイト型ゼオライト、例えばNaYゼオライトを使用するが、(a)工程に入る前段階として、これをアンモニウムイオン交換することが好ましい。NaY型のままでゼオライトを脱アルミニウム処理にかけると、ゼオライトがこわれやすいが、アンモニウムイオン交換を行なっておくとゼオライトがこわれにくくなるというメリットがある。
【0018】
このような前処理を行った後、(a)工程に入る。すなわち、可溶性シリカ存在下で硝酸、硫酸、塩酸などの脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させ、ゼオライト結晶構造中のアルミニウムを除去し、その個所をSiで置換することにより、ゼオライトの結晶構造を破壊することなく、SiO2/Al2O3を高くする処理を行う。しかしながら、この(a)工程中に可溶性シリカの1部がアルミニウムとSiの置換反応を行う以前にSiO2に変化し、ゼオライト細孔中などに沈着し、アルミニウムとSiの交換反応を妨げるようになる。
【0019】
したがって、(a)工程はある一定時間が経過したら、反応を停め、前述のゼオライト細孔などに沈着したシリカをアルカリ水溶液で洗浄、除去するための(b)工程を行う必要が生じる。この沈着したシリカはゼオライト全体からみればせいぜい多くても10%以下の程度ではあるが、それでも前述のようにアルミニウムとSiの置換反応を妨害するのである。そこで、(a)工程において所定時間経過したら、(a)工程を中断し、(b)工程によるアルカリ洗浄が必要となる。そして、(a)−(b)−(a)−(b)・・・・・と繰り返し、ある段階の(a)工程後のSiO2/Al2O3モル比が10〜20になった時点において(b)−(c)−(d)の順でつぎの工程にはいることが重要である。
【0020】
(a)工程の脱アルミニウム後のゼオライトのSiO2/Al2O3モル比が10に達していない場合はそのまま次工程に進んでも高結晶度を維持したまま最終生成物のSiO2/Al2O3モル比を100以上とすることが困難である。脱アルミニウム後のSiO2/Al2O3モル比が20より高い場合は後続のアルカリ処理の際ゼオライト自身の構造破壊が起きるので好ましくない(SiO2/Al2O3モル比が20より高いゼオライトはアルカリとの反応性が高いためと考えられる)。
【0021】
脱アルミニウム処理とアルカリ処理を少なくとも1回行うが、アルカリ処理する際のアルカリ量、例えば苛性ソーダの量は沈着シリカを3号水硝子(Na2O・3SiO2)として溶解して除去するに必要なだけの苛性ソーダを用いればよく、除去するシリカ量はゼオライトのシリカの1〜30wt%が好適である。具体的に例示すると処理するゼオライトのSiO2/Al2O3モル比が15であれば、これの1〜30%のシリカ0.15〜4.5モルを3号水硝子化するに必要な苛性ソーダ、即ちNa2Oとして0.05〜1.5モルの範囲で用いれば良い。Na2Oが0.05モル未満の場合はアルカリ処理の効果が小さいために結晶度の高いゼオライトが得られず、1.5モルを越えて使用するとゼオライトの構造破壊が起きることがあるので好ましくない。
【0022】
アルカリ処理する際のpHは11.0から13.0の範囲であることが好ましい。この時のpHが11より低い場合は沈着シリカの除去が不十分なため最終生成物の結晶度、比表面積の高いゼオライトが得られず、またpHが13より高い場合はアルカリ処理の工程でゼオライトの構造破壊が起きることがあるので好ましくない。
【0023】
本発明者は特開平5−97428号公報で、フォージャサイト型ゼオライトを珪酸共存下で脱アルミした後アルカリ処理すること、具体的にはアンモニア水を加えてpH8.5〜10.5で処理し均一な固体酸強度分布を有するゼオライトが得られることを開示した。しかし本発明のアルカリ処理にアンモニア水を用いた場合にはシリカ除去が充分起きず、最終生成物の結晶度、比表面積の高いゼオライトが得られないことがある。アルカリとしては苛性ソーダ及び苛性カリが好ましい。
【0024】
次いで、得られたゼオライトを珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液の共存下で処理するが、あらかじめ珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液を混合したアルミノ珪酸ソーダ溶液を用いても良いが、珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液を別々に供給しても良く、いずれにしろシリカアルミナゲルの生成しないようにすることが重要である。珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液の使用量は、これらを混合したアルミノ珪酸ソーダ溶液として表される組成が酸化物モル比で表してNa2O:Al2O3:SiO2:H2O=1.5:5.0:1.0:2.0〜10.0:100〜1000となるようにし、前記組成で表されるアルミナの比率がアルカリ処理した後のゼオライトのアルミナの10%〜100%であることが好ましい。アルカリ処理ゼオライトを珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液共存下で処理する際の温度は50℃〜100℃、好ましくは80℃〜95℃である。また、処理する時間は1〜48時間、好ましくは4〜24時間である。
【0025】
この水熱処理により、脱アルミ処理及びアルカリ処理の工程で生じた欠陥部位が珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液からのシリコン、アルミニウムの挿入によって減少し結晶性の高いゼオライトとなる。
【0026】
珪酸ソーダ溶液とアルミン酸ソーダ溶液の共存下における水熱合成で得られたゼオライトをアンモニウムイオン交換し、次いで可溶性シリカ存在下で脱アルミニウム剤と接触させるが、脱アルミニウム剤としては特に硝酸、硫酸、塩酸から選ばれる酸が好ましい。この場合可溶性シリカ非存在下で脱アルミニウム剤と接触させて脱アルミしてもSiO2/Al2O3モル比100以上のゼオライトは得られるが、可溶性シリカ存在下で脱アルミニウムを行う方が高結晶度となる点で好ましい。
【0027】
本発明の製造方法は少なくとも150℃以上の温度でのカ焼、或はスチーム処理といった加熱処理工程を全く使用しない点で特徴を有するが、加熱処理を施した場合には元来ゼオライトが持たないメソポアが生成することが知られており、この時のメソポアの細孔径は、約20〜300Aのブロードなものとなり、これはゼオライト構造の損傷によって生じるものと考えられる。従って加熱処理を施して得られるゼオライトは結晶性の点からは必ずしも良いゼオライトとは言えない。
【0028】
【実施例】
以下に実施例と比較例を挙げて、本発明を説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【0029】
比較例1
工程(a)
NaYゼオライト(モル組成Na2O・Al2O3・5SiO2)464gを通常の方法でイオン交換を繰り返し行ってNa残存率25%のアンモニウム交換ゼオライトを調製した。このアンモニウム交換ゼオライトをそのまま80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度2.5%の硫酸7840gと、残りの珪酸溶液4490gを各々327g/hr,187g/hrの速度で連続的に24時間添加した。この添加終了時のpHは2.05であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−1aを得た。Z−1aのSiO2/Al2O3モル比は8.2(本発明の要件を満していない)、結晶度は108%であった(表1参照)。
【0030】
工程(b)
次いで、ゼオライト濃度が20%となるように水を加え、これを撹拌しながら、濃度10%の水酸化ナトリウム溶液40gを添加し、80℃に昇温して24時間静置し、その後濾過分離し充分洗浄してゼオライトZ−1bを得た。Z−1bのSiO2/Al2O3モル比は7.2、結晶度は115%であった(表2参照)。
【0031】
工程(c)
再びゼオライト濃度が20%となるように水を加えた後これを撹拌しながら、80℃に昇温し、濃度1%のアルミン酸ソーダ溶液1020gと、濃度1%の3号水硝子溶液3000gを同時に且つ連続的に6時間で供給した。これを90℃で24時間静置した後濾過分離、洗浄してゼオライトZ−1cを得た。Z−1cのSiO2/Al2O3モル比は7.2、結晶度は113%であった(表3参照)。
【0032】
工程(d)
次いで再び通常の方法でイオン交換してアンモニウム交換ゼオライトを調製した。このアンモニウム交換ゼオライトをそのまま80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度2.5%の硫酸13720gと、残りの珪酸溶液4490gを各々274.4g/hr,89.8g/hrの速度で連続的に50時間添加した。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−1dを調製した(表4参照)。
【0033】
Z−1dのSiO2/Al2O3モル比は25(本発明の範囲外)と高いが結晶度が78%(本発明の範囲外)、比面積が475m2/g(本発明の範囲外)と大きく低下し、H2Oの吸着量は21.7wt%(本発明の範囲外)、n−ヘキサン吸着量は15.0wt%であった(表5,7参照)。
【0034】
実施例1
工程(a)
NaYゼオライト(モル組成Na2O・Al2O3・5SiO2)464gを通常の方法でイオン交換を繰り返し行ってNa残存率25%のアンモニウム交換ゼオライトを調製した。このアンモニウム交換ゼオライトをそのまま80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度2.5%の硫酸7840gと、残りの珪酸溶液4490gを各々327g/hr,187g/hrの速度で連続的に24時間添加した。この添加終了時のpHは2.05であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−11aを得た。Z−11aのSiO2/Al2O3モル比は8.2(本発明の要件を満していない)、結晶度は108%であった(表1参照)。
【0035】
工程(b)
次いで、ゼオライト濃度が20%となるように水を加え、これを撹拌しながら、濃度10%の水酸化ナトリウム溶液40gを添加し、80℃に昇温して24時間静置し、その後濾過分離し充分洗浄してゼオライトZ−11bを得た。Z−11bのSiO2/Al2O3モル比は7.2、結晶度は115%であった(表2参照)。
【0036】
工程(a)2回目
Z−11bのゼオライトを前述したと同じ方法で再びイオン交換を繰り返し行い、ついでこのアンモニウム交換ゼオライトをそのまま80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度2.5%の硫酸7840gと、残りの珪酸溶液4490gを各々327g/hr,187g/hrの速度で連続的に24時間添加した。この添加終了時のpHは1.85であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−12aを得た。このゼオライトZ−12aのSiO2/Al2O3モル比は12.5、結晶度は112%であった(表1参照)。
【0037】
工程(b)
次いで、ゼオライト濃度が20%となるように水を加え、これを撹拌しながら、濃度10%の水酸化ナトリウム溶液160gを添加し、80℃に昇温して24時間静置し、その後濾過分離し充分洗浄してゼオライトZ−12bを得た。Z−12bのSiO2/Al2O3モル比は10.8、結晶度は118%であった(表2参照)。
【0038】
工程(c)
再びゼオライト濃度が20%となるように水を加えた後これを撹拌しながら、80℃に昇温し、濃度1%のアルミン酸ソーダ溶液1020gと、濃度1%の3号水硝子溶液3000gを同時に且つ連続的に6時間で供給した。これを90℃で24時間静置した後濾過分離、洗浄してゼオライトZ−12cを得た。Z−12cのSiO2/Al2O3モル比は10.6、結晶度は122%であった(表3参照)。
【0039】
工程(d)
次いで再び通常の方法でイオン交換してアンモニウム交換ゼオライトを調製した。このアンモニウム交換ゼオライトをそのまま80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度25%の硫酸2744gと、残りの珪酸溶液4490gを各々27.44g/hr,44.9g/hrの速度で連続的に100時間添加した。この添加終了時のpHは0.85であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−12dを調製した(表4参照)。
【0040】
Z−12dはSiO2/Al2O3モル比は101と高く結晶度も107%、比表面積も621m2/gと高く、H2Oの吸着量は17.2wt%と出発原料の約1/2に低下し、n−ヘキサン吸着量は20.6wt%で出発原料とほぼ同じ値を示した(表5,7参照)。
【0041】
実施例2
工程(a)
NaYゼオライト(モル組成Na2O・Al2O3・5SiO2)1392g(3モル分)を通常の方法でイオン交換を繰り返し行ってNa残存率25%のアンモニウム交換ゼオライトを調製した。このアンモニウム交換ゼオライトをそのまま80℃の温水13920ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液17100gを調製した。この珪酸溶液のうち930gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度2.5%の硫酸41160gと、残りの珪酸溶液16170gを各々823.2g/hr,323.4g/hrの速度で連続的に50時間添加した。この添加終了時のpHは1.45であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−2aを得た。Z−2aのSiO2/Al2O3モル比は15.0、結晶度は112%であった(表1参照)。
【0042】
工程(b)
次いで、ゼオライトの濃度が20%となるように水を加えた後撹拌しながら、濃度10%の水酸化ナトリウム溶液1512gを添加し、80℃に昇温して24時間静置し、その後濾過分離し、充分洗浄してゼオライトZ−2bを得た。Z−2bのSiO2/Al2O3モル比は11.2、結晶度は124%であった(表2参照)。
【0043】
工程(c)
再びゼオライト濃度が20%となるように水を加えて撹拌しながら、80℃に昇温し、濃度1%のアルミン酸ソーダ溶液3060gと、濃度1%の3号水硝子液9000gを同時に且つ連続的に6時間で供給した。これを90℃で24時間静置した後濾過分離、洗浄してZ−2cを得た。Z−2cのSiO2/Al2O3モル比は11.0、結晶度は128%であった(表3参照)。
【0044】
工程(d)
次いで再び通常の方法でイオン交換してアンモニウム交換ゼオライトを調製した。このアンモニウム交換ゼオライトを3等分し、その1つを80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度25%の硫酸2744gと、残りの珪酸溶液4490gを各々27.44g/hr,44.9g/hrの速度で連続的に100時間添加した。この添加終了時のpHは0.82であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−21dを調製した(表4参照)。
【0045】
Z−21dはSiO2/Al2O3モル比が105と高く、結晶度も120%、比表面積が695m2/gと高く、H2Oの吸着量は17.5wt%に低下し、n−ヘキサン吸着量は20.5wt%と出発原料と同じ高い値を示した(表5,7参照)。
【0046】
実施例3
工程(d)
実施例2の工程(d)で調製して3等分したアンモニウム交換ゼオライトの別の1/3を80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度25%の硫酸3920gと、残りの珪酸溶液4490gを各々39.2g/hr,44.9g/hrの速度で連続的に100時間添加した。この添加終了時のpHは0.35であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−22dを調製した。
【0047】
Z−22dはSiO2/Al2O3モル比が2000と高く、結晶度も113%、比表面積も635m2/gと高く、H2Oの吸着量は6.5wt%で出発原料ゼオライトの約1/6の低い値で、n−ヘキサン吸着量は18.5wt%と高い値を示した(表5,7参照)。
【0048】
実施例4
工程(d)
実施例2の工程(d)で調製して3等分したアンモニウム交換ゼオライトの残りの1/3を80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液4800gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度25%の硫酸4704gと、残りの珪酸溶液4490gを各々47.04g/hr,44.9g/hrの速度で連続的に100時間添加した。この添加終了時のpHは0.20であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−23dを調製した。
【0049】
Z−23dはSiO2/Al2O3モル比が2800と高く、結晶度も95%、比表面積も580m2/gと高く、H2Oの吸着量は5.5wt%に低下し、n−ヘキサン吸着量は21.0wt%と高い値を示した(表6,8参照)。
【0050】
尚、比較のために測定したシリカライトのH2O吸着量は5.5wt%、n−ヘキサン吸着量は14.5wt%であり、Z−22dとZ−23dはシリカライトと同等H2O吸着量を有し、シリカライト以上のn−ヘキサン吸着量を有する極めて疎水性の高いゼオライトである。
【0051】
比較例2
工程(a)
NaYゼオライト(モル組成Na2O・Al2O3・5SiO2)464gを通常の方法でイオン交換を繰り返し行ってNa残存率25%のアンモニウム交換ゼオライトを調製した。このアンモニウム交換ゼオライトをそのまま80℃の温水4640ccに懸濁した。別途1%に希釈した3号水硝子を硫酸で中和してpH2.0の珪酸溶液9000gを調製した。この珪酸溶液のうち310gを該懸濁液に撹拌しながら加えた。次いで温度を95℃に昇温し、濃度2.5%の硫酸27440gと、残りの珪酸溶液8690gを各々274.4g/hr,86.9g/hrの速度で連続的に100時間添加した。この添加終了時のpHは0.93であった。次いでゼオライトを分離、洗浄してゼオライトZ−3aを得た。Z−3aのSiO2/Al2O3比は27.3、結晶度は97%であった(表1参照)。
【0052】
工程(b)
次いでゼオライト濃度が20%となるように水を加えた後これを撹拌しながら、濃度10%の水酸化ナトリウム溶液504gを添加し、80℃に昇温して24時間静置し、その後濾過分離し充分洗浄してゼオライトZ−3bを得た。
【0053】
Z−3bは、この工程(b)で結晶度および比表面積が各々20%、280m2/gと大きく低下していた。従って後工程は実施しなかった(表2,6参照)。
【0054】
なお、下記表中、結晶度はリンデ社SK−40を100%とした相対値であり、珪酸(モル)はゼオライト1モルに対する珪酸液中のシリカのモル数を示し、硫酸(モル)はゼオライト1モルに対する硫酸のモル数を示す。また表4中、珪バン比(モル比)はSiO2/Al2O3のモル比を示す。
【0055】
【表1】
【0056】
【表2】
【0057】
【表3】
【0058】
【表4】
【0059】
【表5】
【0060】
【表6】
【0061】
【表7】
【0062】
【表8】
【0063】
以下に本発明の実施態様項を列記する。
(1) 水蒸気圧2Kpaでの水分吸着量が18wt%以下、ノルマル−ヘキサン蒸気圧20Kpaでのノルマル−ヘキサン吸着量が15〜22wt%の範囲であって、SiO2/Al2O3モル比が100〜17000、結晶度が90〜130%、比表面積が500〜800m2/gの範囲である超高シリカフォージャサイト型ゼオライト。
(2)
(a)SiO2/Al2O3モル比が3〜6のフォージャサイト型ゼオライトを水相中において可溶性シリカの存在下に脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させて脱アルミニウムを行なう工程
(b)前記工程で得られたゼオライトに付着したシリカをアルカリ溶液で除去する工程
以上(a)工程とそれにつづく(b)工程を一回以上必要回数繰り返して最終の(a)工程終了時点のゼオライトにおけるSiO2/Al2O3モル比を10〜20とし、ついで、
(c)得られたゼオライトを珪酸アルカリ溶液とアルミン酸アルカリ溶液共存下で水熱処理する工程
(d)得られたゼオライトを再び可溶性シリカの存在下で脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させる工程
よりなることを特徴とする請求項1記載の超高シリカフォージャサイト型ゼオライトの製造方法。
(3) SiO2/Al2O3モル比が3〜6のフォージャサイト型ゼオライトを(a)工程により脱アルミニウム処理を行うに先立って、前記ゼオライトをアンモニウムイオン交換を行うものである前項(2)記載の超高シリカフォージャサイト型ゼオライトの製造方法。
(4) 前記(b)工程のアルカリ処理がpH11.0〜13.0の範囲で行われるものである前項(2)または(3)記載の超高シリカフォージャサイト型ゼオライトの製造方法。
【0064】
【発明の効果】
(1) 本発明のゼオライトは超高シリカで熱的安定性に優れ、疎水性を示し、触媒、触媒担体、疎水性吸着剤として極めて有用なゼオライトである。
(2) 本発明の方法によれば少なくとも150℃以上の高温にさらすことなく本発明の有用なゼオライトを製造することができる。
Claims (2)
- 水蒸気圧2Kpaでの水分吸着量が18wt%以下、ノルマル−ヘキサン蒸気圧20Kpaでのノルマル−ヘキサン吸着量が15〜22wt%の範囲であって、SiO2/Al2O3モル比が100〜17000、結晶度が90〜130%、比表面積が500〜800m2/gの範囲である超高シリカフォージャサイト型ゼオライト。
- (a)SiO2/Al2O3モル比が3〜6のフォージャサイト型ゼオライトを水相中において可溶性シリカの存在下に脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させて脱アルミニウムを行なう工程
(b)前記工程で得られたゼオライトに付着したシリカをアルカリ溶液で除去する工程
以上(a)工程とそれにつづく(b)工程を一回以上必要回数繰り返して最終の(a)工程終了時点のゼオライトにおけるSiO2/Al2O3モル比を10〜20とし、ついで、
(c)得られたゼオライトを珪酸アルカリ溶液とアルミン酸アルカリ溶液共存下で水熱処理する工程
(d)得られたゼオライトを再び可溶性シリカの存在下で脱アルミニウム剤とpH4以下で接触させる工程
よりなることを特徴とする請求項1記載の超高シリカフォージャサイト型ゼオライトの製造方法。
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