JP3553850B2 - 半導体メモリ装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、論理回路と共に半導体基板上に集積化するのに適したダイナミック方式のRAM等半導体メモリ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、マイクロプロセッサや特定用途向け集積回路(ASIC)等のロジック回路およびダイナミックRAM(DRAM)等は、それぞれその集積度の増加に伴い高性能の大規模集積回路(VLSI、ULSI等)として生産されてきた。そして、これら集積回路はそれぞれ個別のチップとして生産され、パーソナルコンピュータ等のシステムにおいては、システムボード上において外部配線にて接続されていた。
【0003】
ところが、このようなシステムにおいては、コンピュータの演算性能が外部配線の寄生容量および抵抗等により制限されるため、コンピュータ性能の更なる高性能化が困難なものとなっている。そのため近年、前記ロジック回路とDRAM等を同一半導体基板上に形成し、高性能化を図ることも一部行われている。
特に近年は、ロジック回路のメタル配線の多層化が進み、6層、あるいは7層といったようなメタル配線の多層化も試みられている。
【0004】
図20〜図22に、2層のメタル配線からなるDRAMとこのDRAMを利用するロジック回路とを同一半導体基板上に混載した従来の半導体メモリ装置の製造プロセスの概要を示す。図20〜図22の各左図はDRAM領域の部分断面構造を示し、図20〜図22の各右図はロジック回路領域の部分断面構造を示す。まず、図20に示すように、Si(シリコン)基板1上に素子分離用のフィールド酸化膜2を形成した後、ゲート酸化膜3、多結晶シリコンからなるトランジスタのゲート電極4、ワード線(ゲート配線)4a、この上部を覆うシリコン酸化膜5、および拡散層6,6aを形成する。この上に層間絶縁膜217をCVD法により形成した後、フォトレジスト工程およびドライエッチング工程により同層間絶縁膜217の一部をキャパシタ形成のために開口する。
【0005】
次に、DRAM領域については、薄膜堆積、フォトレジスト工程、およびドライエッチング工程を繰り返すことにより、図21左図に示されるメモリセルキャパシタの蓄積電極201、容量絶縁膜202、セルプレート電極203を順次形成する。そして、その上にロジック回路領域も含めて層間絶縁膜204を形成する。
【0006】
次に、同じくDRAM領域については、図22左図に示すように、上記配線と層間絶縁膜を交互に堆積、加工して多結晶シリコン膜とタングステンポリサイド膜からなるビット線206、同ビット線206と拡散層6aとを結ぶコンタクトホール205を形成する。その後、ロジック回路領域も含めてその上部を覆うように層間絶縁膜207を形成する。
【0007】
このようなDRAM領域とロジック回路領域とを混載した半導体メモリ装置において、上述した通り、メモリセルは、アドレス選択用のメモリセルトランジスタとデータ記憶用のメモリセルキャパシタとから構成され、メモリセルキャパシタに電荷を蓄積することにより、データ記憶動作を行うので、正常に且つ高速にデータ読み出しを行ったり、データ保持時間を長くするためには、記憶電荷量を大きくすることが必要である。
【0008】
DRAMのメモリセルキャパシタに貯えられる電荷量はメモリセルに書き込まれる電圧に比例し、“H”データの書き込み電圧は以下で表される。
書き込み電圧={α・Vcc−(Vtn+β)}・γ … ▲1▼
ここで、
α:電源電圧の供給源からメモリセルまでの寄生容量や抵抗による時定数に依存する時間の関数(α≦1)
β:バックバイアス値に依存するしきい値増加分
γ:書き込み特性と動作サイクルに依存する係数(γ≦1)
Vcc:電源電圧
Vtn:メモリセルトランジスタのしきい値
従って、このようなDRAMにおいては、▲1▼式の第2項(Vtn+β)を極力小さくすることにより、書き込み電圧を大きくすることができ、そのために一般的にはワード線の電圧を電源電圧Vccよりも高くすることにより、第2項によるマイナス分を相殺している。
【0009】
ところが、DRAM領域とロジック回路領域とを混載する場合、酸化膜形成工程を簡略化するために、図20〜図22に示す通り、ロジック回路領域とDRAM領域とのそれぞれのゲート酸化膜3を同一工程で形成することが望ましく、この場合、ロジック回路領域とDRAM領域とのそれぞれのゲート酸化膜3の膜厚が同一になる。そして、ロジック回路領域においては、高速性が求められることから、そのゲート酸化膜3の膜厚も比較的薄く設定され、必然的にDRAM領域のゲート酸化膜3も薄くなる。その結果、DRAM領域のゲート酸化膜3の信頼性を確保する必要上、ワード線を昇圧することができなくなり、書き込み電圧を大きくすること、すなわち、記憶電荷量を大きくすることが困難という問題が生じる。
【0010】
このような問題を解決する手法として、特開平10−134570号には、メモリセル部のトランジスタとして、通常よりも低いしきい値(約0.6V)のものを用いることが記載されている。こうすれば、上記▲1▼式の第2項を小さくすることができる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来例にあっては、いくら書き込み電圧を大きくして記憶電荷量を大きくしても、例えば非選択状態のワード線を負電圧にクランプする場合、活性化させたワード線を非活性状態にしたときに発生する電荷が、負電圧ノードに流れ、スイッチングトランジスタを通ってワード線自体に流れ込み、その結果、ワード線に接続されたメモリセル部のトランジスタのゲート電位が上昇して蓄積電荷のリークが発生し、データの保持特性が悪くなる問題がある。
【0012】
本発明は、半導体メモリ装置に関し、斯かる問題点を解消することをその目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
請求項1の半導体メモリ装置は、ワード線(21)に対応する選択信号線(SX1)に接続され、前記選択信号線(SX1)の電圧を前記ワード線(21)にそれぞれ供給するワード線ドライバ(70)と、ロウアドレス信号に応答して前記ワード線ドライバ(70)を選択的に活性化するロウアドレス検出回路(63)と、前記ロウアドレス信号に応答して電源電圧または負電圧を前記選択信号線(SX1)に選択的に供給する制御回路(66)とを備え、前記制御回路(66)は、前記複数の選択信号線(SX1〜SX4)に対応して設けられた複数の制御回路ユニット(66a〜66d)を含み、前記制御回路ユニット(66a〜66d)の各々は、第1の入力ノード(J)に接続されたゲートと、電源ノードに接続されたソースと、対応する選択信号線(SX)に接続されたドレインとを有する第1のPチャネルFET(101)と、負電圧ノードに接続されたソースと、前記対応する選択信号線(SX)に接続されたドレインとを有する第1のNチャネルFET(107)と、前記第1の入力ノード(J)の電圧を前記第1のNチャネルFET(107)のゲートに伝達する第1の伝達トランジスタ(100)と、接地されたソースと、前記対応する選択信号線(SX)に接続されたドレインとを有する第2のNチャネルFET(108)と、第2の入力ノード(L)に接続されたゲートと、電源ノードに接続されたソースと、前記第2のNチャネルFET(108)のゲートに接続されたドレインとを有する第2のPチャネルFET(103)と、負電圧ノードに接続されたソースと、前記第2のNチャネルFET(108)のゲートに接続されたドレインとを有する第3のNチャネルFET(105)と、前記第2の入力ノード(L)と前記第3のNチャネルFET(105)のゲートとの間に接続され、常にオンになっている第2の伝達トランジスタ(102)と、を含み、前記第1の入力ノード(J)には、前記ワード線(21)を選択するとLレベルとなり、前記ワード線(21)の選択期間が終了するとHレベルとなる電位を入力し、前記第2の入力ノード(L)には、前記ワード線(21)の選択期間が終了するとLレベルとなり、さらに所定時間経過後Hレベルとなる電位を入力することをその要旨とする。
【0017】
請求項2の半導体メモリ装置は、請求項1に記載の発明において、前記制御回路(66)は、前記ワード線(21)が選択状態から非選択状態に遷移する時点で一時的に前記ワード線(21)の電位を接地電圧に保持し、その後ワード線(21)の電位を負電圧にすることをその要旨とする。
【0019】
【発明の実施の形態】
本発明を具体化した半導体メモリ装置31を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の実施の形態による半導体メモリ装置31のレイアウトを示す平面図である。図1を参照して、半導体メモリ装置31は、グローバル電源線Vccと、複数のローカル電源線36と、グローバル接地線Vssと、複数のローカル接地線37と、複数のメモリセルアレイ(MEMORY CELL ARRAY)MA00−MAxyとを備える。グローバル電源線Vccおよびグローバル接地線Vssはアルミニウム合金からなり、半導体チップの両端に配置される。ローカル電源線36もまたアルミニウム合金からなり、グローバル電源線Vccに直交しかつ接続される。ローカル接地線37もまたアルミニウム合金からなり、グローバル接地線Vssに直交しかつ接続される。ローカル電源線36およびローカル接地線37は交互に配置される。メモリセルアレイMA00−MAxyはマトリクスに配置される。メモリセルアレイMA00−MAxyの各々は、2つのサブアレイ(SUB ARRAY)32と、センスアンプ帯(SENSE AMP BAND)35とを含む。センスアンプ帯35はメモリセルアレイの中央に配置され、サブアレイ32はセンスアンプ帯35の両側に隣接して配置される。
【0020】
図2の半導体メモリ装置31においては、2つのメモリセルアレイ33のみが示され、したがって4つのサブアレイ32のみが示される。各サブアレイ32は、たとえば64Kビットの記憶容量を持つ。
メモリセルアレイ33および33の間には、カラムデコーダ34が配置されている。センスアンプ帯35は、シェアードセンス方式により構成され、センスアンプ帯35を中心にして左右にビット線対が設けられ、左右いずれかのビット線対に各サブアレイ32が選択的に接続される。センスアンプ帯35は後述するがセンスアンプ、プリチャージ回路、入出力(I/O)線を含む。
【0021】
ローカル電源線36およびローカル接地線37はメモリセルアレイ33上に層間絶縁膜を介して形成され、その層間絶縁膜の所定位置に形成されたコンタクトホールを介してグローバル電源線Vccおよびグローバル接地線Vssにそれぞれ接続される。また、ローカル電源線36およびローカル接地線37は限られたレイアウト面積上に複数本設ける必要があるので、グローバル電源給線Vccおよびグローバル接地線Vssの幅よりも細い幅を有する。
【0022】
図3は、半導体メモリ装置31の制御ブロック図を示している。なお、ここでは説明の便宜上、1個のメモリセルアレイ33のみを示している。ローカル電源線36およびローカル接地線37からそれぞれ供給された電源電圧Vccおよび接地電圧Vssは、カラムデコーダ34、メインアンプ・I/O系(MAIN AMPLIFIER・I/O SYSTEM)38、DRAM制御回路(CONTROL CIRCUIT)39、Vbb発生回路(GENERATION CIRCUIT)40、Vblp発生回路(GENERATION CIRCUIT)41およびロウデコーダ42に供給される。
【0023】
Vbb発生回路40は、リングオシレータ等の発振回路とその発振パルスにより負の電圧を形成するチャージポンプ回路とから構成され、電圧Vcc、Vssを受け、公知の基板バックバイアス電圧Vbbを発生する。本実施形態のVbb発生回路40は、接地電圧Vssを受け、この接地電圧Vssからメモリセルトランジスタのしきい値電圧Vtn(約0.4〜0.5V)だけ低い負電圧Vbbを生成している。
【0024】
Vblp発生回路41は、ビット線のプリチャージ電圧Vblpを生成する。このVblp発生回路41は、基本的にはNチャンネル型MOSFETのソースフォロワ回路から構成され、電源電圧VccをMOSFETのしきい値電圧だけレベルシフトした電圧を形成し、それを1/2に分圧した電圧(ハーフプリチャージ電圧)を発生させる。
【0025】
なお、本実施形態にあっては、セルプレート電圧Vcpとして接地電圧Vssを用いているが、ハーフプリチャージ電圧を用いることにより、キャパシタの容量絶縁膜の耐圧特性を更に向上させることができる。但し、この場合、Vblp発生回路41からのハーフプリチャージ電圧を用いるのではなく、Vblp発生回路41とは独立した回路を設けることが望ましい。
【0026】
Vbb発生回路40で形成された負電圧Vbbは、ロウデコーダ42に供給される。プリチャージ電圧Vblpは、後述するプリチャージ回路にプリチャージ信号として供給され、セルプレート電圧Vcpはメモリセルキャパシタに供給される。
図4は、サブアレイ32のメモリセル構造を示す要部平面図である。同図において、P型半導体基板(シリコン基板)又はP型ウェル領域の一主面に、複数のN型の半導体領域11(ソース/ドレイン)が、短冊状に形成されている。この半導体領域11は、カラム方向に延在し、両端がそろえられて配置される。複数の半導体領域11の両端に重なるようにして、半導体基板の一主面に溝12が形成されている。セルプレート電極13は、多結晶シリコンからなり、図示しない容量絶縁膜を介して、溝12に重なるようにロウ方向に連続して半導体基板上に形成されている。これにより、溝12内には、半導体領域11およびセルプレート電極13の間で電荷を保持するトレンチ型メモリセルキャパシタが形成される。
【0027】
ゲート電極14は、セルプレート電極13の間に、それぞれ2本ずつ所定の距離を隔てて、半導体領域11に交差するようにして配置される。このゲート電極14は、2列単位で独立し、セルプレート電極13と同一層に同一工程で形成される。また、ゲート電極14の下のゲート絶縁膜もセルプレート電極13の下の容量絶縁膜と同一層に同一工程で形成されている。更には、ゲート電極14およびその下のゲート絶縁膜は、従来と同様、ロジック回路領域のMOS型FETのゲート電極およびゲート絶縁膜(図20におけるゲート電極4とゲート酸化膜3)と同一層に同一工程で形成されるから、セルプレート電極13、ゲート電極14およびロジック回路領域のFETのゲート電極は全て同一層に同一工程で形成され、それぞれの電極の下の絶縁膜も同一層に同一工程で形成されると共に、その膜厚も等しい。従って、製造工程を簡略化することができ、また、多層化する層の数が少なくなって、コストを低減することができると共に製造TAT(Turn
Around Time)を短縮することができる。
【0028】
ビット線15は、たとえばアルミニウムからなり、各半導体領域11に沿ってカラム方向に延在し、ゲート電極14上に絶縁膜を介して配置される。このビット線15は、ゲート電極14の間でコンタクトホール16を通して半導体領域11に電気的に接続される。
ビット線15が接続される半導体領域11は、ゲート電極14によってトレンチキャパシタから分断された島状の領域であり、電気的に独立してドレイン領域を構成する。中間配線17、18は、ビット線15の間でゲート電極14に重なり、カラム方向に延在して配置される。一方の中間配線17は、プレート電極13上まで延在するように形成され、他方の中間配線18は、ゲート電極14の端部から僅かにはみ出す程度に短く形成される。この中間配線17、18は、ビット線15と同一層に同一工程で形成され、コンタクトホール19、20を通してそれぞれゲート電極14に電気的に接続される。
【0029】
ワード線21は、たとえばアルミニウムからなり、ビット線15と交差する方向に延在し、ビット線15および中間配線17上に絶縁膜を介して配置される。このワード線21は、セルプレート電極13上およびゲート電極14上に配置され、セルプレート電極13上でコンタクトホール22を通して中間配線17に電気的に接続され、ゲート電極14上でコンタクトホール23を通して中間配線18に電気的に接続される。従って、各ワード線21は、中間配線18、19を介してゲート電極14に接続され、各ゲート電極14に選択信号を印加する。
【0030】
なお、ローカル電源線36およびローカル接地線37は、このワード線21の上に絶縁膜を介して配置されている。
ここで、ワード線21は、同一行に配置されるゲート電極14に対して1つおきに接続される。すなわち、4n列(nは整数)および4n+1列に対応して配置されるゲート電極14が4n+1行および4n+2行に配置されるワード線21にそれぞれ共通に接続され、4n+2列および4n+3列に対応して配置されるゲート電極14が4n行および4n+3行に配置されるワード線21にそれぞれ共通に接続される。これにより、各ワード線21は、ロウ方向に隣り合う2つのメモリセルトランジスタを1組とし、各行毎にそれぞれ1組おきに選択して活性化できる。
【0031】
以上のようなメモリセルにおいては、ゲート電極14が互いに分離されている列を組み合わせるようにしてセンスアンプに接続される。
上述したようにこの半導体メモリ装置においてはDRAM回路とこれを制御するためのロジック回路とが同じシリコン基板上に形成されている。図5〜図7は、この半導体メモリ装置の製造工程の一部を示す断面図である。図5に示されるようにシリコン基板1のDRAM領域には溝12が形成され、さらにN型ウェル1aおよびP型ウェル1bが形成されている。溝12内には蓄積電極201が形成される。図5に示されるように、素子領域以外の領域には素子分離用のフィールド酸化膜2が形成される。
【0032】
続いて図6に示されるように、蓄積電極201上に容量絶縁膜202が形成され、これと同時に、メモリセルトランジスタのゲート酸化膜3およびロジック回路を構成するトランジスタのゲート酸化膜3が形成される。続いて、容量絶縁膜202上にセルプレート電極13が形成され、これと同時に、メモリセルトランジスタのゲート電極14およびロジック回路を構成するトランジスタのゲート電極14が形成される。
【0033】
続いて図7に示されるように、DRAM領域およびロジック回路領域全体に層間絶縁膜204が形成される。続いて層間絶縁膜204の所定位置にコンタクトホール16,218が形成され、さらにビット線15および配線219が形成される。そして、DRAM領域およびロジック回路領域全体に層間絶縁膜207が形成される。
【0034】
上記のようにメモリセルキャパシタの容量絶縁膜202およびロジック回路を構成するトランジスタのゲート酸化膜3は同一工程で形成されるので、ほぼ同じ厚さとなる。また、メモリセルキャパシタのセルプレート電極13は接地線37に接続される。したがって、セルプレート電圧を供給するためにVblp発生回路41のような回路を設ける必要がない。
【0035】
図8は、DRAMの回路図を示している。同図において、各々がメモリセルトランジスタMTおよびメモリセルキャパシタMCからなる複数のメモリセルが行列に配置される。メモリセルトランジスタMTは、ゲート電極14と、このゲート電極14によって分断された半導体領域11とにより構成される。
また、各メモリセルトランジスタMTのしきい値は、ロジック回路領域のNMOSFETのしきい値(0.7V)よりも低い値(約0.4〜0.5V)に設定されている。従って、上記式▲1▼の第2項が小さくなり、記憶容量を増やすことができる。
【0036】
なお、本実施形態では、ビット線の寄生容量CBとメモリセルキャパシタの容量CSとの比(CB/CS)を5〜15に維持し、メモリアクセス時のデータ読み出し電圧を確保するために、互いに相補的な一対のビット線15,15に接続されるメモリセルトランジスタMTの数を、256個未満としている。
メモリセルキャパシタMCは、溝12内に形成された蓄積電極201と、この蓄積電極201を覆うセルプレート電極13により構成され、半導体領域11を共有することで各メモリセルトランジスタMTのソースに接続される。
【0037】
ビット線15は、メモリセルトランジスタMTの各列に対応するように配置され、各列毎にメモリセルトランジスタMTのドレインが接続される。ワード線21は、メモリセルトランジスタMTの各行に対して2本ずつ配置され、連続する2列のメモリセルトランジスタMTのゲートがそれぞれ中間配線17、18を介して何れか一方に接続される。すなわち、2本ずつ配置されるワード線21の一方には、4n列および4n+1列に配置されるメモリセルトランジスタMTのゲートが中間配線17を介して接続され、他方には、4n+2列および4n+3列に配置されるメモリセルトランジスタMTのゲートが中間配線18を介して接続される。
【0038】
図9は、メモリセルアレイ33の要部回路図を示している。上述した通り、メモリセルアレイ33は、互いに相補的な2つのサブアレイ32(32a,32b)とその間に設けられたシェアードセンス方式のセンスアンプ帯35とから構成される。サブアレイ32aおよび32bの各々は複数のビット線対を含む。センスアンプ帯35は、1対のビット線15a1,15a2毎に設けられたPチャネルセンスアンプ25Pa、1対のビット線15b1,15b2毎に設けられたPチャネルセンスアンプ25Pb、2対のビット線15a1,15a2,15b1,15b2に共通に設けられたNチャネルセンスアンプ25Nと、プリチャージ回路43と、ローカル入出力線SubI/Oと、ビット線上のデータを入出力線対SubI/Oに転送するためのスイッチ回路44から構成される。
【0039】
1つのPチャネルセンスアンプ25Paまたは25Pbと1つのNチャネルセンスアンプ25Nとにより、図8における1つのセンスアンプ(SENSE AMP)25が構成される。各Pチャネルセンスアンプ25Paは、ゲートとドレインとが交差接続されてラッチ形態にされたPチャネル型MOSFET(以下、PMOSFETという)45,46からなる。各Pチャネルセンスアンプ25Pbは、ゲートとドレインとが交差接続されてラッチ形態にされたPMOSFET60,61からなる。各Nチャネルセンスアンプ25Nは、ゲートとドレインとが交差接続されてラッチ形態にされたNチャネル型MOSFET(以下、NMOSFETという)47,48から構成される。
【0040】
一方のサブアレイ32aから延びる1対のビット線15a1,15a2は、スイッチングトランジスタ(NMOSFET)49,50を介して1対の共通ビット線151,152に接続される。もう一方のサブアレイ32bから延びる1対のビット線15b1,15b2は、スイッチングトランジスタ(NMOSFET)58,59を介して1対の共通ビット線151,152に接続される。Nチャネルセンスアンプ25Nは、共通ビット線151および152間に接続される。
【0041】
スイッチングトランジスタ49,50のゲートは、サブアレイ選択信号線SBSRに共通接続される。本実施形態では、スイッチングトランジスタ49,50は、メモリセルトランジスタMTのように低いしきい値のものを用いずに、ロジック回路領域に用いたNMOSFETと同じしきい値のものを用いているので、SBSRの電圧振幅範囲をVss〜Vccにすることができる。
【0042】
スイッチングトランジスタ49,50は、Pチャネルセンスアンプ25Paよりもサブアレイ32aと反対側に位置する。PMOSFET45,46の各ソースは、駆動トランジスタ(NMOSFET)51を介してローカル電源線36に接続される。1本のローカル電源線36には、4個のPチャネルセンスアンプ25Paが共通接続される。駆動トランジスタ51の各ゲートは、活性化信号線VSPLに共通接続される。
【0043】
本実施形態では、駆動トランジスタ51は、メモリセルトランジスタMTと同一工程で形成され、同じ低しきい値に設定されている。従って、電源電圧Vccから駆動トランジスタ51のしきい値分だけレベルシフトした電圧をサブアレイ32aのビット線15a1,15a2に供給することができ、ワード線21に繋がるゲート電極14とビット線15a1,15a2との間の最大電位差を緩和でき、メモリセルトランジスタMTのゲート絶縁膜の耐圧を確保して信頼性を向上させることができると共に、高い方のビット線の電圧が電源電圧Vccよりもメモリセルトランジスタのしきい値分だけ低くなるので、リストア電圧が低下し、消費電力を低減することができる。
【0044】
更には、駆動トランジスタ51を用いて電圧降下を行うことによって、活性化信号線VSPLの電圧振幅範囲をVbb〜Vccではなく、Vss〜Vccにすることができ、負バイアス制御すべき信号群をワード線21のみにすることができる。その結果、別途駆動トランジスタ51に対する負バイアス制御回路が不要になると共に消費電力も低減することができる。活性化信号線VSPLには、図3に示したDRAM制御回路39から電源電圧Vccおよび接地電圧Vssが交互に供給される。
【0045】
NMOSFET47,48の各ソースは、駆動トランジスタ(NMOSFET)52を介してローカル接地線37に接続される。1本のローカル接地線37には、1本のローカル電源線36に接続されている4個のPチャネルセンスアンプ25Paに対応する4個のNチャネルセンスアンプ25Nが共通接続される。駆動トランジスタ52の各ゲートは、活性化信号線VSNに共通接続される。すなわち、活性化信号線VSPL,VSNにより、駆動トランジスタ51、52がオン状態になり、センスアンプ25の動作に必要な電圧が供給される。
【0046】
プリチャージ回路43は、PMOSFET45,46とNMOSFET47,48との間に設けられ、1対の共通ビット線151,152を短絡させるNMOSFET53と、ビット線151,152にプリチャージ電圧Vblpを供給するためのNMOSFET54,55とから構成される。NMOSFET53〜55には回路活性化信号SBS(本実施形態では電源電圧Vcc)が供給される。
【0047】
スイッチ回路44は、NMOSFET56,57で構成され、カラム選択信号GYSに応じてスイッチング制御される。本実施形態では、1つのカラム選択信号GYSにより4対のビット線を選択できるようにしているが、2対、8対、またはそれ以上であっても良い。各ビット線対のデータは、このスイッチ回路44を介して入出力線SubI/Oに接続される。
【0048】
スイッチングトランジスタ58,59の各ゲートは、サブアレイ選択信号線SBSLに共通接続される。PMOSFET60,61の各ソースは、駆動トランジスタ(NMOSFET)62を介してローカル電源線36に共通接続される。1本のローカル電源線36には、4個のPチャネルセンスアンプ25Pbが共通接続される。駆動トランジスタ62の各ゲートは、活性化信号線VSPRに共通接続される。なお、駆動トランジスタ62も駆動トランジスタ51と同様、メモリセルトランジスタMTと同一工程で同じ低しきい値に設定されているので、サブアレイ選択信号線SBSLの電圧振幅範囲をVss〜Vccにすることができる。
【0049】
図10は、ワード線選択を行うロウデコーダ42のブロック図を示している。ロウデコーダ42は、第1のロウアドレス検出回路(FIRST ROW ADDRESS DETECTION CIRCUIT)63と、第2のロウアドレス検出回路(SECOND ROW ADDRESS DETECTION CIRCUIT)64と、ワード線選択回路(WORD LINE SELECT CIRCUIT)65と、制御回路(CONTROL CIRCUIT)66とから構成されている。このロウデコーダ42により、第1のロウアドレス検出回路63で選択された4本のワード線アドレスから最終的に1本が選択される。
【0050】
図11は、第1のロウアドレス検出回路63およびワード線選択回路部65の具体的回路図を示している。第1のロウアドレス検出回路63は、ロウアドレスを入力信号とする縦積み3段のNMOSFET67a〜67cから構成される。ワード線選択回路65は、論理回路69とワード線ドライバ70とから構成される。
【0051】
論理回路69は、ロウデコーダを非活性状態にする時にプリチャージするための信号供給線(/RDP)にそのゲートが接続されたPMOSFET71と、ゲートとドレインとが交差接続されてラッチ形態にされたNMOSFET72,73と、そのドレインがNMOSFET73のドレインに接続され、ゲートが第1のロウアドレス検出回路63の出力端子に接続されたPMOSFET74と、NMOSFET72のドレインとPMOSFET74のゲートとの間に接続されたPMOSFET75と、ゲートがNMOSFET73のドレインに接続され、ドレインがPMOSFET74のゲートに接続されたPMOSFET76とから構成されている。そして、各PMOSFET71,74,76のソースには電源電圧Vccが印加され、PMOSFET75のゲートには接地電圧Vssが印加され、NMOSFET72,73のソースには負電圧Vbbが印加される。
【0052】
上記論理回路69の構成によれば、ゲートが接地電圧Vssに接続されたPMOSFET75が、ソース電位変換の役目とPMOSFET74を積極的にカットオフさせる役目を担っている。その結果、インバータ等の論理素子を使用することなく所望の動作を実現でき、素子数を減らして省面積化を図ることができると共に、動作遷移時における貫通電流の発生を防止し、更には、動作の高速化に寄与することができる。
【0053】
サブアレイ32の各ワード線21には、2段に接続されたNMOSFET77,78と、NMOSFET77,78の出力側にそのドレインが接続されたNMOSFET79とからなるドライブ回路80の出力側が接続されており、各ドライブ回路80は4個を1組として、ワード線ドライバ70を構成している。
ワード線ドライバ70において、各ドライブ回路80のNMOSFET77のドレインが論理回路69の出力端に共通接続されており、NMOSFET78のドレインは、それぞれ制御回路66からの4本の選択信号線SX1〜SX4に接続されている。
【0054】
各ドライブ回路80のNMOSFET79のゲートは論理回路69のPMOSFET71に接続され、ソースには負電圧Vbbが印加されている。従って、論理回路69のPMOSFET71からの信号により、ロウデコーダが非活性状態である間は、NMOSFET79はON状態となり、ワード線21の電位はVbbに保持される。
【0055】
各ドライブ回路80のNMOSFET77は、そのゲートに常時電源電圧Vccが供給されているため、常時ONになり得る状態にあり、論理回路69からの信号に応じて、4個のドライブ回路80の各NMOSFET77が一斉にONになる。すると、このNMOSFET77の次段のNMOSFET78がONになり得る状態となり、この時点で4本のワード線21が選択される。
【0056】
そして、制御回路66からの4本の選択信号線SX1〜SX4の内、活性化された1本の信号線に接続されたNMOSFET78のみが信号伝達を行い、最終的に1本のワード線21が選択される。
ここで、負電圧Vbbは、論理回路69のNMOSFET72,73とドライブ回路80のNMOSFET79とにそれぞれ供給されているが、本実施形態にあっては、図12に示す通り、Vbb発生回路40から、論理回路(LOGIC CURCUIT)69への供給線LAとドライブ回路(WORD LINE DRIVER)80への供給線LBとをレイアウト上別系統の配線で形成している。すなわち、論理回路69が動作するとき、電荷の放電を行うNMOSFET72,73のソースと常にワード線21をVbb電位に安定保持しているだけのNMOSFET79のソースとをレイアウト上で短絡させてしまうと、NMOSFET72,73から放電される電荷がノイズ源となり、ワード線21の電位を上昇させ、メモリセルからの蓄積電荷のリークを促すという問題が生じるが、本実施形態では、供給線LBを独立させてノイズの影響を受けにくいようにしている。
【0057】
また、本実施形態では、各ドライブ回路80の2段のNMOSFET77,78を、メモリセルトランジスタMTと同じ低いしきい値に設定している。従って、NMOSFET78のゲートに印加される電圧(Vcc−NMOSFET77のしきい値電圧)が高くなる上に、NMOSFET78がONになる時間も短くなる。その結果、ワード線21の立ち上がり速度が早くなる。
【0058】
図13は、冗長ロウデコーダにおける冗長ロウアドレス検出回路81およびワード線選択回路82の具体的回路図を示している。冗長ロウアドレス検出回路81は、冗長アドレスをプログラムするための周知のヒューズ回路83から構成される。ワード線選択回路82は、論理回路84とワード線ドライバ85とから構成される。ワード線ドライバ85の構成は、ワード線ドライバ70と同様である。
【0059】
論理回路84は、ロウデコーダを非活性状態にする時にプリチャージするための信号供給線(/RDP)にそのゲートが接続されたPMOSFET86と、そのソースが冗長アドレス検出回路81の出力に接続され、そのドレインがPMOSFET86のドレインと接続されると共に、ソース信号がワード線ドライバ部85への第1の出力となるPMOSFET87と、そのゲートがPMOSFET87のドレインに接続され、そのドレイン信号がワード線ドライバ部85への第2の出力となるPMOSFET88と、そのドレインがPMOSFET88のドレインに接続され、そのゲートがPMOSFET87のドレインに接続されたNMOSFET89と、そのゲートがPMOSFET88のドレインに接続され、そのドレインがPMOSFET87のドレインに接続されたNMOSFET90と、そのゲートがPMOSFET88のドレインに接続され、そのドレインがPMOSFET87のソースに接続されたPMOSFET91とから構成される。そして、PMOSFET86,88,91の各ソースには電源電圧Vccが印加され、PMOSFET87のゲートには接地電圧Vssが印加され、NMOSFET89,90の各ソースには負電圧Vbbが印加される。
【0060】
図14は、第2のロウアドレス検出回路64および制御回路66の具体的回路図を示している。第2のロウアドレス検出回路64は、PMOSFET92とNMOSFET93との直列からなる選択回路94a〜94dを4個並列に接続し、この並列回路の入力端には電源電圧Vccが入力され、出力端はNMOSFET95を介して接地電圧Vssに接続された(接地された)構成をとる。
【0061】
各選択回路94a〜94dのPMOSFET92のゲートには、信号供給線(/RDP)が接続されている。また、各選択回路94a〜94dのNMOSFET93のゲートには、ワード線21の選択信号RAiが入力され、この選択信号RAiにより選択回路94a〜94dのうちの1つが特定される。
制御回路66は、4個の制御回路ユニット66a〜66dからなり、各制御回路ユニット66a〜66dからそれぞれ1本の選択信号線(SX1〜SX4)が導出されて、この選択信号線がワード線ドライバ70の対応するドライブ回路80に接続される。
【0062】
また、制御回路ユニット66aの入力端子は、選択回路94aの出力端子に接続され、同様に、制御回路ユニット66bの入力端子は選択回路94bの出力端子に、制御回路ユニット66cの入力端子は選択回路94cの出力端子に、制御回路ユニット66dの入力端子は選択回路94dの出力端子にそれぞれ接続されており、特定された選択回路に応じて制御回路ユニットが特定され、その結果、ワード線21が特定されることになる。
【0063】
各制御回路ユニット66a〜66dの具体的な回路構成はいずれも同一であるので、ここでは、制御回路ユニット66aについてのみ説明する。
ワード線選択を可能にする信号(ワード線21の選択期間を規定する信号)XEとその反転信号がNOR回路96に入力され、NOR回路96からの出力の反転信号と選択回路94aからの出力信号とがNOR回路97に入力される。選択回路94aの出力端子には、PMOSFET98のドレインが接続されている。また、選択回路94aの出力端子の反転信号は、PMOSFET98のゲートに入力されると共にNAND回路99に入力される。NAND回路99の他方の入力端子には信号XEが入力され、NAND回路99からの信号を2回反転させた信号が、PMOSFET100のソースおよびPMOSFET101のゲートに入力される。
【0064】
NOR回路97からの信号は、PMOSFET100のゲートに入力されると共に、その反転信号がPMOSFET102のソースおよびPMOSFET103のゲートに入力される。PMOSFET102のドレインは、ゲートとドレインとが交差接続されてラッチ形態にされたNMOSFET104,105のうちのNMOSFET104のドレインに接続され、PMOSFET103のドレインは、NMOSFET105のドレインに接続されている。
【0065】
PMOSFET100のドレインは、ゲートとドレインとが交差接続されてラッチ形態にされたNMOSFET106,107のうちのNMOSFET106のドレインに接続され、PMOSFET101のドレインは、NMOSFET107のドレインに接続されている。
制御回路ユニット66aから導出される選択信号線SX1にはNMOSFET108のドレインが接続され、NMOSFET108のゲートに、PMOSFET103のドレイン(NMOSFET105のドレイン)が接続されている。更には、NMOSFET108のドレインに、PMOSFET101のドレイン(NMOSFET107のドレイン)が接続されている。
【0066】
そして、PMOSFET98,101,103の各ソースには、電源電圧Vccが印加され、PMOSFET102のゲートおよびNMOSFET108のソースには接地電圧Vssが印加され、NMOSFET104,105,106,107の各ソースには負電圧Vbbが印加される。
次に、上記のように構成された制御回路ユニット66aの動作を図15のタイミング図を参照して説明する。ロウアドレスストローブ信号/RASの活性化に応じて信号/RDPがH(論理ハイ)レベルとなり、さらに信号XEがHレベルになると、ノードJおよびKの電位はL(論理ロー)レベルとなる。そのため、PMOSFET101がオンになり、NMOSFET107がオフになり、これにより選択信号線SX1に電源電圧Vccが供給される。その結果、図13に示したワード線ドライバ85によりワード線の電圧が電源電圧Vccになる。
【0067】
続いて、信号XEがLレベルになると、ノードJの電位がHレベルになり、ノードLおよびMの電位がともにLレベルになる。ノードJの電位がHレベルになると、PMOSFET101はオフになり、選択信号線SX1への電源電圧Vccの供給は停止する。一方、ノードLの電位がLレベルになると、PMOSFET103がオンになる。ノードMの電位がLレベルになると、NMOSFET105がオフになる。そのため、電源電圧VccがNMOSFET108のゲートに印加され、これによりNMOSFET108がオンになる。選択信号線SX1の電圧は接地電圧Vssまで低下する。そのため、ワード線の電圧も接地電圧Vssまで低下する。信号XEの立下がりから所定時間経過後に、ノードK,L,Mの電位がすべてLレベルになる。ノードKの電位がLレベルになると、NMOSFET107がオンになり、選択信号線SX1の電圧は負電圧Vbbまで低下する。ノードLの電位がHレベルになるとPMOSFET103はオフになる。ノードMの電位がHレベルになると、NMOSFET105はオンになる。そのため、NMOSFET108のゲート電圧は負電圧Vbbまで低下し、これによりNMOSFET108はオフになる。
【0068】
以上に述べた回路構成により、制御回路ユニット66aでは、負電圧Vbb、電源電圧Vccおよび接地電圧Vssの3種類の電圧を適宜に切り換え、選択信号線SX1に乗せて出力する。
ここで、上述した制御回路ユニット66aにおいては信号XEの立上がりおよび立下がり時に貫通電流I1およびI2が流れるという問題がある。すなわち、信号XEがHレベルになるとノードJの電位は直ちにLレベルになるが、ノードKの電位はPMOSFET100により伝達時間だけ送れてLレベルになる。そのため、PMOSFET101およびNMOSFET107が同時にオンになるため、貫通電流I1が流れる。また、信号XEがLレベルになるとノードLの電位は直ちにLレベルになるが、ノードMの電位はPMOSFET102による伝達時間だけ遅れてLレベルになる。そのため、PMOSFET103およびNMOSFET105が同時にオンになり、貫通電流I2が流れる。このような貫通電流I1,I2が流れると、負電圧Vbbが大幅に上昇することになる。そのため、Vbb発生回路40は上昇した負電圧Vbbを所定電圧まで回復させる必要があり、大きな駆動能力が必要になるとともに、消費電力が大きくなる。
【0069】
このような貫通電流を低減するためには、図16に示されるように貫通電流が流れる経路にNMOSFET109および110をそれぞれ追加するのが望ましい。ここでは、PMOSFET101およびNMOSFET109によりCMOSインバータが構成され、PMOSFET103およびNMOSFET110によりCMOSインバータが構成される。そのため、ノードJの電位がLレベルになり、PMOSFET101がオンになると、NMOSFET109がオフになる。その結果、NMOSFET107がオンになっていても貫通電流は流れない。同様に、ノードLの電位がLレベルになり、PMOSFET103がオンになると、NMOSFET110がオフになる。その結果、NMOSFET105がオンになっていても貫通電流は流れない。
【0070】
図17は、上述した半導体メモリ装置の各構成要素のウェル上への配置を表した図である。
上述したとおり、本実施形態における半導体メモリ装置は、P型単結晶シリコン基板又はP型ウェル領域(P型基板領域PWAという)に形成される。DRAM制御回路39、メインアンプI/O系38、Vbb発生回路40、Vblp発生回路41、その他アドレスバッファ、クロック回路等からなるロジック回路は、N型ウエル領域NWAとP型基板領域PWAとに形成される。また、セルブロック32、センスアンプ帯35、ロウデコーダ42およびカラムデコーダ34からなるDRAMコアは、N型ウエル領域NWAよりも深いN型ウエル領域NWBに形成される。このように、DRAMコアが形成されるN型ウエル領域NWBを、ロジック回路が形成されるN型ウエル領域NWAよりも深いN型とすることにより、両者間を分離して、ロジック回路領域(LOGIC CIRCUIT REGION)からのノイズがDRAMコア領域(DRAM CORE REGION)に悪影響を与えないようにしている。
【0071】
N型ウエル領域NWBにおいて、メモリセルアレイ32は、通常の(ロジック回路領域に採用されているNMOSFETのしきい値と同じ)しきい値を持つNMOSFET47〜50,52〜59と、通常よりも低いしきい値を持つメモリセルトランジスタMTおよびNMOSFET51,62とは、それぞれ異なる領域にまとめられ、前者はP型ウェル領域PWAに、後者はP型ウェル領域PWBに形成される。
【0072】
ロウデコーダも同様に、低いしきい値を持つワード線ドライバ80のNMOSFET77,78と、その他のNMOSFETとは、それぞれ異なる領域にまとめられ、前者はP型ウェル領域PWBに、後者はP型ウェル領域PWAに形成される。
かかる構成において、本実施形態における半導体メモリ装置の動作を図18に示すタイミングチャートに基づいて説明する。なお、同図において、Jは図14中のノードJの電位を示し、Nは図14中のノードNの電位を示す。
【0073】
ロウアドレスストローブ信号/RASの立ち下がりに同期してアドレス信号の取り込みが行われる。すなわち、信号/RDPが立ち上がり、引き続いて、ロウアドレス確定を示す信号XGが立ち上がる。そして、プリチャージ回路の信号線SBSの電位が立ち下がり、更に、信号線SBSLの電位が立ち下がる。
この状態で、ワード線選択可能信号XEが立ち上がると、ノードJの電位が立ち下がって、選択信号線SX1(この場合、制御回路ユニット66aが選択されたものとする)の電位が、非選択状態の負電圧Vbbから電源電圧Vccに変化する。
【0074】
これにより、ワード線21が負電圧Vbbから電源電圧Vccに立ち上がる。このワード線21の立ち上がりにより、一対のビット線15の一方に、選択されたメモリセルの情報電荷に対応した微小電圧の変化が生じる。そして、信号線VSPの電位が立ち上がることにより、センスアンプ25Paが活性化し、ビット線の電位変化を増幅して入出力線subI/Oに出力する。
【0075】
ワード線21の選択が終了すると、信号XEが立ち下がり、ワード線21(選択信号線SX1)の電位が立ち下がる。このとき、制御回路ユニット66aでは、信号XEの立ち下がりに応じて、ノードNにワンショットパルスが発生し、このワンショットパルスがハイレベル(電源電圧Vcc)である間、ワード線21の電位が一時的に接地電圧Vssにホールドされ、その後、ワンショットパルスの立ち下がりに応じて、ワード線21の電圧が負電圧Vbbまで低下する。以上で、半導体メモリ装置の読み出し動作が終了する。
【0076】
図19は、本実施形態におけるメモリセルの電位状態を示している。同図において、セルプレート電圧VcpおよびメモリセルトランジスタMTが形成されているP型ウェル領域PWBの電圧は共に接地電圧Vssに設定されている。
図19Aは、Hレベル(“1”)の書き込み状態を示しており、ワード線21に接続されるゲート電圧は、3.3Vにされ、ビット線のHレベル(2.3V)がキャパシタMCに書き込まれる。
【0077】
図19Bは、Lレベル(“0”)の書き込み状態を示しており、ワード線21に接続されるゲート電圧は、3.3Vにされ、ビット線のLレベル(0V)がメモリセルキャパシタMCに書き込まれる。
図19Cは、データ保持状態を示しており、ワード線21に接続されるゲート電圧は、非選択レベルの−0.5Vにされ、このときビット線は上記書き込み/読み出し状態では0V、2.3VのHレベル/Lレベルとされ、待機状態ではハーフプリチャージ電圧1.2Vである。メモリセルキャパシタMCの保持電圧は0Vか2.3Vであり、アドレス選択用のNMOSFET79のソースは上述した通り負電圧Vbbである。従って、ビット線あるいは上記保持電圧が0Vのときでも、逆バイアス電圧(−0.5V)が印加されているので、情報電荷を消失させるようなリーク電流が流れない。
【0078】
以上に説明した本実施形態の半導体メモリ装置の作用効果を以下に説明する。
(1)メモリセルトランジスタMTとして通常よりも低いしきい値のものを用いている。従って、上記式▲1▼の第2項が小さくなり、記憶容量を増やすことができる。
(2)本実施形態では、図19に示す通り、セルプレート電圧Vcpを0Vに設定している。これは上述した通り、メモリセルキャパシタMCの容量絶縁膜およびロジック回路を構成するトランジスタのゲート絶縁膜の厚さを全て等しくしたために可能となる。こうすれば、メモリセルキャパシタMCにロジック回路領域と同様の電源電圧が印加されても、容量絶縁膜の耐圧がTDDB特性に基づいて保証されているので、問題はない。従って、セルプレート電圧Vcpとして、各種電源電圧の中でも安定した電圧である接地電圧Vssを使用して回路動作の安定化を図ることができると共に、特別なセルプレート電圧Vcpの生成回路を用いる必要が無く、回路の省面積化、低コスト化を実現できる。
【0079】
(3)本実施形態では、図19に示す通り、メモリセルトランジスタMTが形成されているP型ウェル領域PWBの電位を0V(接地電圧Vss)に設定している。従って、メモリセルトランジスタMTにおけるバックゲート効果を除去することができ、上記式▲1▼の第2項が小さくなって、記憶容量を増やすことができる。
【0080】
(4)ロウデコーダ42において、論理回路69への供給線LAとドライブ回路80への供給線LBとをレイアウト上別系統の配線で形成しているので、ワード線21にノイズが影響しにくく、精度の高い書き込みおよび読み出し動作を行うことができる。
(5)ドライブ回路80の2段のNMOSFET77,78のしきい値を、メモリセルトランジスタMTと等しく低い値に設定しているので、ワード線21の立ち上がり速度が早くなり、書き込み・読み出し動作の高速化を実現することができる。
【0081】
(6)良好なTDDB特性を保持して、信頼性の高い設計を行うためおよび消費電流を低減するためには、ビット線15とワード線21との間に高い電圧を印加しないことが望ましく、本実施形態のように非選択状態のワード線21が負電圧Vbbに保持されている場合、ビット線にはなるべく電源電圧Vccが直接印加されないようにすることが望ましい。
【0082】
本実施形態では、センスアンプ25Pa(延いてはビット線)に電源線36からの電源電圧Vccを印加するためのスイッチング素子として、Nチャネル型MOSFET51を用いているので、スイッチング素子としてPチャネル型MOSFETを用いた場合に比べて、1対のビット線15(センスアンプ25Pa)に対し、電源電圧VccをNMOSFET51のしきい値電圧Vtnだけレベルシフトした電圧を印加することができ、回路の信頼性を高めると共に、消費電流を低減することができる。
【0083】
また、スイッチング素子としてPチャネル型MOSFETを用いた場合に比べて、センスアンプ25Pa(PMOSFET45,46)に発生する寄生容量が低くなり、センスアンプ25Paの動作の高速化を実現することができる。
(7)ビット線対を共通ビット線対に接続するためのスイッチングトランジスタ49,50を、センスアンプ25PaのPMOSFET45,46に対し、サブアレイ32aとは反対側に配置している。従って、スイッチングトランジスタ49,50として、メモリセルトランジスタMTのように低いしきい値のものを用いずに、ロジック回路領域に用いたNMOSFETと同じしきい値のものを用いることができる。たとえばスイッチングトランジスタ49,50として低いしきい値のものを用いた場合、スイッチングトランジスタ49,50を確実にOFFさせるための電圧として負電圧Vbbを用いる必要があるが、本実施形態にあってはスイッチングトランジスタ49,50を確実にOFFさせるための電圧として0V(接地電圧Vss)を用いることができる。その結果、以下の通りの作用効果を奏することができる。
【0084】
(a)スイッチングトランジスタ49,50の動作範囲が、ワード線21と同様の負電圧Vbb〜電源電圧Vccではなく、接地電圧Vss(0V)〜電源電圧Vccとなる。従って、ワード線駆動回路と同様の回路構成とレイアウトエリアが不用となり、省面積化を実現できる。
(b)Vbb発生回路40の能力を高める必要がなくなり、Vbb発生回路40に要するレイアウト面積を小さくすることができると共に、消費電流も低減することができる。
【0085】
(8)電源線36、接地線37を、メモリセルアレイ33上に絶縁膜を介して配置することにより、電源線および接地線とメモリセルアレイ33とを異なる層に形成しているので、センスアンプ活性時に生じる電源の電圧降下や接地電圧のバウンド等ノイズ成分を除去することができる。その結果、上記式▲1▼のαやγを1に近づけることができ、記憶容量を増やすことができると共に、特別な電源強化対策を行う必要がなくなり、回路規模を縮小できる。
【0086】
(9)本実施形態のように非選択状態のワード線21を負電圧Vbbにクランプする場合、活性化させたワード線21を非活性状態にしたときに発生する電荷が、負電圧Vbbノードに流れ、NMOSFET79を通って他のワード線21に流れ込み、その結果、他のワード線21に接続されたメモリセルトランジスタMTのゲート電位が上昇して蓄積電荷のリークが発生し、データの保持特性が悪くなる問題がある。そこで、本実施形態では、信号XEが立ち下がった時、ワード線21(選択信号線SX1)の電位を、VccレベルからいきなりVbbレベルまで低下させるのではなく、制御回路ユニット66aが、信号XEの立ち下がりに応じて、選択信号線SX1の電位を一時的に接地電圧Vss(0V)レベルにホールドしてから、負電圧Vbbまで低下するよう構成しているので、このホールド期間中に、ワード線21に溜まった電荷の大半が接地電位に流れ込む。従って、その後、負電圧Vbbレベルまで低下させたときに新たに電荷が発生しても、トータルとしての電荷量は少なくなっているので、ワード線21に接続されたメモリセルトランジスタMTのゲート電位の上昇が抑制され、その結果、蓄積電荷のリークに起因するデータの保持特性の悪化を防止することができる。
【0087】
本発明による半導体メモリ装置によれば、メモリセルアレイから延びるビット線とセンスアンプとを接続するためのスイッチング用電界効果型トランジスタを、狭い動作範囲で確実にON/OFFさせることができるので、駆動用回路の能力や規模を小さく抑えることができ、省面積化を実現することができる。
尚、本発明は、ロジック回路とDRAMとを半導体基板上に集積化したものに限らず、DRAM単体にも適用可能である。
【0088】
【発明の効果】
本発明にあっては、データの保持特性の良好な半導体メモリ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態による半導体メモリ装置のレイアウトを示す平面図である。
【図2】図1に示された半導体メモリ装置の部分平面図である。
【図3】図1に示された半導体メモリ装置の回路構成を示すブロック図である。
【図4】図3に示されたサブアレイのレイアウトを示す部分平面図である。
【図5】図1に示された半導体メモリ装置の製造プロセスを示す断面図である。
【図6】図1に示された半導体メモリ装置の製造プロセスを示す断面図である。
【図7】図1に示された半導体メモリ装置の製造プロセスを示す断面図である。
【図8】図3に示されたサブアレイの回路図である。
【図9】図3に示されたセンスアンプ帯の回路図である。
【図10】図3に示されたロウデコーダのブロック図である。
【図11】図10に示された第1のロウアドレス検出回路およびワード線選択回路部の回路図である。
【図12】図11に示されたワード線ドライバおよび論理回路への負電圧の供給を示すブロック図である。
【図13】図11に示された第1のロウアドレス検出回路およびワード線選択回路と置換可能な冗長回路の回路図である。
【図14】図10に示された第2のロウアドレス検出回路および制御択回路の回路図である。
【図15】図14に示された制御回路の動作を示すタイミング図である。
【図16】図14中の制御回路ユニットの他の例を示す回路図である。
【図17】図1に示された半導体メモリ装置のウェル配置を示す平面図である。
【図18】図1に示された半導体メモリ装置のタイミング図である。
【図19】図8に示されたメモリセルの電位状態を示す回路図である。
【図20】従来の半導体メモリ装置の製造プロセスを示す断面図である。
【図21】従来の半導体メモリ装置の製造プロセスを示す断面図である。
【図22】従来の半導体メモリ装置の製造プロセスを示す断面図である。
【符号の説明】
31 半導体メモリ装置
15 ビット線
21 ワード線
32 サブアレイ
33 メモリセルアレイ
42 ロウデコーダ
63 第1のロウアドレス検出回路
66 制御回路
70 ワード線ドライバ
100〜103 PMOSFET
105〜110 NMOSFET
MC メモリセルキャパシタ
MT メモリセルトランジスタ
Claims (2)
- ワード線に対応する選択信号線に接続され、前記選択信号線の電圧を前記ワード線にそれぞれ供給するワード線ドライバと、
ロウアドレス信号に応答して前記ワード線ドライバを選択的に活性化するロウアドレス検出回路と、
前記ロウアドレス信号に応答して電源電圧または負電圧を前記選択信号線に選択的に供給する制御回路とを備え、
前記制御回路は、前記複数の選択信号線に対応して設けられた複数の制御回路ユニットを含み、
前記制御回路ユニットの各々は、
第1の入力ノードに接続されたゲートと、電源ノードに接続されたソースと、対応する選択信号線に接続されたドレインとを有する第1のPチャネルFETと、
負電圧ノードに接続されたソースと、前記対応する選択信号線に接続されたドレインとを有する第1のNチャネルFETと、
前記第1の入力ノードの電圧を前記第1のNチャネルFETのゲートに伝達する第1の伝達トランジスタと、
接地されたソースと、前記対応する選択信号線に接続されたドレインとを有する第2のNチャネルFETと、
第2の入力ノードに接続されたゲートと、電源ノードに接続されたソースと、前記第2のNチャネルFETのゲートに接続されたドレインとを有する第2のPチャネルFETと、
負電圧ノードに接続されたソースと、前記第2のNチャネルFETのゲートに接続されたドレインとを有する第3のNチャネルFETと、
前記第2の入力ノードと前記第3のNチャネルFETのゲートとの間に接続され、常にオンになっている第2の伝達トランジスタと、
を含み、
前記第1の入力ノードには、前記ワード線を選択するとLレベルとなり、前記ワード線の選択期間が終了するとHレベルとなる電位を入力し、
前記第2の入力ノードには、前記ワード線の選択期間が終了するとLレベルとなり、さらに所定時間経過後Hレベルとなる電位を入力することを特徴とした半導体メモリ装置。 - 前記制御回路は、前記ワード線が選択状態から非選択状態に遷移する時点で一時的に前記ワード線の電位を接地電圧に保持し、その後ワード線の電位を負電圧にすることを特徴とした請求項1に記載の半導体メモリ装置。
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