JP3633700B2 - 金属埋め込みセラミックスおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミックスと金属の接合法と、セラミックスと金属とを積層した電極構造体を有する画像表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
特開昭61−114436号公報などには、図14に示すような接合方法が開示されている。100は電極板で、図示されていないが電子ビーム通過孔を有している。101は金属板からなる芯材、102は絶縁膜、103は低融点ガラスからなる接合材であって、2枚の電極板100を接合材103を用い、約500℃に全体を加熱して接合材103を溶融させ接合固着している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
この図14に示した従来技術を用いて複数枚の電極を積層して電極構体を構成し画像表示装置に用いる場合、電極板100には同一ロット内での熱膨張係数のばらつき、製造ロットが異なることによる熱膨張係数のばらつきが生じる。このため、熱膨張係数が若干異なる電極板100を高温で接合固着し、常温に冷却する過程で、接合した2枚の電極板100の内、熱膨張係数が大きい電極板100の熱収縮量が大きいため、熱膨張係数の大きい電極側が凹になる形状の反りが発生する。
【0004】
電極板100に反りがあると、電子ビームのランディングずれによる色ずれが発生して、画像表示装置の画像品質が低下する問題がある。
また、接合材103や絶縁膜102にはフリットガラス材料を用いることから剥離強度が小さく、製造・取り扱い中にフリットガラスに応力が作用すると、フリットガラスの剥離が発生し、剥離したガラスの破片が飛び散り、電極板100の電子ビーム通過孔などに付着し、この電子ビーム通過孔の目づまりが生じる。このため、電子ビームの通過不良による画像欠陥を引き起こす問題がある。
【0005】
これらの問題を解決する手段として絶縁基材の表面に金属膜を溶射やメッキ等により形成し、その金属面と電極板とを常温で溶接固定する方法が考えられる。
しかし、上記方法で金属膜をセラミック等の絶縁基材に形成してその金属膜と電極板とをレーザ溶接する場合、金属膜が約100μm程度では金属膜との溶接強度は不十分で、極く弱い力で剥離する。
【0006】
金属膜がさらに薄いと、レーザ溶接の熱でセラミックスの熱破壊が生じる。一方、金属膜をさらに厚く形成する場合、メッキでは困難であり、溶射法ではセラミックとの接合強度が弱い、膜厚の均一性が得られ難いなどの問題がある。
【0007】
本発明は、熱膨張係数の若干異なる電極板の高温接合により発生する電極板の反りや、接合材の強度不足から起る破片の飛散による画像欠陥をなくした高品質な画像表示装置を実現するために、レーザー溶接などにより常温で電極板と絶縁基材との接合を可能にする接合基材の構造とその製法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の金属埋め込みセラミックスは、セラミックスの一方の面から他方の面に向けて非貫通の第1の非貫通穴が形成され、前記他方の面から前記一方の面に向けて第2の非貫通穴が形成され、このセラミックスの第1,第2の非貫通穴に金属を埋め込むとともに、前記セラミックスの前記一方の面から前記他方の面に貫通した加工貫通穴を形成したことを特徴とする。
【0009】
請求項2記載の金属埋め込みセラミックスの製造方法は、グリーンシートの一方の面から他方の面に向けて非貫通の第1の非貫通穴と、グリーンシートの前記他方の面から前記一方の面に向けて前記の第1の非貫通穴とは非貫通の第2の非貫通穴と、グリーンシートの前記一方の面から前記他方の面に貫通した加工貫通穴とをそれぞれ形成し、第1,第2の非貫通穴に、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Ts より溶融点が高く、熱膨張係数が前記セラミックスより小さい金属を挿入した状態で焼成することを特徴とする。
【0010】
請求項3記載の金属埋め込みセラミックスの製造方法は、一方の面から他方の面に貫通した第1の貫通穴と第1の加工貫通穴が形成された第1のグリーンシートと、一方の面から他方の面に貫通し前記の第1の貫通穴とは位置ずれした第2の貫通穴と前記の第1の加工貫通穴とは位置を合わせた第2の加工貫通穴が形成された第2のグリーンシートとを積層し、第1,第2のグリーンシートの第1,第2の貫通穴に、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Ts より溶融点が高く、熱膨張係数が前記セラミックスより小さい金属を挿入した状態で焼成することを特徴とする。
【0011】
請求項4記載の電極構体は、請求項1記載の金属埋め込みセラミックスの一方の面に電極板が載置され前記一方の面に埋め込まれている金属と前記第1の電極板とが溶接された第1の接合体と、前記第1の接合体とは別の前記金属埋め込みセラミックスの一方の面に第2の電極板が載置され前記一方の面に埋め込まれている金属と前記第2の電極板とが溶接された第2の接合体とを、前記第1の接合体の他方の面に前記第2の接合体の前記第2の電極板が接するように、前記第2の接合体の前記第2の電極板と前記第1の接合体の他方の面に埋め込まれている金属とが溶接接続され、以後、同様にして第1から第n(nは3以上の整数)の接合体まで積層されたことを特徴とする。
【0012】
請求項5記載の電極構体の製造方法は、請求項1記載の金属埋め込みセラミックスの一方の面に電極板を載置して前記一方の面に埋め込まれている金属と前記電極板とを溶接した第1の接合体と、前記第1の接合体とは別の前記金属埋め込みセラミックスの一方の面に前記第1の接合体と同様に電極板をつけた第2の接合体とを、前記第1の接合体の他方の面に前記第2の接合体の電極板を積層し、前記第2の接合体の金属埋め込みセラミックスの加工用貫通穴を介して前記第2の接合体の電極板にビームを照射して前記第2の接合体の電極板と前記第1の接合体の他方の面に埋め込まれている金属とを溶接し、以後、同様にして第1から第n(nは3以上の整数)の接合体まで積層したことを特徴とする。
【0013】
請求項6記載の金属埋め込みセラミックスの製造方法は、請求項2記載の金属埋め込みセラミックスの製造方法であって、グリーンシートの一方の面から他方の面に向けて非貫通穴を形成し、前記非貫通穴に、熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて加熱昇温し、温度が上昇して前記金属の融点Tmに達するまでに前記非貫通穴と前記金属の間に隙間が形成されるよう前記貫通穴と前記金属の寸法を設定し、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsまたは前記金属の融点Tmのいずれか高い方の温度まで加熱昇温した後に冷却する過程で前記金属が凝固し、その凝固温度から常温に戻る際に、前記熱膨張係数の差異によりセラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定することを特徴とする。
【0015】
請求項7記載の金属埋め込みセラミックスの製造方法は、焼成してセラミックスとなるグリーンシートの一方の面から他方の面に向けて形成された非貫通穴に、熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて、前記グリーンシートとともに加熱昇温されて冷却する過程で前記金属が凝固して前記セラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定した金属埋め込みセラミックスを製造するに際し、一方の面から他方の面に貫通した貫通穴が形成された第1のグリーンシートと、貫通穴が形成されていない第2のグリーンシートとを積層し、第1のグリーンシートの貫通穴に、前記の貫通穴に熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて加熱昇温し、温度が上昇して前記金属の融点Tmに達するまでに前記非貫通穴と前記金属の間に隙間が形成されるよう前記貫通穴と前記金属の寸法を設定し、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsまたは前記金属の融点Tmのいずれか高い方の温度まで加熱昇温した後に冷却する過程で前記金属が凝固し、その凝固温度から常温に戻る際に、前記熱膨張係数の差異によりセラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定することを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の金属埋め込みセラミックスとその製造方法、ならびにこの金属埋め込みセラミックスを使用した画像表示装置を各実施の形態に基づいて説明する。
【0017】
〔第1の実施の形態〕
図1は本発明の金属埋め込みセラミックス32を示す。焼成されたセラミックス8の両面に互いの位置をずらした状態で非貫通穴1cが形成されている。各非貫通穴1cに金属チップ2が埋め込まれている。さらに、セラミックス8の一方の面から他方の面に貫通する加工貫通穴1dが形成されている。
【0018】
この金属埋め込みセラミックスは図2に示す製造工程で製造される。
1a,1bは第1,第2のグリーンシート(未焼成のセラミックスシート)で、貫通穴1cが形成されている。なお、第1,第2のグリーンシート1a,1bを図2の(A)に示すように積層した状態で、第1のグリーンシート1aの貫通穴1cと第2のグリーンシート1aの貫通穴1cとが連通しないように互いに位置をずらせて貫通穴1cが形成されている。
【0019】
さらに、第1,第2のグリーンシート1a,1bには図2の(A)に示すように積層した状態で互いに連通する加工貫通穴1dが形成されている。
第1,第2のグリーンシート1a,1bは、アルミナを主成分として、シリカ、マグネシア、有機溶剤、溶媒等のバインダーを添加し、それぞれ 200μmの厚みである。貫通穴1cの径は、常温(25℃)での直径d1 = 500μmである。以上のグリーンシートを焼結温度Ts =1500℃で焼成すると熱膨張係数はαc =70×10−7/℃のセラミックスとなる。
【0020】
図2の(B)に示す金属チップ2は、モリブデンで形成し、常温での直径は 450μmで長さは約 200μmである。モリブデンは、セラミックスの焼結温度Ts より高い2622℃の溶融点の材料で、熱膨張係数はαm =55×10−7/℃である。
【0021】
図2の(A)で準備された第1,第2のグリーンシート1a,1bを図2の(B)に示すように2枚重ねて圧着し、前記金属チップ2を貫通穴1cに挿入する。この時の金属チップ2と貫通穴1cの関係は、図3の(A)に示すようになっている。
【0022】
グリーンシートを焼結温度Ts に加熱することにより焼結温度Ts での金属チップ2の直径は熱膨張によりd2 = 453.65 μmになり、グリーンシート1aの貫通穴1cの常温での直径d1 = 500μmとの差δ0 =d1 −d2 は、 46.35μmとなる。ここでグリーンシートの焼結温度Ts における焼成収縮率Pは、グリーンシートの常温時の寸法をS1, 焼結温度Ts における焼成後の寸法をS2としたとき、P=(S1−S2)/S1とすると、焼成収縮量はδS =d1 ・Pとなる。焼成収縮率が14%の材料を用いると、貫通孔1cは焼成後で寸法が70μm収縮し、その直径は 430μmとなる。この時の金属チップ2と貫通孔1cの関係は、図3の(B)に示すように 23.65μmのしまり状態になる。この時、前記セラミックスが金属を締め付ける応力がセラミックスの破壊応力を超えないようδS とδ0 を選定する。
【0023】
さらに、常温に戻った時、図2のCに示す貫通穴1cの直径は前記熱膨張係数αc =70×10−7/℃で収縮して425.56μmとなり、金属チップ2は同様にαm =55×10−7/℃で収縮して、直径は 450μmとなり両者の関係は、約 24.44μmのしまり状態となる。したがって、金属チップ2と貫通穴1cが強固に結合され、図1に示した記載の金属埋め込みセラミックスが構成される。
【0024】
セラミックスの焼成収縮率は、バインダーの材料、配合比を変えることで 5〜20%程度まで調整は可能である。また金属チップ2に、モリブデンを用いた例を示したが、他の熱膨張係数の材料を用いることも可能である。セラミックスの収縮率を変えることにより焼成後の穴直径を可変でき、また、使用しているセラミックスの熱膨張係数と金属チップ2の熱膨張係数との組み合わせを変えることにより、金属チップ2とセラミックスとの締め付け力を最適な状態にすることができセラミックスの応力による割れをなくし、強固な固定の金属埋め込みセラミックスが実現できる。以上はd1 <d2 +δS の場合の説明であるが、d1 >d2 +δS であってもよい。
【0025】
d1 >d2 +δS なるときは、温度Ts において図4に示す状態となり前記セラミックスと前記金属の間に隙間が発生する。Ts から常温に戻したときに、前記セラミックスと前記金属との間に、所要のしまり状態が発生するように、前記セラミックスと金属の熱膨張係数を選定すればよい。
【0026】
上記実施例では、貫通穴1cを複数個、それぞれ互いに位置をずらせた箇所に設けた第1,第2のグリーンシート1a,1bを図2の(B)に示すように2枚重ねて圧着してたが、1枚のグリーンシートの両面にそれぞれ非貫通穴を設けてもよい。なお、上記実施例で述べた2枚のグリーンシート1a,1bを重ねて圧着して製造した方が高精度の穴加工が容易で歩留りが良好である。
【0027】
〔第2の実施の形態〕
図5,図6,図8は〔第1の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックス32を使用した電極構体とその製造方法を示している。
【0028】
先ず、図5に示すようにして金属埋め込みセラミックス32と電極板4を接合した接合体を製造する。具体的には、金属埋め込みセラミックス32に金属板4を載置し、YAGレーザー装置7からレーザー光7aを電極板4に照射し、金属埋め込みセラミックス32の金属チップ2と電極板4を接合する。例えば電極板4が42Ni−6Cr−Fe 合金で厚みが 200μmの電極板4を使用した場合、5.3 Jの熱量が加わるように条件設定したレーザー装置7で、直径が 500μm、厚みが 200μmの金属チップ2の片面と電極板4を接合して接合体6を作成した。
【0029】
このようにして第1〜第6の接合体6a〜6fを作成し、これを次のようにして図6に示す電極構体16を製造する。なお、図6では第6の接合体6fの金属埋め込みセラミックス32の加工貫通穴1dを介してレーザー装置7から第6の接合体6fの電極板4fにレーザー光7aを照射して電極板4fを、第5の接合体6eの金属埋め込みセラミックス32の金属チップ2に溶接する様子を示している。
【0030】
まず、第1の接合体6aに第2の接合体6bを載置し、第2の接合体6bの金属埋め込みセラミック32の加工貫通穴1dを介してレーザー光7aを照射して、第1の接合体6aの金属チップ2と第2の接合体6bの電極板4bとを溶接しして固定する。この溶接工程を、接合体6aから接合体6fまで、同様に行った後、第7の電極板4gを第6の接合体6fの金属チップ2と溶接して図8に示す電極構体16を製造する。
【0031】
なお、図6は同一形状の金属埋め込みセラミックス32を用いて積層を順次一ピッチづつずらせた例であり、図7は加工貫通穴1dの位置を一ピッチづつづらせた形状の金属埋め込みセラミックス33−1,33−2,33−3を同一位置で順次上方に積層した例である。
【0032】
図8には金属埋め込みセラミックス32を井桁状に配列する場合を図示したが、図9に示すように金属埋め込みセラミックス32を千鳥に配列すると、曲げ剛性の均一化を図ることができる。
【0033】
以上のように電極構体を常温接合可能としたことで、接合する複数の電極板の間に若干の熱膨張係数のばらつきがあっても、常温で電極板の接合を行なえるので従来のように加熱・冷却による温度変化に伴う、電極板の熱収縮がおこらず、膨張係数差による電極板の反りが発生しない電極構体を形成できる。
【0034】
また、フリットガラス等の強度の低い接合部材を用いず、セラミックスに強固に埋め込まれている金属と電極板とを接合する構造であるため、フリットガラスの剥離や飛散に伴う不都合が生じることはない。
【0035】
〔第3の実施の形態〕
図10は〔第3の実施の形態〕の電極構体を使用した画像表示装置を示す。
裏容器13と表容器14とで囲まれた容器の内部は真空状態に保たれており、この容器の内部には、蛍光体からなる発光手段10と、線状熱陰極からなる複数の電子発生源17と、電極構体16が組み込まれている。15は電子発生源17から発生した電子ビームである。18は電極構体支持台である。
【0036】
なお、図10は電極板4a〜4gに穿設されている電子ビーム通過穴35を含む図8のD−D断面で示してある。
電子発生源17から放出された電子ビーム15は、電極構体16の電極板4a〜4gの各々に設けられた電子ビーム通過穴35を通過する際に、絞り、偏向など等の作用を受けながら発光手段10に衝突して発光する。
【0037】
電極構体16を常温にてレザーで接合して形成するため、電極板間の熱膨張係数差による反りを低減でき、電子ビームのランディング不良による色ずれを防止できる。また従来のフリットガラス材料等の強度の低い接合部材を用いないためフリットガラスの破片の飛散による電極板の目づまりによる画像欠陥の無い高品質な画像表示装置を提供できる。
【0038】
〔第4の実施の形態〕
図11〜図13は、金属埋め込みセラミックスの別の製造方法と、この金属埋め込みセラミックスを使用した接合体の製造方法、ならびにその接合体で組み立てられた電極構体30を使用した画像表示装置を示している。
【0039】
この〔第4の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックスの製造方法は、図11の(A)に示すように貫通穴3cが形成された第1のグリーンシート3aと、貫通穴が形成されていない第2のグリーンシート3bとを、図11の(B)に示すように2枚重ねて圧着し、金属チップ28を貫通孔3cに挿入する。
【0040】
第1,第2のグリーンシート3a,3bは、〔第1の実施の形態〕の第1,第2のグリーンシート1a,1bと同一の材料を用いている。貫通穴3cの直径は 500μmである。
【0041】
金属チップ28は、コバールで形成し、常温での直径は 430μmである。コバールはセラミックスの焼結温度Ts より低い1400℃の溶融点Tm をもち、また熱膨張係数もセラミックスのαc =70×10−7/℃よりも小さいαk =46×10−7/℃である。そして、グリーンシートを焼結温度Ts に加熱する過程で、コバールの溶融点Tm に達したとき、金属チップ28が溶融され、第1のグリーンシート3aの貫通穴3c内に充填される。さらに温度が上がり、焼結温度Ts に達すると、焼成収縮率14%のグリーンシート3aの貫通穴3cは、常温時の寸法から70μm収縮して 430μmとなる。金属チップ28の長さは溶融後冷却して、凝固したときにセラミック表面と略同一面になる長さに設定しておく。
【0042】
温度Ts から冷却して常温25℃に戻った時、図11の(C)に示す貫通穴3cの直径は 430μmからαc =70×10−7/℃で収縮して425.56μmとなり、金属チップ28の直径は 430μmからαk =46×10−7/℃で収縮して 425.56 μmとなり、両者の関係は、約4.44μmのしまり状態となる。
【0043】
金属チップ28は溶融した時点で、貫通孔3cの表面の凹凸に隙間零でなじむのでしまり寸法4.44μm程度でも充分強固に固定され、図11の(C)に示す金属埋め込みセラミックス31が完成する。
【0044】
なお、金属チップ28の溶融点温度がセラミックスの焼結温度Ts より低い材料を用いて説明したが、金属チップ28の溶融点温度がセラミックスの焼結温度Ts より高い材料の場合では、金属チップ28の溶融点温度まで加熱することになるが、この時、セラミックスの焼成温度Ts で、セラミックスの焼成収縮率により貫通穴3cの直径が収縮する。この時、〔第1の実施の形態〕の場合と同様に、セラミックスが金属を締め付ける応力がセラミックスの破壊応力を超えないよう貫通穴3cの直径と金属チップ28の直径を選定しておくか、あるいは、収縮した後の貫通穴3cの直径よりも小さい直径となるよう金属チップ28の直径を選定し、セラミックスの焼成収縮時にセラミックスに設けた貫通穴3cが割れないようにすればよい。
【0045】
以上のように、使用しているセラミックスの熱膨張係数と金属チップ28の熱膨張係数との組み合わせを変えることにより、金属チップ28とセラミックス31との締め付け力を最適な状態にすることができ、セラミックスの応力による割れをなくし、強固な固定の金属埋め込みセラミックスが実現できる。
【0046】
また、この〔第4の実施の形態〕の製造方法では、〔第1の実施の形態〕の製造方法のようにセラミックスの焼成収縮量の管理を必要とせず、金属チップの溶融点と常温間の金属チップとセラミックスの熱膨張係数を最適な組み合わせにするだけで強固な固定の金属埋め込みセラミックスを実現できる。
【0047】
なお、この実施の形態では、貫通穴3cが形成された第1のグリーンシート3aと、貫通穴が形成されていない第2のグリーンシート3bとを2枚重ねて圧着して金属チップ28を挿入する非貫通穴を実現したが、単一のグリーンシートの一方の面から他方の面に向けて非貫通穴を形成し、この非貫通穴に金属チップ28を挿入して同様に金属埋め込みセラミックスを実現できる。しかし、上記実施例で述べた2枚のグリーンシート3a,3bを重ねて圧着して製造した方が高精度の穴加工が容易で歩留りが良好である。
【0048】
この図11の(C)に示す金属埋め込みセラミックス31に電極板19を取り付けた接合体は、図12に示すように金属埋め込みセラミックス31に電極板19を載置し、レーザー光7aを電極板19に照射して電極板19と金属チップ28とを接合する。
【0049】
この接合体25を使用して図13に示すように組み立てて画像表示装置が構成される。組み立てに使用する複数の接合体は、それぞれ図12に示すようにして金属埋め込みセラミックス31と電極板19とを接合し、この複数の接合体25を積層し、各電極板19を金属埋め込みセラミックス31で絶縁した電極構体30を形成する。この電極構体30の周辺を詳細には図示しないが、例えばネジやバネ等を用いて機械的に圧接する。この図13では接合体固定手段34として図示されている。
【0050】
裏容器13と表容器14とで囲まれた容器の内部は真空状態に保たれており、この容器の内部には、蛍光体からなる発光手段10と、線状熱陰極からなる複数の電子発生源17と、電極構体30が組み込まれている。15は電子発生源17から発生した電子ビームである。18は電極構体支持台である。
【0051】
電子発生源17から放出された電子ビーム15は電極構体30の各電極板4に設けられた電子ビーム通過穴35を通過する際に、絞り、偏向等の作用を受けながら発光手段10に衝突して発光する。
【0052】
このように、電極構体を常温接合可能としたことで、電極接合時の反りが低減され、ランディング不良による色ずれがなくなる。またフリットガラスの破損による電極の目づまりも無くなり画像品質が向上する。
【0053】
また、電極構体30の電極板4は、片面に金属埋め込みスペーサ3を接合する構成であるため、金属埋め込みセラミックスの両面に電極板19を順次積層接合する時の熱の蓄積による歪を回避できるメリットがある。その反面、各電極板は金属埋め込みスペーサを介して互いに接合されていないので曲げ剛性は高くない。したがって各電極板の厚さが厚いものに適している。
【0054】
【発明の効果】
請求項1の構成によると、金属埋め込みセラミックスは、セラミックスの一方の面から他方の面に向けて非貫通の第1の非貫通穴が形成され、前記他方の面から前記一方の面に向けて第2の非貫通穴が形成され、このセラミックスの第1,第2の非貫通穴に金属を埋め込むとともに、前記セラミックスの前記一方の面から前記他方の面に貫通した加工貫通穴を形成したため、加工貫通穴を設けたことにより、電極の多数枚積層が可能となる。
【0055】
請求項2の構成によると、グリーンシートの一方の面から他方の面に向けて非貫通の第1の非貫通穴と、グリーンシートの前記他方の面から前記一方の面に向けて前記の第1の非貫通穴とは非貫通の第2の非貫通穴と、グリーンシートの前記一方の面から前記他方の面に貫通した加工貫通穴とをそれぞれ形成し、第1,第2の非貫通穴に、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Ts より溶融点が高く、熱膨張係数が前記セラミックスより小さい金属を挿入した状態で焼成することによって請求項1の金属埋め込みセラミックスを製造できる。
【0056】
請求項3の構成によると、一方の面から他方の面に貫通した第1の貫通穴と第1の加工貫通穴が形成された第1のグリーンシートと、一方の面から他方の面に貫通し前記の第1の貫通穴とは位置ずれした第2の貫通穴と前記の第1の加工貫通穴とは位置を合わせた第2の加工貫通穴が形成された第2のグリーンシートとを積層し、第1,第2のグリーンシートの第1,第2の貫通穴に、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Ts より溶融点が高く、熱膨張係数が前記セラミックスより小さい金属を挿入した状態で焼成するため、穴位置の異なる貫通穴を有するグリーンシートを2枚張り合わせる製法により、容易に高精度な非貫通穴を形成することができる。
【0057】
請求項4の構成によると、請求項1記載の金属埋め込みセラミックスの一方の面に電極板が載置され前記一方の面に埋め込まれている金属と前記第1の電極板とが溶接された第1の接合体と、前記第1の接合体とは別の前記金属埋め込みセラミックスの一方の面に第2の電極板が載置され前記一方の面に埋め込まれている金属と前記第2の電極板とが溶接された第2の接合体とを、前記第1の接合体の他方の面に前記第2の接合体の前記第2の電極板が接するように、前記第2の接合体の前記第2の電極板と前記第1の接合体の他方の面に埋め込まれている金属とが溶接接続され、以後、同様にして第1から第n(nは3以上の整数)の接合体まで積層された電極構造体となっており、また請求項5の構成によると、請求項1記載の金属埋め込みセラミックスの一方の面に電極板を載置して前記一方の面に埋め込まれている金属と前記電極板とを溶接した第1の接合体と、前記第1の接合体とは別の前記金属埋め込みセラミックスの一方の面に前記第1の接合体と同様に電極板をつけた第2の接合体とを、前記第1の接合体の他方の面に前記第2の接合体の電極板を積層し、前記第2の接合体の金属埋め込みセラミックスの加工用貫通穴を介して前記第2の接合体の電極板にビームを照射して前記第2の接合体の電極板と前記第1の接合体の他方の面に埋め込まれている金属とを溶接し、以後、同様にして第1から第n(nは3以上の整数)の接合体まで積層したことを特徴とする電極構体の製造方法である。これにより、常温接合により複数枚の電極板を積層してなる電極構体を構成できるので、従来の高温接合時の、材料の熱膨張係数差による電極板の反りや、接合部材の剥離や飛散を無くした電極構体を提供することができる。
【0058】
請求項6の構成によると、請求項2記載の金属埋め込みセラミックスの製造方法であって、グリーンシートの一方の面から他方の面に向けて非貫通穴を形成し、前記非貫通穴に、熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて加熱昇温し、温度が上昇して前記金属の融点Tmに達するまでに前記非貫通穴と前記金属の間に隙間が形成されるよう前記貫通穴と前記金属の寸法を設定し、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsまたは前記金属の融点Tmのいずれか高い方の温度まで加熱昇温した後に冷却する過程で前記金属が凝固し、その凝固温度から常温に戻る際に、前記熱膨張係数の差異によりセラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定するので、セラミックスの焼成収縮量の管理を必要とせず、金属チップの溶融点と常温間の金属チップとセラミックスの熱膨張係数を最適な組み合わせでセラミックスの焼成時に金属チップを同時焼成することで、セラミックスが破損することなく、所要のしまり状態で金属材料とセラミックスを一体化した金属埋め込みセラミックスを提供することができる。
【0059】
請求項7の構成によると、焼成してセラミックスとなるグリーンシートの一方の面から他方の面に向けて形成された非貫通穴に、熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて、前記グリーンシートとともに加熱昇温されて冷却する過程で前記金属が凝固して前記セラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定した金属埋め込みセラミックスを製造するに際し、一方の面から他方の面に貫通した貫通穴が形成された第1のグリーンシートと、貫通穴が形成されていない第2のグリーンシートとを積層し、第1のグリーンシートの貫通穴に、前記の貫通穴に熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて加熱昇温し、温度が上昇して前記金属の融点Tmに達するまでに前記非貫通穴と前記金属の間に隙間が形成されるよう前記貫通穴と前記金属の寸法を設定し、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsまたは前記金属の融点Tmのいずれか高い方の温度まで加熱昇温した後に冷却する過程で前記金属が凝固し、その凝固温度から常温に戻る際に、前記熱膨張係数の差異によりセラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定するので、セラミックスの焼成収縮量の管理を必要とせず、金属チップの溶融点と常温間の金属チップとセラミックスの熱膨張係数を最適な組み合わせでセラミックスの焼成時に金属チップを同時焼成することで、セラミックスが破損することなく、所要のしまり状態で金属材料とセラミックスを一体化した金属埋め込みセラミックスを提供することができる。また、請求項6に比べて容易に高精度な非貫通穴を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】〔第1の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックスの断面図
【図2】〔第1の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックスの製造工程図
【図3】〔第1の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックスの収縮変化図
【図4】〔第1の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックスの収縮変化図
【図5】〔第2の実施の形態〕の電極構体の製造に使用する接合体の接合断面図
【図6】〔第2の実施の形態〕の電極構体の断面図
【図7】別の電極構体の断面図
【図8】〔第2の実施の形態〕の電極構体の斜視図
【図9】別の電極構体における金属埋め込みセラミックスの配列図
【図10】〔第3の実施の形態〕の画像表示装置の断面図
【図11】〔第4の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックスの製造工程図
【図12】〔第4の実施の形態〕の金属埋め込みセラミックスの接合図
【図13】〔第4の実施の形態〕の画像表示装置の断面図
【図14】従来の平面画像表示装置の電極構体の断面図
【符号の説明】
1a 第1のグリーンシート
1b 第2のグリーンシート
1c 非貫通穴
1d 加工貫通穴
2 金属チップ
6a〜6f 第1〜第6の接合体
8 焼成されたセラミックス
4 電極板
16 電極構体
3a 第1のグリーンシート
3b 第2のグリーンシート
3c 貫通穴
25 接合体
28 金属チップ
30 電極構体
31 金属埋め込みセラミックス
32 金属埋め込みセラミックス
Claims (7)
- セラミックスの一方の面から他方の面に向けて非貫通の第1の非貫通穴が形成され、前記他方の面から前記一方の面に向けて非貫通の第2の非貫通穴が形成され、このセラミックスの第1,第2の非貫通穴に金属を埋め込むとともに、前記セラミックスの前記一方の面から前記他方の面に貫通した加工貫通穴を形成した金属埋め込みセラミックス。
- グリーンシートの一方の面から他方の面に向けて非貫通の第1の非貫通穴と、グリーンシートの前記他方の面から前記一方の面に向けて前記の第1の非貫通穴とは非貫通の第2の非貫通穴と、グリーンシートの前記一方の面から前記他方の面に貫通した加工貫通穴とをそれぞれ形成し、第1,第2の非貫通穴に、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsより溶融点が高く、熱膨張係数が前記セラミックスより小さい金属を挿入した状態で焼結する金属埋め込みセラミックスの製造方法。
- 一方の面から他方の面に貫通した第1の貫通穴と第1の加工貫通穴が形成された第1のグリーンシートと、一方の面から他方の面に貫通し前記の第1の貫通穴とは位置ずれした第2の貫通穴と前記の第1の加工貫通穴とは位置を合わせた第2の加工貫通穴が形成された第2のグリーンシートとを積層し、第1,第2のグリーンシートの第1,第2の貫通穴に、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsより溶融点が高く、熱膨張係数が前記セラミックスより小さい金属を挿入した状態で焼結する金属埋め込みセラミックスの製造方法。
- 請求項1記載の金属埋め込みセラミックスの一方の面に電極板が載置され前記一方の面に埋め込まれている金属と前記第1の電極板とが溶接された第1の接合体と、前記第1の接合体とは別の前記金属埋め込みセラミックスの一方の面に第2の電極板が載置され前記一方の面に埋め込まれている金属と前記第2の電極板とが溶接された第2の接合体とを、前記第1の接合体の他方の面に前記第2の接合体の前記第2の電極板が接するように、前記第2の接合体の前記第2の電極板と前記第1の接合体の他方の面に埋め込まれている金属とが溶接接続され、以後、同様にして第1から第n(nは3以上の整数)の接合体まで積層された電極構体。
- 請求項1記載の金属埋め込みセラミックスの一方の面に電極板を載置して前記一方の面に埋め込まれている金属と前記電極板とを溶接した第1の接合体と、前記第1の接合体とは別の前記金属埋め込みセラミックスの一方の面に前記第1の接合体と同様に電極板をつけた第2の接合体とを、前記第1の接合体の他方の面に前記第2の接合体の電極板を積層し、前記第2の接合体の金属埋め込みセラミックスの加工用貫通穴を介して前記第2の接合体の電極板にビームを照射して前記第2の接合体の電極板と前記第1の接合体の他方の面に埋め込まれている金属とを溶接し、以後、同様にして第1から第n(nは3以上の整数)の接合体まで積層したことを特徴とする電極構体の製造方法。
- 請求項2記載の金属埋め込みセラミックスの製造方法であって、グリーンシートの一方の面から他方の面に向けて非貫通穴を形成し、前記非貫通穴に、熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて加熱昇温し、温度が上昇して前記金属の融点Tmに達するまでに前記非貫通穴と前記金属の間に隙間が形成されるよう前記貫通穴と前記金属の寸法を設定し、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsまたは前記金属の融点Tmのいずれか高い方の温度まで加熱昇温した後に冷却する過程で前記金属が凝固し、その凝固温度から常温に戻る際に、前記熱膨張係数の差異によりセラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定する金属埋め込みセラミックスの製造方法。
- 焼成してセラミックスとなるグリーンシートの一方の面から他方の面に向けて形成された非貫通穴に、熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて、前記グリーンシートとともに加熱昇温されて冷却する過程で前記金属が凝固して前記セラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定した金属埋め込みセラミックスを製造するに際し、
一方の面から他方の面に貫通した貫通穴が形成された第1のグリーンシートと、貫通穴が形成されていない第2のグリーンシートとを積層し、第1のグリーンシートの貫通穴に、前記の貫通穴に熱膨張係数が前記グリーンシートより小さい金属を入れて加熱昇温し、温度が上昇して前記金属の融点Tmに達するまでに前記非貫通穴と前記金属の間に隙間が形成されるよう前記貫通穴と前記金属の寸法を設定し、前記グリーンシートを焼結してセラミックスとなすための焼結温度Tsまたは前記金属の融点Tmのいずれか高い方の温度まで加熱昇温した後に冷却する過程で前記金属が凝固し、その凝固温度から常温に戻る際に、前記熱膨張係数の差異によりセラミックスの非貫通穴に前記金属をしまり状態で固定する金属埋め込みセラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01341696A JP3633700B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 金属埋め込みセラミックスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01341696A JP3633700B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 金属埋め込みセラミックスおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09208332A JPH09208332A (ja) | 1997-08-12 |
JP3633700B2 true JP3633700B2 (ja) | 2005-03-30 |
Family
ID=11832540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01341696A Expired - Fee Related JP3633700B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 金属埋め込みセラミックスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3633700B2 (ja) |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP01341696A patent/JP3633700B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09208332A (ja) | 1997-08-12 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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