JP3670968B2 - タブレットを被覆する装置及び方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の分野】
本発明は、タブレットの被覆に関する。本明細書にて、「タブレット」という語は、製薬業界における本来の錠剤のみならず、ピル及びカプセルも含み、肥料及び農業化学業界における、ペレット及び粒子を含む、広義に使用される。
【０００２】
このため、本発明は、何らかの特定の工業分野に限定されるものではなく、平均粒子寸法が約２ｍｍ乃至５０ｍｍ、特に、３乃至２５ｍｍである任意の型式の物質を被覆することに関して適用可能である。
【０００３】
被覆工程は、洗剤業界、菓子及び食品業界並びに触媒の製造のような、上述した以外の幾つかの工業分野でも重要である。
被覆は、例えば、所望の色又はその他の視覚的な改良を図るため、活性成分の解放を抑制し又は制御し、タブレットを環境の湿気及び酸素から保護し、更に、耐磨耗性を増し且つタブレットの取扱い中に塵の発生を防止するためのような、色々な目的にて施すことができる。
【０００４】
【発明の背景】
殆どのタブレットの被覆は、依然として、過去５０年間に亙りと同一の方法で行われている、すなわち、パンコータは、重大な欠点があるにも拘らず、この装置内で被覆が行われている。
【０００５】
これらの欠点は、パン装置内にて、タブレットの表面の一側部のみしか同時に、被覆液体で噴霧されないことに起因する。この装置は、乾燥ガスの入口温度が最大限許容される製品の温度よりも低くなければならないという欠点がある。このことは、プロセスガスの蒸発能力を低くし、噴霧量を少なくすることを必要とし、このため、工程時間が長くなる。更に、タブレットが被覆により共に付着するのを防止するため、極めて穏当な噴霧量にて施すことが必要であり、このことは、また、取扱い能力を低下させることになる。
【０００６】
パンコータに関連するこうした欠点のため、微粒子材料を又は粒子、ペレット又は結晶のような、小さい物質を被覆するため、幾つかの方法が提案されている。
【０００７】
最初の改良は、製品を浮遊させるため流動床を使用することであった。被覆溶液は、上部向流から空気流への噴霧として製品に施した。パンコータと比較して、流動化空気の乾燥能力のため、乾燥能力は増大した。しかし、乾燥／流動化空気の入口温度は、許容可能な製品の最高温度のため、制限されていた。
【０００８】
被覆効率を向上させるため、米国特許第２，６４８，６０９号（ウォルスター（Ｗｕｒｓｔｅｒ））において、被覆されるタブレットがその上を通るスクリーンの下方にて導入する前に、回転するディスク内で管路を通じて伝達することにより、乾燥及び浮遊空気の乱流を付与することが提案されている。空気の乱流を使用する目的は、タブレットに転倒動作を付与し、そのタブレットの被覆をより一層均一にすることであった。この方法により、被覆液体は、空気流に対して向流状態に付与され、乾燥空気の入口温度をより高温にすることを可能にするが、その転倒動作の間、タブレット同士が接触するため、タブレットにとって処理はかなり苛酷となる。更に、乾燥空気の乱流によって行われる上記の転倒は、各粒子の全ての表面にて被覆噴霧の均一な分配状態を保証するには不十分であった。
【０００９】
更に、被覆すべき物品を適正に流動床化することを含む方法は、特に、製薬業界における通常の寸法のタブレットには不適当であり、それは、その寸法及び形状を考えるならば、これらは、容易に流動床化できないからである。このため、流動床化は、いわゆる噴出床に改造していた。この設計において、プロセス空気に対する床の底部の開口は、１つ又は２つ以上の位置に集中的に配置され、このため、これらの箇所におけるプロセス空気は、タブレットを空圧的に輸送する速度が十分である。開口と同一箇所にて、流体床の底部に噴霧ノズルが配置されている。次に、被覆溶液をタブレットの移動方向と同一の方向に、すなわち、同一流動方向に提供する。プロセス空気は、噴霧ノズルが配置され、このため製品が存在する箇所から入るため、噴霧液滴及び乾燥空気は、全て同一の方向に移動し、熱及び質量の搬送は効率的となる。この設計変更は、また、蒸発熱が製品を冷却するため、入口温度を製品の許容可能な最高温度よりも高くすることを許容した。この設計は、以前の設計よりも効率的ではあるが、装置の能力はかなり制限されていた。プロセス空気は、タブレットを噴出させる状態を保つことが必要であったため、製品層の厚さは制限されていた。また、干渉を防止するため、ノズル間の距離も最小にしなければならなかった。この設計の装置は、米国特許第４，７４９，５９５号（ホンダ（Ｈｏｎｄａ）ら）に記載されている。
【００１０】
また、米国特許第５，１４５，６５０号（ヒュトリン（Ｈｕｔｔｌｉｎ））には、複数のノズルを有する流動床装置が開示されている。適用分野は、タブレットの被覆を含むことが示されているが、この装置は、より小さい粒子を処理し且つ凝集させるのに最も適していると思われる。傷付き易く且つ割れ易いタブレットは、流動床内に滞在する時間が長いため、損傷されるであろう。
【００１１】
米国特許第３，２５３，９４４号（ウォルスター）には、被覆すべき粒子に対し循環流を作用させる方法が開示されている。流動床の粒子動作の特徴が不規則ではなくて、噴霧される間、粒子の一部は上方に流れ、他の粒子は下方に流れる。この流れは、乾燥チャンバの底部の色々な箇所を通じて乾燥及び流動する空気を異なる強さにて導入することにより形成される。これは、例えば、上記底部にて特定のパターンで穴又はその他の開口を分配することによって行われる。しかし、噴霧される粒子の上方への流れ、及び乾燥される粒子の下方への流れを容易に分離した状態に保つことはできず、上記２つの粒子同士が相互に接触することは、この工程を実質的に妨げることになる。
【００１２】
このため、プロセス空気が入り且つ噴霧ノズルが配置される箇所である、開口付近に配置された管又は仕切部を導入することで被覆技術は更に改良された。かかる装置の例は、米国特許第３，２４１，５２０号（ウォルスターら）に記載されている。仕切部として機能する管は、噴出床の２つの主要な問題点を解決した。すなわち、管は被覆した製品の自由な通過を許容するため、製品層が増し、また、同一ハウジング内により多くの噴霧ノズルが存在するとき、干渉の問題点を解決した。この装置は、比較的小さい物を被覆するのに適していることが分かったが、タブレットを被覆するのには適するものではなかった。これは、タブレットの自由落下速度は比較的速く、また、プロセス空気の速度は、タブレットを空圧的に輸送するためこの自由落下速度よりも速くなければならない。しかし、この高速度は、タブレットの強度に対応して、これらタブレットを損傷させることがしばしばである。
【００１３】
この装置の別の欠点は、粘着性の被覆溶液を使用するとき、塊を形成することである。また、管の表面に被覆材料が堆積することは、共通の問題点であり、プロセス空気の乾燥能力の利用度は不十分となる。また、この設計には、重大なより大きい問題点が内在する。
【００１４】
塊の形成の問題は、国際出願第ＷＯ ９５／２０４３２号（エアロマティック−フィールダー ＡＧ（Ａｅｒｏｍａｔｉｃ−Ｆｉｅｌｄｅｒ ＡＧ））に記載された新しい装置によって基本的に解決され、この場合、既に、装置の底部板に達する前に、プロセス空気に対し旋回動作が付与され、プロセス空気を上向きのノズルの丁度、周りで導入するものであった。この装置は、実質的な改良をもたらし、また、他の装置よりもより均一で且つ高品質の被覆を形成することができるが、小さい物ほどには、大きいタブレットには、適していないものであった。
【００１５】
その１つの理由は、被覆すべき物は、噴霧された被覆液滴の噴霧にて打撃されるとき、回転動作をしなければならないためである。
上述した国際出願第ＷＯ ９５／２０４３２号（エアロマティック−フィールダー ＡＧ）に記載された装置において、被覆すべき粒子には、プロセス空気のせん断流によって適当な回転が与えられる。しかし、この方法は、薬の錠剤寸法の物には適していない。
【００１６】
このため、被覆すべき物が比較的大きいタブレットであるとき、その物の所望の高速回転を生じさせることのできる新しい方法及び装置が課題とされている。
更に、タブレットの処理機械及びその他の製造装置の開発は、その製造能力を実質的に増大させることとなっており、このため、被覆方法及び装置の能力も増大させることが必要とされている。
【００１７】
更に、特に製薬業界において、極めて精密な被覆を生じさせる工程の需要が増しつつある。このことは、連続的に処理されるバッチ又はロット内の全てのタブレットが実質的に同一の所定の量の被覆材料を受け取らなければならず、また、この材料が各タブレットの全ての表面上に均一な厚さの膜又は層を形成しなければならないことを意味する。このことは、被覆の目的がその被覆を施したタブレットから薬を正確に抑制して解放させることであるとき、又は被覆自体が活性成分を含むときに重要となる。
【００１８】
また、多層被覆の形成に関しては、上述したように、精密な被覆の需要がある。
タブレットを被覆するため、米国特許第３，２４１，５２０号及び国際出願第ＷＯ ９５／２０４３２号における実施の形態で使用される管のような仕切部が存在することは、その上のタブレットの磨耗及び粘着性堆積物の形成という問題点を伴うのみならず、被覆すべき物の厚い層が外側に着座する仕切部を使用する構造のため、製品の長い滞在時間を必要とし、このため、製造能力は低下し且つタブレットには長時間の機械的応力が加わることになることが分かった。
【００１９】
【発明の概要】
本発明は、被覆すべきタブレットの動きを案内し且つ制御する特殊な空圧手段を使用し、これにより従来技術で使用された仕切部を省略することにより、また、従来、当該技術分野で使用されない手段によって被覆液体の噴霧を制御し且つ案内することによって、従来技術の上述した欠点を解消し且つタブレットの被覆における特殊な課題を達成することが可能であるとの認識に基づくものである。
【００２０】
上述した特殊な空圧手段は、噴霧空気がその噴霧作用を発揮した後、この噴霧空気の流路に影響を与え、その上方への持上げ効果を少なくする目的にて導入されるガス流れを含んでいる。かかる影響は、本明細書及び特許請求の範囲において、「マッフリング（ｍｕｆｆｌｉｎｇ）」と称する。
【００２１】
このように、本発明は、有孔の基部板と、該基部板の中央に設けられた上向きの２流体ノズルと、被覆液体を該ノズルに提供する手段と、噴霧ガスをノズルに提供する手段と、基部板の開口を通じて上向きのガス流を提供する手段とを備える少なくとも１つの被覆ステーションをハウジング内に有する、タブレットを被覆するための非流動床装置を対象とするものである。
【００２２】
装置は、基部板の上面がノズルに向けて傾斜していること、基部板の開口がノズルの周りに配置された管路であること、上記管路の仮想の上方への伸び部分が上記ノズルにより発生させようとする噴霧の仮想の中心線と交差することを特徴としている。該装置は、噴霧ガスがノズルから出た後間もなく、噴霧ガスを空圧的にマッフリングして、被覆されるタブレットに対する上記ガスの上方への散乱効果を減少させる手段を更に備えている。また、上記ノズル、マッフリング手段、及び仕切部からの噴霧及びガスにより影響を受ける基部板の上方の領域は、被覆すべきタブレット用の仕切部が存在しない。
【００２３】
本発明にとって最適であり且つ最も実際的な形態が得られたと現在見なされる、噴霧ガスを空圧的にマッフリングする手段は、２流体ノズルを取り巻くガス供給手段の出口を備え、該出口は、２流体ノズルから上方に広がる噴霧ガス流と合わさり且つ上記ノズルを偏向させ且つ被覆されるタブレットに対する上方への散乱効果を減少させるより広い旋回流となるように修正する上方への回転ガス流を供給する。
【００２４】
ガス供給手段に対する上記出口がノズルを取り巻く環状のキャビティ内に伸びるとき、極めて満足し得る結果が得られた。この実施の形態により、マッフルガスの上方への旋回流は、付勢されて噴霧ガスと交わる。
【００２５】
しかし、噴霧ガスのマッフリングは、また、その他の手段により行うこともできる。従来、噴霧流域内の所望のガス雰囲気を得る目的にて３流体ノズルの構造とされていたが、ノズルの先端における外側領域内のガス流が噴霧ガスに対して部分的に正接する方向を含むような仕方にて３流体ノズルを改造することも可能である。このように、本発明は、噴霧ガスを空圧的にマッフリングする手段が２流体ノズルを取り巻くマンテルを備える実施の形態も対象とする。このことは、実際上、３流体ノズルが使用されることを意味する。このため、「２流体ノズル」という語は、本明細書及び特許請求の範囲において本来の２流体ノズルのみならず、３流体ノズルの中央部分、すなわち噴霧液体及び噴霧ガスを供給する部分をも含むものとする。
【００２６】
これに反して、上述した実施の形態は、管路を通じて導入されるマッフリング及びプロセス空気は同一のプレナムから供給され且つ作動中、何ら調節が不要であることは、この実施の形態の有利な点である。
【００２７】
本発明による実施の形態の更なる好ましい実施の形態は、請求項３乃至９の主題であり、以下の添付図面に関して説明する。
本発明はまた、上述した装置を使用して、２流体ノズルから発生された上向きの噴霧液体の噴霧をタブレットに作用させることにより、タブレットを被覆する方法であって、タブレットが上記噴霧に出会う前に、上記噴霧の仮想上の中心線と交差するように上方に向けられたガスジェットの衝撃力により回転され、その後、回転するタブレットは上記ガスジェットによって２流体ノズルの上方の中央位置に向けて案内され、噴霧に接触する浮遊したタブレットの数を増し、２流体ノズルには、マッフリングガスにより調整された後、被覆する液滴の噴霧領域内でタブレットを散乱させる量よりも少ない量にて噴霧ガスが供給され、ノズルの真上で、空圧的にマッフリングすることにより噴霧ガスによるタブレットの上方への散乱効果が減少されるようにしたことを特徴とする方法にも関するものである。
【００２８】
本発明の好ましい実施の形態は請求項１０乃至１６に記載されており、これらについて、図面に関して更に説明する。
図１に図示した被覆装置において、漏斗状部材１は被覆領域２を取り囲んでいる。図示するように、部材１の下方部分の内壁は、この好ましい実施の形態において、僅かに円錐形又は垂直でもある。
【００２９】
領域２の下方に、基部板３が図示されている。
図３及び図４から最も明確に理解し得るように、基部板は、図１及び図２に参照番号５で示すように、２流体ノズルを受け入れる穴４を備えている。
【００３０】
部材１により取り巻かれた基部板３の上面の部分６の少なくとも実質的な部分が穴４内にあるノズル５の先端に対して下方に傾斜していることは本発明の１つの重要な特徴である。水平レベルに対する面６の勾配は、５乃至２０°であることが好ましく、１０乃至１５°であることがより好ましい。基部板の部分は、穴４の上方部分に直ぐ隣接するノズルの先端と共に多少上方に突き出していて（図示せず）、その領域内に塵が堆積するのを防止する。
【００３１】
本発明の別の重要な特徴は、基部板３を通る管路７を提供することである。
図面に図示した好ましい実施の形態において、これらの管路は傾斜面６に対して垂直である。しかし、その方向は、面６に対して垂直な方向から多少偏倚させることができる。これらの面は、例えば、図面に図示したもの程、垂直でないようにしてもよく、この場合、面６の傾斜は、管路が垂直である場合よりも多少小さくなる。
【００３２】
更に、管路７は、上方への仮想の伸長部が穴４の垂直上方にて仮想の中心線と交差するように更に配置されている。この垂直線は、また、ノズル５により発生される噴霧の仮想的な中心線でもある。
【００３３】
管路の直径は、典型的に、１乃至１+１／２ｍｍであり、その長さは直径の３倍以上である。
管路は、強さの異なるジェットを発生させ得るように異なる直径とすることができる。このように、ノズル５付近の管路は、典型的に、ノズルからより離れた管路よりも狭小である。
【００３４】
管路７の間の距離は、被覆されるタブレットの寸法に依存して、タブレットの最大寸法の０．２乃至１．５倍となるように選ばれる。
管路７の全体面積に出口１４の面積を加えた値は、以下に説明するように、典型的に、傾斜面６の水平面積の３乃至６％、好ましくは約４％となるようにする。
【００３５】
基部板３の下面にて、管路７は、管路７を通る所望の流れパターンが得られるように漏斗状の端末部分８を有している。
基部板３の下方には、以下により詳細に説明するように、管路７を通じて乾燥空気を提供し且つ２流体ノズルからの噴霧空気の流れを制御するマッフリング空気を提供するためのプレナム９が存在する。
【００３６】
空気は管１０を通じてプレナムに供給される。
該プレナムは、色々な圧力にて空気を色々な群の管路７に供給することを可能にする１つ以上の区画室（図示せず）と、及び／又はマッフリングガスを導入する手段（以下に説明する溝１３のような）とを備えることができる。
【００３７】
２流体ノズル５は、導管１１を通じて被覆液体及び管１２を通じて噴霧空気を受け取る（図１）。
図２、図３及び図４にて最も良く理解し得るように、２流体ノズル５の先端を受け入れる穴４の上方テーパー付き円錐形壁には、溝１３が設けられており、この溝１３は、ノズルが所定の位置にあるとき、プレナム９からノズルの先端を取り巻く出口１４（図２）まで伸びる管路を形成する。装置の上述した実施の形態は、かかる溝を６つ有している（図４）。これら溝は、ノズルに対して正接関係に伸びており、この理由のため、上記溝を通じてプレナムから出口１４に供給された空気は、ノズルを取り巻く上方への旋回流として去る。
【００３８】
この装置の作用に関しては、同様に、被覆工程中のタブレットの流れを示す図２に関して更に説明する。
上述した装置を適用する本発明による方法により、被覆すべきタブレットは被覆液体の噴霧に達する前に、高速度の旋回動作を得て、これと同時に、２流体ノズルからの噴霧空気がタブレットの流れを散乱させることが防止され、それにより、噴射領域内でタブレットの高密度を保つことができる。
【００３９】
これが実現される状態は、タブレットが外周内で基部板３内に向けて下方に落下する状態を示す図２から明らかである。上記板に接触する前に、これらタブレットは、ノズルの上方で流れ内に吸引される空気流の影響により且つ管路７を通じてプレナム９から供給されるガスジェットの影響により、半径方向内方への動きが得られる。しかし、これらガスジェットの主たる効果は、タブレットがノズル５からの噴霧に達する前に、タブレットの高速回転動作を生じさせることである。管路を通じて吹き込まれたガスジェットは、８０乃至１８０ｍ／秒、好ましくは１００乃至１５０ｍ／秒の速度を有する。
【００４０】
２流体ノズルからの噴霧空気の散乱効果を減少させるための何ら特殊な措置が講じられないならば、タブレットは相当な高さに吹き上げられ、このため、タブレットは広げられ、このことは、噴霧被覆液体の僅かな部分のみがタブレットの表面に堆積することを意味する。更に、かかる急激な流れは、粒子を傷付け且つその磨耗を増すことになる。
【００４１】
この方法は、これを防止するため２つの措置を備えている。第一に、噴霧空気の量は、通常、当該型式のノズルに対して使用される量と比べて少なくなる。このことは、噴霧の液滴寸法は２流体ノズルに対する通常の値よりも大きくなるが、タブレットの寸法のため、このことは、最終的な被覆の質にとって何ら重要ではないことを意味する。
【００４２】
第二に、噴霧ガスの流れは、溝１３を通じて出口１４に導入されるマッフリングガスにより強化される。図示した実施の形態において、マッフリングガスは、同一のプレナム９から供給された管路７からのジェットと実質的に同一の速度にて出口１４を去る。しかし、プレナムがより多くの区画室を有するとき、マッフリング噴霧ガスの量及び管路７を通じて導入されるガスの量を独立的に調節することが可能である。マッフリングガスは、ノズルからの噴霧空気の流れに急速に影響する旋回流を発生させる。このため、ノズルからの流れもまた旋回流となり、その結果、上向きの速度成分、従って、タブレットを上昇させる力は低下する一方、噴霧の寸法は多少より広くなる。
【００４３】
このことは、基部板３の傾斜面に沿って進む回転粒子は、噴霧に達するとき、穏当な持上げ作用しか受けず、これら粒子が噴霧液滴によって打撃される箇所である領域内でのその滞在時間は比較的長くなることを意味する。
【００４４】
マッフルした２流体ノズル又は３流体ノズルに代えて、同様に、低モーメント噴霧装置である、例えば、静電気又は超音波噴霧手段のような別の低モーメント噴霧装置をこの装置及びこの方法に使用することを考えることができる。
【００４５】
本発明による装置及び方法は、バッチ型（即ち一括処理的）及び連続的なタブレット被覆の双方に使用することができる。
その双方の型式の装置は、１つ又は幾つかの被覆ステーションを備えることができる。１つ以上の被覆ステーションが使用されるとき、これら被覆ステーションは、平行な装置として独立的に作動させるか又は直列に接続するかのいずれか一方で作動することができる。
【００４６】
図５に図示するように、被覆ステーションは、被覆噴霧の流れにより持ち上げられたとき、タブレットが不規則に通る壁１５によって分離することができる。 タブレットが１つの被覆ステーションから別のステーションへ通過することは、装置を制御された状態で恒久的に又は調節可能に傾動させることによって行うこともできる。
【００４７】
連続的な作動の場合、本発明による装置は、典型的に、直列に接続された５つの被覆ステーションを備えることができる。１つのステーションから次のステーションへの通過は、一組のステーションを傾動させることで制御される。かかる多数ステーション装置の被覆能力は、水溶性被覆溶液を使用して２０乃至３０μｍの被覆層を得なければならないとき、約３，０００タブレット／分である。各タブレットが全ての５つのステーションを通過するための全体の処理時間は約１０秒である。
【００４８】
かかる一組の被覆ステーションにおいて、異なる組成の被覆材料を施し、一組の被覆ステーションを１回通過するだけで多層の被覆が為されるようにすることができる。
【００４９】
商業的な用途において、本発明による装置には、勿論、色々なパラメータを連続的に又は定期的に監視することで得られた信号に基づいて自動的に作動する装置が設けられる。これらパラメータは、装置内に導入され又は装置から引き出されるガス又はタブレットの流れ又は温度、又は当業者に明らかなその他のパラメータのようなものとすることができる。
【００５０】
以下の実施例にて、本発明を更に説明する。
実施例
図１に図示したような装置にて被覆工程を行った。
【００５１】
装置の寸法は、傾斜面６の水平直径が４０ｍｍとなるようにした。
被覆すべきタブレットは円形とし且つ次の寸法のものとした。
直径・・・・・・・・・・・・・７．０ｍｍ
高さ・・・・・・・・・・・・・４．５ｍｍ
表面積・・・・・・・・・６．６ｘ１０^-5ｍ²
各タブレットの重量は０．１６４ｇとし、バッチ内の（即ち一括処理での）タブレットの数は、総重量３２ｇに相当する２００とした。
【００５２】
被覆液体は、ヒドロオキシプロピルメチルセルロース系の被覆材料であるオパドライ（Ｏｐａｄｒｙ）（登録商標名）ＹＳ−１−７００３の２０重量％の水溶液とした。
【００５３】
周囲条件
温度・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１９℃
相対湿度・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・６４％
プレナムに導入されたガスの入口温度・・・・・・・・・・・・１０８℃
プレナム９に導入されたプロセスガスの流量・・０．００６８４ｍ³／秒
管路７及び出口１４を通るプロセスガスの速度・・・・・・１２８ｍ／秒
噴霧圧力・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．５バール
噴霧ガスの流量・・・・・・・・・・・・・・・０．０００４Ｎｍ³／秒
噴霧溶液の噴霧量・・・・・・・・・・・・・・・・・・８．２５ｇ/分
プロセス時間・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０秒
被覆厚さ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４２μｍ
被覆後のタブレットに対し色々な検査及び試験を行った。これらにより、タブレットの損傷は、何ら観察されず、被覆は極めて均一な厚さであり且つ高品質であると推定された。
【００５４】
同様の装置にて且つ本発明の方法を使用して行った幾つかのその他の実験を行い、それにより得られた結果は、本発明は商業的な何れの被覆装置を使用する場合に可能であるよりも、各タブレットのより迅速な被覆を可能にするのみならず、この装置は、既知の商業的方法又は装置によって被覆することができない、極めて傷付き易く又は割れ易いタブレットの被覆を可能にするものであることを明らかにする。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による被覆装置の１つの実施の形態の縦断面図である。
【図２】 被覆されるタブレットの流れをも示す、図１に図示した実施の形態と同様の本発明による装置の１つの実施の形態の中央部分の拡大縦断面図である。
【図３】 図１及び図２に図示した本発明の実施の形態にて使用される基部板の縦部分断面図である。
【図４】 図３の基部板を下方から見たときの概略図である。
【図５】 １つ以上の処理ステーションを有する、本発明による装置の１つの実施の形態の概略図的な縦断面図である。

Claims (19)

1. 有孔の基部板（３）と、該基部板の中央に設けられた上向きの２流体ノズル（５）と、被覆液体を該ノズルに提供する手段（１１）と、噴霧ガスをノズルに提供する手段（１２）と、基部板（３）の開口を通じて上向きのガス流を提供する手段（９）とを備え、基部板の上面がノズルに向けて傾斜している、少なくとも１つの被覆ステーションをハウジング内に有する、タブレットを被覆するための非流動床装置において、
   基部板の開口がノズル（５）の周りに配置された管路（７）であること、前記管路の仮想の上方への伸び部分が前記ノズルにより発生させようとする噴霧の仮想の中心線と交差すること、噴霧ガスがノズルから出た後、間もなく、噴霧ガスを空圧的にマッフリングして、被覆されるタブレットに対する前記ガスの上方への散乱効果を減少させる手段（１３、１４）を更に備えること、前記ノズルからの噴霧及びガス流、マッフリング手段（１３、１４）からのガス流及び管路（７）からのガス流による影響を受ける基部板（３）の上方の領域には、被覆すべきタブレット用の仕切部が存在しないことを特徴とする、非流動床装置。
2. 請求項１による装置において、噴霧ガスを空圧的にマッフリングする手段は、２流体ノズル（５）を取り巻くガス供給手段の出口（１４）を備え、該出口は、２流体ノズルから上方に広がる噴霧ガス流と合わさり、その上方への速度を遅くし且つその方向を偏向させ、これにより、より広い旋回流に変換することを特徴とする、装置。
3. 請求項２による装置において、前記ガス供給手段が、同様にガスを基部板の前記管路（７）に供給するプレナム（９）に接続された基部板（３）の溝（１３）であることを特徴とする、装置。
4. 請求項２による装置において、前記ガス供給出口（１４）が、ノズル（５）を取り巻いていて且つ上方に開口している環状のキャビティに接続されていることを特徴とする、装置。
5. 請求項１による装置において、噴霧ガスを空圧的にマッフリングする手段が、２流体ノズルを取り巻き、これにより、３流体ノズルを形成するマンテルを備えることを特徴とする、装置。
6. 請求項１ないし５の何れかによる装置において、水平レベルに対する基部板の勾配が、５乃至２０°であり、ノズルの周りで同心状の前記管路（７）が基部板の傾斜する上面に対して実質的に垂直であることを特徴とする、装置。
7. 請求項１ないし６の何れかによる装置において、前記管路（７）の間の距離が、被覆されるタブレットの寸法に依存して、タブレットの最大寸法の０．２乃至１．５倍となるように選ばれることを特徴とする、装置。
8. 請求項１ないし７の何れかによる装置において、垂直又は僅かに上方に広がる円錐形壁が基部板の上面の傾斜領域の外周から伸び、該壁が基部板からある距離にて方向を変更し、より拡張する円錐体（１）を形成することを特徴とする、装置。
9. 請求項１による装置において、基部板の上で又は基部板に近接して配置された部分的な仕切壁（１５）により相互に分離された複数の被覆ステーションを備え、該壁の高さが、装置の作用中にタブレットが持ち上げられる最高高さ以下であり、これにより、タブレットを１つのステーションから別のステーションまで制御された状態で搬送することを許容することを特徴とする、装置。
10. タブレットに対し２流体ノズルにより発生された上方への被覆流体の噴霧を作用させることによりタブレットを被覆する方法において、
    タブレットが前記噴霧に出会う前に、前記噴霧の仮想上の中心線と交差するように上方に向けられたガスジェットの衝撃力により回転動作が与えられ、同時に且つその後、回転するタブレットは、前記ガスジェットによって２流体ノズルの上の中央位置に向けて案内され、噴霧に接触する浮遊したタブレットの数を増すことと、２流体ノズルには、マッフリングガスにより調整された後、噴霧領域内でタブレットを散乱させる量よりも少ない量にて噴霧ガスが供給されることと、ノズルの真上で、空圧的にマッフリングすることにより噴霧ガスによるタブレットの上方への散乱効果が更に減少されるようにしたこととを特徴とする、方法。
11. 請求項１０の方法において、ノズルを取り巻き且つノズルに対して部分的に接線方向にマッフリングガスを吹き込んでノズルを取り巻く上方への旋回流を発生させることと、ノズルから去る噴霧ガスに影響を与え、これにより、タブレットの上方への持ち上げ及びその散乱効果を減少させることとによって噴霧ガスのマッフリングが行われることを特徴とする、方法。
12. 請求項１１の方法において、前記マッフリングガスが、ガス供給源に接続された溝を通じて提供され、該ガス供給源が同様に、タブレットに顕著に影響を与える前記ガスジェットを供給することを特徴とする、方法。
13. 請求項１１の方法において、マッフリングガスが、２流体ノズルを取り巻くマンテルを通じて提供され、これにより、３流体ノズルを形成することを特徴とする、方法。
14. 請求項１０ないし１３の何れかの方法において、被覆されるタブレットの各々が２乃至５０ｍｍの範囲の最大寸法を有することを特徴とする、方法。
15. 請求項１０ないし１４の何れかの方法において、同時に被覆されるタブレットの数がノズル当たり５００以下であることを特徴とする、方法。
16. 請求項１０ないし１５の何れかによる方法において、ガスジェットが、８０乃至１８０ｍ／秒の速度を有することを特徴とする、方法。
17. 請求項１０ないし１５の何れかによる方法において、ガスジェットが、１００乃至１５０ｍ／秒の速度を有することを特徴とする、方法。
18. 請求項６ないし８の何れかによる装置において、前記水平レベルに対する基部板の勾配が、１０乃至１５°であることを特徴とする、装置。
19. 請求項１４ないし１７の何れかの方法において、前記被覆されるタブレットの各々が３乃至２５ｍｍの範囲の最大寸法であることを特徴とする、方法。

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