JP3527032B2 - 均熱装置 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば樹脂成型
品、半導体ウエハ、液晶パネル等の被加工物を、加工さ
れる定盤上で均一に加熱あるいは冷却する均熱装置に関
するものである。
品、半導体ウエハ、液晶パネル等の被加工物を、加工さ
れる定盤上で均一に加熱あるいは冷却する均熱装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の均熱装置としては、図示はしない
が例えば特開平６−２７８１３９号公報に示されるよう
に、定盤の内部に加工された穴にヒータおよび冷却管を
それぞれ挿入し、ヒータに通電および冷却管に冷却水を
流通させることにより、定盤を直接加熱、冷却するも
の、又、図２５に示すように、定盤１の下面に平板状の
発熱体２を配置して、定盤１を均一に加熱することによ
り、定盤１上に載置された複数の被加工物３をそれぞれ
加熱処理するもの等がある。
が例えば特開平６−２７８１３９号公報に示されるよう
に、定盤の内部に加工された穴にヒータおよび冷却管を
それぞれ挿入し、ヒータに通電および冷却管に冷却水を
流通させることにより、定盤を直接加熱、冷却するも
の、又、図２５に示すように、定盤１の下面に平板状の
発熱体２を配置して、定盤１を均一に加熱することによ
り、定盤１上に載置された複数の被加工物３をそれぞれ
加熱処理するもの等がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の均熱装置は以上
のように構成され、図２５に示すものは平板状の発熱体
２で定盤１の全面を同時に加熱することによって、特開
平６−２７８１３９号公報に示されるような埋込構造の
ものの温度分布の不均一を改善しようとするものである
が、平板状の発熱体２はヒータ配線を絶縁物で被覆した
ものであり、外形寸法精度に限界があるので、定盤１へ
取り付ける際、全面にわたって定盤１と接触させること
は困難であり、定盤１の表面の温度分布の均一性には限
界があるため、厳しい温度分布精度を要求される被加工
物３への適用は無理であり、又、仮に全体が均一に加熱
されたとしても、定盤１の周辺部は中心部に比べて放熱
が大きく、図２６に示すように定盤１の周辺部で温度が
低下するため、温度むらによる反りが発生して被加工物
３が全面で均一に加熱されず、加工精度が低下する等の
問題点があった。
のように構成され、図２５に示すものは平板状の発熱体
２で定盤１の全面を同時に加熱することによって、特開
平６−２７８１３９号公報に示されるような埋込構造の
ものの温度分布の不均一を改善しようとするものである
が、平板状の発熱体２はヒータ配線を絶縁物で被覆した
ものであり、外形寸法精度に限界があるので、定盤１へ
取り付ける際、全面にわたって定盤１と接触させること
は困難であり、定盤１の表面の温度分布の均一性には限
界があるため、厳しい温度分布精度を要求される被加工
物３への適用は無理であり、又、仮に全体が均一に加熱
されたとしても、定盤１の周辺部は中心部に比べて放熱
が大きく、図２６に示すように定盤１の周辺部で温度が
低下するため、温度むらによる反りが発生して被加工物
３が全面で均一に加熱されず、加工精度が低下する等の
問題点があった。
【０００４】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、熱源の熱が定盤の表面に均等に
供給され、定盤の表面温度を均一に保持することによ
り、厳しい温度分布を要求される被加工物への適用、お
よび加工精度の向上を図ることが可能な均熱装置を提供
することを目的とするものである。
ためになされたもので、熱源の熱が定盤の表面に均等に
供給され、定盤の表面温度を均一に保持することによ
り、厳しい温度分布を要求される被加工物への適用、お
よび加工精度の向上を図ることが可能な均熱装置を提供
することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
る均熱装置は、被加工物が載置される定盤および定盤を
介して被加工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱
装置において、溝状であり、溝の断面は上部に頂点を有
する形状に形成されている流通路が形成された第１の板
状部材および流通路を覆うように第１の板状部材に接合
される第２の板状部材で定盤を構成し、真空排気された
流通路内に所定量の作動液を充填させたものである。
る均熱装置は、被加工物が載置される定盤および定盤を
介して被加工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱
装置において、溝状であり、溝の断面は上部に頂点を有
する形状に形成されている流通路が形成された第１の板
状部材および流通路を覆うように第１の板状部材に接合
される第２の板状部材で定盤を構成し、真空排気された
流通路内に所定量の作動液を充填させたものである。
【０００６】又、この発明の請求項２に係る均熱装置
は、請求項１において、流通路を同心状に配置される複
数の環状溝で形成したものである。
は、請求項１において、流通路を同心状に配置される複
数の環状溝で形成したものである。
【０００７】又、この発明の請求項３に係る均熱装置
は、請求項１において、流通路を渦巻状の溝で形成した
ものである。
は、請求項１において、流通路を渦巻状の溝で形成した
ものである。
【０００８】又、この発明の請求項４に係る均熱装置
は、請求項１において、流通路を同心状に配置される複
数の環状の第１の溝およびこの第１の溝と交差する第２
の溝で形成したものである。
は、請求項１において、流通路を同心状に配置される複
数の環状の第１の溝およびこの第１の溝と交差する第２
の溝で形成したものである。
【０００９】又、この発明の請求項５に係る均熱装置
は、請求項１において、流通路を中央部で連結され放射
状に配置される複数の溝で形成したものである。
は、請求項１において、流通路を中央部で連結され放射
状に配置される複数の溝で形成したものである。
【００１０】又、この発明の請求項６に係る均熱装置
は、請求項５において、複数の溝を中央から外方に向か
って順次深く形成したものである。
は、請求項５において、複数の溝を中央から外方に向か
って順次深く形成したものである。
【００１１】又、この発明の請求項７に係る均熱装置
は、被加工物が載置される定盤および定盤を介して被加
工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱装置におい
て、同心状に配置される複数の環状の第１の溝が形成さ
れ、溝の断面は上部に頂点を有する形状に形成されてい
る第１の板状部材、および第１の溝と対応する面に第１
の溝と交差するように配置される第２の溝が形成され第
１の板状部材と接合されることにより第１および第２の
溝同士を連結して密閉容器を形成する第２の板状部材で
定盤を構成し、密閉容器内に所定量の作動液を充填させ
たものである。
は、被加工物が載置される定盤および定盤を介して被加
工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱装置におい
て、同心状に配置される複数の環状の第１の溝が形成さ
れ、溝の断面は上部に頂点を有する形状に形成されてい
る第１の板状部材、および第１の溝と対応する面に第１
の溝と交差するように配置される第２の溝が形成され第
１の板状部材と接合されることにより第１および第２の
溝同士を連結して密閉容器を形成する第２の板状部材で
定盤を構成し、密閉容器内に所定量の作動液を充填させ
たものである。
【００１２】又、この発明の請求項８に係る均熱装置
は、請求項７において、第２の溝を外方から中央に向か
って順次深く形成したものである。
は、請求項７において、第２の溝を外方から中央に向か
って順次深く形成したものである。
【００１３】又、この発明の請求項９に係る均熱装置
は、被加工物が載置される定盤および定盤を介して被加
工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱装置におい
て、相対応する面に中央部で連結され放射状に配置さ
れ、上部に頂点を有する断面形状の複数の溝がそれぞれ
形成され面同士が接合されることにより溝同士を連結し
て密閉容器を形成する一対の板状部材で定盤を構成し、
密閉容器内に所定量の作動液を充填させたものである。
は、被加工物が載置される定盤および定盤を介して被加
工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱装置におい
て、相対応する面に中央部で連結され放射状に配置さ
れ、上部に頂点を有する断面形状の複数の溝がそれぞれ
形成され面同士が接合されることにより溝同士を連結し
て密閉容器を形成する一対の板状部材で定盤を構成し、
密閉容器内に所定量の作動液を充填させたものである。
【００１４】又、この発明の請求項１０に係る均熱装置
は、請求項９において、上方に位置する溝は中央から外
方に向かって、又、下方に位置する溝は外方から中央に
向かってそれぞれ順次深く形成したものである。
は、請求項９において、上方に位置する溝は中央から外
方に向かって、又、下方に位置する溝は外方から中央に
向かってそれぞれ順次深く形成したものである。
【００１５】又、この発明の請求項１１に係る均熱装置
は、請求項５、６、９、１０のいずれかにおいて、複数
の溝を中央から外方に向かって順次幅広に形成したもの
である。
は、請求項５、６、９、１０のいずれかにおいて、複数
の溝を中央から外方に向かって順次幅広に形成したもの
である。
【００１６】又、この発明の請求項１２に係る均熱装置
は、請求項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を、
定盤を構成する第１の板状部材と、第１の板状部材に着
脱自在に接合されるように構成された定盤を構成する第
２の板状部材と、両板状部材の接合面に沿って形成され
る挿入穴に嵌合されるヒータとで構成したものである。
は、請求項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を、
定盤を構成する第１の板状部材と、第１の板状部材に着
脱自在に接合されるように構成された定盤を構成する第
２の板状部材と、両板状部材の接合面に沿って形成され
る挿入穴に嵌合されるヒータとで構成したものである。
【００１７】又、この発明の請求項１３に係る均熱装置
は、請求項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を定
盤を構成する板状部材の一部を外方に突出させて形成さ
れ溝内と連通して作動液を貯溜する液溜り部と、液溜り
部内に配設されるヒータとで構成したものである。
は、請求項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を定
盤を構成する板状部材の一部を外方に突出させて形成さ
れ溝内と連通して作動液を貯溜する液溜り部と、液溜り
部内に配設されるヒータとで構成したものである。
【００１８】又、この発明の請求項１４に係る均熱装置
は、請求項１３において、液溜り部を複数箇所形成し各
液溜り部を連通管でそれぞれ連通したものである。
は、請求項１３において、液溜り部を複数箇所形成し各
液溜り部を連通管でそれぞれ連通したものである。
【００１９】又、この発明の請求項１５に係る均熱装置
は、請求項１３において、ヒータを液溜り部を貫通して
両端が外部に開口する管状の収納部内に嵌挿したもので
ある。
は、請求項１３において、ヒータを液溜り部を貫通して
両端が外部に開口する管状の収納部内に嵌挿したもので
ある。
【００２０】又、この発明の請求項１６に係る均熱装置
は、請求項１３ないし１５のいずれかにおいて、ヒータ
加熱による蒸発面に沸騰促進手段を設けたものである。
は、請求項１３ないし１５のいずれかにおいて、ヒータ
加熱による蒸発面に沸騰促進手段を設けたものである。
【００２１】又、この発明の請求項１７に係る均熱装置
は、請求項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の外
周側面部に熱伝導率の低い部材を配設したものである。
は、請求項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の外
周側面部に熱伝導率の低い部材を配設したものである。
【００２２】又、この発明の請求項１８に係る均熱装置
は、請求項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の底
面部を熱伝導率の低い部材で覆ったものである。
は、請求項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の底
面部を熱伝導率の低い部材で覆ったものである。
【００２３】
【発明の実施の形態】実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１における均熱装置の構成
を示す平面図、図２は図１における線ＩＩ−ＩＩに沿う
断面を示す側断面図である。図において、４は下面に同
心状に配置される複数の環状溝５が形成された第１の板
状部材で、上面には複数の被加工物６が載置される。７
は各環状溝５を覆うように第１の板状部材４の下面に、
例えばろう付け等で接合される第２の板状部材で、第１
の板状部材４と共に定盤１０を構成している。８は各環
状溝５と第２の板状部材７とで形成される複数の流通路
で、各内部にはそれぞれ真空排気された後、所定の量の
作動液９が充填されている。
を示す平面図、図２は図１における線ＩＩ−ＩＩに沿う
断面を示す側断面図である。図において、４は下面に同
心状に配置される複数の環状溝５が形成された第１の板
状部材で、上面には複数の被加工物６が載置される。７
は各環状溝５を覆うように第１の板状部材４の下面に、
例えばろう付け等で接合される第２の板状部材で、第１
の板状部材４と共に定盤１０を構成している。８は各環
状溝５と第２の板状部材７とで形成される複数の流通路
で、各内部にはそれぞれ真空排気された後、所定の量の
作動液９が充填されている。
【００２４】上記のように構成された実施の形態１にお
ける均熱装置において、定盤１０の下面、すなわち第２
の板状部材７側から、例えばヒータ等の加熱源（図示せ
ず）により図中矢印で示すように加熱されると、各流通
路８内の作動液９も加熱され、蒸気となって密閉された
流通路８内にある空間に拡散し、この蒸気は流通路８内
の温度の低い上面側で凝縮潜熱として熱を放出し液化す
る。そして、この液化した作動液９は流通路８の内部で
下面側に重力により落下して還流し、この動作が順次繰
り返されることにより、加熱源から定盤１０の上面に熱
輸送され、定盤１０の上面に載置される被加工物６は加
熱される。
ける均熱装置において、定盤１０の下面、すなわち第２
の板状部材７側から、例えばヒータ等の加熱源（図示せ
ず）により図中矢印で示すように加熱されると、各流通
路８内の作動液９も加熱され、蒸気となって密閉された
流通路８内にある空間に拡散し、この蒸気は流通路８内
の温度の低い上面側で凝縮潜熱として熱を放出し液化す
る。そして、この液化した作動液９は流通路８の内部で
下面側に重力により落下して還流し、この動作が順次繰
り返されることにより、加熱源から定盤１０の上面に熱
輸送され、定盤１０の上面に載置される被加工物６は加
熱される。
【００２５】このように上記実施の形態１によれば、加
熱源からの熱量を、作動液９の蒸気により流通路８の内
部に拡散し、上面側で凝縮させることにより定盤１０の
上面側に熱輸送するようにしているので、定盤１０の表
面を均一に加熱することができるとともに、ヒータ等の
加熱源を定盤１０の下面に満遍なく配置する必要もなく
なるので、外形寸法精度の悪い板状のヒータでも十分に
適用できるようになる。
熱源からの熱量を、作動液９の蒸気により流通路８の内
部に拡散し、上面側で凝縮させることにより定盤１０の
上面側に熱輸送するようにしているので、定盤１０の表
面を均一に加熱することができるとともに、ヒータ等の
加熱源を定盤１０の下面に満遍なく配置する必要もなく
なるので、外形寸法精度の悪い板状のヒータでも十分に
適用できるようになる。
【００２６】又、上記のように図１および図２に示す構
成では、複数の環状の溝５で流通路８を形成するように
しているが、図３に示すように、渦巻状の溝１１で流通
路１２を形成するようにしても良く、連続的に溝１１の
加工ができるので加工時間を大幅に短縮することができ
るとともに、流通路１２が全域にわたって連通している
ので、ヒータ等の加熱源はそのいずれかの一部に配置す
るだけで良くなるため、配置の自由度を拡大することが
できる。
成では、複数の環状の溝５で流通路８を形成するように
しているが、図３に示すように、渦巻状の溝１１で流通
路１２を形成するようにしても良く、連続的に溝１１の
加工ができるので加工時間を大幅に短縮することができ
るとともに、流通路１２が全域にわたって連通している
ので、ヒータ等の加熱源はそのいずれかの一部に配置す
るだけで良くなるため、配置の自由度を拡大することが
できる。
【００２７】又、図４に示すように、同心状に配置され
る複数の環状の第１の溝１３と、この第１の溝１３と交
差する複数の直線状の第２の溝１４とで流通路１５を形
成するようにしても良く、第２の溝１４を設けたことに
より、流通路１５内の空間への蒸気の拡散流通性が大幅
に向上し、凝縮した液の戻りも良くなり、また蒸気の接
触する面積も増大するので、定盤１０全体の均熱性の向
上を図ることができる。なお、第２の溝１４は必ずしも
直線状でなくとも良いことは言うまでもない。
る複数の環状の第１の溝１３と、この第１の溝１３と交
差する複数の直線状の第２の溝１４とで流通路１５を形
成するようにしても良く、第２の溝１４を設けたことに
より、流通路１５内の空間への蒸気の拡散流通性が大幅
に向上し、凝縮した液の戻りも良くなり、また蒸気の接
触する面積も増大するので、定盤１０全体の均熱性の向
上を図ることができる。なお、第２の溝１４は必ずしも
直線状でなくとも良いことは言うまでもない。
【００２８】又、図５に示すように、中央部で連結され
放射状に配置される複数の直線状の溝１６で流通路１７
を形成するようにしても良く、溝１６の加工が容易にな
るとともに、加熱源を各溝１６が連結される位置、すな
わち定盤１０の中央部に配置することにより、蒸気の発
生効率を向上させ、定盤１０全体の均熱性を向上させる
ことが可能になる。なお、溝１６は必ずしも直線状でな
くとも良い。
放射状に配置される複数の直線状の溝１６で流通路１７
を形成するようにしても良く、溝１６の加工が容易にな
るとともに、加熱源を各溝１６が連結される位置、すな
わち定盤１０の中央部に配置することにより、蒸気の発
生効率を向上させ、定盤１０全体の均熱性を向上させる
ことが可能になる。なお、溝１６は必ずしも直線状でな
くとも良い。
【００２９】さらに又、図５における溝１６の深さを、
図６に示すように中央から外方に向かって順次深く、す
なわち、流通路１７の天井の面に勾配をつけ、定盤１０
の中央に向かって次第に低くなるようにすれば、天井面
で凝縮した液が液溜り側に戻りやすくすることができ、
凝縮してできる液膜の熱抵抗による熱伝達損失を抑制
し、蒸気発生から凝縮までのサイクルを均一にすること
が可能になる。
図６に示すように中央から外方に向かって順次深く、す
なわち、流通路１７の天井の面に勾配をつけ、定盤１０
の中央に向かって次第に低くなるようにすれば、天井面
で凝縮した液が液溜り側に戻りやすくすることができ、
凝縮してできる液膜の熱抵抗による熱伝達損失を抑制
し、蒸気発生から凝縮までのサイクルを均一にすること
が可能になる。
【００３０】実施の形態２．
図７はこの発明の実施の形態２における均熱装置の構成
を示す平面図、図８は図７における線ＶＩＩＩ−ＶＩＩ
Ｉに沿う断面を示す側断面図である。図において、１８
は下面に同心状に配置される複数の環状の第１の溝１９
が形成された第１の板状部材で、上面には複数の被加工
物２０が載置される。２１は第１の板状部材１８と対応
する面に、第１の溝１９と交差するように配置される直
線状の第２の溝２２が形成され、第１の板状部材１８に
例えばろう付け等で接合される第２の板状部材で、第１
の板状部材１８と共に定盤３０を構成している。２３は
両板状部材１８、２０間に両溝１９、２２が連結して形
成される密閉容器で、その内部には真空排気された後、
所定の量の作動液２４が充填されている。
を示す平面図、図８は図７における線ＶＩＩＩ−ＶＩＩ
Ｉに沿う断面を示す側断面図である。図において、１８
は下面に同心状に配置される複数の環状の第１の溝１９
が形成された第１の板状部材で、上面には複数の被加工
物２０が載置される。２１は第１の板状部材１８と対応
する面に、第１の溝１９と交差するように配置される直
線状の第２の溝２２が形成され、第１の板状部材１８に
例えばろう付け等で接合される第２の板状部材で、第１
の板状部材１８と共に定盤３０を構成している。２３は
両板状部材１８、２０間に両溝１９、２２が連結して形
成される密閉容器で、その内部には真空排気された後、
所定の量の作動液２４が充填されている。
【００３１】上記のように構成された実施の形態１にお
ける均熱装置において、定盤３０の下面、すなわち第２
の板状部材２１側から、例えばヒータ等の加熱源（図示
せず）により加熱されると、密閉容器２３内に貯溜され
た作動液２４も加熱され、蒸気となって密閉容器２３内
にある空間に拡散し、この蒸気は密閉容器２３内の温度
の低い上面側で凝縮潜熱として熱を放出し液化する。そ
して、この液化された作動液２４は密閉容器２３の内部
で下面側に重力により落下して還流し、この動作が順次
繰り返されることにより、加熱源から定盤３０の上面に
熱輸送され、定盤３０の上面に載置される被加工物２０
は加熱される。
ける均熱装置において、定盤３０の下面、すなわち第２
の板状部材２１側から、例えばヒータ等の加熱源（図示
せず）により加熱されると、密閉容器２３内に貯溜され
た作動液２４も加熱され、蒸気となって密閉容器２３内
にある空間に拡散し、この蒸気は密閉容器２３内の温度
の低い上面側で凝縮潜熱として熱を放出し液化する。そ
して、この液化された作動液２４は密閉容器２３の内部
で下面側に重力により落下して還流し、この動作が順次
繰り返されることにより、加熱源から定盤３０の上面に
熱輸送され、定盤３０の上面に載置される被加工物２０
は加熱される。
【００３２】このように上記実施の形態２によれば、実
施の形態１の場合と同様に加熱源からの熱量を、作動液
２４の蒸気により密閉容器２３の内部に拡散し、上面側
で凝縮させることにより定盤３０の上面側に熱輸送する
ようにしているので、定盤３０の表面を均一に加熱する
ことができるとともに、ヒータ等の加熱源を定盤３０の
下面に満遍なく配置する必要もなくなるので、外形寸法
精度の悪い板状のヒータでも十分に適用できることは勿
論のこと、第１の溝１９を第１の板状部材１８に、第２
の溝２２を第２の板状部材２１にというように、それぞ
れ別個に形成しているので、図４に示した実施の形態１
におけるものと比較して溝の加工が容易となる。
施の形態１の場合と同様に加熱源からの熱量を、作動液
２４の蒸気により密閉容器２３の内部に拡散し、上面側
で凝縮させることにより定盤３０の上面側に熱輸送する
ようにしているので、定盤３０の表面を均一に加熱する
ことができるとともに、ヒータ等の加熱源を定盤３０の
下面に満遍なく配置する必要もなくなるので、外形寸法
精度の悪い板状のヒータでも十分に適用できることは勿
論のこと、第１の溝１９を第１の板状部材１８に、第２
の溝２２を第２の板状部材２１にというように、それぞ
れ別個に形成しているので、図４に示した実施の形態１
におけるものと比較して溝の加工が容易となる。
【００３３】又、図９に示すように第２の溝２２の深さ
を、外方から中央に向かって順次深く、すなわち、密閉
容器２３の底面に勾配をつけ、定盤３０の中央に向かっ
て次第に低くなるようにすれば、作動液２４の液溜りを
中央部に集中させることができ、加熱源をこれに対応す
る定盤３０の中央部に配置することにより、少ない作動
液量で効率良く蒸気を発生させ、各第１の溝１９の蒸気
との接触条件も均一化させるので、定盤３０の表面全体
の均熱性をより一層向上させることができる。
を、外方から中央に向かって順次深く、すなわち、密閉
容器２３の底面に勾配をつけ、定盤３０の中央に向かっ
て次第に低くなるようにすれば、作動液２４の液溜りを
中央部に集中させることができ、加熱源をこれに対応す
る定盤３０の中央部に配置することにより、少ない作動
液量で効率良く蒸気を発生させ、各第１の溝１９の蒸気
との接触条件も均一化させるので、定盤３０の表面全体
の均熱性をより一層向上させることができる。
【００３４】実施の形態３．
図１０はこの発明の実施の形態３における均熱装置の構
成を示す平面図、図１１は図１０における線ＸＩ−ＸＩ
に沿う断面を示す側断面図である。図において、２５、
２６はそれぞれ対応する面に中央部で連結され放射状に
配置される複数の直線状の溝２７、２８が形成された第
１および第２の板状部材で、例えばろう付け等で対応す
る面同士が接合されることにより一体化され定盤４０を
構成し、定盤４０の上面には被加工物３１が載置されて
いる。２９は両板状部材２５、２６間に両溝２７、２８
が連結して形成される密閉容器で、その内部には真空排
気された後、所定の量の作動液３２が充填されている。
そして、第１の板状部材２５に形成される溝２７は中央
から外方に向かって、又、第２の板状部材２６に形成さ
れる溝２８は外方から中央に向かってそれぞれ順次深く
形成されている。
成を示す平面図、図１１は図１０における線ＸＩ−ＸＩ
に沿う断面を示す側断面図である。図において、２５、
２６はそれぞれ対応する面に中央部で連結され放射状に
配置される複数の直線状の溝２７、２８が形成された第
１および第２の板状部材で、例えばろう付け等で対応す
る面同士が接合されることにより一体化され定盤４０を
構成し、定盤４０の上面には被加工物３１が載置されて
いる。２９は両板状部材２５、２６間に両溝２７、２８
が連結して形成される密閉容器で、その内部には真空排
気された後、所定の量の作動液３２が充填されている。
そして、第１の板状部材２５に形成される溝２７は中央
から外方に向かって、又、第２の板状部材２６に形成さ
れる溝２８は外方から中央に向かってそれぞれ順次深く
形成されている。
【００３５】このように上記実施の形態３によれば、上
記各実施の形態１、２の場合と同様に加熱源からの熱量
を、作動液３２の蒸気により密閉容器２９の内部に拡散
し、上面側で凝縮させることにより定盤４０の上面側に
熱輸送するようにしているので、定盤４０の表面を均一
に加熱することができるとともに、ヒータ等の加熱源を
定盤４０の下面に満遍なく配置する必要もなくなるの
で、外形寸法精度の悪い板状のヒータでも十分に適用で
きることは勿論のこと、両溝２７、２８で形成される密
閉容器２９の天井および底の面に勾配を付け、中央に向
かって次第に低くなるようにしているので、作動液３２
の液溜りを中央部に集中させることができ、加熱源をこ
れに対応する定盤４０の中央部に配置することにより、
少ない作動液量で効率良く蒸気を発生させ、密閉容器２
９内全域における蒸気との接触条件も均一化させるの
で、定盤４０の表面全体の均熱性をより一層向上させる
ことができる。
記各実施の形態１、２の場合と同様に加熱源からの熱量
を、作動液３２の蒸気により密閉容器２９の内部に拡散
し、上面側で凝縮させることにより定盤４０の上面側に
熱輸送するようにしているので、定盤４０の表面を均一
に加熱することができるとともに、ヒータ等の加熱源を
定盤４０の下面に満遍なく配置する必要もなくなるの
で、外形寸法精度の悪い板状のヒータでも十分に適用で
きることは勿論のこと、両溝２７、２８で形成される密
閉容器２９の天井および底の面に勾配を付け、中央に向
かって次第に低くなるようにしているので、作動液３２
の液溜りを中央部に集中させることができ、加熱源をこ
れに対応する定盤４０の中央部に配置することにより、
少ない作動液量で効率良く蒸気を発生させ、密閉容器２
９内全域における蒸気との接触条件も均一化させるの
で、定盤４０の表面全体の均熱性をより一層向上させる
ことができる。
【００３６】又、上記のように図１０および図１１に示
す構成では、放射状に配置される複数の溝２７、２８の
幅を、全長にわたって同幅としているが、図１２に示す
ように、複数の溝３３の幅を中央から外方に向かって順
次幅広に形成するようにすれば、外周側の蒸気との接触
面積が大きくなって中心部より伝熱量が多くなるため、
周辺部における温度低下を防止し、定盤の表面全域にわ
たって均一な温度とすることができる。
す構成では、放射状に配置される複数の溝２７、２８の
幅を、全長にわたって同幅としているが、図１２に示す
ように、複数の溝３３の幅を中央から外方に向かって順
次幅広に形成するようにすれば、外周側の蒸気との接触
面積が大きくなって中心部より伝熱量が多くなるため、
周辺部における温度低下を防止し、定盤の表面全域にわ
たって均一な温度とすることができる。
【００３７】さらに又、上記各実施の形態において、流
通路または密閉容器を形成する各溝は、断面が矩形の場
合について説明したが、図１３および図１４に示すよう
に、各溝３４、３５を例えば三角または五角形状等のよ
うに上方を頂点とする断面形状にすれば、作動液３６の
蒸気が溝３４、３５の壁面で凝縮液化した後、液はその
位置に溜まらず図中矢印で示すように容易に液溜めに戻
ることができるので、凝縮してできた液膜の熱抵抗によ
る熱伝達損失を抑制し、蒸気発生から凝縮までのサイク
ルを均一にすることができる。
通路または密閉容器を形成する各溝は、断面が矩形の場
合について説明したが、図１３および図１４に示すよう
に、各溝３４、３５を例えば三角または五角形状等のよ
うに上方を頂点とする断面形状にすれば、作動液３６の
蒸気が溝３４、３５の壁面で凝縮液化した後、液はその
位置に溜まらず図中矢印で示すように容易に液溜めに戻
ることができるので、凝縮してできた液膜の熱抵抗によ
る熱伝達損失を抑制し、蒸気発生から凝縮までのサイク
ルを均一にすることができる。
【００３８】実施の形態４．
図１５はこの発明の実施の形態４における均熱装置の構
成を示す平面図、図１６は図１５における均熱装置の構
成を示す正面図である。図において、３７は上記各実施
の形態で説明したいずれかの構成を有する定盤、３８は
この定盤３７の裏面に例えば溶接等で固着された第１の
板状部材で、表面に半円弧状の切欠き３８ａが形成され
ている。３９はボルト４１により第１の板状部材３８に
着脱自在に接合される第２の板状部材で、第１の板状部
材３８の切欠き３８ａと対応する位置に半円弧状の切欠
き３９ａが形成されており、両切欠き３８ａ、３９ａで
挿入穴４２が形成される。４３は各挿入穴４２に嵌挿さ
れるヒータである。
成を示す平面図、図１６は図１５における均熱装置の構
成を示す正面図である。図において、３７は上記各実施
の形態で説明したいずれかの構成を有する定盤、３８は
この定盤３７の裏面に例えば溶接等で固着された第１の
板状部材で、表面に半円弧状の切欠き３８ａが形成され
ている。３９はボルト４１により第１の板状部材３８に
着脱自在に接合される第２の板状部材で、第１の板状部
材３８の切欠き３８ａと対応する位置に半円弧状の切欠
き３９ａが形成されており、両切欠き３８ａ、３９ａで
挿入穴４２が形成される。４３は各挿入穴４２に嵌挿さ
れるヒータである。
【００３９】上記のように構成された実施の形態４で
は、ヒータ４３の周囲を伝熱ブロックとしての両板状部
材３８、３９で覆うように挟持しているので、ヒータ４
３で発生した熱の全てが両板状部材３８、３９内に吸熱
されて定盤３７に熱輸送されるので、伝熱効率が向上
し、又、第２の板状部材３９を着脱自在としているの
で、ヒータ４３の交換が容易となる。
は、ヒータ４３の周囲を伝熱ブロックとしての両板状部
材３８、３９で覆うように挟持しているので、ヒータ４
３で発生した熱の全てが両板状部材３８、３９内に吸熱
されて定盤３７に熱輸送されるので、伝熱効率が向上
し、又、第２の板状部材３９を着脱自在としているの
で、ヒータ４３の交換が容易となる。
【００４０】実施の形態５．
図１７はこの発明の実施の形態５における均熱装置の構
成を示す平面図、図１８は図１７における線ＸＶＩＩＩ
−ＸＶＩＩＩに沿う断面を示す側断面図である。図にお
いて、４４は下面に同心状に配置される複数の環状溝４
５が形成された第１の板状部材で、上面には複数の被加
工物（図示せず）が載置される。４６は各環状溝４５を
覆うように第１の板状部材４４の下面に、例えばろう付
け等で接合される第２の板状部材で、第１の板状部材４
４と共に定盤５０を構成している。４７は第２の板状部
材４６から下方に突出して形成され、第１の板状部材４
４内の環状溝４５と連通する複数の液溜り部で、箱部材
を溶接等により接合するか、第２の板状部材４６を深絞
り加工する等して形成され、これら各液溜り部４７はそ
れぞれ連通管５７を介して連通されている。４８は液溜
り部４７内に貯溜される作動液、４９は液溜り部４７内
の作動液中に浸漬され、端子部が液溜り部４７の側壁を
貫通して外部に突出するヒータである。
成を示す平面図、図１８は図１７における線ＸＶＩＩＩ
−ＸＶＩＩＩに沿う断面を示す側断面図である。図にお
いて、４４は下面に同心状に配置される複数の環状溝４
５が形成された第１の板状部材で、上面には複数の被加
工物（図示せず）が載置される。４６は各環状溝４５を
覆うように第１の板状部材４４の下面に、例えばろう付
け等で接合される第２の板状部材で、第１の板状部材４
４と共に定盤５０を構成している。４７は第２の板状部
材４６から下方に突出して形成され、第１の板状部材４
４内の環状溝４５と連通する複数の液溜り部で、箱部材
を溶接等により接合するか、第２の板状部材４６を深絞
り加工する等して形成され、これら各液溜り部４７はそ
れぞれ連通管５７を介して連通されている。４８は液溜
り部４７内に貯溜される作動液、４９は液溜り部４７内
の作動液中に浸漬され、端子部が液溜り部４７の側壁を
貫通して外部に突出するヒータである。
【００４１】上記のように構成された実施の形態５で
は、液溜り部４７内に貯溜される作動液４８中にヒータ
４９を浸漬し、作動液４８を直接加熱して蒸発させるよ
うにしているので、熱輸送効率を著しく向上させること
ができ、又、各液溜り部４７同士を連通管５７で連通し
ているので、作動液４８がいずれか一方の液溜り部４７
内に偏るのを防止し、高精度な表面温度分布を達成する
ことが可能になる。
は、液溜り部４７内に貯溜される作動液４８中にヒータ
４９を浸漬し、作動液４８を直接加熱して蒸発させるよ
うにしているので、熱輸送効率を著しく向上させること
ができ、又、各液溜り部４７同士を連通管５７で連通し
ているので、作動液４８がいずれか一方の液溜り部４７
内に偏るのを防止し、高精度な表面温度分布を達成する
ことが可能になる。
【００４２】又、上記のように図１７および図１８に示
す構成では、ヒータ４９を液溜り部４７に直接固着する
ようにしているが、図１９に示すように、液溜り部４７
を貫通して両端が外部に開口する管状の収納部５１を形
成し、この収納部５１内にヒータ４９を嵌挿するように
しても良く、熱輸送効率を著しく向上させることが可能
であることは勿論のこと、ヒータ４９の交換が容易とな
る。さらに又、図示はしないが図１８の場合はヒータ４
９の表面、図１９の場合は収納部５１の表面、すなわち
作動液４８の蒸発面に例えばウイックやローレット加工
処理等の沸騰促進手段を設けて沸騰を促進させるように
すれば、蒸発面での核沸騰を促進させ蒸発部の熱伝達率
を向上しさらに熱効率を改善することができる。
す構成では、ヒータ４９を液溜り部４７に直接固着する
ようにしているが、図１９に示すように、液溜り部４７
を貫通して両端が外部に開口する管状の収納部５１を形
成し、この収納部５１内にヒータ４９を嵌挿するように
しても良く、熱輸送効率を著しく向上させることが可能
であることは勿論のこと、ヒータ４９の交換が容易とな
る。さらに又、図示はしないが図１８の場合はヒータ４
９の表面、図１９の場合は収納部５１の表面、すなわち
作動液４８の蒸発面に例えばウイックやローレット加工
処理等の沸騰促進手段を設けて沸騰を促進させるように
すれば、蒸発面での核沸騰を促進させ蒸発部の熱伝達率
を向上しさらに熱効率を改善することができる。
【００４３】実施の形態６．
図２０はこの発明の実施の形態６における均熱装置の構
成を示す概略図である。図において、定盤５０の構成に
ついては詳細を示さないが実施の形態５におけるものと
全く同様である。５２は定盤５０の外周側面に配設され
た断熱部材である。
成を示す概略図である。図において、定盤５０の構成に
ついては詳細を示さないが実施の形態５におけるものと
全く同様である。５２は定盤５０の外周側面に配設され
た断熱部材である。
【００４４】このように上記実施の形態６によれば、定
盤５０の外周側面を断熱部材５２で覆ったので、定盤５
０の周辺部での放熱を抑制し周辺部が中心部より温度が
低くなるのを防止することができ、定盤５０の表面全体
の均熱性を一層向上させることが可能になる。
盤５０の外周側面を断熱部材５２で覆ったので、定盤５
０の周辺部での放熱を抑制し周辺部が中心部より温度が
低くなるのを防止することができ、定盤５０の表面全体
の均熱性を一層向上させることが可能になる。
【００４５】又、上記構成では、定盤５０の周辺部を断
熱部材５０で覆うことにより放熱を抑制するようにして
いるが、例えば定盤５０に熱伝導率の高い銅、アルミニ
ウム等の部材を使用し、周辺部に黄銅、ステンレス等の
熱伝導率の低い部材を使用しても周辺部の放熱を抑制す
ることができる。
熱部材５０で覆うことにより放熱を抑制するようにして
いるが、例えば定盤５０に熱伝導率の高い銅、アルミニ
ウム等の部材を使用し、周辺部に黄銅、ステンレス等の
熱伝導率の低い部材を使用しても周辺部の放熱を抑制す
ることができる。
【００４６】又、上記各構成では、定盤５０の周辺部に
熱伝導率の低い部材を配設して、放熱を抑制する場合に
ついて説明したが、図２１および図２２に示すように、
定盤５０の周辺部に沿って環状の溝５３、５５をそれぞ
れ設けたり、図２３に示すように、定盤５０の周辺部に
沿ってその内部に環状の空洞を設けたりすることによ
り、中心部から周辺部最外周への伝熱断面積を減小さ
せ、周辺部における放熱を抑制することができる。
熱伝導率の低い部材を配設して、放熱を抑制する場合に
ついて説明したが、図２１および図２２に示すように、
定盤５０の周辺部に沿って環状の溝５３、５５をそれぞ
れ設けたり、図２３に示すように、定盤５０の周辺部に
沿ってその内部に環状の空洞を設けたりすることによ
り、中心部から周辺部最外周への伝熱断面積を減小さ
せ、周辺部における放熱を抑制することができる。
【００４７】さらに又、図２４に示すように、定盤５０
の底面部を断熱部材５６で覆うようにすれば、底面から
の放熱を抑制して保温効果および均熱性の向上を図るこ
とができる。尚、これらの構成は実施の形態５における
定盤５０のみではなく、他の実施の形態における定盤に
も適用しうることは言うまでもない。
の底面部を断熱部材５６で覆うようにすれば、底面から
の放熱を抑制して保温効果および均熱性の向上を図るこ
とができる。尚、これらの構成は実施の形態５における
定盤５０のみではなく、他の実施の形態における定盤に
も適用しうることは言うまでもない。
【００４８】
【発明の効果】以上のように、この発明の請求項１によ
れば、被加工物が載置される定盤および定盤を介して被
加工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱装置にお
いて、溝状であり、溝の断面は上部に頂点を有する形状
に形成されている流通路が形成された第１の板状部材お
よび流通路を覆うように第１の板状部材に接合される第
２の板状部材で定盤を構成し、真空排気された流通路内
に所定量の作動液を充填させたので、厳しい温度分布を
要求される被加工物への適用、および加工精度の向上を
図ることが可能な均熱装置を提供することができる。
れば、被加工物が載置される定盤および定盤を介して被
加工物を加熱または冷却する熱源を備えた均熱装置にお
いて、溝状であり、溝の断面は上部に頂点を有する形状
に形成されている流通路が形成された第１の板状部材お
よび流通路を覆うように第１の板状部材に接合される第
２の板状部材で定盤を構成し、真空排気された流通路内
に所定量の作動液を充填させたので、厳しい温度分布を
要求される被加工物への適用、および加工精度の向上を
図ることが可能な均熱装置を提供することができる。
【００４９】又、この発明の請求項２によれば、請求項
１において、流通路を同心状に配置される複数の環状溝
で形成したので、厳しい温度分布を要求される被加工物
への適用、および加工精度の向上を図ることが可能であ
ることは勿論、外形寸法精度の悪いヒータでも適用可能
な均熱装置を提供することができる。
１において、流通路を同心状に配置される複数の環状溝
で形成したので、厳しい温度分布を要求される被加工物
への適用、および加工精度の向上を図ることが可能であ
ることは勿論、外形寸法精度の悪いヒータでも適用可能
な均熱装置を提供することができる。
【００５０】又、この発明の請求項３によれば、請求項
１において、流通路を渦巻状の溝で形成したので、厳し
い温度分布を要求される被加工物への適用、および加工
精度の向上を図ることが可能であることは勿論、加工時
間の短縮および熱源の配置の自由度の拡大が可能な均熱
装置を提供することができる。
１において、流通路を渦巻状の溝で形成したので、厳し
い温度分布を要求される被加工物への適用、および加工
精度の向上を図ることが可能であることは勿論、加工時
間の短縮および熱源の配置の自由度の拡大が可能な均熱
装置を提供することができる。
【００５１】又、この発明の請求項４によれば、請求項
１において、流通路を同心状に配置される複数の環状の
第１の溝およびこの第１の溝と交差する第２の溝で形成
したので、厳しい温度分布を要求される被加工物への適
用、および加工精度の向上を図ることが可能な均熱装置
を提供することができる。
１において、流通路を同心状に配置される複数の環状の
第１の溝およびこの第１の溝と交差する第２の溝で形成
したので、厳しい温度分布を要求される被加工物への適
用、および加工精度の向上を図ることが可能な均熱装置
を提供することができる。
【００５２】又、この発明の請求項５によれば、請求項
１において、流通路を中央部で連結され放射状に配置さ
れる複数の溝で形成したので、厳しい温度分布を要求さ
れる被加工物への適用、および加工精度の向上を図るこ
とが可能な均熱装置を提供することができる。
１において、流通路を中央部で連結され放射状に配置さ
れる複数の溝で形成したので、厳しい温度分布を要求さ
れる被加工物への適用、および加工精度の向上を図るこ
とが可能な均熱装置を提供することができる。
【００５３】又、この発明の請求項６によれば、請求項
５において、複数の溝を中央から外方に向かって順次深
く形成したので、厳しい温度分布を要求される被加工物
への適用、および加工精度の向上を図ることが可能な均
熱装置を提供することができる。
５において、複数の溝を中央から外方に向かって順次深
く形成したので、厳しい温度分布を要求される被加工物
への適用、および加工精度の向上を図ることが可能な均
熱装置を提供することができる。
【００５４】又、この発明の請求項７によれば、被加工
物が載置される定盤および定盤を介して被加工物を加熱
または冷却する熱源を備えた均熱装置において、同心状
に配置される複数の環状の第１の溝が形成され、溝の断
面は上部に頂点を有する形状に形成されている第１の板
状部材、および第１の溝と対応する面に第１の溝と交差
するように配置される第２の溝が形成され第１の板状部
材と接合されることにより第１および第２の溝同士を連
結して密閉容器を形成する第２の板状部材で定盤を構成
し、密閉容器内に所定量の作動液を充填させたので、厳
しい温度分布を要求される被加工物への適用、および加
工精度の向上を図ることが可能な均熱装置を提供するこ
とができる。
物が載置される定盤および定盤を介して被加工物を加熱
または冷却する熱源を備えた均熱装置において、同心状
に配置される複数の環状の第１の溝が形成され、溝の断
面は上部に頂点を有する形状に形成されている第１の板
状部材、および第１の溝と対応する面に第１の溝と交差
するように配置される第２の溝が形成され第１の板状部
材と接合されることにより第１および第２の溝同士を連
結して密閉容器を形成する第２の板状部材で定盤を構成
し、密閉容器内に所定量の作動液を充填させたので、厳
しい温度分布を要求される被加工物への適用、および加
工精度の向上を図ることが可能な均熱装置を提供するこ
とができる。
【００５５】又、この発明の請求項８によれば、請求項
７において、第２の溝を外方から中央に向かって順次深
く形成したので、厳しい温度分布を要求される被加工物
への適用、および加工精度の向上を図ることが可能な均
熱装置を提供することができる。
７において、第２の溝を外方から中央に向かって順次深
く形成したので、厳しい温度分布を要求される被加工物
への適用、および加工精度の向上を図ることが可能な均
熱装置を提供することができる。
【００５６】又、この発明の請求項９によれば、被加工
物が載置される定盤および定盤を介して被加工物を加熱
または冷却する熱源を備えた均熱装置において、相対応
する面に中央部で連結され放射状に配置され、上部に頂
点を有する断面形状の複数の溝がそれぞれ形成され面同
士が接合されることにより溝同士を連結して密閉容器を
形成する一対の板状部材で定盤を構成し、密閉容器内に
所定量の作動液を充填させたので、厳しい温度分布を要
求される被加工物への適用、および加工精度の向上を図
ることが可能な均熱装置を提供することができる。
物が載置される定盤および定盤を介して被加工物を加熱
または冷却する熱源を備えた均熱装置において、相対応
する面に中央部で連結され放射状に配置され、上部に頂
点を有する断面形状の複数の溝がそれぞれ形成され面同
士が接合されることにより溝同士を連結して密閉容器を
形成する一対の板状部材で定盤を構成し、密閉容器内に
所定量の作動液を充填させたので、厳しい温度分布を要
求される被加工物への適用、および加工精度の向上を図
ることが可能な均熱装置を提供することができる。
【００５７】又、この発明の請求項１０によれば、請求
項９において、上方に位置する溝は中央から外方に向か
って、又、下方に位置する溝は外方から中央に向かって
それぞれ順次深く形成したので、厳しい温度分布を要求
される被加工物への適用、および加工精度の向上を図る
ことが可能な均熱装置を提供することができる。
項９において、上方に位置する溝は中央から外方に向か
って、又、下方に位置する溝は外方から中央に向かって
それぞれ順次深く形成したので、厳しい温度分布を要求
される被加工物への適用、および加工精度の向上を図る
ことが可能な均熱装置を提供することができる。
【００５８】又、この発明の請求項１１によれば、請求
項５、６、９、１０のいずれかにおいて、複数の溝を中
央から外方に向かって順次幅広に形成したので、厳しい
温度分布を要求される被加工物への適用、および加工精
度の向上を図ることが可能な均熱装置を提供することが
できる。
項５、６、９、１０のいずれかにおいて、複数の溝を中
央から外方に向かって順次幅広に形成したので、厳しい
温度分布を要求される被加工物への適用、および加工精
度の向上を図ることが可能な均熱装置を提供することが
できる。
【００５９】又、この発明の請求項１２によれば、請求
項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を、定盤を構
成する第１の板状部材と、第１の板状部材に着脱自在に
接合されるように構成された定盤を構成する第２の板状
部材と、両板状部材の接合面に沿って形成される挿入穴
に嵌合されるヒータとで構成したので、厳しい温度分布
を要求される被加工物への適用、および加工精度の向上
を図ることが可能な均熱装置を提供することができる。
項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を、定盤を構
成する第１の板状部材と、第１の板状部材に着脱自在に
接合されるように構成された定盤を構成する第２の板状
部材と、両板状部材の接合面に沿って形成される挿入穴
に嵌合されるヒータとで構成したので、厳しい温度分布
を要求される被加工物への適用、および加工精度の向上
を図ることが可能な均熱装置を提供することができる。
【００６０】又、この発明の請求項１３によれば、請求
項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を定盤を構成
する板状部材の一部を外方に突出させて形成され溝内と
連通して作動液を貯溜する液溜り部と、液溜り部内に配
設されるヒータとで構成したので、厳しい温度分布を要
求される被加工物への適用、および加工精度の向上を図
ることが可能な均熱装置を提供することができる。
項１ないし１１のいずれかにおいて、熱源を定盤を構成
する板状部材の一部を外方に突出させて形成され溝内と
連通して作動液を貯溜する液溜り部と、液溜り部内に配
設されるヒータとで構成したので、厳しい温度分布を要
求される被加工物への適用、および加工精度の向上を図
ることが可能な均熱装置を提供することができる。
【００６１】又、この発明の請求項１４によれば、請求
項１３において、液溜り部を複数箇所形成し各液溜り部
を連通管で連通するようにしているので、高精度な表面
温度分布を達成することが可能な均熱装置を提供するこ
とができる。
項１３において、液溜り部を複数箇所形成し各液溜り部
を連通管で連通するようにしているので、高精度な表面
温度分布を達成することが可能な均熱装置を提供するこ
とができる。
【００６２】又、この発明の請求項１５によれば、請求
項１３において、ヒータを液溜り部を貫通して両端が外
部に開口する管状の収納部内に嵌挿したので、厳しい温
度分布を要求される被加工物への適用、および加工精度
の向上を図ることが可能であることは勿論、ヒータの交
換が容易な均熱装置を提供することができる。
項１３において、ヒータを液溜り部を貫通して両端が外
部に開口する管状の収納部内に嵌挿したので、厳しい温
度分布を要求される被加工物への適用、および加工精度
の向上を図ることが可能であることは勿論、ヒータの交
換が容易な均熱装置を提供することができる。
【００６３】又、この発明の請求項１６によれば、請求
項１３ないし１５のいずれかにおいて、ヒータ加熱によ
る蒸発面に沸騰促進手段を設けたので、蒸発部の熱伝達
率を向上させることが可能な均熱装置を提供することが
できる。
項１３ないし１５のいずれかにおいて、ヒータ加熱によ
る蒸発面に沸騰促進手段を設けたので、蒸発部の熱伝達
率を向上させることが可能な均熱装置を提供することが
できる。
【００６４】又、この発明の請求項１７によれば、請求
項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の外周側面部
に熱伝導率の低い部材を配設したので、厳しい温度分布
を要求される被加工物への適用、および加工精度の向上
を図ることが可能な均熱装置を提供することができる。
項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の外周側面部
に熱伝導率の低い部材を配設したので、厳しい温度分布
を要求される被加工物への適用、および加工精度の向上
を図ることが可能な均熱装置を提供することができる。
【００６５】又、この発明の請求項１８によれば、、請
求項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の底面部を
熱伝導率の低い部材で覆ったので、厳しい温度分布を要
求される被加工物への適用、および加工精度の向上を図
ることが可能な均熱装置を提供することができる。
求項１ないし１６のいずれかにおいて、定盤の底面部を
熱伝導率の低い部材で覆ったので、厳しい温度分布を要
求される被加工物への適用、および加工精度の向上を図
ることが可能な均熱装置を提供することができる。
【図１】 この発明の実施の形態１における均熱装置の
構成を示す平面図である。
構成を示す平面図である。
【図２】 図１における線ＩＩ−ＩＩに沿う断面を示す
側断面図である。
側断面図である。
【図３】 この発明の実施の形態１における均熱装置の
異なる構成を示す平面図である。
異なる構成を示す平面図である。
【図４】 この発明の実施の形態１における均熱装置の
異なる構成を示す平面図である。
異なる構成を示す平面図である。
【図５】 この発明の実施の形態１における均熱装置の
異なる構成を示す平面図である。
異なる構成を示す平面図である。
【図６】 この発明の実施の形態１における均熱装置の
異なる構成を示す断面図である。
異なる構成を示す断面図である。
【図７】 この発明の実施の形態２における均熱装置の
構成を示す平面図である。
構成を示す平面図である。
【図８】 図７における線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩに沿う断
面を示す側断面図である。
面を示す側断面図である。
【図９】 この発明の実施の形態２における均熱装置の
異なる構成を示す断面図である。
異なる構成を示す断面図である。
【図１０】 この発明の実施の形態３における均熱装置
の構成を示す平面図である。
の構成を示す平面図である。
【図１１】 図１０における線ＸＩ−ＸＩに沿う断面を
示す側断面図である。
示す側断面図である。
【図１２】 この発明の実施の形態３における均熱装置
の異なる構成を示す平面図である。
の異なる構成を示す平面図である。
【図１３】 この発明の実施の形態３における均熱装置
の異なる構成を示す側断面図である。
の異なる構成を示す側断面図である。
【図１４】 この発明の実施の形態３における均熱装置
の異なる構成を示す側断面図である。
の異なる構成を示す側断面図である。
【図１５】 この発明の実施の形態４における均熱装置
の構成を示す正面図である。
の構成を示す正面図である。
【図１６】 図１５における均熱装置の構成を示す正面
図である。
図である。
【図１７】 この発明の実施の形態５における均熱装置
の構成を示す平面図である。
の構成を示す平面図である。
【図１８】 図１７における線ＸＶＩＩＩ−ＸＶＩＩＩ
に沿う断面を示す側断面図である。
に沿う断面を示す側断面図である。
【図１９】 この発明の実施の形態５における均熱装置
の異なる構成を示す側断面図である。
の異なる構成を示す側断面図である。
【図２０】 この発明の実施の形態６における均熱装置
の構成を示す概略図である。
の構成を示す概略図である。
【図２１】 この発明の実施の形態６における均熱装置
の異なる構成を示す概略図である。
の異なる構成を示す概略図である。
【図２２】 この発明の実施の形態６における均熱装置
の異なる構成を示す概略図である。
の異なる構成を示す概略図である。
【図２３】 この発明の実施の形態６における均熱装置
の異なる構成を示す概略図である。
の異なる構成を示す概略図である。
【図２４】 この発明の実施の形態６における均熱装置
の異なる構成を示す概略図である。
の異なる構成を示す概略図である。
【図２５】 従来の均熱装置の一例を示す正面図であ
る。
る。
【図２６】 従来の均熱装置における定盤表面の温度分
布を示す図である。
布を示す図である。
４，１８，２５，３８，４４ 第１の板状部材、５，１
１，１６，２７，２８，３３，３４，３５，５３，５４
溝、６，２０ 被加工物、７，２１，２６，３９，４
６ 第２の板状部材、８，１２，１５，１７ 流通路、
９，２４，３２，３６，４８ 作動液、１０，３０，４
０，３７，５０ 定盤、１３，１９ 第１の溝、１４，
２２ 第２の溝、２３，２９ 密閉容器、４３，４９
ヒータ、４７ 液溜り部、５１ 収納部、５２，５６
断熱部材、５７ 連通管。
１，１６，２７，２８，３３，３４，３５，５３，５４
溝、６，２０ 被加工物、７，２１，２６，３９，４
６ 第２の板状部材、８，１２，１５，１７ 流通路、
９，２４，３２，３６，４８ 作動液、１０，３０，４
０，３７，５０ 定盤、１３，１９ 第１の溝、１４，
２２ 第２の溝、２３，２９ 密閉容器、４３，４９
ヒータ、４７ 液溜り部、５１ 収納部、５２，５６
断熱部材、５７ 連通管。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 山蔭 久明
東京都千代田区丸の内二丁目２番３号
三菱電機株式会社内
(72)発明者 片岡 憲二
東京都千代田区丸の内二丁目２番３号
三菱電機株式会社内
(56)参考文献 特開 平８−90624（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−280009（ＪＰ，Ａ)
実開 昭58−154378（ＪＰ，Ｕ)
実開 昭62−21591（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B29C 33/04
F28D 15/02 101
H01L 21/205
H01L 21/30
H01L 21/3065
H01L 21/68
Claims (18)
- 【請求項１】 被加工物が載置される定盤および上記定
盤を介して上記被加工物を加熱または冷却する熱源を備
えた均熱装置において、溝状であり、溝の断面は上部に
頂点を有する形状に形成されている流通路が形成された
第１の板状部材および上記流通路を覆うように上記第１
の板状部材に接合される第２の板状部材で上記定盤を構
成し、真空排気された上記流通路内に所定量の作動液を
充填させたことを特徴とする均熱装置。 - 【請求項２】 流通路は、同心状に配置される複数の環
状の溝で形成されていることを特徴とする請求項１記載
の均熱装置。 - 【請求項３】 流通路は、渦巻状の溝で形成されている
ことを特徴とする請求項１記載の均熱装置。 - 【請求項４】 流通路は、同心状に配置される複数の環
状の第１の溝および上記第１の溝と交差する第２の溝で
形成されていることを特徴とする請求項１記載の均熱装
置。 - 【請求項５】 流通路は、中央部で連結され放射状に配
置される複数の溝で形成されていることを特徴とする請
求項１記載の均熱装置。 - 【請求項６】 複数の溝は、中央から外方に向かって順
次深く形成されていることを特徴とする請求項５記載の
均熱装置。 - 【請求項７】 被加工物が載置される定盤および上記定
盤を介して上記被加工物を加熱または冷却する熱源を備
えた均熱装置において、同心状に配置される複数の環状
の第１の溝が形成され、上記第１の溝の断面は上部に頂
点を有する形状に形成された第１の板状部材、および上
記第１の溝と対応する面に上記第１の溝と交差するよう
に配置される第２の溝が形成され上記第１の板状部材と
接合されることにより上記第１および第２の溝同士を連
結して密閉容器を形成する第２の板状部材で上記定盤を
構成し、上記密閉容器内に所定量の作動液を充填させた
ことを特徴とする均熱装置。 - 【請求項８】 第２の溝は、外方から中央に向かって順
次深く形成されていることを特徴とする請求項７記載の
均熱装置。 - 【請求項９】 被加工物が載置される定盤および上記定
盤を介して上記被加工物を加熱または冷却する熱源を備
えた均熱装置において、相対応する面に中央部で連結さ
れ放射状に配置され、上部に頂点を有する断面形状の複
数の溝がそれぞれ形成され、上記面同士が接合されるこ
とにより上記溝同士を連結して密閉容器を形成する一対
の板状部材で上記定盤を構成し、上記密閉容器内に所定
量の作動液を充填させたことを特徴とする均熱装置。 - 【請求項１０】 上方に位置する溝は中央から外方に向
かって、又、下方に位置する溝は外方から中央に向かっ
てそれぞれ順次深く形成されていることを特徴とする請
求項９記載の均熱装置。 - 【請求項１１】 複数の溝は、中央から外方に向かって
順次幅広に形成されていることを特徴とする請求項５、
６、９、１０のいずれかに記載の均熱装置。 - 【請求項１２】 熱源は、定盤を構成する第１の板状部
材と、上記第１の板状部材に着脱自在に接合されるよう
に構成された定盤を構成する第２の板状部材と、上記両
板状部材の接合面に沿って形成される挿入穴に嵌合され
るヒータとで構成されていることを特徴とする請求項１
ないし１１のいずれかに記載の均熱装置。 - 【請求項１３】 熱源は、定盤を構成する板状部材の一
部を外方に突出させて形成され溝内と連通して作動液を
貯溜する液溜り部と、上記液溜り部内に配設されるヒー
タとで構成されていることを特徴とする請求項１ないし
１１のいずれかに記載の均熱装置。 - 【請求項１４】 液溜り部は複数箇所形成され上記各液
溜り部は連通管でそれぞれ連通されていることを特徴と
する請求項１３記載の均熱装置。 - 【請求項１５】 ヒータは、液溜り部を貫通して両端が
外部に開口する管状の収納部内に嵌挿されていることを
特徴とする請求項１３記載の均熱装置。 - 【請求項１６】 ヒータ加熱による蒸発面には沸騰促進
手段が設けられていることを特徴とする請求項１３ない
し１５のいずれかに記載の均熱装置。 - 【請求項１７】 定盤の外周側面部に熱伝導率の低い部
材を排泄したことを特徴とする請求項１ないし１６のい
ずれかに記載の均熱装置。 - 【請求項１８】 定盤の底面部を熱伝導率の低い部材で
覆ったことを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか
に記載の均熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26317196A JP3527032B2 (ja) | 1996-04-11 | 1996-10-03 | 均熱装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8950896 | 1996-04-11 | ||
| JP8-89508 | 1996-04-11 | ||
| JP26317196A JP3527032B2 (ja) | 1996-04-11 | 1996-10-03 | 均熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09327827A JPH09327827A (ja) | 1997-12-22 |
| JP3527032B2 true JP3527032B2 (ja) | 2004-05-17 |
Family
ID=26430923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26317196A Expired - Lifetime JP3527032B2 (ja) | 1996-04-11 | 1996-10-03 | 均熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3527032B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10446419B2 (en) | 2016-03-11 | 2019-10-15 | Toshiba Memory Corporation | Semiconductor manufacturing apparatus |
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|---|---|---|---|---|
| JP4485646B2 (ja) * | 2000-04-18 | 2010-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板載置台 |
| KR100461046B1 (ko) * | 2002-03-23 | 2004-12-09 | 황상동 | 미세관을 이용한 반도체 웨이퍼 냉각방법 및 이를 위한 장치 |
| JP2006222214A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 熱処理装置 |
| JP2007150132A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial System Corp | 均熱装置 |
| JP4942385B2 (ja) * | 2006-04-25 | 2012-05-30 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 均熱処理装置 |
| JP2007088504A (ja) * | 2006-11-24 | 2007-04-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板熱処理装置 |
| ES2769450T3 (es) * | 2012-06-19 | 2020-06-25 | Roctool | Molde para calentamiento y enfriamiento rápidos |
| DE102014006482A1 (de) * | 2013-12-02 | 2015-06-03 | Harburg-Freudenberger Maschinenbau Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Heizplatte für eine Reifenpresse |
| JP6651779B2 (ja) * | 2015-10-08 | 2020-02-19 | 住友ゴム工業株式会社 | タイヤ加硫装置 |
| CN108068228B (zh) * | 2016-11-17 | 2021-05-25 | 洛阳尖端技术研究院 | 用于预浸料试制的辅助装置及预浸料的试制方法 |
| FR3131240A1 (fr) * | 2021-12-27 | 2023-06-30 | Compagnie Generale Des Etablissements Michelin | Plaque chauffante de moule à pneu |
-
1996
- 1996-10-03 JP JP26317196A patent/JP3527032B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10446419B2 (en) | 2016-03-11 | 2019-10-15 | Toshiba Memory Corporation | Semiconductor manufacturing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09327827A (ja) | 1997-12-22 |
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