JP3552714B2

JP3552714B2 - インドロピロロカルバゾール誘導体の製造法

Info

Publication number: JP3552714B2
Application number: JP2003296987A
Authority: JP
Inventors: 淳史赤尾; 雅史川崎; 朝之鎌谷; 俊明間瀬
Original assignee: Banyu Phamaceutical Co Ltd
Current assignee: MSD KK
Priority date: 2002-08-23
Filing date: 2003-08-21
Publication date: 2004-08-11
Anticipated expiration: 2023-08-21
Also published as: JP2004099608A

Description

本発明は医薬の分野で有用な発明である。更に詳しくは、本発明は、医薬の分野で有用な化合物の工業的に好適な製造法に関するものである。

本発明の製造法により製造される式［Ｉ］：

で表されるインドロピロロカルバゾール誘導体は、制ガン作用を有し、現在臨床試験中の化合物である（非特許文献１）。

また、本化合物の製造法に関しては、特許文献１及び特許文献２に開示されている。

一般式［ＸＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を示す］で表されるインドール化合物の製造法としては、非特許文献２に開示されている。
また、ロジウム化合物を用いた水素添加反応で、触媒として多量の鉄粉を酸性溶媒、例えば酢酸中でニトロベンゼン誘導体のニトロ基を還元する反応が知られている。（特許文献３）
一般式［ＶＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹はＹは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又はアラルキル基を示す］で表されるビス−インドール化合物の製造法は、特許文献１に開示されている。
再公表特許公報ＷＯ９５／３０６８２国際公開特許公報ＷＯ０１／６２７６９米国特許公報ＵＳ−５，１０５，０１２ミツルオークボ（ＭｉｔｓｕｒｕＯｈｋｕｂｏ）ら、バイオオーガニック・アンド・メディシナル・ケミストリー・レターズ（Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ＆ＭｅｄｉｃｉｎａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙＬｅｔｔｅｒｓ）、第９巻、第３３０７−３３１２頁（１９９９年）オーガニック・シンセシス・コレクティブ・ボリュウムズ（ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓＣｏｌｌｅｃｔｉｖｅｖｏｌｕｍｅｓ）第７巻第３４頁

本発明の目的は、医薬として有用な式［Ｉ］で表されるインドロピロロカルバゾール誘導体の公知の製造法の工業的な製造法として好ましくない点を解消することにある。すなわち、本発明の目的は、製造作業上危険性が高くかつ環境負荷の高い試薬の使用及び収率の低い工程を解消することにある。

すなわち、公知のインドール化合物の製造法（オーガニック・シンセシス・コレクティブ・ボリュウムズ（ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓＣｏｌｌｅｃｔｉｖｅｖｏｌｕｍｅｓ）第７巻第３４頁）では、ラネーニッケル（Ｒａｎｅｙｎｉｃｋｅｌ）触媒存在下でヒドラジンで還元することが行われている。この場合、ヒドラジンは、爆発の危険性が高いため、工業的な製法として好ましくない。さらに、ラネーニッケル（Ｒａｎｅｙｎｉｃｋｅｌ）触媒の必要量が多いので、製造後の廃液処理に関して環境負荷が高く、工業的な大量使用の場合には好ましくない。

また、公知のビス−インドール化合物の製造法は収率が低いため、経済性が悪い。

ロジウム化合物を用いた水素添加反応で、触媒として多量の鉄粉を酸性溶媒、例えば酢酸中でニトロベンゼン誘導体のニトロ基を還元する反応が知られている（米国特許公報ＵＳ−５，１０５，０１２）。この場合、酸性条件下において水素添加反応を実施するので、酸性条件下では不安定な物資には使用できない。

本発明者らは、インドロピロロカルバゾール誘導体［Ｉ］の製造法について検討を重ねた結果、
（ｉ）工業的な製造法として製造作業を安全且つ再現性良く実施でき、製造後の廃液処理の点で環境負荷が低く、さらに経済性に優れている、新規なインドロピロロカルバゾール誘導体［Ｉ］の製造法、
（ｉｉ）安全かつ新規なインドール誘導体[ＸＩＩ]の製造法、
（ｉｉｉ）経済性が改善された新規なビスインドール誘導体[ＶＩＩＩ]の製造法、
（ｉｖ）安全かつ製造後の廃液処理の点で環境負荷が低く、さらに酸性条件下のみならずそれ以外の条件下でも使用できる新規な水素添加反応用触媒、及び
（ｖ）１，２−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンを使用する閉環反応における青酸ガスの副生を防止できる、工程管理がしやすい化合物[ＶＩＩ]の製造法
を見出して、さらに検討を重ねて本発明を完成した。

すなわち、本発明は、（１）項〜（２４）項から構成される、新規なインドロピロロカルバゾール誘導体［Ｉ］の製造法、新規なインドール誘導体の製造法、新規なビスインドール誘導体の製造法、及び新規な水素添加反応用触媒に関するものである。

（１）一般式［ＸＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜７個のアルキル基を示すか、又は
Ｒ^ａ及びＲ^ｂが互いに結合して、炭素数３〜６個のアルキレン基を形成してもよい］で表される化合物又はその塩をロジウム化合物及び金属化合物の存在下で水素ガスと反応させて、一般式［ＸＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は前記の意味を示す］で表されるインドール化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＸＩＩ］で表されるインドール化合物又はその塩を、一般式［ＸＩ］：

［式中、Ｒ^ｃは炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ビニル基又はアリル基を示す］で表されるマグネシウムクロライド、一般式［Ｘ］：

［式中、Ｒ^ｄは、炭素数１〜７個のアルキル基又はフェニル基を示す］で表されるマグネシウム化合物若しくはその塩、又は一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライド及び一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物からなる混合物と反応させた後、一般式［ＩＸ］：

［式中、Ｘはハロゲン原子を、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す］で表されるマレイミド化合物と反応させて、一般式［ＶＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表されるビス−インドール化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＶＩＩＩ］で表されるビス−インドール化合物又はその塩を閉環して、一般式［ＶＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＶＩＩ］で表される化合物又はその塩を、一般式［ＶＩ］：

［式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は水酸基の保護基を、Ｘ^１はハロゲン原子を示す］で表される活性化されたグルコース誘導体と、カップリングさせることにより、一般式［Ｖ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＹは、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［Ｖ］で表される化合物又はその塩を、塩基で処理して、一般式［ＩＶ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＩＶ］で表される化合物又はその塩を、一般式［ＩＩＩ］：

［式中、Ｒ^６及びＲ^７は、水酸基の保護基を、Ｘ^ａは酸分子を示す］で表される化合物と反応させることにより、一般式［ＩＩ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＩＩ］で表される化合物又はその塩の保護基を除去することにより、式［Ｉ］：

で表されるインドロピロロカルバゾール誘導体又はその塩を製造することを特徴とする式［Ｉ］で表されるインドロピロロカルバゾール誘導体又はその塩の製造法、

（２）ロジウム化合物が、ロジウム−炭素、ロジウム−アルミナ、ロジウム−炭酸カルシウム又はロジウム−硫酸バリウムであることを特徴とする（１）項に記載の製造法、

（３）金属化合物が、ニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物又はコバルト（ＩＩＩ）化合物であることを特徴とする（１）項に記載の製造法、

（４）ニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物又はコバルト（ＩＩＩ）化合物が、
ＮｉＢｒ_２、Ｎｉ（ＮＯ_３）_２、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、ＦｅＢｒ_３、ＦｅＣｌ_２、ＦｅＳＯ_４、ＦｅＣｌ_３、ＦｅＣｌ_３−ＳｉＯ_２、Ｆｅ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、Ｆｅ（ＩＩ）フマール酸塩、ＣｏＢｒ_２、ＣｏＣｌ_２、

であることを特徴とする（３）項に記載の製造法、

（５）Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７がベンジル基であることを特徴とする（１）に記載の製造法、

（６）一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライドが、エチルマグネシウムクロライド、イソプロピルマグネシウムクロライド又はｎ−ブチルマグネシウムクロライドであることを特徴とする（１）項に記載の製造法、

（７）一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物がジ（ｎ−ブチル）マグネシウム、ジ（ｓ−ブチル）マグネシウム、（ｎ−ブチル）（ｓ−ブチル）マグネシウム、ジメチルマグネシウム又はジエチルマグネシウムであることを特徴とする（１）項に記載の製造法、

（８）一般式［ＩＸ］で表されるマレイミド化合物が、一般式：

［式中、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又はアラルキル基を示す］で表されるマレイミド化合物であることを特徴とする（１）項に記載の製造法、

（９）Ｙがメチル基であることを特徴とする（１）項に記載の製造法、

（１０）Ｘ^ａがシュウ酸であることを特徴とする（１）項に記載の製造法、

（１１）カップリングをＡｌｉｑｕａｔ３３６などの相間移動触媒の存在下で行うことを特徴とする（１）に記載の製造法、

（１２）一般式［ＸＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜７個のアルキル基を示すか、又は
Ｒ^ａ及びＲ^ｂが互いに結合して、炭素数３〜６個のアルキレン基を形成してもよい］で表される化合物を、ロジウム化合物及び金属化合物の存在下で水素ガスと反応させて、一般式［ＸＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は前記の意味を示す］で表されるインドール化合物又はその塩を製造することを特徴とするインドール化合物又はその塩の製造法、

（１３）一般式［ＸＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜７個のアルキル基を示すか、又は
Ｒ^ａ及びＲ^ｂが互いに結合して、炭素数３〜６個のアルキレン基を形成してもよい］で表される化合物又はその塩を、ロジウム化合物及び金属化合物の存在下で水素ガスと反応させ、ついで得られた粗生成物をシリカゲルで処理することを特徴とする上記（１２）に記載の製造法、

（１４）
一般式［ＸＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を示す］で表されるインドール化合物又はその塩を、一般式［ＸＩ］：

［式中、Ｒ^ｄは、炭素数１〜７個のアルキル基又はフェニル基を示す］で表されるマグネシウム化合物若しくはその塩、又は一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライド及び一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物からなる混合物と不活性溶媒中で反応後、一般式［ＩＸ］：

［式中、Ｘはハロゲン原子を、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す］で表されるマレイミド化合物と、好ましくは不活性溶媒中で、反応させて、一般式［ＶＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表されるビス−インドール化合物又はその塩を製造することを特徴とするビス−インドール化合物又はその塩の製造法、

（１５）一般式［ＩＸ］で表されるマレイミド化合物が、一般式：

［式中、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す］で表されるマレイミド化合物であることを特徴とする（１４）項に記載の製造法、
（１６）一般式[ＶＩＩＩ]

[式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す]
で表されるビス−インドール化合物又はその塩を非極性溶媒中２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンで処理することにより閉環することを特徴とする一般式[ＶＩＩ]

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩の製造法、
（１７）非極性溶媒がベンゼン、トルエン、キシレン（ｏ，ｍ又はｐ）、エチルベンゼン又は１，２，４−トリメチルベンゼンであることを特徴とする（１６）に記載の製造法、

（１８）ロジウム化合物及び金属化合物を含むことを特徴とする水素添加反応用触媒、
（１９）さらにアミンを含むことを特徴とする（１８）に記載の水素添加反応用触媒、
（２０）ロジウム化合物が、ロジウム−炭素、ロジウム−アルミナ、ロジウム−炭酸カルシウム又はロジウム−硫酸バリウムであることを特徴とする（１８）又は（１９）に記載の水素添加反応用触媒、
（２１）金属化合物が、ニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物又はコバルト（ＩＩＩ）化合物であることを特徴とする（１８）又は（１９）に記載の水素添加反応用触媒、

（２２）アミンが、第２又は第３級アミンであることを特徴とする（１９）に記載の水素添加反応用触媒、
（２３）アミンが、ピロリジン、ピペリジン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン又はトリブチルアミンである（１９）に記載の水素添加反応用触媒、

（２４）ニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物又はコバルト（ＩＩＩ）化合物が、
ＮｉＢｒ_２、Ｎｉ（ＮＯ_３）_２、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、ＦｅＢｒ_３、ＦｅＣｌ_２、ＦｅＳＯ_４、ＦｅＣｌ_３、ＦｅＣｌ_３−ＳｉＯ_２、Ｆｅ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、Ｆｅ（ＩＩ）フマール酸塩、ＣｏＢｒ_２、ＣｏＣｌ_２、

であることを特徴とする（２１）に記載の水素添加反応用触媒、
に関する。

本発明の製造法により、医薬の分野でガン治療剤として有用な化合物を安全、簡易且つ効率よく工業的に製造することができる。

本発明について具体的且つ詳細について説明する。

まず最初に、本明細書で使用する用語について説明する。
「炭素数１〜７個のアルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基又はヘプチル基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基等が挙げられ、中でもメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基又はブチル基が好ましく、より好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基又はヘプチル基である。

「炭素数３〜６個のアルキレン基」としては、例えばトリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基等の直鎖状のアルキレン基等が挙げられ、好ましくはテトラメチレン基又はペンタメチレン基である。

「炭素数７〜１２個のアラルキル基」としては、例えばベンジル基、１−ナフチルメチル基又は２−ナフチルメチル基等の炭素数７〜１２個のアラルキル基等が挙げられ、好ましくはベンジル基である。

「酸分子」としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、メチルスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、シュウ酸、プロピオン酸、蟻酸又は安息香酸等のプロトン酸が挙げられ、好ましくはシュウ酸である。

「水酸基の保護基」としては、例えばベンジル基、トリル基、ｐ−ニトロシベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基又はベンジルオキシメチル基等の水酸基の保護基が挙げられ、好ましくはベンジル基である。

「ロジウム化合物」とは、ロジウム原子を含む触媒を意味し、通常は、ロジウム担持触媒であって、好ましくは例えばロジウム−炭素、ロジウム−アルミナ、ロジウム−炭酸カルシウム又はロジウム−硫酸バリウム等である。

「ハロゲン原子」としては、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子等が挙げられる。

「金属化合物」とは、ロジウム化合物を含まないが、ロジウム化合物と共に還元反応を促進する触媒であって、例えばニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物又はコバルト（ＩＩＩ）化合物等が挙げられ、好ましくはＮｉＢｒ_２、Ｎｉ（ＮＯ_３）_２、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、ＦｅＢｒ_３、ＦｅＣｌ_２、ＦｅＳＯ_４、ＦｅＣｌ_３、ＦｅＣｌ_３−ＳｉＯ_２、Ｆｅ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、Ｆｅ（ＩＩ）フマール酸塩、ＣｏＢｒ_２、ＣｏＣｌ_２、

である。

「相間移動触媒」とは、油相と水性相からなる二相系において、親油性有機化合物と親水性有機化合物を反応させる触媒を意味し、たとえば、一般式［ＸＩＶ］：

［式中、Ｒ^ａは、同一又は異なっていてもよく水素原子、ベンジル基又は炭素数１〜１８個の炭化水素基を、Ｍは窒素原子又はリン原子を、Ａは水酸基、フッ素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ＨＳＯ_４、ＣＨ_３ＳＯ_３又はＰｈＣＨ_２ＣＯＯをそれぞれ示す］で表される化合物又はトリス（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）アミンが挙げられ、好ましくはトリカプリルメチルアンモニウムクロリド、トリス（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）アミン、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド又はトリブチルアンモニウム水素スルファートである。一般式［ＸＩＶ］で表される化合物としては、具体的には塩化トリカプリルメチルアンモニウム等が挙げられる。

「塩」とは、通常酸付加塩であって、薬理学的に許容し得る塩が好ましい。酸付加塩における酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、例えば酢酸、シュウ酸等の有機酸が挙げられる。

「アミン」としては、例えば第１級アミン、第２級アミン又は第３級アミンなどが挙げられ、より具体的には、ピロリジン、ピペリジン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン又はトリブチルアミン等のアミンが挙げられ、好ましくは、第２級アミン又は第３級アミンであり、より好ましくはピロリジンである。

「シリカゲルで処理」とは、粗生成物を溶媒に溶解後、シリカゲルを充填したカラム又は濾面にシリカゲルを敷き詰めた濾過器を通す処理を意味する。

次ぎに、本発明の好ましい製造法について詳細に説明する。
一般式［ＸＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜７個のアルキル基を示すか、又は
Ｒ^ａ及びＲ^ｂが互いに結合して、炭素数３〜６個のアルキレン基を形成してもよい］で表される化合物をロジウム化合物及び金属化合物の存在下で、水素ガスと反応させて、一般式［ＸＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は前記の意味を示す］で表されるインドール化合物を製造する工程は、一般式［ＸＩＩＩ］で表される化合物を、不活性溶媒中、一般式［ＸＩＩＩ］で表される化合物１ｍｏｌに対して、ロジウム化合物約０．５ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％及び金属化合物約１ｍｏｌ％〜１００ｍｏｌ％の存在下で１気圧から５気圧の水素ガスと約−２０℃から８０℃で約１時間〜１２０時間反応させることにより実施することができる。

本工程で使用できる不活性溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、プロパノール、アセトン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、シクロペンチルメチルエーテル又はそれらの混合溶媒等が挙げられ、好ましくはテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル又はｔ−ブチルメチルエーテルである。

本工程で使用できるロジウム化合物としては、通常ロジウム原子を分子内に少なくとも一個有する化合物ならどのようなものでもよく、例えばロジウムを１〜１０％含有するロジウム−カーボン、ロジウム−アルミナ、ロジウム−炭酸カルシウム又はロジウム−硫酸バリウム等が好ましい例として挙げられるが、さらに好ましくはロジウム−カーボンである。

本工程で使用できる金属化合物としては、例えばニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物又はコバルト（ＩＩＩ）化合物が挙げられ、好ましくはＮｉＢｒ_２、Ｎｉ（ＮＯ_３）_２、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、ＦｅＢｒ_３、ＦｅＣｌ_２、ＦｅＳＯ_４、ＦｅＣｌ_３、ＦｅＣｌ_３−ＳｉＯ_２、Ｆｅ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、Ｆｅ（ＩＩ）フマール酸塩、ＣｏＢｒ_２、ＣｏＩ_２、ＣｏＣｌ_２、

である。

なお、本工程で使用される原料化合物は、例えばオーガニック・シンセシス・コレクティブ・ボリュウムズ（ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓＣｏｌｌｅｃｔｉｖｅｖｏｌｕｍｅｓ）第７巻第３４頁に記載の方法又はそれに準ずる方法により入手可能である。

本工程においては、ロジウム化合物及び金属化合物以外にさらにアミンを存在させて、反応を行うのが好ましい。本工程において、アミンをさらに存在させて反応を行うことにより、反応速度や収率をより向上し得る。アミンを使用すれば反応速度が飛躍的に上昇し得る。

アミンとは、例えば第１級アミン、第２級アミン又は第３級アミンなどが挙げられ、より具体的には、ピロリジン、ピペリジン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン又はトリブチルアミン等のアミンがあげられ、好ましくは、第２級アミン又は第３級アミンであり、より好ましくはピロリジンである。
アミンの使用量は、水素添加される物質（例えば一般式［ＸＩＩＩ］の化合物）に対して、約０．０１当量〜１０当量であり、好ましくは約０．０１当量〜１０当量である。さらに、反応剤を適宜選択することにより、新たにアミンとして反応液に添加するのではなく、水素添加反応の進行に伴い、本発明の反応によって反応液中に当該アミンを発生させる場合は、さらにアミンを加えなくともよい。

当該工程で得られる反応液（懸濁液）を、好ましくはその懸濁液にアンモニア水及び食塩水を加え約１時間攪拌した後、固体を濾別し、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の溶媒で残渣を洗浄する。濾液と洗液を合わせ、クエン酸水、５％重曹水、食塩水で順次洗浄した後、減圧下、濃縮乾固する。得られる式［ＸＩＩ］で示される化合物又はその塩を例えばベンゼン、トルエン又はキシレン等の溶媒に溶解した後、一般式［ＸＩＩ］で表される化合物の重量と同量のシリカゲルを充填したカラム又は濾過器の濾面に当該シリカゲルを敷き詰めた濾過器に、上記溶液を入れ、窒素等の不活性ガスで加圧することにより、当該反応工程で発生する着色物質等の不純物を効率よく除去できることを見いだした。当該精製法により、一般式［ＸＩＩ］で表される化合物の純度が向上するため、それ以後の工程の反応及び生成物の精製が、特別な方法を必要とすることなく、工業的有利に実施できる。

次ぎに、前工程で得られた一般式［ＸＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は前記の意味を示す］で表されるインドール化合物又はその塩を、一般式［ＸＩ］：

［式中、Ｒ^ｄは、炭素数１〜７個のアルキル基又はフェニル基を示す］で表されるマグネシウム化合物若しくはその塩、又は一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライド及び一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物からなる混合物と上記したような不活性溶媒中で反応後、反応成績体に一般式［ＩＸ］：

［式中、Ｘはハロゲン原子を、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す］で表されるマレイミド化合物と上記したような不活性溶媒中で反応させて、一般式［ＶＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表されるビス−インドール化合物又はその塩を製造する工程は、好ましくは以下の１）又は２）の製造法の何れかで実施することができる。
１）不活性溶媒中、一般式［ＩＸ］で表されるマレイミド化合物１モルに対して、一般式［ＸＩＩ］で表されるインドール化合物約２〜４モル及び一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライド約２〜４モルを約３０℃〜１２０℃で約０．５時間〜２４時間反応させる。

２）不活性溶媒中、一般式［ＩＸ］で表されるマレイミド化合物１モルに対して、一般式［ＸＩＩ］で表されるインドール化合物約２〜４モル及び一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物約０．８〜４モルを約３０℃〜１２０℃で約０．５時間〜２４時間反応させる。

３）不活性溶媒中、一般式［ＩＸ］で表されるマレイミド化合物１モルに対して、一般式［ＸＩＩ］で表されるインドール化合物約２〜４モル、並びに一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライド及び一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物からなる混合物約０．８〜４モルを約３０℃〜１２０℃で約０．５時間〜２４時間反応させる。

１）、２）及び３）の製造法に使用される溶媒は、例えばトルエン又はトルエンとテトラヒドロフランの混合溶媒が好ましい。

本工程に用いられる一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライドとしては、例えばメチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムクロリド、ｎ−プロピルマグネシウムクロリド、イソプロピルマグネシウムクロリド、ｎ−ブチルマグネシウムクロリド、ｓ−ブチルマグネシウムクロリド、イソブチルマグネシウムクロリド、ｔ−ブチルマグネシウムクロリド、ｎ−ペンチルマグネシウムクロリド、ｎ−ヘキシルマグネシウムクロリド、フェニルマグネシウム＝クロリド、ビニルマグネシウムクロリド、アリルマグネシウムクロリド又はそれらの混合物などのアルキルマグネシウムクロリドが挙げられる。

本工程に用いられる一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物としては、例えばジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジ（ｎ−プロピル）マグネシウム、ジイソプロピルマグネシウム、ジ（ｎ−ブチル）マグネシウム、ジ（ｓ−ブチル）マグネシウム、ジイソブチルマグネシウム、ジ（ｔ−ブチル）マグネシウム、ジ（ｎ−ペンチル）マグネシウム、ジ（ｎ−ヘキシル）マグネシウム、（ｎ−ブチル）（ｓ−ブチル）マグネシウム、（メチル）（ｓ−ブチル）マグネシウム、（エチル）（ｓ−ブチル）マグネシウム、（メチル）（ｎ−ブチル）マグネシウム、（エチル）（ｎ−ブチル）マグネシウム、（メチル）（ｔ−ブチル）マグネシウム、（エチル）（ｔ−ブチル）マグネシウム、（ｎ−プロピル）（ｎ−ブチル）マグネシウム、（ｎ−プロピル）（ｓ−ブチル）マグネシウム、（ｎ−プロピル）（ｉ−プロピル）マグネシウム、（ｎ−ブチル）（ｉ−プロピル）マグネシウム、（ｓ−ブチル）（ｉ−プロピル）マグネシウム、（ｉ−ブチル）（ｉ−プロピル）マグネシウム、（ｎ−プロピル）（ｉ−ブチル）マグネシウム、ジフェニルマグネシウム又はそれらの混合物が挙げられる。

次ぎに、前工程で得られた一般式［ＶＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表されるビス−インドール化合物又はその塩を閉環して、一般式［ＶＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造する工程は、好ましくは以下の１）及び２）の方法で実施できる。

１）一般式［ＶＩＩＩ］で表される化合物又はその塩を、不活性溶媒中、一般式［ＶＩＩＩ］で表される化合物又はその塩１ｍｏｌに対して、例えば、２，３-ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（以下、ＤＤＱと略）、例えばＰｄＣｌ_２若しくはＰｄ（ＯＡｃ）_２などのパラジウム試薬、又はＣｕＣｌ_２等の銅試薬の試薬を約１〜１０当量使用して約２０℃〜２００℃で約１分間〜５日間処理することにより実施できる。

１）工程で使用できる溶媒としては、通常不活性溶媒として知られているものならどのようなものでもよく、例えばテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスホキサイド、Ｎ−メチルピロリドン又はＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の極性溶媒や例えばベンゼン、トルエン、キシレン（ｏ，ｍ又はｐ）、エチルベンゼン又は１，２，４−トリメチルベンゼン等の非極性溶媒が挙げられる。２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンを使用する場合、上記極性溶媒を使用するときは、反応又は処理工程中青酸ガスが発生するが、非極性溶媒を使用するときは、青酸ガスの発生を抑制することができて、工程管理に好都合である。

２）一般式［ＶＩＩＩ］で表される化合物又はその塩を、不活性溶媒中、一般式［ＶＩＩＩ］で表される化合物１ｍｏｌに対して、例えば、酸素、空気、エチレン又はアセチレンからなる群から選ばれる酸化剤の約１〜５気圧雰囲気中、及び、例えばパラジウム又は白金などの遷移金属触媒を炭素、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム又はシリカゲルなどに担持したものからなる群から選ばれる触媒として約０．０１〜１．０当量から構成される試薬を使用して約２０℃〜２００℃で約１分間〜５日間処理することにより実施できる。

２）工程で使用できる不活性溶媒としては、本工程で使用できる不活性溶媒としては、例えばトルエン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスホキサイド、Ｎ−メチルピロリドン又はジメチルアセトアミドが挙げられる。

次ぎに、前工程で得られた一般式［ＶＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を、一般式［ＶＩ］：

［式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は水酸基の保護基を、Ｘ^１はハロゲン原子を示す］で表される活性化されたグルコース誘導体と、好ましくは水性溶媒中塩基及び不活性有機溶媒中相間移動触媒からなる系を用いてカップリングさせることにより、一般式［Ｖ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＹは、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造する工程は、以下のようにして実施することができる。
一般式［ＶＩ］：

［式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は水酸基の保護基を、Ｘ^１はハロゲン原子を示す］で表される活性化されたグルコース誘導体は、一般式［ＶＩａ］：

［式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は水酸基の保護基を示す］で表されるグルコース誘導体を、好ましくは不活性溶媒中で、例えば酸ハライド、スルフォニルクロリド、ヨウ素−トリフェニルホスフィン又はヨウ素−トリフェニルホスフィンと、約−５０℃〜約２００℃、好ましくは約−１０℃〜３０℃で反応させることにより製造することができる。

本工程で使用される酸ハライドとしては、例えばＳＯＣｌ_２、ＰＯＣｌ_３、ＳＯＢｒ_３、ＰＯＢｒ_３、ＰＢｒ_３又はシュウ酸クロリド等が挙げられ、好ましくはＳＯＣｌ_２又はシュウ酸クロリドであり、最も好ましい酸ハライドはＳＯＣｌ_２である。

本工程で使用される不活性溶媒としては、例えばトルエン、キシレン類、ヘプタン又はヘキサン等の炭化水素、例えばアセトニトリル等のニトリル類、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、例えば、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルム、トリフロロトルエン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、又は例えばメチルイソブチルケトン又はアセトン等のケトン類が挙げられ、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル又はテトラヒドロフランであり、さらに好ましくはｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルである。
なお、一般式［ＶＩａ］で表されるグルコース誘導体は、市販品を利用できる。

得られた一般式［ＶＩ］で表される活性化されたグルコース誘導体は、一般式［ＶＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩と、水性溶媒中塩基及び不活性有機溶媒中相間移動触媒からなる系を用いて、通常約−５０℃〜２００℃、好ましくは約０℃〜４０℃でカップリングさせる。
本工程で使用される水性溶媒は、例えば水である。

本工程で使用される塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化セシウム等の水酸化アルカリが挙げられ、好ましくは水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムである。当該塩基の使用時の濃度は、約５重量パーセント〜約９５重量パーセント、好ましくは４５重量パーセント〜約５０重量パーセントである。

本工程で使用される不活性有機溶媒としては、例えばトルエン、キシレン類、ヘプタン又はヘキサン等の炭化水素、例えばアセトニトリル等のニトリル類、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル類、例えば、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルム、トリフロロトルエン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、例えばメチルイソブチルケトン又はアセトン等のケトン類、又は例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド又は１−メチル−２−ピロリジノン等の非イオン性溶媒が挙げられ、好ましくはｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、塩化メチレン又はトリフロロトルエンである。

本工程で使用される相間移動触媒としては、たとえば、一般式［ＸＩＶ］：

［式中、Ｒ^ａは、同一又は異なっていてもよく水素原子、ベンジル基又は炭素数１〜１８個の炭化水素基を、Ｍは窒素原子又はリン原子を、Ａは水酸基、フッ素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ＨＳＯ_４、ＣＨ_３ＳＯ_３又はＰｈＣＨ_２ＣＯＯをそれぞれ示す］で表される化合物又はトリス（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）アミンが挙げられ、好ましくはトリカプリルメチルアンモニウムクロリド、トリス（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）アミン、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド又はトリブチルアンモニウム水素スルファートである。

次ぎに、前工程で得られた一般式［Ｖ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＹは、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を、好ましくは不活性溶媒中で塩基で処理して、一般式［ＩＶ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造する工程は、通常、一般式［Ｖ］で表される化合物又はその塩１モルに対して、塩基を約５０モルないし１００モル、好ましくは約５０〜７０モル用いて、好ましくは反応に悪影響を及ぼさない不活性溶媒中で行われる。

当該不活性溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール又はｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール類、ジメチルスルホキサイド、又はそれらの混合溶媒等が挙げられ、特にメタノール、エタノール又はイソプロパノール等が好ましい。

塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、カリウムメトキサイド、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキサイド又はカリウムｔｅｒｔ−ブトキサイド等の塩基が挙げられ、中でも水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はナトリウムメトキサイド等が好適である。
反応温度は、通常、室温〜約６０℃、好ましくは約３０℃〜５０℃であり、反応時間は、通常、約１時間〜１日間、好ましくは約３時間〜１０時間である。

次ぎに、前工程で得られた一般式［ＩＶ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を、一般式［ＩＩＩ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造する工程は、通常、一般式［ＩＶ］で表される化合物又はその塩１モルに対して、一般式［ＩＩＩ］で表される化合物を約等モルないし３．０モル、好ましくは約１．０〜１．５モル用いて、反応に悪影響を及ぼさない不活性溶媒中で行われる。
本工程は、酸捕捉剤、又は酸捕捉剤及び乾燥剤の存在下で行うこともできる。当該酸捕捉剤の使用量は、一般式[ＩＶ]で表される化合物又はその塩１モルに対して、約０．１モルないし１００モル、好ましくは約０．１モル〜２モルである。当該乾燥剤の使用量は、一般式[ＩＶ]で表される化合物又はその塩１モルに対して、約０．１モルないし１００モル、好ましくは約０．１モル〜２モルである。

当該不活性溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキサイド、Ｎ−メチルピロリドン又はそれらの混合溶媒等が挙げられ、特にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチルピロリドン等が好ましい。
反応温度は、通常、室温〜約９０℃、好ましくは約３０℃〜７０℃であり、反応時間は、通常、約１時間〜１日間、好ましくは約１時間〜３時間である。
当該酸捕捉剤としては、例えばエチルジメチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルジエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，６−ｔｅｒｔ−ブチルピリジン、２，４，６−コリジン、１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]ノナ−５−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]ウンデカ−７−エン（ＤＢＮ）、ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，４−ジアザビシクロ[２．２．２]オクタン（ＤＡＢＣＯ）、Ｎ−メチルモルホリンが挙げられ、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルアミン等の低級アルキルアミンであり、更に好ましくはトリエチルアミンである。
当該乾燥剤としては、例えば硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、モレキュラー・シーブ、ＨＣ（Ｏ−ｉ−Ｐｒ）_３、ＨＣ（Ｏ−Ｅｔ）_３、ＨＣ（Ｏ−ＣＨ_３）_３又は（ＣＨ_３）_２Ｃ（ＯＣＨ_３）_２であり、好ましくは硫酸マグネシウム又は硫酸ナトリウム、モレキュラー・シーブであり、さらに好ましくは硫酸マグネシウムである。

次ぎに、前工程で得られた一般式［ＩＩ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩の保護基を除去することにより、式［Ｉ］：

で表されるインドロピロロカルバゾール誘導体又はその塩を製造する工程は、接触還元下に本反応を行う場合、触媒としては、例えばパラジウム−炭素触媒又はラネーニッケル触媒等が挙げられる。これらの触媒は公知のものであってよい。

接触還元反応における水素圧は、通常、常圧〜３気圧が好ましく、また触媒の使用量は、原料の化合物［ＩＩ］の質量１に対して、通常、約１／１００〜１倍量、好ましくは約１／１００〜１／１０倍量である。

反応溶媒としては、たとえばメタノール、エタノール、イソプロパノール又はブタノール等のアルコール系溶媒とテトラヒドロフランとの混合溶媒が挙げられ、イソプロパノール／テトラヒドロフラン（５０／５０）の混合溶媒が好ましい。
反応温度は、通常、約−３０℃〜６０℃、好ましくは約０℃〜５０であり、反応時間は、通常、瞬時〜７日間程度、好ましくは瞬時〜２４時間程度である。

得られた化合物［Ｉ］又はその塩の精製方法は、以下のようにして行うこともできる。
得られた反応液を濾過し、その濾液のｐＨを約１．５〜約６．５、好ましくは約１．５〜約６．５、更に好ましくは約２．５に調整する。

化合物［I］の濃度が約１０ｍＬ／ｇ〜約２０ｍＬ／ｇ、好ましくは約１２ｍＬ／ｇ〜約１８ｍＬ／ｇ、さらに好ましくは約１５ｍＬ／ｇとなるように、得られた溶液に、約１０％〜約３０％含水アルコール、好ましくは約１５％〜約２５％含水アルコール、さらに好ましくは約２０％含水アルコールを加えて調整する。
得られた溶液を約５０℃〜約１００℃、好ましくは約７０℃に加温する。
得られた溶液に、その液量の２／３の量のアルコールを添加する。
得られた溶液を、約５０℃〜約１００℃、好ましくは約７０℃で保持する。（結晶が析出する）結晶を濾取する。
なお、濾過時には、結晶懸濁液中の水分含量は、約１ｗ／ｖ％〜約１０ｗ／ｖ％とするように調整する。

本工程で使用されるアルコールとしては、炭素数１〜５個の脂肪族アルコールが挙げられ、好ましくは、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ペンタノール又はイソペンタノール等が挙げられ、このましくはイソプロパノールである。

ｐＨの調整に使用される塩基としては、たとえばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ノナ−５−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＮ）、ジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）又はＮ−メチルモルホリン等が挙げられ、好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルアミン等の低級アルキルアミンであり、更に好ましくはトリエチルアミンである。

以上の各製造工程で得られる化合物は、それ自体既知の方法、例えばシリカゲル、吸着樹脂等を用いるカラムクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、溶媒抽出又は再結晶・再沈澱等の常用の分離精製法を必要に応じて単独又は適宜組み合わせて用い、精製・単離することができる。

本発明は、上記ロジウム化合物及び上記金属化合物を含むことを特長とする水素添加反応用触媒に関するものでもある。
この触媒は、化合物の還元のために使用するものであって、上記したロジウム化合物及び金属化合物を含む触媒であって、本願では、ロジウム化合物及び金属化合物の併存状態又は混合状態を権利として請求するものである。従って、本発明の触媒は、ロジウム化合物及び金属化合物以外に、さらに、例えば溶媒などが含まれ又は存在していてもよい。本発明の触媒が利用される還元反応は、上記（１）における還元反応に限られるべきものでないが、ニトロ基からアミノ基への還元反応、並びにアルケニル基又はアルキニル基をそれに対応するアルキル基への還元反応であるのが好ましい。本発明の触媒は、ニトロ基からアミノ基への還元、並びにアルケニル基又はアルキニル基をそれに対応するアルキル基への還元に用いる場合に、特異的な作用があり、工業上極めて有用である。この「特異的な作用」としては、例えば、ニトロ基からアミノ基への還元、並びにアルケニル基又はアルキニル基をそれに対応するアルキル基への還元反応において、被還元物質がニトロ基、アルケニル基又はアルキニル基に加えて、ニトロ基、アルケニル基又はアルキニル基以外の例えばベンジルオキシ、アルデヒド又はケトン等のカルボニル基、ハロゲンなどの基を有していたとしても、これらの「ニトロ基、アルケニル基又はアルキニル基以外の基」の還元を実質的に停止若しくは抑制するか、或いはニトロ基からアミノ基への還元、並びにアルケニル基又はアルキニル基をそれに対応するアルキル基への還元が「ニトロ基、アルケニル基又はアルキニル基以外の基」の還元に優先することが注目点として挙げられる。さらに、ニトロ基からアミノ基への還元、並びにアルケニル基又はアルキニル基をそれに対応するアルキル基への還元を促進させる作用も観察された。特に、ロジウム−担体触媒及び金属化合物として鉄塩、ニッケル塩、もしくはコバルト塩からなる触媒を用いて接触還元反応を行うと、ベンジルエーテル、芳香族ハロゲン、アルデヒド又はケトン等の官能基の還元を実質的に停止若しくは抑制し、ニトロ基をアミノ基に選択的に還元すること、並びにアルケニル基又はアルキニル基をそれに対応するアルキル基に選択的に還元することができる。従って、本発明の触媒を還元反応に用いることによって、従来の還元反応で用いられてきた保護基で保持し、還元反応を行い、その後保護基を脱保護させるなどの繁雑な工程を必要としない。

本発明においては、上記触媒がロジウム化合物及び金属化合物の他に、上記したようにさらに上記アミンを含むのが好ましい。アミンを含む本発明の触媒を還元反応に用いることによって、アミンを含まない上記触媒を還元反応に用いる場合より、反応速度が飛躍的に向上し、例えばベンジルエーテルなどの還元されやすい官能基が還元される確率がより下がり、さらにより特異的にニトロ基、アルケニル基又はアルキニル基を還元でき、その収率もより向上し得る。

以下、実施例及び参考例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。

実施例１

[Ｂｎ：ベンジル基（以下同じ）、Ｒｈ／Ｃ：ロジウム−カーボン粉末（以下同じ）、Ａｃ：アセチル基（以下同じ）]
窒素気流下、マグネチックスターラー、及び温度計を取り付けられた１００ｍＬ三つ口フラスコに、３−ベンジルオキシ−６−（２−ピロリジニルビニル）ニトロベンゼン（１）（５．００ｇ，１５．４ｍｍｏｌ）、５％ロジウム−カーボン粉末（９５２ｍｇ，０．４６２ｍｍｏｌ）、酢酸鉄（II）（５３６ｍｇ，３．０８ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）を加え、水素雰囲気下とした。その懸濁液を２２℃〜２５℃で、２４時間攪拌した後、窒素気流下とし、一夜攪拌した。つづいて、その懸濁液に２８％アンモニア水（１０ｍＬ）及び５％食塩水（２０ｍＬ）を加え１時間攪拌した後、固体を濾別し、トルエン（１００ｍＬ）で残さを洗浄した。濾液と洗液を合わせ、１０％クエン酸水（５０ｇ）、５％重曹水（５０ｇ）、２０％食塩水（５０ｇ）で順次洗浄した後、減圧下、濃縮乾固した。残渣をトルエン（約１００ｍＬ）に溶解した後、シリカゲル（５ｇ）を敷いた濾過器により濾過し、そのシリカゲルをトルエンにて洗浄した。得られた無色溶液（１５２．１５ｇ）を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると、目的のインドール化合物（２）が、収量３．１５ｇ（収率９１％）で得られた。

^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨz，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ）：１０．９０（bｒ．ｓ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈz，１Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈz，１Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝７．５，７．５Ｈz，１Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝７．５，７．５Ｈz，１Ｈ），７．２１（bｒ．ｄｄ，Ｊ＝２．４，２．４Ｈz，１Ｈ），７．０１（bｒ．ｍ，１Ｈ），６．７７（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．６Ｈz，１Ｈ），６．３６（ｂｒ．ｍ，１Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ）

^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２６ＭＨz，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ）：１５４．７，１３８．０，１３６．８，１２８．７，１２８．０，１２７．９，１２４．４，１２２．５，１２０．９，１１０．１，１０１．３，９６．３，６９．９

実施例２〜実施例１８
ロジウム−カーボン粉末（以下、Ｒｈ／Ｃと略）添加剤として酢酸鉄（ＩＩ）の代わりに、下記の表の添加剤を用いて、実施例１と同様に処理した。

なお、ａｃａｃは、下記の構造式で示される基を意味する。Ａｃはアセチル基を意味する。

実施例１９

［Ｅｔはエチル基を意味し、Ｍｅはメチル基を意味する（以下同じ）。］
窒素気流下、マグネチックスターラー、ジムロート氏冷却器、及び温度計を取り付けられた５０ｍＬ三つ口フラスコに６−ベンジルオキシインドール（２）（２．００ｇ，８．９６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２．７０ｍＬ）及びトルエン（１５．２ｍＬ）を加え、３３℃に加熱した。つづいて、２．００Ｍエチルマグネシウムクロリドジエチルエーテル溶液（４．４８ｍＬ，８．９６ｍｍｏｌ）を７分かけて加えた後、５５℃〜６０℃で１時間攪拌した。Ｎ−メチル−１，２−ジクロロマレイミド（７３０ｍｇ，４．０６ｍｍｏｌ）をトルエン（４．４ｍＬ）に溶解し、その溶液を１０分かけて加え、その容器をトルエン（１ｍＬ）で洗浄し、その洗液も加えた後、５５℃〜６０℃で２０分間攪拌した。さらに反応混合液を１００℃〜１０８℃に加熱して１２時間攪拌した後、室温まで放冷し、一夜攪拌した。つづいて、８０℃に加熱した後、反応混合液にトルエン（１５．２ｍＬ）及び１３％塩化アンモニウム水溶液（１７ｍＬ）を加え、室温まで冷却した。その懸濁液を濾過し、得られた赤色固体をトルエン（２０ｍＬ）、トルエン−水（混合比：１：１，２０ｍＬ）及びメタノール（２０ｍＬ×２）で順次洗浄した後、減圧下室温にて一夜乾燥することにより、目的のビスインドール（３）を収量１．８９ｇ（収率８４％）で得た。

^１Ｈ-ＮＭＲ (５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ６，δｐｐｍ)：１１．５０ (ｓ，２Ｈ)，７．６３ (ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．４２ (ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．３７ (ｄｄ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．３０ (ｄｄ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，２Ｈ)，６．９７ (ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，２Ｈ)，６．７２ (ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ)，６．４１ (ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．８Ｈｚ，２Ｈ)，５．０４ (ｓ，４Ｈ)，３．０３ (ｓ，３Ｈ)
^１３Ｃ-ＮＭＲ (１２６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ６，δｐｐｍ)：１７２．２，１５５．０，１３７．７，１３７．１，１２８．７，１２８．５，１２８．１，１２８．０，１２７．１，１２２．０，１２０．１，１１０．４，１０６．１，９６．３，６９．７，２４．３．
ｍ．Ｐ．：ｃａ．２４０℃ (分解点)

実施例２０

窒素気流下、マグネチックスターラー、ジムロート氏冷却器、及び温度計を取り付けられた５０ｍＬ三つ口フラスコに６−ベンジルオキシインドール（２）（２．００ｇ，８．９６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２．６４ｍＬ）及びトルエン（１５．２ｍＬ）を加え、３８℃に加熱した。つづいて、０．９０Ｍジブチルマグネシウムヘプタン溶液（ジ（ｎ−ブチル）マグネシウム、ジ（ｓ−ブチル）マグネシウム及び（ｎ−ブチル）（ｓ−ブチル）マグネシウムの混合物を含むヘプタン溶液）（４．９６ｍＬ，４．４７ｍｍｏｌ）を１０分かけて加えた後、５５℃〜６０℃で１時間攪拌した。Ｎ−メチル−１，２−ジクロロマレイミド（７３０ｍｇ，４．０６ｍｍｏｌ）をトルエン（４．４ｍＬ）に溶解し、その溶液を１０分かけて加え、その容器をトルエン（１ｍＬ）で洗浄し、その洗液も加えた後、５５℃〜６０℃で攪拌した。固体が析出したので、テトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）を加え均一溶液にした後、５５℃〜６０℃で３０分間攪拌した。さらに反応混合液を９８℃〜１００℃に加熱して１２時間攪拌した後、室温まで放冷し、一夜攪拌した。つづいて、９０℃に加熱した後、反応混合液に１３％塩化アンモニウム水溶液（１７ｍＬ）を加え、室温まで冷却した。その懸濁液を濾過し、得られた赤色固体をトルエン（２０ｍＬ）、トルエン−水（混合比：１：１，２０ｍＬ）及びメタノール（２０ｍＬ×２）で順次洗浄した後、減圧下室温にて一夜乾燥することにより、目的のビスインドール（３）を収量１．８５ｇ（収率８２％）で得た。

^１Ｈ-ＮＭＲ (５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ６，δｐｐｍ)：１１．５０ (ｓ，２Ｈ)，７．６３ (ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．４２ (ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．３７ (ｄｄ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，２Ｈ)，７．３０ (ｄｄ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ，２Ｈ)，６．９７ (ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，２Ｈ)，６．７２ (ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ)，６．４１ (ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．８Ｈｚ，２Ｈ)，５．０４ (ｓ，４Ｈ)，３．０３ (ｓ，３Ｈ)

^１３Ｃ-ＮＭＲ (１２６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ６，δＰＰｍ)：１７２．２，１５５．０，１３７．７，１３７．１，１２８．７，１２８．５，１２８．１，１２８．０，１２７．１，１２２．０，１２０．１，１１０．４，１０６．１，９６．３，６９．７，２４．３
融点：約２４０℃ (分解点)．

比較例２

窒素気流下、マグネチックスターラー、ジムロート氏冷却器、及び温度計を取り付けられた５０ｍＬ三つ口フラスコに６−ベンジルオキシインドール（２）（２．００ｇ，８．９６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２．６４ｍＬ）及びトルエン（１５．２ｍＬ）を加え、３８℃に加熱した。つづいて、２．８２Ｍエチルマグネシウムブロミドジエチルエーテル溶液（３．１２ｍＬ，８．８２ｍｍｏｌ）を７分かけて加えた後、５５℃〜６０℃で１時間攪拌した。Ｎ−メチル−１，２−ジクロロマレイミド（７３０ｍｇ，４．０６ｍｍｏｌ）をトルエン（４．４ｍＬ）に溶解し、その溶液を７分かけて加え、その容器をトルエン（１ｍＬ）で洗浄し、その洗液も加えた後、５５℃〜６０℃で３０分間攪拌した。さらに反応混合液を１００℃〜１０７℃に加熱して１２時間攪拌した後、室温まで放冷し、一夜攪拌した。つづいて、８０℃に加熱した後、反応混合液にトルエン（１５．２ｍＬ）及び１３％塩化アンモニウム水溶液（１７ｍＬ）を加え、室温まで冷却した。その懸濁液を濾過し、得られた赤色固体をトルエン（２０ｍＬ）、トルエン：水（１：１，２０ｍＬ）及びメタノール（２０ｍＬ×２）で順次洗浄した後、減圧下室温にて一夜乾燥することにより、目的のビスインドール（３）を収量１．７３ｇ（収率７０％）で得た。

^１３Ｃ -ＮＭＲ (１２６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ-ｄ６，δｐｐｍ)：１７２．２，１５５．０，１３７．７，１３７．１，１２８．７，１２８．５，１２８．１，１２８．０，１２７．１，１２２．０，１２０．１，１１０．４，１０６．１，９６．３，６９．７，２４．３
融点：約２４０℃ (分解点)

実施例２１

窒素気流下、マグネチックスターラー、ジムロート氏冷却器、及び温度計を取り付けられた３００ｍＬ三つ口フラスコにビスインドール体（３）（３．００ｇ，５．４２ｍｍｏｌ）及びトルエン（７５．３ｍＬ）を加え、１１０℃に加熱した。つづいて、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）（１．３７ｇ，６．０３ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４８．０ｍＬ）を１５分かけて１１０℃〜１０７℃で加えた後、トルエン（１２ｍＬ）でその容器を洗浄し、その洗液も加えた。１０８℃〜１１０℃で１時間攪拌した後、反応液を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると原料が消失していたので、７１℃まで冷却し、メタノール（１３４ｍＬ）を３時間かけて、６０℃〜７１℃で加えた[測定時期Ａ]。室温まで冷却して一夜攪拌した後[測定時期Ｂ]、濾過し、メタノール（１５ｍＬ×２）で洗浄した。得られた褐色固体（２８７６ｍｇ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５４ｍＬ）に懸濁し、９５℃〜１０５℃に加熱して１時間攪拌した後、室温まで放冷し、一夜攪拌した。濾過して、メタノール（１５ｍＬ×２）で洗浄した後、得られた黄色固体（３０１８ｍｇ）をジメチルスホキシド（２８．３ｍＬ）に懸濁した。６０℃〜７０℃に加熱して上記の固体を溶解させた後、メタノール（１３．３ｍＬ）、つづいて少量の標記化合物を種晶として加え、１時間攪拌して懸濁液を熟成させた。さらにメタノール（４２．４ｍＬ）を２時間かけて加えた後、室温まで冷却し、一夜攪拌した。濾過して、メタノール（１５ｍＬ×２）で洗浄後、減圧下、６０℃で一夜乾燥すると、目的のインドールカルバゾール誘導体（４）が黄色結晶（２５８９ｍｇ，収率８７％）で得られた。

^１Ｈ−ＮＭＲ(５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ): １１.２６ (ｓ，２Ｈ)，８.６９ (ｄ，Ｊ＝８.７Ｈｚ，２Ｈ)，７.５４ (ｄ，Ｊ＝７.３Ｈｚ，２Ｈ)，７.４３ (ｄｄ，Ｊ＝７.３，７.３Ｈｚ，２Ｈ)，７.３７ (ｄｄ，Ｊ＝７.３，７.３Ｈｚ，２Ｈ)，７.２７ (ｄ，Ｊ＝２.１Ｈｚ，２Ｈ)，６.７２ (ｄ，Ｊ＝８.８Ｈｚ，２Ｈ)，６.９６ (ｄｄ，Ｊ＝２.１，８.７Ｈｚ，２Ｈ)，５.２２ (ｓ，４Ｈ)，２.９６ (ｓ，３Ｈ).

融点: 約３２４℃ (分解点).
ＨＰＬＣ測定条件:
分離カラムＹＭＣＡＭ−３０３２５０×４．６ｍｍ，４０℃，
ＵＶ＝２２０ｎＭ，注入量１０μＬ，
移動相：ＭｅＣＮ−０．１％リン酸＝（ｔ＝０６５：３５，ｔ＝２０９０：３０），流速１ｍＬ／分

実施例２２

窒素気流下、３００ｍＬ四つ口フラスコにトルエン（７５．３ｍＬ）及びビスインドール体（３．００ｇ，５．４２ｍｍｏｌ）（３）を加え、その懸濁液を７０℃に加熱した。つづいて、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）（１．２９ｇ，５．６９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２４．０ｍＬ）を１時間かけて加えた後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６．０ｍＬ）でその容器を洗浄し、その洗液も加えた。７０℃で１時間攪拌した後[測定時期Ｃ]、反応液を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると原料が消失していたので、メタノール（１３４ｍＬ）を２時間かけて加えた。７０℃で１時間攪拌した後、２５℃まで冷却し、その温度で一晩攪拌した。濾過し、メタノール（１５ｍＬ×２）で洗浄した後、得られた黄色固体を減圧下、２５℃で一夜乾燥すると、目的のインドールカルバゾール誘導体（４）の粗結晶が黄色結晶（３．０８ｇ）で得られた。

実施例２３

窒素気流下、８０Ｌ反応容器にトルエン（２８．６ｋｇ）及びビスインドール体（３）（１．５０ｋｇ、２．７１ｍｏｌ）を加え、反応容器の内壁をトルエン（３．９ｋｇ）で洗浄し、その洗液も加え、その懸濁液を１１０℃に加熱した。つづいて、２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤＱ）（０．６５ｋｇ、２．８６ｍｏｌ）のトルエン溶液（２０．８Ｌ）を１時間かけて加えた後、トルエン（５．２ｋｇ）でその容器を洗浄し、その洗液も加えた。１１０℃で１時間攪拌した後、反応液を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると原料が消失していたので、２５℃まで０．５時間かけて冷却した[測定時期Ｄ]。その温度で１時間攪拌した後、濾過し、トルエン（１３ｋｇ）で洗浄した。得られた褐色固体（２．０７ｋｇ）を減圧下、６０℃で一夜乾燥した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２５．４ｋｇ）に懸濁し、１００℃〜１０５℃に加熱して１時間攪拌した。２５℃まで１時間かけて冷却し、一夜攪拌した[測定時期Ｅ]。濾過して、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（９．８ｋｇ）とメタノール（８．２ｋｇ）で洗浄した後、６０℃で一夜乾燥した。得られた黄色固体（１．５１ｋｇ）をジメチルスホキシド（１６．７ｋｇ）に懸濁し、６０℃に加熱して上記の固体を溶解させた後、メタノール（５．６ｋｇ）、つづいて目的のインドールカルバゾール誘導体（４）を種晶（８．０ｇ）として加え、６０℃〜６５℃で１時間攪拌して懸濁液を熟成させた。さらにメタノール（１８．０ｋｇ）を２時間かけて加えた後、その温度で１時間攪拌して、２５℃まで冷却し、一夜攪拌した。濾過して、メタノール（１２ｋｇ）で洗浄後、減圧下、６０℃で一夜乾燥すると、目的のインドールカルバゾール誘導体（４）が黄色結晶（１．２９ｋｇ、収率８６％）で得られた。[ ]内の測定時期は、青酸ガスの測定時期であって、下記試験例における炭酸ガスの測定参照。
本実施例の目的化合物（４）の核磁気共鳴スペクトル及び赤外線吸収スペクトルのデータは、実施例２１の目的化合物のそれと一致した。

試験例

測定方法：
反応容器から排出される窒素ガスを、０．０５Ｎ水酸化ナトリウム溶液（ビスインドール体（３）１ｇにつき、７ｍＬを使用）中に、処理工程の間導入した。得られた当該水酸化ナトリウム溶液について、イオン試験紙（ＣＮ⁻）（ＡＤＶＡＮＴＥＣ（アドバンテック）製）にて測定した。

実施例２４

空気下、マグネチックスターラーが取り付けられた５０ｍＬなす型フラスコにビスインドール体（３）（５００ｍｇ、０．９０３ｍｍｏｌ）、５％パラジウム−炭素粉末（３８４ｍｇ、０．１８１ｍｍｏｌ）及びトルエン（２２ｍＬ）を加え、１０５℃の油浴で加熱した。その温度で４日間攪拌後、冷却し、濃縮乾固し、ジメチルスルホキシド（４０ｍＬ）を加え、不溶物を濾別した。得られた濾液を高速液体クロマトグラフィーにより分析し、目的化合物（４）（３３０ｍｇ、収率６６％）をジメチルスルホキシド溶液として得た。
本実施例の目的化合物（４）の核磁気共鳴スペクトル及び赤外線吸収スペクトルのデータは、本実施例２１の目的化合物のそれと一致した。

実施例２５

２，３，４，６−Ｏ−テトラベンジル−Ｄ−グルコピラノース（５）（１００．００ｇ，１８５ｍｍｏｌ）を２３℃でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド３６０ｍＬに溶解後、９℃に冷却した。得られた溶液に塩化チオニル（１６．２ｍＬ，２２２ｍｍｏｌ）を１５分間にわたり徐々に添加し、温度は２０℃に上昇した。得られた溶液を３０℃に加温し、１時間放置した。得られた溶液を−１０℃に冷却後、１０重量％水酸化カリウム（約１５０ｍＬ）を、０℃以下に保持しながら添加した。得られた溶液を２２℃に加温し、有機溶媒層と水層に分液した。得られた水層をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（３００ｍＬ×１回）で抽出した。当該有機溶媒層とｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル層を合わせ、飽和食塩水（１５０ｍＬ×１回）で洗浄し、さらに水（２００ｍＬ×１回）で洗浄した。得られた溶液を減圧下で３５０ｍＬまで濃縮した。この１−クロロ−２，３，４，６−テトラベンジル−１−デオキシ−Ｄ−グルコピラノース（６）を含む濃縮液を、さらに生成することなく実施例２６の原料とした。

実施例２６

実施例２１で得られたインドールカルバゾール誘導体（４）（７２．００ｇ，１３１ｍｍｏｌ）をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル６００ｍＬに溶解後、２３℃で１０分間攪拌した。得られた溶液に、実施例２３で得られた１−クロロ−２，３，４，６−テトラベンジル−１−デオキシ−Ｄ−グルコピラノース（６）を含む溶液（３５０ｍＬ）を加え、１０分間攪拌した。得られた溶液に４５重量％水酸化カリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、１０分間攪拌した。得られた溶液に、４０重量％アリクワット（Ａｌｉｑｕａｔ、登録商標）３３６（商品名）ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル溶液（アリクワット３３６（７２ｇ）をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（１１０ｇ）に溶解した溶液）を２２分間かけて、徐々に添加後、２３℃で６時間攪拌した。得られた溶液に水３５０ｍＬを加え、５分間攪拌した。得られた溶液を有機層と水層に分液し、水層をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（３００ｍＬ×１回）で洗浄した。得られたｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル層と当該有機層とを合わせ、１０重量％クエン酸水溶液（３００ｍＬ×１回）で洗浄し、ついで水（３００ｍＬ×１回）で洗浄した。得られた有機層を２２℃で一晩攪拌すると目的のインドールカルバゾール誘導体（７）の結晶が析出する。得られた懸濁液を、大気圧下でその液量が約６２５ｍＬとなるまで濃縮する。得られた懸濁液を２３℃まで冷却後、メタノール（２２５ｍＬ）を１時間にわたり、徐々に添加する。得られた懸濁液を−５℃に冷却後、４５分間攪拌する。結晶を濾取し、冷メタノール−ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（１：１）（４００ｍＬ×２回）で洗浄後、減圧下２５℃〜４０℃で乾燥した。
得られた結晶の高速液体クロマトグラフィーによる分析では、目的のインドールカルバゾール誘導体（７）の含量は９９％であった。
なお、本実施例に使用したアリクワット（Ａｌｉｑｕａｔ、登録商標）３３６は、アルドリッチケミカル社（ＡｌｄｒｉｃｈＣｈｅｍｉｃａｌＣｏ．，Ｉｎｃ．）製の塩化トリカプリルメチルアンモニウムである。

実施例２７

３００ｍＬ容４径フラスコに攪拌機、温度計をセットし、エタノール３６ｍＬを入れる。攪拌しながら１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジべンジルオキシ−１３−（β−Ｄ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ［２，３−ａ］ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール−６−メチル−５，７（６Ｈ）−ジオン（８）（６７０ｍｇ，０．６２ｍｍｏｌ）を入れ室温で１時間攪拌する。同温度で５Ｎ−水酸化カリウム水溶液（８ｍＬ）を２０分かけて滴下した。内温を６０℃にし４時間攪拌した後室温で一夜攪拌した。得られた褐色溶液にトルエン（２０ｍＬ）加え、同温度で１．０Ｎ−塩酸（６２ｍＬ）を３０分かけて滴下し、ｐＨ２．６とした。この黄色溶液にテトラハイドロフラン（１０ｍＬ）を加え６時間攪拌した。水層（下層）を分離し、有機層を精製水（１０ｍＬ×２回）、飽和食塩水（１０ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム（５ｇ）で乾燥し、濾過した。減圧で溶媒を留去した後、黄色油状残査の目的化合物である１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジべンジルオキシ−１３−（β−Ｄ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ［２，３−ａ］カルバゾール−５，６−ジカルボン酸無水物（０．６３ｇ；収率８５%）を得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３），ｄ（ｐｐｍ）：１０．７９（１Ｈ，ｓ），９．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），８．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），７．２６（３２Ｈ，ｍ），６．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），４．８９（１０Ｈ，ｍ），４．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），３．９６（６Ｈ，ｍ），３．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ）

実施例２８

実施例２７で得られた１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジべンジルオキシ−１３−（β−Ｄ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ［２，３−ａ］カルバゾール−５，６−ジカルボン酸無水物（９）（１．５０ｇ，１．４１ｍｍｏｌ）、Ｎ−（１−ベンジルオキシメチル−２−ベンジルオキシエチル）ヒドラジンヘミシュウ酸塩（１０）（６０９ｍｇ，１．８４ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１４ｍＬ）の混合物を脱気し、窒素置換後に６２℃まで加熱した。この溶液にトリエチルアミン（０．２６ｍＬ，１．８４ｍｍｏｌ）を滴下後、この温度で３時間攪拌し、室温に冷却してメチル＝ｔｅｒｔ−ブチル＝エーテル（１０ｍＬ）と水（７ｍＬ）を加えた。有機層を分液して水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。溶媒を減圧留去して目的化合物（１１）を得た。
^１Ｈ-ＮＭＲ (２７０ＭＨｚ，ＣＤＣl_３，δｐｐｍ): １０．６３ (１Ｈ，ｂｒ．ｓ)，９．２４ (１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ=９．６Ｈｚ)，９．１６ (１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ=９．６Ｈｚ)，７．５０-６．８４ (４２Ｈ，ｍ)，６．２０ (２Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ=７．６Ｈｚ)，５．８４ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=８．６Ｈｚ)，５．３３ (１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ=３．０Ｈｚ)，５．２１ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１２．２Ｈｚ)，５．１９ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１１．９Ｈｚ)，５．１６ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１２．２Ｈｚ)，５．０８ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１１．９Ｈｚ)，５．０８ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１０．９Ｈｚ)，４．９６ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１０．９Ｈｚ)，４．８９ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１０．９Ｈｚ)，４．８５ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１０．９Ｈｚ)，４．７２ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１２．９Ｈｚ)，４．６８ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=１２．９Ｈｚ)，４．６２-４．４８ (４Ｈ，ｍ)，４．３３ (１Ｈ，ｄｄ，Ｊ=９．６，９．６Ｈｚ)，４．０６-３．７７ (７Ｈ，ｍ)，３．７２ (４Ｈ，ｄ，Ｊ=５．６Ｈｚ)，３．０４ (１Ｈ，ｄ，Ｊ=９．９Ｈｚ)

^１３Ｃ-ＮＭＲ (６８ＭＨｚ，ＣＤＣl_３，δｐｐｍ): １６８．８，１６８．７，１５９．４，１５９．３，１４３．２，１４２．９，１３８．０，１３７．９，１３７．６，１３６．９，１３６．８，１３６．６，１３６．０，１３０．２，１２８．７，１２８．６，１２８．５，１２８．４，１２８．３，１２８．２，１２８．２，１２８．１，１２８．０，１２７．９，１２７．８，１２７．７，１２７．６，１２７．５，１２７．４，１２７．３，１２６．９，１２６．６，１１９．４，１１９．１，１１８．０，１１６．９，１１６．７，１１６．１，１１０．４，９６．７，９６．３，８５．８，８４．７，８０．９，７７．４，７７．２，７６．０，７５．９，７５．４，７４．９，７３．９，７３．３，７３．２，７０．７，７０．４，６９．９，６９．８，６６．７，５８．７，４９，４，３０．９，２７．０

実施例２９

実施例２７で得られた１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジべンジルオキシ−１３−（β−Ｄ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ［２，３−ａ］カルバゾール−５，６−ジカルボン酸無水物（９）（１．３０ｇ，１．２３ｍｍｏｌ）、Ｎ−（１−ベンジルオキシメチル−２−ベンジルオキシエチル）ヒドラジンモノシュウ酸塩（５９９ｍｇ，１．５９ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１２．３ｍＬ）の混合物を脱気し、窒素置換後に４５℃まで加熱した。この溶液にトリエチルアミン（３４．１μＬ，０．２５ｍｍｏｌ）を滴下後、この温度で１６時間攪拌し、室温に冷却してメチル＝ｔｅｒｔ−ブチル＝エーテル（２５ｍＬ）と水（６．１ｍＬ）を加えた。有機層を分液して水（５．２ｍＬ）で４回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾別した。最後に濾液を高速液体クロマトグラフィーにて分析すると、目的化合物（１１）（１．５０ｇ、収率９２％）を溶液として得た。
本実施例の目的化合物（１１）の核磁気共鳴スペクトル及び赤外線吸収スペクトルのデータが、実施例２８の目的化合物のそれと一致したことから、１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジベンジルオキシ−６−Ｎ−（１−ベンジルオキシメチル−２−ベンジルオキシエチルアミノ）−１３−（β−Ｄ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ[２，３−ａ]ピロロ[３，４−ｃ]カルバゾール５，７（６Ｈ）−ジオンと同定した。

実施例３０

実施例２７で得られた１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジべンジルオキシ−１３−（β−Ｄ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ［２，３−ａ］カルバゾール−５，６−ジカルボン酸無水物（９）（１．３０ｇ，１．２３ｍｍｏｌ）、Ｎ−（１−ベンジルオキシメチル−２−ベンジルオキシエチル）ヒドラジンモノシュウ酸塩（５９９ｍｇ，１．５９ｍｍｏｌ）、硫酸マグネシウム（１．４８ｇ、１２．３ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１２．３ｍＬ）の混合物を脱気し、窒素置換後に４５℃まで加熱した。この溶液にトリエチルアミン（４４６μＬ，３．２０ｍｍｏｌ）を滴下後、この温度で１０時間攪拌し、室温に冷却してメチル＝ｔｅｒｔ−ブチル＝エーテル（２５ｍＬ）と水（６．１ｍＬ）を加え、２Ｎ塩酸（１．３４ｍＬ）にて水層をｐＨ３．５に調節した。有機層を分液して水（５．２ｍＬ）で４回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾別した。最後に濾液を高速液体クロマトグラフィーにて分析すると、目的化合物（１１）（１．５０ｇ、収率９２％）を溶液として得た。
本実施例の目的化合物（１１）の核磁気共鳴スペクトル及び赤外線吸収スペクトルのデータが、実施例２８の目的化合物のそれと一致したことから、１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジベンジルオキシ−６−Ｎ−（１−ベンジルオキシメチル−２−ベンジルオキシエチルアミノ）−１３−（β−Ｄ−２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ[２，３−ａ]ピロロ[３，４−ｃ]カルバゾール５，７（６Ｈ）−ジオンと同定した。

実施例３１

１０％パラジウム−炭素（５０重量％、１１２ｇ）を水素添加反応容器に入れ、ついで、１２−β−Ｄ−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジルグルコピラノシル）−１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジベンジルオキシ−６−〔〔（２−ベンジルオキシ−１−（ベンジルオキシメチル）エチル）アミノ〕−５Ｈ−インドロ〔２，３−ａ〕ピロロ〔３，４−ｃ〕カルバゾール−５，７（６Ｈ）−ジオン（１３）のテトラヒドロフラン溶液（１７５ｇ／ｌ溶液、６．４Ｌ、１．１２ｋｇ）、イソプロパノール（７．９Ｌ）及び３Ｎ−ＨＣｌ（２２４ｍＬ）を入れ、４０℃で水素圧４０ｐｓｉで激しい攪拌下、水素の吸収率が、理論上の１１０％となるまで４時間〜１４時間水素添加反応を行なう。得られた反応溶液を２５℃に冷却し、ｓｏｌｋａｆｌｏｃ（ソルカフロック、登録商標）を用いて触媒等の固形物を濾取し、さらに濾取された固形物をイソプロパノール−テトラヒドロフラン（３：２）（３Ｌ×１回）で洗浄する。得られた濾液及び洗液を合わせ、１Ｍトリエチルアミンーイソプロパノール溶液（約６００ｍＬ）でｐＨ２．５とした後、水（４．０Ｌ）を加える。得られた溶液を大気圧下で液量が７．５Ｌとなるまで濃縮する。さらに、イソプロパノール−水（４：１）（６．５Ｌ）を添加しながら、濃縮を継続し、更にイソプロパノール（約９Ｌ）を供給し、且つ液量を約７．５Ｌに保ちながら、水分含量を２０％ｗ／ｖ％とするように濃縮する。得られた濃縮液の温度を７０℃とし、種晶５ｇをイソプロパノール５０ｍＬに懸濁して、添加後、７０℃で１時間保持し、イソプロパノール（５．０Ｌ）を１．５時間にわたり添加した。得られた溶液を７０℃で９〜２４時間保持すると結晶が析出する。さらに、得られた懸濁液をイソプロパノール（１７Ｌ）を供給しながら大気圧下で濃縮し、懸濁液中の水分含量を３ｗ／ｖ％とする。得られた懸濁液を７０℃で３〜６時間保持後、２２℃に冷却し、１時間保持する。得られた懸濁液を濾過し、得られたケーキをイソプロパノール（２．５Ｌ）で洗浄し、ついでメタノール（１．５Ｌ）で洗浄する。得られたケーキを減圧下３８℃で６時間乾燥すると、オレンジ色の結晶が得られる。その含量は９９％以上で、収率は８０％以上である。オレンジ色の結晶のマススペクトル、赤外線吸収スペクトル及び核磁気共鳴スペクトルの各データが国際公開ＷＯ９５／３０６８２の実施例６記載の化合物と一致したことにより、本実施例の目的化合物（１４）を１２，１３−ジヒドロ−２，１０−ジヒドロオキシ−６−Ｎ−（１−ヒドロキシメチル−２−ヒドロキシエチルアミノ）−１３−（β−Ｄ−グルコピラノシル）−５Ｈ−インドロ［２，３−ａ］ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール−５，７（６Ｈ）−ジオンと同定した。

高速液体クロマトグラフィーの測定条件
分離カラム：ＹＭＣＯＤＳ−ＡＱ（２５０×４．６ｍｍ）
流速：１．５ｍＬ／分
検出波長：２２８ｎｍ
移動相：Ａ＝０．１％Ｈ_３ＰＯ_４−水
Ｂ：アセトニトリル
注入量：１０μＬ
測定温度：２５℃

実施例３２

窒素気流下、マグネチックスターラーを取り付けられた３０ｍＬナス型フラスコに、３−ベンジルオキシ−６−（２−ピロリジニルビニル）ニトロベンゼン（１．００ｇ，３．０８ｍｍｏｌ）、５％ロジウム−カーボン粉末（６３．５ｍｇ，０．０３０９ｍｍｏｌ）、金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）（５．６ｍｇ，０．０３０９ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を加え、水素雰囲気下とした。その懸濁液を室温で、４１時間攪拌した後、窒素気流下とし、一夜攪拌した。つづいて、固体を濾別し、テトラヒドロフランで残さを洗浄した。濾液と洗液を合わせ、得られた褐色溶液（７９．８３ｇ）を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると、目的の６−ベンジルオキシインドール（２ｃ）が６６１ｍｇ（収率９６％）、及び副生成物の６−ヒドロキシインドール（３ｃ）が２ｍｇ（収率０．６％）で得られた。

６−ベンジルオキシインドール：
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ）：１０．９０（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），７．４９（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝７．５，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝７．５，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２１（ｂｒ．ｄｄ，Ｊ＝２．４，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｂｒ．ｍ，１Ｈ），６．７７（ｄｄ，Ｊ＝１．８，８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．３６（ｂｒ．ｍ，１Ｈ），５．１２（ｓ，２Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ）：１５４．７，１３８．０，１３６．８，１２８．７，１２８．０，１２７．９，１２４．４，１２２．５，１２０．９，１１０．１，１０１．３，９６．３，６９．９

６−ヒドロキシインドール：
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ）：１０．６８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），８．８８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），７．３３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１２（ｍ，１Ｈ），６．７９（ｍ，１Ｈ），６．５６（ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ，１Ｈ），６．３０（ｍ，１Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ）：１５３．７８，１３７．９０，１２４．００，１２１．９０，１２１．１７，１１０．３７，１０１．７５，９７．３６．

実施例３３〜実施例３５
実施例３２と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）の存在下で、２−（２−ピロリジニルビニル）ニトロベンゼンを水素還元した。その結果、以下の表３に示すごとく、高収率でインドールを得ることができた。

インドール：
生成物（２ｄ）に関しては、市販品と各種スペクトルデータを比較することにより同定した。

実施例３６〜実施例３８
実施例３２と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用いて、３−ベンジルオキシ−２−（２−ピロリジニルビニル）ニトロベンゼンを原料として還元反応を行った。
その結果、本発明の還元剤を使用した場合、以下の表４に示すごとく、比較例３に比べ、高収率で４−ベンジルオキシインドールを得、しかも、副生成物４−ヒドロキシインドールの生成量を低く抑えることができた。

４−ベンジルオキシインドール：
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３， δｐｐｍ）：８．１２（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），７．４９（ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．４４（ｂｒ．ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｍ，１Ｈ），７．１４（ｄｄ，Ｊ＝８．０，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１０（ｍ，１Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｍ，１Ｈ），６．６４（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，１Ｈ），５．２８（ｓ，２Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３， δｐｐｍ）：１５２．８８，１３７．９４，１３７．６６，１２８．８１，１２８．０５，１２７．６６，１２３．００，１１９．２３，１０５．０２，１０１．４６，１００．４０，７０．２７．

４−ヒドロキシインドール：
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３， δｐｐｍ）：８．１９（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），７．１３（ｍ，１Ｈ），７．０６（ｄｄ，Ｊ＝８．０，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），６．６２（ｍ，１Ｈ），６．５４（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），５．２２（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，δｐｐｍ）：１４９．０８，１３７．８６，１２３．１８，１２３．０３，１１７．６４，１０４．３７，１０４．２９，９８．９１．

実施例３９〜実施例４１
実施例３２と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用いて、４−ベンジルオキシ−２−（２−ピロリジニルビニル）ニトロベンゼンを原料として還元反応を行った。
その結果、本発明の還元剤を使用した場合、以下の表５に示すごとく、比較例４に比べ、高収率で５−ベンジルオキシインドールを得、しかも、副生成物５−ヒドロキシインドールの生成量を低く抑えることができた。

５−ベンジルオキシインドール：
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３， δｐｐｍ）：７．９２（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），７．４４（ｂｒ．ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３６−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．１７−７．１５（ｍ，２Ｈ），７．０３（ｍ，１Ｈ），６．９２（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．４２（ｍ，１Ｈ），５．０６（ｓ，２Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３， δｐｐｍ）：１５３．６４，１３７．９９，１３１．４５，１２８．８２，１２８．５３，１２８．０８，１２７．８９，１２５．３０，１１３．２９，１１２．０６，１０４．３２，１０２．５９，７１．２６．

５−ヒドロキシインドール：
^１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６， δｐｐｍ）：１０．７６（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），８．６１（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），７．２４（ｍ，１Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｂｒ．ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．６５（ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．２７（ｍ，１Ｈ）．
^１３Ｃ−ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６，δｐｐｍ）：１５１．４２，１３１．３８，１２９．３０，１２６．３７，１１２．５０，１１２．２０，１０４．７６，１０１．１２．

実施例４２〜実施例４４
実施例３２と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用いて、５−ベンジルオキシ−２−（２−ピロリジニルビニル）ニトロベンゼンを原料として還元反応を行った。その結果を以下の表６に示す。
その結果、本発明の還元剤を使用した場合、以下の表６に示すごとく、比較例５に比べ、高収率で６−ベンジルオキシインドールを得、しかも、副生成物である６−ヒドロキシインドールの生成量を低く抑えることができた。

実施例４５

窒素気流下、マグネチックスターラーを取り付けられた３０ｍＬナス型フラスコに、ニトロベンゼン（３７９ｍｇ，３．０８ｍｍｏｌ）、基質としてベンジルフェニルエーテル（５６７ｍｇ，３．０８ｍｍｏｌ）、５％ロジウム−カーボン粉末（６３．５ｍｇ，０．０３０９ｍｍｏｌ）、金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）（５．６ｍｇ，０．０３０９ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を加え、水素雰囲気下とした。その懸濁液を室温で、１６時間攪拌した後、窒素気流下とし、一夜攪拌した。つづいて、固体を濾別し、テトラヒドロフランで残さを洗浄した。濾液と洗液を合わせ、得られた褐色溶液を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると、アニリン（Ａ’）が収量２４７ｍｇ（収率８６％）、回収された基質のベンジルフェニルエーテルが収量５０３ｍｇ（回収率８９％）、還元された基質のフェノール（Ｂ’）が収量４ｍｇ（収率１％）で得られた。
得られた反応液中の各成分は、市販品と各種スペクトルデータを比較することにより同定した。

実施例４６〜実施例４８
実施例４５と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）、を用い、基質としてはベンジルフェニルエーテルを用いて還元反応を行った。その結果を以下の表７に示す。
アニリン及び還元された基質（フェノール）は、市販品と各種スペクトルデータを比較することにより同定した。

収率（Ａ’）は、アニリンの収率である。
収率（Ｂ’）は、フェノールの収率である。

実施例４９〜実施例５１
実施例４５と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、アセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用い、基質としてはクロロベンゼンを用いて反応を行った。その結果を以下の表８に示す。
アニリン及び還元された基質（ベンゼン）は、市販品と各種スペクトルデータを比較することにより同定した。

収率（Ｃ’）は、アニリンの収率である。
収率（Ｄ’）は、ベンゼンの収率である。

実施例５２〜実施例５４
実施例４５と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用い、基質としてはベンズアルデヒドを用いて反応を行った。その結果を以下の表９に示す。
アニリン及び還元された基質（ベンジルアルコール）は、市販品と各種スペクトルデータを比較することにより同定した。

収率（Ｅ’）は、アニリンの収率である。
収率（Ｆ’）は、ベンジルアルコールの収率である。

実施例５５

窒素気流下、マグネチックスターラーを取り付けられた３０ｍＬナス型フラスコに、ニトロベンゼン（３７９ｍｇ，３．０８ｍｍｏｌ）、ベンジルフェニルエーテル（５６７ｍｇ，３．０８ｍｍｏｌ）、ピロリジン（０．２５７ｍＬ，３．０８ｍｍｏｌ）、５％ロジウム−カーボン粉末（６３．５ｍｇ，０．０３０９ｍｍｏｌ）、金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）（５．６ｍｇ，０．０３０９ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を加え、水素雰囲気下とした。その懸濁液を室温で、５時間攪拌した後、窒素気流下とし、一夜攪拌した。つづいて、固体を濾別し、テトラヒドロフランで残さを洗浄した。濾液と洗液を合わせ、得られた褐色溶液を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると、アニリンが収量２５２ｍｇ（収率８８％）、ベンジルフェニルエーテルが還元された結果生じたフェノールが収量１ｍｇ（収率０．４％）で得られた。

実施例５６〜実施例５８
実施例５５と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用い、さらに塩基としてピロリジンを加えて還元反応を行った。その結果を以下の表１０に示す。

収率（Ｇ’）は、アニリンの収率である。
収率（Ｈ’）は、フェノールの収率である。

以上の結果から、本発明の触媒の存在下での接触還元反応の場合、アミンをさらに添加すると、還元される官能基の選択性が向上することが確認された。

実施例５９

窒素気流下、マグネチックスターラーを取り付けられた３０ｍＬナス型フラスコに、３−ベンジルオキシニトロベンゼン（７０６ｍｇ，３．０８ｍｍｏｌ）、ピロリジン（０．２５７ｍＬ，３．０８ｍｍｏｌ）、５％ロジウム−カーボン粉末（１９０ｍｇ，０．０９２４ｍｍｏｌ）、金属化合物として硝酸ニッケル六水和物（ＩＩ）（１７９ｍｇ，０．６１６ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を加え、水素雰囲気下とした。その懸濁液を室温で、２．５時間攪拌した後、窒素気流下とした。つづいて、固体を濾別し、テトラヒドロフランで残さを洗浄した。濾液と洗液を合わせ、得られた褐色溶液を高速液体クロマトグラフィーにより分析すると、３−ベンジルオキシアニリンが収量５６５ｍｇ（収率９２％）、３−ヒドロキシアニリンが収量３ｍｇ（収率１％）で得られた。

実施例６０〜実施例６６

実施例５９と同様にして、金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、又はチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用い、または還元反応を行った。その結果を以下の表１１に示す。

収率（Ｉ’）：３−ベンジルオキシアニリンの収率である。（単位：％）
収率（Ｊ’）：３−ヒドロキシアニリンの収率である。（単位：％）

以上、実施例６０〜６６の結果から、本発明のロジウム−担体触媒を用い、金属化合物として鉄塩、ニッケル塩、又はコバルト塩を用いて、接触還元反応を行う反応系に対し、ピロリジンのようなアミンを添加すると、反応速度が飛躍的に向上し、ベンジルエーテルなどのような、還元されやすい官能基が還元される確率が下がり、さらに特異的にニトロ基を還元でき、その収率も向上することが確認された。

実施例６７〜６８
実施例４５と同様にして、本発明の触媒である、５％ロジウム−カーボン粉末、及び金属化合物として酢酸鉄（ＩＩ）、硝酸ニッケル（ＩＩ）、又はアセチルアセトン酸コバルト（ＩＩＩ）を用い、基質としてはスチレン（Ｋ’）を用いて反応を行った。その結果を以下の表に示す。
なお、アニリン及び還元された基質（エチルベンゼン（Ｌ’））は、市販品と各種スペクトルデータを比較することにより同定した。

収率（Ｋ’）は、アニリンの収率である。
収率（Ｌ’）は、エチルベンゼンの収率である。

上記の結果から、本発明の触媒を用いて、接触還元するとベンジルエーテル基、クロロ基、及びアルデヒド基を還元することなく、ニトロ基及びビニル基については、還元されることが確認された。
したがって、本発明の触媒、すなわち、ロジウム−担体触媒及び金属化合物として鉄塩、ニッケル塩、もしくはコバルト塩からなる触媒を用いて接触還元反応を行うと、ベンジルエーテル、芳香族ハロゲン、アルデヒド又はケトン等の官能基を還元することなく、ニトロ基、アルケニル基又はアルキニル基を選択的に還元することができる。

本発明の式［Ｉ］で表される目的化合物は医薬として有用であり、本発明は、当該化合物の工業的有利な製造方法である。また、本発明の触媒は、選択的還元を可能にする触媒として種々の還元反応に利用できる。

Claims

一般式［ＸＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜７個のアルキル基を示すか、又は
Ｒ^ａ及びＲ^ｂが互いに結合して、炭素数３〜６個のアルキレン基を形成してもよい］で表される化合物又はその塩を、ロジウム化合物、並びにニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物及びコバルト（ＩＩＩ）化合物から選ばれる金属化合物の存在下で水素ガスと反応させて、一般式［ＸＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は前記の意味を示す］で表されるインドール化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＸＩＩ］で表されるインドール化合物又はその塩を、一般式［ＸＩ］：

［式中、Ｒ^ｃは炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ビニル基又はアリル基を示す］で表されるマグネシウムクロライド、又は一般式［Ｘ］：

［式中、Ｒ^ｄは、炭素数１〜７個のアルキル基又はフェニル基を示す］で表されるマグネシウム化合物と反応させた後、一般式［ＩＸ］：

［式中、Ｘはハロゲン原子を、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す］で表されるマレイミド化合物と反応させて、一般式［ＶＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表されるビス−インドール化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＶＩＩＩ］で表されるビス−インドール化合物又はその塩を閉環して、一般式［ＶＩＩ］：

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＶＩＩ］で表される化合物又はその塩を、一般式［ＶＩ］：

［式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は水酸基の保護基を、Ｘ^１はハロゲン原子を示す］で表される活性化されたグルコース誘導体と、カップリングさせることにより、一般式［Ｖ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＹは、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［Ｖ］で表される化合物又はその塩を、塩基で処理して、一般式［ＩＶ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＩＶ］で表される化合物又はその塩を、一般式［ＩＩＩ］：

［式中、Ｒ^６及びＲ^７は、水酸基の保護基を、Ｘ^ａは酸分子を示す］で表される化合物と反応させることにより、一般式［ＩＩ］：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造し、ついで得られた一般式［ＩＩ］で表される化合物又はその塩の保護基を除去することにより、式［Ｉ］：

で表されるインドロピロロカルバゾール誘導体又はその塩を製造することを特徴とする式［Ｉ］で表されるインドロピロロカルバゾール誘導体又はその塩の製造法。
ロジウム化合物が、ロジウム−炭素、ロジウム−アルミナ、ロジウム−炭酸カルシウム又はロジウム−硫酸バリウムであることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
ニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物及びコバルト（ＩＩＩ）化合物から選ばれる金属化合物が、ＮｉＢｒ_２、Ｎｉ（ＮＯ_３）_２、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、ＦｅＢｒ_３、ＦｅＣｌ_２、ＦｅＳＯ_４
、ＦｅＣｌ_３、ＦｅＣｌ_３−ＳｉＯ_２、Ｆｅ（ＯＣＯＣＨ_３）_２、Ｆｅ（ＩＩ）フマール酸塩、ＣｏＢｒ_２、ＣｏＣｌ_２、

であることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７がベンジル基であることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
一般式［ＸＩ］で表されるマグネシウムクロライドが、エチルマグネシウムクロライド、イソプロピルマグネシウムクロライド又はｎ−ブチルマグネシウムクロライドであることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
一般式［Ｘ］で表されるマグネシウム化合物がジ（ｎ−ブチル）マグネシウム、ジ（ｓ−ブチル）マグネシウム、（ｎ−ブチル）（ｓ−ブチル）マグネシウム、ジメチルマグネシウム又はジエチルマグネシウムであることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
一般式［ＩＸ］で表されるマレイミド化合物が、一般式：

［式中、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す］で表されるマレイミド化合物であることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
Ｙがメチル基であることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
Ｘ^ａがシュウ酸であることを特徴とする請求項１に記載の製造法。
カップリングを相間移動触媒の存在下で行うことを特徴とする請求項１に記載の製造法。
一般式［ＸＩＩＩ］：

［式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、同一又は異なっていてもよく、炭素数１〜７個のアルキル基を示すか、又は
Ｒ^ａ及びＲ^ｂが互いに結合して、炭素数３〜６個のアルキレン基を形成してもよい］で表される化合物又はその塩を、ロジウム化合物、並びにニッケル（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩ）化合物、鉄（ＩＩＩ）化合物、コバルト（ＩＩ）化合物及びコバルト（ＩＩＩ）化合物から選ばれる金属化合物の存在下で水素ガスと反応させ、ついで得られた粗生成物をシリカゲルで処理することを特徴とする請求項１記載の製造法。
一般式[ＶＩＩＩ]

[式中、Ｒ¹は水酸基の保護基を、Ｙは水素原子、炭素数１〜７個のアルキル基、フェニル基、ベンジルオキシメチル基又は炭素数７〜１２個のアラルキル基を示す]
で表されるビス−インドール化合物又はその塩を非極性溶媒中２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノンで処理することにより閉環して、一般式[ＶＩＩ]

［式中、Ｒ¹及びＹは前記の意味を示す］で表される化合物又はその塩を製造することを特徴とする請求項１記載の製造法。
非極性溶媒がベンゼン、トルエン、キシレン（ｏ，ｍ又はｐ）、エチルベンゼン又は１，２，４−トリメチルベンゼンであることを特徴とする請求項１２に記載の製造法。