JP3512424B2 - 素早く乾燥するネイルエナメル組成物および方法 - Google Patents

素早く乾燥するネイルエナメル組成物および方法

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Description

【発明の詳細な説明】 背景技術 1.技術分野 本発明は人間の爪に塗るためのエナメルコーティング
組成物の分野に関するものである。より詳しくは、上記
組成物は素早く乾燥するネイルエナメル組成物に関する
ものである。
2.従来技術の検討 ユーザーが、汚す、筋をつける、付着させる、擦る、
さらに衣服にエナメルを着けてしまう等に煩わされない
よう、ネイルエナメルを塗るのに必要な時間を短くし、
表面およびその下部を素早く乾燥させるべく試みがなさ
れている。しかも、そのように素早く乾燥できるとして
も、ネイルエナメルを塗るときの特性、艶、硬さ、また
は洗えるという能力を犠牲にしてはならない。
これらの試みの幾つかは、溶媒システム、硬化システ
ム、または薄膜形成樹脂システムに着目してなされてい
るが成功には至らず、更なる乾燥時間の短縮、乾燥状態
のエナメルの品質改善などが求められている。
したがって、本発明は、短時間で効果的に乾燥する、
素早く乾燥するネイルポリッシュエナメルを提供するこ
とを目的とする。
発明の概要 上述した課題を解決するために、塗布後直ちに切れ目
ない薄膜を得ることができるものとされていたビニル−
シリコーンコポリマーを、適切に素早く乾燥するネイル
エナメルのベース組成物に添加する試みがなされてい
た。このビニル−シリコーンコポリマーは、たとえばカ
ンターら（Kanter,et al.）に特許権が付与され、後に
ミネソタミニングアンドマニュファクチャリングカンパ
ニー（3M）に譲渡された米国特許第5,032,460号に係る
明細書、および国際出願WO93/23009で公開された明細書
に開示されている。これら3Mの特許明細書に係るビニル
−シリコーンコポリマーを、ニトロセルロース薄膜形成
剤と他の第２薄膜形成剤とを含有してなるネイルエナメ
ル組成物に添加すると、乾燥時間が短縮されることがわ
かった。さらに、非極性炭化水素溶媒を上記組成物に添
加することで、ビニル−シリコーンコポリマーがより迅
速に表面に移動することにより、乾燥時間をより短せし
めることができる。
しかしながら、素早く乾燥するエナメル組成物を爪に
塗布すると、かなり気泡が生じることが明白にわかる。
気泡が生じた結果、乾燥したエナメルコーティングが不
均一となり、外観に問題を生じるため、製品は商業ベー
スに乗らない、又は商業的に使用できない。
したがって、市販されている抗発泡剤を上記組成物に
添加することにより、気泡が生じる現象を改善する試み
がなされていた。発泡が減少した組成物もあったが、依
然として多少の発泡は起き、多量の抗発泡剤が必要であ
った。
したがって、本発明は、ニトロセルロースをベースと
したネイルエナメル組成物に素早く乾燥するビニル−シ
リコーンコポリマーを添加した素早く乾燥し発泡しない
ネイルエナメルコーティングに、さらに200〜500センチ
ストークス（cSt）の粘度を有するポリジメチルシロキ
サン（ジメチコン）抗発泡剤を微量添加することをベー
スとしている。
本発明は、より広い見地からは、可塑化された薄膜形
成セルロース誘導体の溶媒溶液；シリコーンポリマーセ
グメントおよびビニルポリマーセグメントを含有してな
るビニル−シリコーングラフトコポリマーまたはブロッ
クコポリマー；非極性炭化水素溶媒；およびジメチコン
抗発泡剤を含有してなる、素早く乾燥する非発泡ネイル
エナメル組成物を提供するものである。
本発明の詳細な説明および好ましい実施態様 本明細書においては、「乾燥」との用語を、塗布され
たコーティングが、表面のみならず、コーティングの厚
み全体に亘って迅速に乾燥することを意味する。すなわ
ち、下方層に溶媒を保持する一方で「乾燥した感触」を
与えるエナメルコーティングでは十分ではない。こうし
た「乾燥した感触」のコーティングでは、塗布された爪
が固い面に擦れた場合、損傷したり、擦れた面に付着し
たりする。
また、本発明に係る素早く乾燥するネイルエナメル組
成物は、澄み切ったまたは透明な、固い、艶のあるエナ
メルコーティングを提供すべく処方するものでもよく、
または着色した、固い、艶のあるエナメルコーティング
を提供すべく、顔料または他の着色剤を含有しても良
い。澄み切ったまたは透明なコーティングは、直接爪に
塗布されてもよく、また塗布されることが好ましいが、
着色したネイルポリッシュをあらかじめコーティングし
た上に塗布しても良い。着色されたネイルエナメルは、
直接爪に塗布され、他の下塗りまたは上塗りを必要とし
ない。
本発明の組成物は、以下に示すネイルエナメル組成物
に概して見受けられる必須の成分を含有している：その
成分とは、溶媒；薄膜形成剤；薄膜形成剤用可塑剤；組
成物を爪に容易に塗布できるが爪の向きに関わらず垂れ
ない程度の十分な粘度を与えるための増粘剤またはチキ
ソトロピー剤である。また、組成物は、たとえば、顔料
およびその他の着色剤、防腐剤、および香料等の機能的
な属性または美的属性を付与する、１種またはそれ以上
の更なる添加物を含有しても良い。
しかしながら、本発明の組成物は、以下に説明される
素早く乾燥するビニル−シリコーングラフトコポリマー
またはブロックコポリマーと、エナメルコーティングが
乾燥する間の気泡の発生を効果的に防止するためのジメ
チコン抗発泡剤との組み合わせによって特に特徴付けら
れる。これら種々の必須成分および好ましい成分を以下
に説明する。
ビニル−シリコーングラフトコポリマーまたはブロッ
クコポリマーは、3Mの米国特許第5,032,460およびWO93/
23009に詳しく説明されている、これらの開示内容は、
それについて述べたことにより、その全体がここに記載
されていることとする。そして、ビニル−シリコーング
ラフトコポリマーまたはブロックコポリマーは、以下の
一般式を有している。
式中、G5は、アルキル、アリール、アルカリル、アルコ
キシ、アルキルアミノ； フルオロアルキル、水素、および−ZSAからなるグルー
プから選択される１価の基を示し、それぞれ同じでも良
いし、異なっていても良い;Aは可塑化された、フリーラ
ジカルで可塑可能なモノマーを必須的に有してなるビニ
ル高分子セグメントを示し；そしてＺは２価の結合基を
示す。２価の結合基であるＺ基としては、C1〜C10のア
ルキレン、アルカリレン（alkarylene）、アリーレン、
およびアルコキシアルキレンなどを例示できるが、これ
らに限定されるものではない。商業的に入手可能である
ため、Ｚはメチレンまたはプロピレンが好ましい。
G6は、アルキル、アリール、アルカリル、アルコキ
シ、アルキルアミノ、フルオロアルキル、水素、および
−ZSAからなるグループから選択される１価の基を示
し、それぞれ同じでも良いし、異なっていても良い； G2は、Ａを含有し； G4は、Ａを含有し； R1は、アルキル、アリール、アルカリル、アルコキシ
アルキルアミノ、フルオロアルキル、水素、およびヒド
ロキシルからなるグループから選択される１価の基を示
し、それぞれ同じでも良いし、異なっていても良い。商
業的に入手可能であるため、R1はC1〜C4のアルキルまた
は水酸基である１価の基が好ましく、それぞれ同じでも
異なっていても良い。また、R1はメチル基が最も好まし
い。
R2は、２価の結合基を示し、それぞれ同じでも異なっ
ていても良い。好ましい２価の結合基としては、C1〜C
10のアルキレン、アリレン、アルカリレン（alkarylen
e）、およびアルコキシアルキレンなどを例示できる
が、これらに限定されるものではない。化合物合成の容
易さを考慮すると、R2は、C1〜C3アルキレン、またはC7
〜C10アルカリレン（alkarylene）であることが好まし
い。また、R2は、−CH2−、1,3−プロピレン、または である基が最も好ましい。
R3は、アルキル、アリール、アルカリル（alkary
l）、アルコキシ、アルキルアミノ、フルオロアルキ
ル、水素、およびヒドロキシルからなるグループから選
択される１価の基を示し、それぞれ同じでも良いし、異
なっていても良い。商業的に入手可能であるため、R
3は、C1〜C4のアルキル基またはヒドロキシル基である
１価の基が好ましく、それぞれ同じでも異なっていても
良い。また、R3はメチル基が最も好ましい。
R4は、２価の結合基を示し、それぞれ同じでも異なっ
ていても良い。好ましい２価の結合基としては、C1〜C
10のアルキレン、アリレン、アルカリレン（alkarylen
e）、およびアルコキシアルキレンなどを例示できる
が、これらに限定されるものではない。化合物合成の容
易さを考慮すると、R4はC1〜C3アルキレン、またはC7〜
C10アルカリレン（alkarylene）であることが好まし
い。また、R4は、−CH2−、1,3−プロピレン、または が最も好ましい。
ｘは、０−３の整数であり； ｙは、５またはそれ以上の整数を示し、約750〜約20,
000の範囲の分子量を有するシリコーンセグメントを得
るために、約10〜約270の範囲の整数であることが好ま
しい。また、ｙは約40〜約270の範囲の整数が最も好ま
しい。
ｑは、０−３の整数である。
さらに、以下に示す条件のうち少なくとも１つを満た
す； ｑは、少なくとも１の整数である； ｘは、少なくとも１の整数である； G5は、少なくとも１つの−ZSA基を含有する； G6は、少なくとも１つの−ZSA基を含有する。
より詳細には、これらのコポリマーは、それぞれビニ
ル高分子セグメントおよびシリコーン高分子セグメント
を有しているため、反応物および重合技術については、
先に述べた3Mの特許明細書を参照するものとする。ま
た、ここに記載したことにより、そのような技術等につ
いては本明細書に記載されたものとする。特に、WO93/2
3009の29−31ページでは、ビニル−シリコーンコポリマ
ーを低沸点オイルまたは揮発性溶媒に溶解させて得られ
た化粧用組成物は、優れた耐水性、耐油性を示す化粧用
薄膜を提供するものであり、ネイルエナメルのように、
爪に塗布できると記載されている点に着目すべきであ
る。上記低沸点オイルは、常圧で260℃より低い沸点を
有する揮発性炭化水素オイルであっても良い。また、上
記揮発性溶媒は、常圧で260℃より低い沸点を有し、10c
Stより低い粘度を有する、直鎖、環状、または枝分かれ
したシリコーンオイルであっても良い。さらに、メチル
メタクリレイト、ｔ−ブチル（メタ）アクリレイト、イ
ソブチルメタクリレイトなどのモノマーを大量にアクリ
ル鎖に導入することにより、固い薄膜が得られる。上記
薄膜形成化粧用組成物中のコポリマーの量は0.03〜70重
量％であり、逆に言えば、99.97〜30重量％の揮発性溶
媒を含有している。
本発明において、ビニル−シリコーンコポリマーは、
約0.1〜５重量％の範囲で組成物に添加されており、0.2
5〜2.0重量％の範囲がより好ましく、0.5〜1.0重量％の
範囲が最も好ましい。
組成物の素早い乾燥をより促進させるために、本発明
の組成物に、ヘプタンまたはヘキサンなどの揮発性非極
性炭化水素溶媒を含有させても良い。どのような場合に
でも当てはまるわけではないが、非極性炭化水素は、他
の溶媒が蒸発するにつれて、ビニール−シリコーンコポ
リマーのエナメルコーティング表面への移動を促進し、
迅速な乾燥作用を促進させると考えられる。
素早い乾燥をより促進させるための特定の非極性炭化
水素溶媒量は、ルーチン実験により予め決定できる。一
般には、組成物の約１〜30重量％、５〜20重量％の範囲
がより好ましく、この範囲の量が好ましい結果を示して
いる。
ヘプタン溶媒（または他の揮発性非極性炭化水素溶
媒）は、従来より周知のように、ネイルエナメル組成
物、特に素早く乾燥するネイルエナメル組成物に従来よ
り使用されている他の１種またはそれ以上の溶媒ととも
に使用される。組成物中に存在する薄膜形成樹脂、およ
び所望の乾燥時間を考慮して、特定の溶媒が選択され
る。
好ましい溶媒としては、アセトン、エチルアセテー
ト、メチルアセテート、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、ｎ−ブタノール、プロピルアセテート、
ｎ−ブチルアセテート、アミルアセテート、および他の
エステル、メチルクロロホルム（methychloroform）、
メチレンクロライド、メチルエチルケトン、およびその
他のケトン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
1,4−ジオキサン、および他のエーテル等の低沸点溶媒
を例示できる。１種類の溶媒、またはこれら溶媒の混合
物は、必要に応じて種々の重量比率で容易に選択され
る。また、一般に好ましくない高沸点溶媒としては、セ
ロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、セロソルブア
セテート、メチルセロソルブアセテート、ブチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ等を例示できる。しかしなが
ら、これらの高沸点溶媒も、組成物の素早い乾燥特性を
妨げない量であるならば、溶媒混合物に添加することも
できる。
素早い乾燥と満足のいく粘度（つまり、塗布しても流
れない状態）とを保証するために必要な、先に説明した
ヘプタンまたは他の炭化水素溶媒以外の溶媒混合物を含
む溶媒の量は、もちろん、溶媒の性質、および特に樹
脂、他の薄膜形成成分、増粘剤、固形物などの他の成分
の性質および量に依存する。しかしながら、本発明の目
的に合致する溶媒の量は、組成物の約20〜約70重量％の
範囲であり、組成物の約30〜60重量％の範囲がより好ま
しい。溶媒の一部または溶媒の全てを、特に、ニトロセ
ルロース溶媒溶液、着色溶液などの１種以上の非溶媒成
分からなる溶媒溶液として、エナメル組成物に添加して
もよい、ということが理解できる。また、ヘプタンまた
はそれ以外の炭化水素溶媒を含有してなる溶媒の総量
は、組成物の総重量に対して、一般に、約25〜90％であ
り、35％〜85％の範囲がより好ましい。
従来より利用されており、衝撃硬さ、丈夫さ、摩滅に
対する抵抗力という能力、および溶媒を放出する能力を
有するため、ニトロセルロースは、本発明の素早く乾燥
するネイルエナメル組成物における第１薄膜形成ポリマ
ー物質として好ましい。
既に商業的に利用できる好ましいニトロセルロースとし
ては、ニトロセルロースRS 1/4 sec.、ニトロセルロー
スRS 1/2 sec.、ニトロセルロースSS 1/4 sec.、ニトロ
セルロースSS 1/2 sec.、ニトロセルロースHIG 1/4 se
c.、ニトロセルロースHIG 1/2 sec.、およびニトロセル
ロースSL−１等を例示できる。ニトロセルロースの量
は、全組成物に対して、一般に、約1.0〜25重量％の範
囲であり、３または５〜20重量％の範囲がより好まし
い。
ニトロセルロース薄膜形成剤の代わりとしてまたは一
部の代わりとして、必要な硬さ、丈夫さ、摩滅に対する
抵抗力という能力、および溶媒を放出する能力を与える
ことができる他の第１薄膜形成ポリマーを使用してもよ
い。そのような薄膜形成剤としては、たとえば、メチル
セルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、
ブチルセルロース、セルロースフタレイト、セルロース
アセテートプロピオネイト、セルロースアセテートブチ
レイト、セルロースアセテート、ヒドロキシプロピルセ
ルロースなどのセルロース誘導体を挙げることができ
る。
第１薄膜形成成分を強くし、エナメルコーティングに
好ましい艶および接着特性を付与するため、上記組成物
は第２薄膜形成樹脂も含有する。好ましい第２薄膜形成
ポリマーとしては、ポリビニルアセテートおよびブチレ
イト、ビニルクロライド／ビニルアセテートコポリマー
などのビニルポリマー、およびメタクリレイトおよびア
クリレイトタイプのポリマーおよびポリエステル樹脂な
どを例示できる。たとえば、トルエンスルホアミド−ホ
ルムアルデヒド樹脂などの上記目的のために従来より使
用されている、アリールスルホアミド−ホルムアルデヒ
ド樹脂も挙げることもできる。
たとえば、最終的に得られるエナメルの艶などの所望
の特性に依存して、第２薄膜形成樹脂成分の量は予め決
定することができる。一般に、総組成物に対して、約２
〜15重量％、より好ましくは約４〜10重量％の範囲が好
ましい結果を得ることができる。
また、得られる薄膜を柔らかくするために、また部分
的に柔軟性を付与するために、従来より習慣的に、ネイ
ルエナメル組成物は、可塑剤混合物、または可塑剤を一
般に含有している。
本発明において特に好ましい可塑剤は、ジブチルフタ
レイト（DBP）であり、総組成物に対して、約１〜10重
量％、好ましくは２〜８重量％、そして特に好ましくは
３〜５重量％の範囲で添加される。上記ニトロセルロー
ス薄膜形成剤とともに一般に使用される、１種以上の更
なる汎用可塑剤もまた、DBP可塑剤とともに使用するこ
とができる。そのような可塑剤としては、カンフル、ス
クロースアセテートイソブチレイト、トリフェニルホス
フェイト、トリクレジルフタレイト、ブチルフタレイ
ト、ブチルグリコレイト、ジオクチルフタレイト、ジブ
トキシエチルフタレイト、ヒマシ油、ベンジルベンソエ
イト、トリブチルホスフェイト、ブチルアセチルリシノ
レイト、ブチルステアレイト、トリエチルシトレイト、
ジブチルタタレイト、ジアミルフタレート等を例示する
ことができる。カンフル、トリフェニルホスフェイト、
およびジブチルフタレートは、単独であってもまたは混
合されていても、好ましい。更なる可塑剤の量は、総組
成物に対して、一般に約１〜12重量％の範囲であり、２
〜10重量％の範囲がより好ましい。
上記成分、すなわち、溶媒、第１、第２薄膜形成ポリ
マーおよび樹脂、可塑剤およびビニル−シリコーンコポ
リマーをベースとした組成物が、素早く乾燥するネイル
エナメルを形成する。しかしながら、全ての場合に当て
はまるとは限らないが、おそらくは、溶媒分子が薄膜形
成ポリマー外に移動し、最表面層がもっとも速乾性であ
るエナメルの、表面直下に捕捉されることによって、乾
燥したエナメルコーティング中に気泡が形成され、塗布
された爪の外観を損なう。
以下の実施例に示されているように、数種の市販され
ている抗発泡剤は、発泡を減少させるのに幾分は効果が
あるが、発泡という問題が解決されるわけではない。し
かしながら、市販品であるDC200Fluid（350cSt）のよう
なジメチコン（ポリジメチルシロキサン）抗発泡剤は極
めて微量で発泡を実質的にすっかり除去できることがわ
かっている。
したがって、好ましい抗発泡剤には、約200〜500cS
t、好ましくは約300〜400cStの範囲の粘度を有する、液
体のポリジメチルシロキサンが含まれる。これらの抗発
泡剤は微量で効果があり、総組成物に対して、大抵約0.
02〜0.3％、より好ましくは0.06〜0.20重量％というよ
うに、0.3重量％より少ない。
ネイルエナメル組成物は、上記成分の他に、素早く乾
燥するという特性を減じない程度の量であるならば、通
常ネイルエナメルに添加されている一般的な補助剤成分
を含有しても良い。たとえば、顔料、染料、真珠光沢剤
等の着色剤；チキソトロピー剤；充填剤；香料、（殺菌
剤のような）保存剤、抗酸化剤）、UV抑制剤、レベリン
グ剤等を例示できる。
着色剤は、化粧品として許容できる陰をつけるため、
および得られる薄膜を不透明化するために、一般に使用
されているネイルポリッシュ添加剤である。
本発明において使用される顔料としては、たとえば、
Ｄ＆ＣレッドNo.7、Ｄ＆ＣレッドNo.30、Ｄ＆ＣレッドN
o.34等の赤顔料を例示できる。本発明の組成物に使用で
きる他の顔料としては、たとえば、Ｄ＆ＣイエローNo.5
レーキ、Ｄ＆ＣレッドNo.6レーキ、Ｄ＆ＣレッドNo.7レ
ーキ、Ｄ＆ＣレッドNo.34レーキ、Ｄ＆ＣレッドNo.2レ
ーキ、およびExt.D＆ＣレッドNo.2レーキを例示でき
る。さらに、例示した顔料の他に、さらに、たとえば、
化粧品用グレードのまたは精製したチタニウムジオキシ
ド（白）、マイカ、ビスマスオキシクロライド、イエロ
ーアイアンオキシド、レッドアイアンオキシド、アンア
ンブルー、アイアンブラック、ウルトラマリンブルー、
クロミドオキシドグリーン、フェリックアンモニウムフ
ェロシアナイド、カーボンブラック、またはランプブラ
ック（一般に、極微量）を挙げることができる。
上述した顔料に加えて、例えば、ニトロセルロース及
び溶媒中としたグアニン結晶の懸濁液のような“パール
エッセンス”等の真珠光沢の添加物、並びに顔料の外観
に影響を与えるであろう他の添加剤が含有可能である。
本発明の組成物における顔料の量は、顔料のタイプおよ
び組成物に含まれる他の成分に関連して変えることがで
きるが、顔料は、一般的に、組成物の約0.025〜約4.0重
量％の範囲で添加され、約0.5〜約１重量％の範囲で添
加されることが好ましい。
本発明に係る組成物に顔料が添加された場合、組成物
の他の成分への顔料の懸濁を高めるために、チキソトロ
ピー剤を添加することが有用である。本発明の組成物を
生成するためには、ネイルエナメル分野で通常使用され
ている数多くのチキソトロピー剤を使用できる。好まし
いチキソトロピー剤としては、チキソトロピッククレ
ー、特にステアラルコニウム（stearalkonium）ヘクト
ライトおよびステアラルコニウム（stearalkonium）ベ
ントナイトを例示できる。本発明の特に好ましい組成物
においては、ゲル、より好ましくはコロイダルゲルを生
成するのに充分な量のテキソトロピー剤が含有されてい
る。一般に、添加物なしの純粋なチキソトロピー剤であ
れば、組成物の約２〜約５重量％の割合で含有されてお
り、約２〜４重量％の範囲がより好ましく、約２〜３重
量％の範囲が最も好ましい。
本発明の特に好ましい実施態様においては、微粒子
（約５ミクロン）のチキソトロピー剤（クレー）が、可
塑剤（カンフル）及びニトロセルロースを含有する溶媒
溶液をさらに含有するベース混合物中の懸濁液として与
えられる。UV抑制剤、すなわちベンゾフェノンもまた、
ベースとなる混合物に含まれていても良い。
素早く乾燥するネイルエナメル組成物は、周知の好適
な混合機を用いて、ベースとなる混合物と、可塑剤、例
えばジブチルフタレイトと、ビニル−シリコーンコポリ
マーと、任意に炭化水素溶媒、例えばヘプタンと、着色
剤と、抗発泡ジメチコン添加剤と、その他任意に添加物
とを混合することにより容易に得ることができる。
参考具体例 以下に示す成分を均一になるまで混合することによ
り、以下の組成物を得た。ベース混合物を激しくかき混
ぜながら、固まりができないように、ビニル−シリコー
ンコポリマーをゆっくりと添加した。コポリマーがベー
ス混合物に完全に溶け、均一になったことが確認される
まで混合物を攪拌した。
上記組成物を指の爪（清潔、乾燥済み）に塗布し、得
られたエナメルコーティングを10分間（残余タックな
し）乾燥させた。しかしながら、相当な起泡が確認さ
れ、製品としての有用性は損なわれていた。
実施例１ 以下に示す市販されている抗発泡剤を、添加量を変化
させて、上記組成物に添加した（少なくとも15分間かけ
て上記組成物に適当量の抗発泡剤を混合させた）。次い
で、予め清潔にして乾燥させた指の爪に、上記テストと
同じ様にして、塗布し直した。その結果を、以下の表に
示す。
１）50％2,4,7,9−テトラメチル−５−デシン−4,7−ジ
オール＋50％イソプロパノール２ 結果は、以下のように分類した。
０−効果なし １−発泡がわずかに減少 ２−発泡が減少 ３−発泡が完全に減少 実施例２ 以下に示す組成からなる、素早く乾燥し、発泡がな
く、着色されたネイルエナメル組成物を得た。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−131513（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−103514（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−97630（ＪＰ，Ａ) 国際公開95／003776（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50

Claims (18)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】溶媒、少なくとも１種の薄膜形成剤、シリ
    コーンポリマーセグメント及びビニルポリマーセグメン
    トを含む少なくとも一のビニル−シリコーングラフトコ
    ポリマーまたはビニル−シリコーンブロックコポリマ
    ー、及び少なくとも１種の抗起泡剤をエナメル被覆の乾
    燥の間、実質的に泡沫形成を効果的に防止する量で含む
    ネイルエナメル組成物であって、前記ビニル−シリコー
    ングラフトコポリマーまたはビニル−シリコーンブロッ
    クコポリマーが、下式のコポリマー： ［式中、G5は、アルキル、アリール、アルカリル、アル
    コキシ、アルキルアミノ、フルオロアルキル、水素及び
    −ZSAからなる群から、同じまたは異なるように独立的
    に選択することができる１価の基を示し； Ａは、本質的に、重合化された、フリーラジカルで重合
    可能なモノマーからなるビニル高分子セグメントを示
    し； Ｚは、２価の結合基を示し； G6は、同一又は相違し、個別に、アルキル、アリール、
    アルカリル、アルコキシ、アルキルアミノ、フルオロア
    ルキル、水素及び−ZSAからなる群から、同じ又は異な
    るように独立的に選択することができる１価の基を示
    し； G2はＡを含み； G4はＡを含み； R1は、アルキル、アリール、アルカリル、アルコキシ、
    アルキルアミノ、フルオロアルキル、水素及びヒドロキ
    シルからなる群から、同じ又は異なるように独立的に選
    択することができる１価の基を示し； R2は、２価の結合基を示し、それぞれ同じでも良いし、
    異なっていても良い； R3は、アルキル、アリール、アルカリル、アルコキシ、
    アルキルアミノ、フルオロアルキル、水素及びヒドロキ
    シルからなる群から、同じ又は異なるように独立的に選
    択することができる１価の基を示し； R4は、２価の結合基を示し、それぞれ同じでも良いし、
    異なっていても良い； ｘは０−３の整数であり； ｙは５以上の整数であり； ｑは０−３の整数であり； さらに以下に示す条件のうち少なくとも１つを満たす： ｑは少なくとも１の整数である； ｘは少なくとも１の整数である； G5は少なくとも１つの−ZSA基を含む； G6は少なくとも１つの−ZSA基を含む］ を含み、前記ビニル−シリコーングラフトコポリマーま
    たはビニル−シリコーンブロックコポリマーの量が当該
    組成物の0.1から５重量％であり、前記抗起泡剤が200か
    ら500cstの粘度を有するジメチコーン、２−エチルヘキ
    シルアセタート、2,4,7,9−テトラメチル−５−デシン
    −4,7,ジオール、ジプロピレングリコールメチルエーテ
    ル、イソドデカン、ジイソブチルケトンより選択される
    ネイルエナメル組成物。
  2. 【請求項２】ジメチコーンが、300から400cstの粘度を
    有する請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】抗起泡剤の量が、組成物の0.02から0.3％
    である請求項１または２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】薄膜形成剤が、ニトロセルロース、セルロ
    ース誘導体、ビニルポリマー、ポリエステル、またはア
    リールスルホンアミド−ホルムアルデヒド樹脂を含む請
    求項１から３のいずれか一項に記載の組成物。
  5. 【請求項５】薄膜形成剤が、組成物の１から25重量％で
    ある請求項１から４のいずれか一項に記載の組成物。
  6. 【請求項６】抗起泡剤が２−エチルヘキシルアセター
    ト、2,4,7,9−テトラメチル−５−デシン−4,7−ジオー
    ル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、イソドデ
    カン、ジイソブチルケトンから選択され、前記剤が組成
    物の１重量％の量で存在する請求項１及び３から５のい
    ずれか一項に記載の組成物。
  7. 【請求項７】薄膜形成剤用の少なくとも一の可塑剤をさ
    らに含む請求項１から６のいずれか一項に記載の組成
    物。
  8. 【請求項８】可塑剤の量が、組成物の１から12重量％で
    ある請求項７に記載の組成物。
  9. 【請求項９】溶媒の量が、組成物の25から90重量％であ
    る請求項１から８のいずれか一項に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】揮発性非極性炭化水素溶媒を１から30重
    量％含む請求項１から９のいずれか一項に記載の組成
    物。
  11. 【請求項１１】揮発性非極性炭化水素溶媒が、ヘプタン
    またはヘキサンである請求項10に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】揮発性非極性炭化水素溶媒以外の溶媒
    を、組成物の20から70重量％含む請求項１から11のいず
    れか一項に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】増粘剤またはチキソトロピー剤をさらに
    含む請求項１から12のいずれか一項に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】速乾性ネイルエナメルとしての請求項１
    から13のいずれか一項に記載の組成物の化粧品としての
    使用。
  15. 【請求項１５】不起泡性ネイルエナメルとしての、請求
    項１から13のいずれか一項に記載の組成物の化粧的使
    用。
  16. 【請求項１６】請求項１乃至13のいずれか一項に記載の
    速乾性ネイルエナメルにおける、請求項１に記載のビニ
    ル−シリコーングラフトコポリマーまたはビニル−シリ
    コーンブロックコポリマーの化粧的使用。
  17. 【請求項１７】溶媒、少なくとも一の薄膜形成剤、及び
    ビニル−シリコーングラフトコポリマーまたはビニル−
    シリコーンブロックコポリマーを含む請求項１に記載の
    不起泡性ネイルエナメルにおける、200から500cstの粘
    度を有するジメチコーン、２−エチルヘキシルアセター
    ト、2,4,7,9−テトラメチル−５−デシン−4,7−ジオー
    ル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、イソドデ
    カン、ジイソブチルケトンより選択される抗起泡剤の、
    化粧的使用。
  18. 【請求項１８】請求項１から13のいずれか一項に記載の
    組成物を爪に適用することからなる爪の被覆方法。
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