JP3655245B2 - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに関する。
【0002】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル(以下、必要に応じてPDPと表記することがある。)は、例えば図1に示すように、前面基板および背面基板となる2枚のガラス基板1a、1bのそれぞれに多数の平行なストライプ状の電極(電極群)2a、2bおよび2c、2dが形成され、電極2a、2bおよび電極2c、2dが対向し、垂直に交差するようにガラス基板1a、1bが配置される。ガラス基板1a、1bの間の周縁には、シール層3が設けられ、これにより、ガラス基板1a、1bが一体化されるとともに、密閉空間(図1中矢印xで示す。)が画成される。なお、隣り合う電極2aおよび電極2bは、それぞれ交互に対向するシール層3の反対の外側(図1中左側または右側)の端部に引き出されている。また、隣り合う電極2cおよび電極2dについても電極2a、2bと同様にそれぞれ交互に、対向するシール層3の反対の外側(図1中上側または下側)の端部に引き出されている。各電極2a〜2d1本の長さは1m以上の場合もある。密閉空間xには、ネオンやキセノン等の放電ガスが封入される。なお、図1をはじめとする各図において、表示の便宜上、シール層3には平行斜線模様を付す。
【0003】
図1のプラズマディスプレイパネルが例えば直流駆動型(DC型)の場合、2枚のガラス基板1a、1bに形成された、対向して交差する電極2a、2bと電極2c、2dとは正負対となって放電を発生する表示電極であり、表示電極の交差点(図1中矢印yで示す。)は、発光単位であるセルを構成する。一方、図1のプラズマディスプレイパネルが例えば交流駆動型(AC型)の場合、例えばガラス基板1aに形成された隣り合う電極2aおよび電極2bが正負対となって放電を発生する表示電極となる。
【0004】
PDPの動作は、各電極2a〜2dに百数十V前後の電圧を印加して、発光させるセルに電流を流すことによって行われる。この時、セルに流れる電流とともに、セルを構成する電極2a、2bおよび電極2c、2d間の浮遊容量を充電する電流が同時に流れる。これらの電流は、数十〜100ns程度の立ち上がり時間の間に、最大で合計数十Aに達する、短パルス大電流である。
【0005】
このような短パルス大電流が上記したように長さの長い電極に流れることにより、不要な電磁波が輻射される。
【0006】
従来、この不要な電磁波の輻射を解消するために、PDPの前面に設けられた保護機能を兼ねた透明な板にITO層や金属のメッシュを組み込むことなどにより導電性を持たせ、電磁波をシールドすることが行われている。また、フェライトのフィルタを電極2a〜2dに外付けすることも行われている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の不要な電磁波の輻射を解消する方法は、前者については、ITO層や金属のメッシュを格別に設けることにより製造コストの増大を招いていた。また、後者のフェライトのフィルタを外付けする方法についても、部品点数が多くなるとともに製造コストの増大を招いていた。
【0008】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、部品点数を増加させることなく、また、低コストで不要な電磁波の輻射を解消することができるプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルは、2以上の電極群を前面基板および背面基板のいずれか一方にまたは双方に形成したプラズマディスプレイパネルにおいて、該電極群のうちの少なくとも1つの電極群を少なくとも一部覆う磁性体層を設け、該磁性体層が磁性材料粉末および該磁性材料粉末を結合する結合材料で形成されてなるとともに、該結合材料が低融点ガラスであり、前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねていることを特徴とする。
【0010】
ここで、プラズマディスプレイパネルは、直流駆動型(DC型)および交流駆動型(AC型)のいずれのタイプであってもよい。電極群は、ストライプ状に平行に形成された多数の電極からなる。電極のうち、放電を発生させる対となる表示電極は、前面基板および背面基板の双方にそれぞれ1つずつ設けられ、あるいは、前面基板または背面基板のいずれか一方に2つとも設けられる。また、電極として、表示電極以外にも信号電極やバス電極を適宜有する。磁性体層は、電極群の表裏面のいずれを覆うように設けてもよい。また、磁性体層は、電極群から僅かに離間するように設けてもよいが、電極群に接するように設けるとより好適である。
【0011】
本発明の上記の構成により、磁性体層の存在によって電極の高周波成分に対するインピーダンスを増加させて電流の高周波成分を低減することで、不要な電磁波の発生そのものが軽減されるとともに、磁性体層の磁気損失によって発生した不要な電磁波が吸収される。これにより、部品点数を増加させることなく、また、安価に形成することができる磁性体層を設けることで、不要な電磁波の輻射を解消することができる。また、前記磁性体層の前記結合材料が低融点ガラスであり、該磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねているため、シール層と格別に磁性体層を設ける必要がなく、好適である。
【0013】
また、この場合、前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層の内側の領域の前記電極群の部位に形成されてなると、磁性体層によって電極群に密接してあるいは近接して電極群を所望の被覆率で被覆することができて好適である。また、従来のようにシール層の外側に電磁シールド部材を設ける必要がないため、パネル周辺部の寸法が大きくならず、好適である。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法の好適な実施の形態(以下、本実施の形態例という。)について、図を参照して、以下に説明する。
【0016】
まず、本実施の形態の第1の例に係るプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法について、図2、図3を参照して説明する。図2は、プラズマディスプレイパネルの概略平面図であり、図3は、図2中III−III線上部分断面を上下反転して示す図である。なお、図3において、表示の便宜上、断面をハッチング表示していない。
【0017】
本実施の形態の第1の例に係るプラズマディスプレイパネル10は、図2に示すように、基本的な構成は図1の従来例の直流型プラズマディスプレイパネルと同様である。
【0018】
すなわち、プラズマディスプレイパネル10は、前面基板12と、背面基板14とを有する。前面基板12には、図2中左右方向に延出し、交互に対向するシール層20の外側に引き出されたストライプ状の行電極16a(引き出し方向の異なる隣り合う電極について、便宜的に同一の参照符号を付す。以下、他の実施例についても同じ。)が複数行形成されて1つの電極群16を構成し、一方、背面基板14には図2中上下方向に延出し、交互に対向するシール層20の外側に引き出されたストライプ状の列電極18a(引き出し方向の異なる隣り合う電極について、便宜的に同一の参照符号を付す。以下、他の実施例についても同じ。)が複数列形成されて1つの電極群18を構成する。対向して配置された前面基板12および背面基板14の間には周縁をシールするシール層20が設けられ、シール層20ならびに前面基板12および背面基板14で画成された密閉空間(図2中矢印Xで示す。)にネオンやキセノン等の放電ガスが封入される。
【0019】
プラズマディスプレイパネル10は、前面基板12の電極群16の延出方向両端部のそれぞれシール層20の外側に交互に引き出された各電極16aに跨って一部覆うように図2中上下方向に延出して、磁性体層22が帯状に、例えば50μmの厚みに形成される。なお、図2をはじめとする以下の各図において、表示の便宜上、磁性体層22に梨地模様を付す。
【0020】
磁性体層22は、磁性材料粉末と、磁性体粉末を結合する結合材料とからなる。磁性材料粉末は、フェライトや金属等の粉末である。また、結合材料は、低融点ガラスである。
【0021】
上記のように構成されるプラズマディスプレイパネル10は、基本的には、常法により、形成する部分の特性に応じて、厚膜プロセスや薄膜プロセスにより、また、必要に応じて焼成工程を含んで製造される。このとき、前面基板12および背面基板14を重ねてシール層20によりシールする前に、上記した磁性材料粉末および結合材料をBCA(ブチルカルビトールアセテート)等の適当な溶剤によってペースト状あるいはスラリー状にしたものを電極群16の両端部に塗布(塗工)し、焼成することにより磁性体層22を形成する。
【0022】
塗布方法は、厚膜印刷、ダイコーティング、ブレードコーティング、グラビアコーティング、リバースコーティング等の方法を用いることができる。
【0023】
また、磁性体層22の形成方法として、上記塗布方法に変えて、ラミネート法を用いてもよい。
【0024】
すなわち、上記した磁性材料粉末および結合材料を予めロール形成法、射出形成法、押出し形成法等の方法によりシート状に形成したものを、前面基板上(電極群上)にラミネートした後に焼成して磁性体層22を形成してもよい。
【0025】
これら塗布方法やラミネート法は、隔壁やシール層等を形成する方法でもあるため、格別な方法によることなく、磁性体層を形成することができる。
【0026】
プラズマディスプレイパネル10は、電極16a、18a間に短パルス大電流を印加して動作させるとき、磁性体層22の存在によって電極16a、18aの高周波成分に対するインピーダンスが増加し、電流の高周波成分が低減され、不要な電磁波の発生が軽減される。なお、プラズマディスプレイパネル10がAC駆動型の場合は、隣り合う電極16a、16a間に短パルス大電流を印加して動作させるとき、同様の効果が得られる。また、プラズマディスプレイパネル10は、磁性体層22の磁気損失によって、発生した不要な電磁波が吸収され、プラズマディスプレイパネル10の外部への不要な電磁波輻射が防止される。
【0027】
以上説明した本実施の形態の第1の例に係るプラズマディスプレイパネル10は、上記の作用により、従来のようにシールド部材を格別に設けて部品点数を増加させることなく、また、安価に形成することができる磁性体層22を設けることで、不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【0028】
また、プラズマディスプレイパネル10は、磁性体層22がシール層20の内側に形成されているため、磁性体層22によって電極群16に密接してあるいは近接して電極群16を所望の被覆率で被覆することができる。また、従来のようにシール層20の外側に電磁シールド部材を設ける必要がないため、パネル周辺部の寸法が大きくならない。
【0029】
なお、プラズマディスプレイパネル10において、磁性体層22を電極群16の一端側のみに設けてもよい。すなわち、1本置きに配置された電極16aの端部のみを覆うように磁性体層22を設けることで、一定の効果を得ることができる。
【0030】
つぎに、本実施の形態の第2の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図4を参照して説明する。
【0031】
本実施の形態の第2の例に係るプラズマディスプレイパネル24は、第1の例のプラズマディスプレイパネル10と同様に前面基板12の電極群16の両端部の一部を覆う帯状の磁性体層22が形成される。プラズマディスプレイパネル24は、さらに、シール層20の内側の領域の背面基板14の電極群18の延出方向両端部を一部覆うように図4中左右方向に延出して、磁性体層26が帯状に形成される。なお、磁性体層の形成方法は、本実施の形態の第2の例に係るプラズマディスプレイパネルを含む以下の実施例において、特に断らない限り、本実施の形態の第1の例に係るプラズマディスプレイパネル10の製造方法と同様の方法を用いることができる。
【0032】
本実施の形態の第2の例に係るプラズマディスプレイパネル24は、背面基板14の電極群18の側にも磁性体層26が設けられているため、第1の例のプラズマディスプレイパネル10よりもさらに好適に不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【0033】
つぎに、本実施の形態の第3の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図5を参照して説明する。
【0034】
本実施の形態の第3の例に係るプラズマディスプレイパネル28は、第1の例のプラズマディスプレイパネル10と同様に前面基板12の電極群16の両端部の一部を覆う帯状の磁性体層22が形成されるとともに、さらに、シール層20の内側の領域の背面基板14の電極群18の全体を覆うように磁性体層30が面状に形成される。この場合、背面基板14は可視光を透過する必要がないため、磁性体層30を面状に形成しても問題はない。
【0035】
本実施の形態の第3の例に係るプラズマディスプレイパネル28は、背面基板14の電極群18の全体を覆うように磁性体層30が面状に形成されているため、第2の例のプラズマディスプレイパネル24よりもさらに好適に不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【0036】
つぎに、本実施の形態の第4の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図6を参照して説明する。
【0037】
本実施の形態の第4の例に係るプラズマディスプレイパネル32は、シール層20の外側の領域の前面基板12の電極群16の両端部位および背面基板14の電極群18の両端部位のそれぞれを覆うように磁性体層34、36がシール層20に沿って帯状に形成される。
【0038】
磁性体層34、36は、常法により、焼成工程を含む一連の製造工程を経て従来例と同様のパネルを形成した後、上記した塗布法またはラミネート法により形成する。
【0039】
この場合、磁性体層34、36は、パネル製造工程における高温雰囲気に曝されることがないため、結合材料として前記した低融点ガラス等を用いて塗布等した後焼成することなく、結合材料としてゴムやプラスチック等の有機材料を用いて塗布等の工程のみで形成することができ、簡易である。
【0040】
本実施の形態の第4の例に係るプラズマディスプレイパネル32は、従来の製造工程を経た後、磁性体層形成工程を追加することで製造できるため、パネル形成工程を変更する必要がなく、したがって、全体の製造工程が煩雑化することがない。また、磁性体層34、36の厚みがパネル内部の厚みに制約されないため、例えばディスペンサー等の塗布方法により、所望の厚膜に形成することができる。
【0041】
つぎに、本実施の形態の第5の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図7を参照して説明する。
【0042】
本実施の形態の第5の例に係るプラズマディスプレイパネル38は、前面基板12および背面基板14の間の周縁部に形成されるシール層40が磁性体層を兼ねている。通常のシール層は低融点ガラス等により形成されるが、これに対してシール層(磁性体層)40は低融点ガラス等を結合材料とし、これにフェライト等の磁性材料粉体を混合して前記した塗布、焼成方法によって形成される。
【0043】
本実施の形態の第5の例に係るプラズマディスプレイパネル38は、磁性体層がシール層を兼ねているため、プラズマディスプレイパネル38の構造が簡易であり、また、磁性体層を形成するための格別の工程を必要とせず製造方法が簡略化され、また、電磁気シールド効果を付与するためのコストの増分も小さい。
【0044】
つぎに、本実施の形態の第6の例に係るプラズマディスプレイパネルについて、図8を参照して説明する。
【0045】
本実施の形態の第6の例に係るプラズマディスプレイパネルは、前面基板12上に磁性体層40形成した後、磁性体層40の上に電極群16を形成し、さらに電極群16の磁性体層42が形成される。
【0046】
本実施の形態の第6の例に係るプラズマディスプレイパネルは、電極の周囲を覆う形態で磁性体層40、42が設けられるため、好適に電磁波の低減が図られる。
【0047】
なお、本実施の形態の第6の例に係るプラズマディスプレイパネルにおいて、磁性体層40、42は、前面基板12に変えて背面基板14の上に設けてもよく、また、前面基板12および背面基板14の双方に設けてもよい。
【0048】
【発明の効果】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルによれば、2以上の電極群のうちの少なくとも1つの電極群を少なくとも一部覆う磁性体層を設け、磁性体層が磁性材料粉末および結合材料で形成されているため、部品点数を増加させることなく、また、安価に形成することができる磁性体層を設けることで、不要な電磁波の輻射を解消することができる。
【0049】
また、本発明に係るプラズマディスプレイパネルによれば、磁性体層の結合材料が低融点ガラスであり、磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねているため、シール層と格別に磁性体層を設ける必要がなく、好適である。
【0050】
また、本発明に係るプラズマディスプレイパネルによれば、磁性体層が放電ガスを封入するシール層の内側の領域の電極群の部位に形成されているため、磁性体層によって電極群に密接してあるいは近接して電極群を所望の被覆率で被覆することができる。また、従来のようにシール層の外側に電磁シールド部材を設ける必要がないため、パネル周辺部の寸法が大きくならない。
【0051】
また、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、磁性体層を塗布法またはラミネート法により形成するため、格別な方法によることなく、隔壁やシール層等を形成するときと同様の方法で磁性体層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来例のプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図2】 本実施の形態の第1の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図3】 本実施の形態の第1の例に係るプラズマディスプレイパネルの図2中III−III線上部分断面である。
【図4】 本実施の形態の第2の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図5】 本実施の形態の第3の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図6】 本実施の形態の第4の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図7】 本実施の形態の第5の例に係るプラズマディスプレイパネルを透視状態で表示する概略平面図である。
【図8】 本実施の形態の第6の例に係るプラズマディスプレイパネルの部分断面図である。
【符号の説明】
10、24、28、32、38 プラズマディスプレイパネル
12 前面基板
14 背面基板
16、18 電極群
16a、18a 電極
20、40 シール層
42 磁性体層

Claims (2)

  1. 2以上の電極群を前面基板および背面基板のいずれか一方にまたは双方に形成したプラズマディスプレイパネルにおいて、
    該電極群のうちの少なくとも1つの電極群を少なくとも一部覆う磁性体層を設け、該磁性体層が磁性材料粉末および該磁性材料粉末を結合する結合材料で形成されるとともに、該結合材料が低融点ガラスであり、前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層を兼ねていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル
  2. 前記磁性体層が放電ガスを封入するシール層の内側の領域の前記電極群の部位に形成されてなることを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
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