JP3645780B2 - Build-up multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は多層プリント配線板とその製造方法に関し、特にコア基板の表面に絶縁樹脂と導電層をビルドアップして形成される配線効率の改善されたビルドアップ多層プリント配線板とその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
コア基板に絶縁樹脂層と配線層を交互に積み上げて形成した多層プリント配線板は、所謂ビルドアップ多層プリント配線板は、微細配線パターンが形成できるために高密度実装用基板として実用化され、その使用が拡大している。
【0003】
ビルドアップ多層プリント配線板の製造方法としては、特開平10―341077号公報(第1の従来技術という)等に開示されている。本技術では、貫通孔を形成した両面銅張り積層板にパネルめっきした後、貫通孔に絶縁樹脂層を充填し、次いでパターニングして貫通するランド付きの第1のビアホールおよび配線パターンを形成してコア基板を製造する。このコア基板上にビルドアップ絶縁層を形成後、該絶縁層に第1のビアホールのランドに貫通する孔を形成して全面にめっきする。次いで、エッチングにより上層配線パターンと第1のビアホールのランドに接続する第2のビアホールを形成する。このビルドアップ絶縁層と配線パターン(含ビアホール)の形成を交互に行い、所定の層数の多層プリント配線板が製造される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の第1の従来技術では、次のような問題点があった。
(1)コア基板の貫通ビアホール(第1のビアホール)の内部表面は絶縁樹脂層が形成されているために、この直上に直接マイクロビアホール(第2のビアホール)を形成することができない。そのために第1のビアホールのランドに上層配線パターンに接続するためのマイクロビアホール(第2のビアホール)を接続していた。そのために、配線に必要な面積が増え、配線効率が悪くなる。
(2)コア基板の第1のビアホールの絶縁樹脂層による穴埋め工程が必要であり、製造コストが増加する。
【0005】
上記の従来技術の問題点を解決する方法が、特開平11―40949号公報、(第2の従来技術という)、特開平―274730号公報(第3の従来技術という)等に開示されている。
【0006】
上記の第2の従来技術では、コア基板の貫通ビアホールに導電性物質を充填してその表面を平坦化した後、該貫通ビアホールの直上のビルドアップ絶縁層に該貫通ビアホールに接続するマイクロビアホールを形成する。
【0007】
また、上記の第3の従来技術では、コア基板の貫通ビアホールに絶縁樹脂層を充填してその表面を平坦化した後、該貫通ビアホール表面の絶縁樹脂層を所定の深さエッチング除去する。次いで、絶縁樹脂層をエッチング除去した凹部に導電性ペーストを充填して平坦化した後、該貫通ビアホールの直上のビルドアップ絶縁層に該貫通ビアホールに接続するマイクロビアホールを形成する。
【0008】
これらの従来技術では、コア基板の貫通ビアホールの表面に該貫通ビアホールのランドに導通した導電性ペースト等の導電材を形成し、貫通ビアホールの直上にコア基板の貫通ビアホールと接続するマイクロビアホールを形成でき、配線効率を改善する効果を得ているが、はんだ付け等の高温雰囲気でマイクロビアホールと導電性ペースト等の導電材との接続信頼性が低下する問題があり、また、上記の第1の従来技術と同様な貫通ビアホールへの導電性物質の充填のための工数が必要であり、製造コスト上昇の問題があった。
【0009】
従って、本発明の目的は、上記の従来技術の問題点を解決したビルドアップ多層プリント配線とその製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の第1の構成のビルドアップ多層プリント配線板は、第1の絶縁層を介して積層され、その内部に該第1の絶縁層が充填されたスルーホールの外層面側をパッドで閉塞して形成されたブラインドビアホールを少なくとも有する2枚のコア基板と、前記積層された2枚のコア基板を貫通してこれらのコア基板の層間を電気的に接続し、その内部に第2の絶縁層が充填されたベース貫通ビアホールと、前記積層された前記2枚のコア基板の表面に形成された第3の絶縁層と、前記ブラインドビアホールの真上の前記第3の絶縁層に設けられ前記ブラインドビアホールの前記パッドに達する開口にめっきにより形成されたマイクロビアホールとを含んで構成されることを特徴とする。
【0011】
上記の第1の構成において、前記2枚のコア基板の間にさらに1層以上の導電層を介在させることができる。
【0012】
また、上記の第1の構成のビルドアップ多層プリント配線板においては、その少なくとも片面に第4の絶縁層と導電層が交互に1層以上形成した構成とすることができる。
【0013】
本発明の第2の構成のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法は、穴あけした両面銅張り積層板の全面に第1のめっき層を形成する工程と、前記積層板の片面の前記第1のめっき層をパターニングして第1のスルーホールを有する第1および第2の2枚のコア基板を形成する工程と、接着性を有する第1の絶縁樹脂を介して前記第1および第2のコア基板を前記パターニングした面を内側にして熱接着し内層基板を形成するとともに前記第1の絶縁樹脂で前記第1および第2のコア基板の前記第1のスルーホールを充填する工程と、前記内層基板に貫通する穴を形成する工程と、前記穴を含む前記内層基板の全面に第2のめっき層を形成した後、前記第2のめっき層をパターニングし、前記第1のスルーホールの表面を前記第2のめっきで閉塞したパッドを有するブラインドビアホールと前記穴に前記第2のめっき層を有するベース貫通ビアホールを形成する工程と、前記ベース貫通ビアホールを第2の絶縁層で充填する工程と、前記内層基板上に第3の絶縁層を形成する工程と、前記第3の絶縁層に前記パッドに達する開口を形成した後、前記開口を含む前記第3の絶縁層表面に第3のめっき層を形成する工程と、前記第3のめっき層をパターニングして前記開口に前記パッドに電気的に接続されたマイクロビアホールを形成する工程とを含むことを特徴とする。
【0014】
上記第2の構成における前記第3の絶縁樹層は熱硬化性樹脂または光・熱硬化性樹脂により形成され、また、前記第3の絶縁樹脂層に熱硬化性樹脂を使用する場合には、該樹脂に無電解めっき用触媒を分散させることもできる。第3の絶縁樹脂層に無電解めっき用触媒を分散させることにより前記ブラインドビアホール上にアディティブ法で前記マイクロビアホールを形成することができる。
【0015】
上記第2の構成において、接着性を有する第1の絶縁樹脂を介して前記第1および第2のコア基板を前記パターニングした面を内側にして熱接着して内層基板を形成する際に、前記第1および第2のコア基板の間にさらに1層以上の導電層を有する第3のコア基板を配置し、前記第1の絶縁樹脂を介して前記第1、第3および第2のコア基板を熱接着して内層基板を形成することもできる。また、前記パターニングされた前記第3のめっき層を含む前記第3の絶縁層上に第4の絶縁層と第4のめっき層からなる導電層を交互に1層以上形成することもできる。
【0016】
本発明では、内層基板のブラインドビアホールをめっきで形成したパッドで閉塞し、この上に直接マイクロビアホールを形成することができるために、配線収容性の向上したビルドアップ多層プリント配線板を提供できる。
【0017】
【発明の実施の形態】
次に本発明のビルドアップ多層プリント配線板の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【0018】
図1は本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第1の実施の形態を説明する基板要部の断面図である。図1を参照すると、ビルドアップ多層プリント配線板は、絶縁層23を介して積層され、片面がパッド2aで閉塞されたブラインドビアホールを少なくとも有する2枚のコア基板21,22と、コア基板21,22の表面に形成されたビルドアップ絶縁層25と、積層されたコア基板21,22を貫通し、コア基板21,22の層間を電気的に接続し、その内部にビルドアップ絶縁層25が充填されたベース貫通ビアホール3と、ブラインドビアホール2の直上のビルドアップ絶縁層25にブラインドビアホール2のパッド2aに達する開口にめっきにより形成されたマイクロビアホール1とを含んで構成されている。
【0019】
絶縁層23としては、熱硬化性エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等が使用できる。コア基板の基材にはガラスエポキシ樹脂基板やガラスポリイミド樹脂基板が使用できる。絶縁層23は、プリプレグと呼ばれる半硬化状態の熱硬化性エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等からなる樹脂シートの両側にコア基板21,22を配置して熱プレスで積層して形成される。ブラインドビアホール2の内部もこの積層工程で溶融して流入してきた絶縁層により充填される。また、ビルドアップ絶縁層としては、エポキシ樹脂が使用できる。
【0020】
次に、上記の第1の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法について図2および図3を参照して説明する。図2は、図1のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法の工程順を説明するための基板要部の断面図である。また、図3は図2(c)に続く工程順を説明するための基板要部の断面図である。
【0021】
まず、エポキシ絶縁樹脂等の銅張り積層板(ガラス繊維で強化)を用いて穴明け、パネル電気銅めっきまたはパターン電気銅めっき等のめっき作業を行い、銅張り積層板に第1めっき層11,12,13,14を形成する。穴にはスルーホール10が形成される。
【0022】
その後、銅張り積層板の積層面(内層側の面)に露光、現像、エッチング作業により導電パターンを形成してコア基板21,22を製造する。
【0023】
次いで、同様に作製した2つのコア基板21,22の間にエポキシ樹脂等からなる半硬化状態のプリプレグを挟み、積層プレスでコア基板21,22を積層する(図2(b))。プリプレグは溶融してコア基板21,22のスルーホール10内にも充填される。符号23はプリプレグが溶融して硬化して形成された絶縁層を示す。コア基板21,22のスルーホール10上に吹き出た絶縁層は研磨で除去して平坦化する。
【0024】
次いで、積層したコア基板21,22を貫通する穴5を明けた後、銅等のめっき作業を行い、第2めっき層15、16を形成する。この時、スルーホール10外層面側の表面は第2めっき層15,16で塞がれる。このめっき作業で、穴5壁にも第2めっき層が形成される。
【0025】
次に、コア基板21,22の外層面側の第2めっき層15,16をフォトリソグラフィ技術でパターニングして導電パターンを形成する。この工程で、スルーホールの表面がパッド2aで閉塞された構造のブラインドビアホール2とコア基板21,22の層間を接続するベース貫通ビアホール3が形成される(図2(c))。
【0026】
次に、コア基板21,22の表面にアンダーコート材としてエポキシ樹脂からなる熱硬化性液状樹脂をスクリーン印刷等により塗布してコア基板21,22の表面のパターン間隙を充填すると同時にベース貫通ビアホール3を熱硬化性液状樹脂で充填して熱硬化する。その後、コア基板21,22の表面に、銅箔24にエポキシ樹脂からなる熱硬化性樹脂が被覆され半硬化状態の樹脂付き銅箔を積層プレスまたはロールラミネーターで熱圧着後、全体を熱硬化する(図3(a))。図3(a)の符号25は樹脂付き銅箔の熱硬化性樹脂を主成分とするビルドアップ絶縁層を示す。
【0027】
次いで、マイクロビアホール1を形成する部分の銅箔24を露光、現像、エッチングにより除去した後、レーザー加工でパッド2aに達する穴を形成する。その後、めっき作業を行い、第3めっき層17,18を形成する。なお、めっき作業には、パネルめっき法またはパターンめっき法を使用できる。
【0028】
その後、露光、現像、エッチング作業を行って外層導電パターンを形成する。この工程で、ブラインドビアホール2のパッド2aに直接接続されるマイクロビアホール1が形成される(図3(b))。
【0029】
上記の図3(a)の工程では、ベース貫通ビアホール3を熱硬化性液状樹脂で充填して熱硬化後、コア基板21,22の表面に、樹脂付き銅箔を積層プレスまたはロールラミネーターで熱圧着したが、樹脂付き銅箔の代わりに液状またはフィルム状のエポキシ樹脂等の光・熱硬化性樹脂や熱硬化性樹脂によりビルドアップ絶縁層25を形成してもよい。
【0030】
光・熱硬化性樹脂を使用する場合には、ビルドアップ絶縁層25には、レーザ穴明けまたはフォトリソグラフィ技術でパッド2aに達する開口を形成することができる。
【0031】
熱硬化性樹脂を使用する場合には、ビルドアップ絶縁層25には、レーザ穴明けでパッド2aに達する開口を形成することができる。また、熱硬化性樹脂を使用する場合には、樹脂中に無電解めっき用触媒を分散させ、外層導電パターン(含マイクロビアホール)をフルアディティブ法により形成することができる。
【0032】
次に、本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第2の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【0033】
図4は本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第2の実施の形態を示す基板要部の断面図である。本実施の形態は、上記の第1の実施の形態において、外層にさらに1層のビルドアップ絶縁層と導電パターンを形成したものである。本実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板は、上記の第1の実施の形態で製造した配線板の両面にさらにアンダーコート材を塗布後、樹脂付き銅箔を圧着して、上記の第1の実施の形態と同様な操作により外層にマイクロビアホール1aを有する導電パターンを形成して製造される。なお、図4中、符号25aは2層目のビルドアップ絶縁層を示す。コア基板と隣接するビルドアップ層のマイクロビアホール1がブラインドビアホール2のほば軸線上に設けられていれば、ビルドアップ層が2層以上であっても全く同じ効果が得られる。
【0034】
次に、本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第3の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。図5は本発明のビルドアップ多層プリント配線板の第2の実施の形態を示す基板要部の断面図である。図5を参照すると、本実施の形態では、上記の第2の実施の形態において、2つのコア基板の間に別のコア基板26を挿入したものである、
図5では、コア基板は3つのコア基板21,22,26から構成されているが、コア基板は最も外側の2つのコア基板21,22にブラインドビアホール2が設けられていれば、その内側のコア基板は片面プリント配線板でも両面以上の多層プリント配線板でもよい。なお、図5の符号3aは3つのコア基板の層間を接続するベース貫通ビアホールを示す。
【0035】
上記の第3の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板は、上記の第1の実施の形態で説明した方法と同様な方法により製造できる。
【0036】
上記の第1〜第3の実施の形態の説明では、個々のコア基板の製造方法はサブトラクテイブ法を使用したが、アディティブ法により製造してもよい。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では次の効果が得られる。
(1)コア基板のスルーホールにコア基板の積層工程で同時に穴埋めしてブラインドビアホールを形成するために、ブラインドビアホールの穴を埋める特別な工程が必要でなく、製造工程を簡略化できる効果がある。
(2)コア基板のブラインドビアホールの表面をパッドで閉塞し、その上に直接上層接続用のマイクロビアホールが形成できるために、ビルドアップ多層プリント配線板の配線収容性を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板を説明するための基板要部の断面図である。
【図2】図1のビルドアップ多層プリント配線板の製造方法の工程順を説明するための基板要部の断面図である。
【図3】図2(c)に続く工程順を説明するための基板要部の断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板を説明するための基板要部の断面図である。
【図5】本発明の第3の実施の形態のビルドアップ多層プリント配線板を説明するための基板要部の断面図である。
【符号の説明】
1,1a マイクロビアホール
2 ブラインドビアホール
3,3a ベース貫通ビアホール
11,12,13,14 第1めっき層
15,16 第2めっき層
17,18 第3めっき層
21,22 コア基板
23 絶縁層
25,25a ビルドアップ絶縁層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a multilayer printed wiring board and a manufacturing method thereof, and more particularly to a build-up multilayer printed wiring board with improved wiring efficiency formed by building up an insulating resin and a conductive layer on the surface of a core substrate and a manufacturing method thereof. It is.
[0002]
[Prior art]
A multilayer printed wiring board formed by alternately stacking insulating resin layers and wiring layers on a core substrate is a so-called build-up multilayer printed wiring board that has been put to practical use as a high-density mounting substrate because a fine wiring pattern can be formed. Use is expanding.
[0003]
A method for manufacturing a build-up multilayer printed wiring board is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-341077 (referred to as the first prior art). In this technique, after panel plating is performed on a double-sided copper-clad laminate with through holes, the through holes are filled with an insulating resin layer, and then patterned to form first via holes and wiring patterns with lands that pass therethrough. A core substrate is manufactured. After forming the build-up insulating layer on the core substrate, a hole penetrating the land of the first via hole is formed in the insulating layer, and the entire surface is plated. Next, a second via hole connected to the upper wiring pattern and the land of the first via hole is formed by etching. The build-up insulating layers and the wiring patterns (including via holes) are alternately formed to manufacture a multilayer printed wiring board having a predetermined number of layers.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, the first conventional technique has the following problems.
(1) Since an insulating resin layer is formed on the inner surface of the through via hole (first via hole) of the core substrate, a micro via hole (second via hole) cannot be formed directly on the inner surface. Therefore, a micro via hole (second via hole) for connecting to the upper wiring pattern is connected to the land of the first via hole. Therefore, the area required for wiring increases and wiring efficiency deteriorates.
(2) A process of filling the first via hole of the core substrate with the insulating resin layer is necessary, and the manufacturing cost increases.
[0005]
Methods for solving the above-mentioned problems of the prior art are disclosed in JP-A-11-40949, (referred to as the second prior art), JP-A-274730 (referred to as the third prior art), and the like. .
[0006]
In the second prior art described above, after filling the through via hole of the core substrate with a conductive material and planarizing the surface, the micro via hole connected to the through via hole is formed on the build-up insulating layer immediately above the through via hole. Form.
[0007]
In the third prior art, the insulating resin layer is filled in the through via hole of the core substrate and the surface thereof is flattened, and then the insulating resin layer on the surface of the through via hole is etched away to a predetermined depth. Next, after filling the recess from which the insulating resin layer has been removed by etching with a conductive paste and planarizing it, a micro via hole connected to the through via hole is formed in the build-up insulating layer immediately above the through via hole.
[0008]
In these conventional technologies, a conductive material such as a conductive paste that is conducted to the land of the through via hole is formed on the surface of the through via hole of the core substrate, and a micro via hole that is connected to the through via hole of the core substrate is formed immediately above the through via hole. Although there is an effect of improving the wiring efficiency, there is a problem that the connection reliability between the micro via hole and the conductive material such as the conductive paste is lowered in a high temperature atmosphere such as soldering. The same man-hours for filling the conductive material into the through via hole as in the prior art are necessary, and there is a problem of an increase in manufacturing cost.
[0009]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a build-up multilayer printed wiring and a method for manufacturing the same, which solve the above-mentioned problems of the prior art.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The build-up multilayer printed wiring board having the first configuration according to the present invention is laminated via a first insulating layer, and the outer layer side of the through hole filled with the first insulating layer is blocked with a pad. and the two core substrate at least having a blind via hole formed in the electrically connecting layers of the core substrate laminated two core substrate was through, the second insulation therein a base through hole in which a layer is filled, a third insulating layer formed on the laminated surface of the two core substrate, provided on the third insulating layer directly above the blind via the The opening of the blind via hole reaching the pad includes a micro via hole formed by plating.
[0011]
In the first configuration, one or more conductive layers may be further interposed between the two core substrates.
[0012]
Further, the build-up multilayer printed wiring board having the first configuration described above may have a configuration in which one or more fourth insulating layers and conductive layers are alternately formed on at least one surface thereof.
[0013]
The manufacturing method of the buildup multilayer printed wiring board of the 2nd structure of this invention WHEREIN: The process of forming a 1st plating layer in the whole surface of the drilled double-sided copper clad laminated board, The said 1st one side of the said laminated board Patterning the plating layer to form first and second core substrates having first through holes, and the first and second cores via a first insulating resin having adhesiveness When the surface of the substrate and the patterned inwardly to form an inner layer substrate was thermally bonded and filling together said first through hole in said first of said first and second core substrate by an insulating resin, wherein Forming a hole penetrating the inner layer substrate, and forming a second plating layer on the entire surface of the inner layer substrate including the hole, and then patterning the second plating layer to form a surface of the first through hole The second plating Forming a base through hole with said second plated layer and the brightest emission de via hole having occluded pad into the hole, a step of filling the base through hole in the second insulating layer, the inner layer on the substrate Forming a third insulating layer, and forming a third plating layer on the surface of the third insulating layer including the opening after forming an opening reaching the pad in the third insulating layer. And patterning the third plating layer to form a micro via hole electrically connected to the pad in the opening.
[0014]
In the second configuration, the third insulating tree layer is formed of a thermosetting resin or a light / thermosetting resin, and when a thermosetting resin is used for the third insulating resin layer, A catalyst for electroless plating can also be dispersed in the resin. The micro via hole can be formed on the blind via hole by an additive method by dispersing the electroless plating catalyst in the third insulating resin layer.
[0015]
In the second configuration, when the inner layer substrate is formed by thermally bonding the first and second core substrates with the patterned surfaces inside through the first insulating resin having adhesiveness, A third core substrate having one or more conductive layers is further disposed between the first and second core substrates, and the first, third, and second core substrates are interposed via the first insulating resin. Can be thermally bonded to form an inner layer substrate. In addition, one or more conductive layers made of the fourth insulating layer and the fourth plating layer may be alternately formed on the third insulating layer including the patterned third plating layer.
[0016]
In the present invention, the blind via hole of the inner layer substrate is closed with the pad formed by plating, and the micro via hole can be directly formed thereon, so that a build-up multilayer printed wiring board with improved wiring accommodation can be provided.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, an embodiment of a build-up multilayer printed wiring board according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0018]
FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part of a substrate for explaining a first embodiment of a build-up multilayer printed wiring board according to the present invention. Referring to FIG. 1, the build-up multilayer printed wiring board includes two
[0019]
As the
[0020]
Next, a manufacturing method of the build-up multilayer printed wiring board according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a cross-sectional view of the main part of the substrate for explaining the process sequence of the method for manufacturing the build-up multilayer printed wiring board of FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the main part of the substrate for explaining the process sequence subsequent to FIG.
[0021]
First, a copper-clad laminate (reinforced with glass fiber) such as epoxy insulating resin is drilled, and a plating operation such as panel electrolytic copper plating or pattern electrolytic copper plating is performed. 12, 13, and 14 are formed. A through
[0022]
Thereafter, a conductive pattern is formed on the laminated surface (surface on the inner layer side) of the copper-clad laminate by exposure, development, and etching operations to manufacture
[0023]
Next, a semi-cured prepreg made of an epoxy resin or the like is sandwiched between two similarly manufactured
[0024]
Next, after the
[0025]
Next, the second plating layers 15 and 16 on the outer layer surface side of the
[0026]
Next, a thermosetting liquid resin made of an epoxy resin as an undercoat material is applied to the surfaces of the
[0027]
Next, after removing the
[0028]
Thereafter, an outer layer conductive pattern is formed by performing exposure, development, and etching operations. In this step, the micro via hole 1 directly connected to the
[0029]
In the step of FIG. 3 (a), the base through via
[0030]
When a photo / thermosetting resin is used, an opening reaching the
[0031]
When a thermosetting resin is used, an opening reaching the
[0032]
Next, a second embodiment of the build-up multilayer printed wiring board according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0033]
FIG. 4 is a cross-sectional view of a principal part of a substrate showing a second embodiment of the build-up multilayer printed wiring board according to the present invention. In this embodiment, in the first embodiment described above, one build-up insulating layer and a conductive pattern are further formed on the outer layer. The build-up multilayer printed wiring board of the present embodiment is obtained by further applying an undercoat material to both surfaces of the wiring board manufactured in the first embodiment, and then crimping a resin-coated copper foil to obtain the first The conductive pattern having the micro via hole 1a is formed on the outer layer by the same operation as that of the embodiment. In FIG. 4,
[0034]
Next, a third embodiment of the build-up multilayer printed wiring board according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 5 is a cross-sectional view of a principal part of a substrate showing a second embodiment of the build-up multilayer printed wiring board according to the present invention. Referring to FIG. 5, in the present embodiment, another
In FIG. 5, the core substrate is composed of three
[0035]
The build-up multilayer printed wiring board according to the third embodiment can be manufactured by a method similar to the method described in the first embodiment.
[0036]
In the description of the first to third embodiments, the subtractive method is used as the method for manufacturing each core substrate. However, the core substrate may be manufactured by an additive method.
[0037]
【The invention's effect】
As described above, the present invention provides the following effects.
(1) Since a blind via hole is formed by simultaneously filling the through hole of the core substrate in the core substrate laminating process, a special process for filling the blind via hole is not required, and the manufacturing process can be simplified. .
(2) Since the surface of the blind via hole of the core substrate is blocked with a pad and a micro via hole for connecting an upper layer can be directly formed thereon, the wiring capacity of the build-up multilayer printed wiring board can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of a substrate for explaining a build-up multilayer printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of the main part of the substrate for explaining the process sequence of the manufacturing method of the build-up multilayer printed wiring board of FIG. 1. FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a substantial part of a substrate for explaining a process sequence subsequent to FIG. 2 (c).
FIG. 4 is a cross-sectional view of a principal part of a substrate for explaining a build-up multilayer printed wiring board according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a principal part of a substrate for explaining a build-up multilayer printed wiring board according to a third embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1, 1a Micro via
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