JP3507819B2 - Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same - Google Patents

Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same

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    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップ及び
半導体チップに接続される信号接続用リードを封止樹脂
により封止した樹脂封止型半導体装置その製造方法、及
び樹脂封止型半導体装置の製造に適したリードフレーム
に係り、特に薄型化したものの改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor chip and signal connection leads connected to the semiconductor chip are sealed with a sealing resin, and a resin-sealed semiconductor device. The present invention relates to a lead frame suitable for manufacturing, and particularly to improvement of a thinned one.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、電子機器に搭載される半導体部品を高密度に実装す
ることが要求され、それにともなって、半導体部品の小
型、薄型化が進んでいる。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to cope with miniaturization of electronic equipment, it has been required to mount semiconductor parts mounted on the electronic equipment at a high density, and accordingly, the miniaturization and thinning of semiconductor parts have been advanced. I'm out.

【0003】以下、従来の樹脂封止型半導体装置につい
て説明する。
A conventional resin-sealed semiconductor device will be described below.

【0004】図20は、従来の樹脂封止型半導体装置の
断面図である。図20に示すように、従来の樹脂封止型
半導体装置は、裏面側に外部電極を有するタイプの樹脂
封止型半導体装置である。
FIG. 20 is a sectional view of a conventional resin-sealed semiconductor device. As shown in FIG. 20, the conventional resin-encapsulated semiconductor device is a resin-encapsulated semiconductor device of a type having external electrodes on the back surface side.

【0005】従来の樹脂封止型半導体装置は、インナー
リード101と、ダイパッド102と、そのダイパッド
102を支持する吊りリード(図示せず)とからなるリ
ードフレームとを備えている。そして、ダイパッド10
2上に半導体チップ104が接着剤により接合されてお
り、半導体チップ104の電極パッド(図示せず)とイ
ンナーリード101とは、金属細線105により電気的
に接続されている。そして、ダイパッド102,半導体
チップ104,インナーリード101の一部,吊りリー
ド及び金属細線105は封止樹脂106により封止され
ている。この構造では、インナーリード101の裏面側
には封止樹脂106は存在せず、インナーリード101
の裏面側は露出されており、この露出面を含むインナー
リード101の下部が外部電極107となっている。な
お、封止樹脂106との密着性を確保するために、イン
ナーリード101やダイパッド102の側面を表裏の面
に対して直交するのではなく、上方に向かって拡大する
ようにテーパ状にしている。
The conventional resin-encapsulated semiconductor device includes an inner lead 101, a die pad 102, and a lead frame including a suspension lead (not shown) that supports the die pad 102. And the die pad 10
The semiconductor chip 104 is bonded to the upper surface of the semiconductor chip 104 by an adhesive, and the electrode pads (not shown) of the semiconductor chip 104 and the inner leads 101 are electrically connected by the thin metal wires 105. The die pad 102, the semiconductor chip 104, a part of the inner lead 101, the suspension lead and the thin metal wire 105 are sealed with a sealing resin 106. In this structure, the sealing resin 106 does not exist on the back surface side of the inner lead 101.
The back surface side of is exposed, and the lower portion of the inner lead 101 including this exposed surface is the external electrode 107. In order to secure the adhesion with the sealing resin 106, the side surfaces of the inner lead 101 and the die pad 102 are not orthogonal to the front and back surfaces, but are tapered so as to expand upward. .

【0006】このような樹脂封止型半導体装置において
は、封止樹脂106の裏面とダイパッド102の裏面と
は共通の面上にある。すなわち、リードフレームの裏面
側は実質的に封止されていないので、薄型の樹脂封止型
半導体装置が実現する。
In such a resin-sealed semiconductor device, the back surface of the sealing resin 106 and the back surface of the die pad 102 are on a common surface. That is, since the back surface side of the lead frame is not substantially sealed, a thin resin-sealed semiconductor device is realized.

【0007】図20に示す構造を有する樹脂封止型半導
体装置の製造工程においては、まず、インナーリード1
01、ダイパッド102を有するリードフレームを用意
し、機械的又は化学的加工を行なって、リードフレーム
の側面をテーパ状にする。次に、用意したリードフレー
ムのダイパッド102の上に半導体チップ104を接着
剤により接合した後、半導体チップ104とインナーリ
ード101とを金属細線105により電気的に接続す
る。金属細線105には、アルミニウム細線、金(A
u)線などが適宜用いられる。次に、ダイパッド10
2,半導体チップ104,インナーリード101,吊り
リード及び金属細線105を封止樹脂106により封止
する。この場合、半導体チップ104が接合されたリー
ドフレームが封止金型内に収納されて、トランスファー
モールドされるが、特にリードフレームの裏面が封止金
型の上金型又は下金型に接触した状態で、樹脂封止が行
なわれる。最後に、樹脂封止後に封止樹脂106から外
方に突出しているアウターリードを切断して、樹脂封止
型半導体装置が完成する。
In the manufacturing process of the resin-sealed semiconductor device having the structure shown in FIG. 20, first, the inner lead 1
01, a lead frame having the die pad 102 is prepared, and mechanical or chemical processing is performed to make the side surface of the lead frame tapered. Next, after the semiconductor chip 104 is bonded onto the die pad 102 of the prepared lead frame with an adhesive, the semiconductor chip 104 and the inner lead 101 are electrically connected by the fine metal wire 105. The fine metal wires 105 include fine aluminum wires and gold (A
u) line etc. are used suitably. Next, the die pad 10
2. The semiconductor chip 104, the inner lead 101, the suspension lead and the thin metal wire 105 are sealed with the sealing resin 106. In this case, the lead frame to which the semiconductor chip 104 is joined is housed in the sealing mold and transfer-molded. Especially, the back surface of the lead frame comes into contact with the upper mold or the lower mold of the sealing mold. In this state, resin sealing is performed. Finally, the outer leads protruding outward from the sealing resin 106 after resin sealing are cut to complete the resin-sealed semiconductor device.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の樹脂封止型半導体装置においては、薄型化は実現す
るものの、以下のような問題があった。
However, although the above-mentioned conventional resin-encapsulated semiconductor device can be made thinner, it has the following problems.

【0009】第1に、ダイパッドの上面及び側面には封
止樹脂が存在するものの、ダイパッドの裏面側には、封
止樹脂が存在しない。そのために、ダイパッド及び半導
体チップに対する封止樹脂の保持力が低下して、信頼性
が悪化するという問題があった。
First, the sealing resin exists on the upper surface and the side surfaces of the die pad, but the sealing resin does not exist on the back surface side of the die pad. Therefore, there is a problem that the holding force of the sealing resin on the die pad and the semiconductor chip is reduced, and the reliability is deteriorated.

【0010】第2に、封止樹脂の応力および実装後の応
力により半導体チップが悪影響を受けたり、封止樹脂に
クラックが発生するという問題もあった。特に、ダイパ
ッドと封止樹脂との間に湿気が侵入した場合には、両者
間の密着性の低下やクラックの発生が顕著になる。これ
によって、さらに信頼性が悪化するという問題があっ
た。
Secondly, there are problems that the semiconductor chip is adversely affected by the stress of the sealing resin and the stress after mounting, or cracks occur in the sealing resin. In particular, when moisture penetrates between the die pad and the sealing resin, the adhesiveness between them and the cracking become remarkable. As a result, there is a problem that reliability is further deteriorated.

【0011】第3に、一般的に、樹脂封止型半導体装置
を実装基板上に搭載する際には、はんだの張力を利用し
てセルフアライメントによって実装基板上の樹脂封止型
半導体装置の搭載位置を正確に定めることができるが、
セルフアライメントが安定するのに要する時間を早める
ことによる作業時間の短縮や搭載位置の精度には改善の
余地がある。
Thirdly, in general, when mounting a resin-sealed semiconductor device on a mounting board, the resin-sealed semiconductor device is mounted on the mounting board by self-alignment using the tension of solder. You can set the position accurately,
There is room for improvement in the work time and mounting position accuracy by shortening the time required for self-alignment to stabilize.

【0012】第4に、実装基板とダイパッドとの接合に
おいて、ダイパッドの裏面上に封止樹脂の一部がはみ出
していわゆる樹脂バリが介在すると、放熱パッド等との
接触が不十分となり、放熱特性などの所望の特性を十分
発揮できないおそれがある。一方、この樹脂バリはウォ
ータージェットなどの利用によって除去できるが、かか
る処理は煩雑な手間を要し、しかも、ウォータージェッ
ト工程によってニッケル,パラジウム,金のメッキ層が
剥がれ、また不純物が付着することから、樹脂封止工程
後に樹脂封止から露出している部分にメッキを施すこと
が必要となり、作業能率の低下,信頼性の悪化を招くお
それもあった。
Fourth, when a mounting substrate and a die pad are joined, if a part of the sealing resin protrudes on the back surface of the die pad and a so-called resin burr intervenes, contact with the heat radiation pad or the like becomes insufficient, and the heat radiation characteristics There is a possibility that desired characteristics such as the above cannot be sufficiently exhibited. On the other hand, this resin burr can be removed by using a water jet or the like, but such a treatment requires complicated labor, and the nickel, palladium, and gold plating layers are peeled off by the water jet process, and impurities are attached. However, it is necessary to plate the portion exposed from the resin encapsulation after the resin encapsulation step, which may lead to a reduction in work efficiency and a deterioration in reliability.

【0013】本発明は、以上の諸点に鑑みなされたもの
であって、以下のような目的を有する。
The present invention has been made in view of the above points, and has the following objects.

【0014】本発明の第1の目的は、実装基板上におけ
るセルアライメント機能の高い樹脂封止型半導体装置及
びその製造方法を提供することにある。
A first object of the present invention is to provide a resin-sealed semiconductor device having a high cell alignment function on a mounting substrate and a method for manufacturing the same.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の樹脂封止型半導
体装置は、電極パッドを有する半導体チップと、上記半
導体チップを支持するダイパッドと、信号接続用リード
と、上記半導体チップの電極パッドと上記信号接続用リ
ードとを電気的に接続する接続部材と、上記ダイパッ
ド,上記半導体チップ,信号接続用リード及び接続部材
を封止する封止樹脂とを備え、上記ダイパッドの下部に
おける少なくとも一部と上記信号接続用リードの下部に
おける少なくとも一部とは上記封止樹脂から露出してお
り、上記ダイパッドの露出している部分の下面と、上記
信号接続用リードの露出している部分の下面とは互いに
高さ位置が異なっている。
A resin-sealed semiconductor device according to the present invention includes a semiconductor chip having electrode pads, a die pad for supporting the semiconductor chip, signal connecting leads, and electrode pads of the semiconductor chip. At least a part of the lower portion of the die pad, which includes a connecting member that electrically connects the signal connecting lead, a die pad, the semiconductor chip, a sealing resin that seals the signal connecting lead, and the connecting member. At least a part of the lower portion of the signal connecting lead is exposed from the sealing resin, and the lower surface of the exposed portion of the die pad and the lower surface of the exposed portion of the signal connecting lead are The height positions are different from each other.

【0016】これにより、樹脂封止型半導体装置を実装
基板上に搭載する際に、ダイパッド−実装基板間と、信
号接続用リード−実装基板間とでは間隙が異なることに
なるので、その間に介在するはんだなどの張力が異な
り、アライメント性が向上する。したがって、セルフア
ライメントに要する時間の短縮と位置精度の向上とが可
能になる。
As a result, when the resin-sealed semiconductor device is mounted on the mounting board, a gap is different between the die pad and the mounting board and between the signal connection lead and the mounting board. The tension of the solder to be used is different and the alignment is improved. Therefore, the time required for self-alignment can be shortened and the positional accuracy can be improved.

【0017】上記信号接続用リードの少なくとも一部に
は、溝部が形成されていることにより、信号接続用リー
ドの下面を封止樹脂から露出させても、信号接続用リー
ドに対する封止樹脂の保持力が向上する。
Since the groove is formed in at least a part of the signal connecting lead, even if the lower surface of the signal connecting lead is exposed from the sealing resin, the sealing resin is retained on the signal connecting lead. Power improves.

【0018】上記ダイパッドの露出している部分の下面
は、上記信号接続用リードの露出している部分の下面よ
りも下方に位置していることが好ましい。
The lower surface of the exposed portion of the die pad is preferably located below the lower surface of the exposed portion of the signal connecting lead.

【0019】上記ダイパッドの露出している部分の下面
と、上記信号接続用リードの露出している部分の下面と
の高さの差は、10〜150μmであることが好まし
い。
The difference in height between the lower surface of the exposed portion of the die pad and the lower surface of the exposed portion of the signal connecting lead is preferably 10 to 150 μm.

【0020】本発明の樹脂封止型半導体装置の製造方法
は、半導体チップを搭載する領域を囲む外枠と、上記半
導体チップを支持するためのダイパッドと、上記ダイパ
ッドを上記外枠に接続するための吊りリードと、上記外
枠に接続される信号接続用リードとを有し、かつ上記ダ
イパッドが上記信号接続用リードよりも下方に位置して
いるリードフレームを用意する第1の工程と、上記ダイ
パッドの上に、電極パッドを有する半導体チップを搭載
する第2の工程と、上記半導体チップの電極パッドと上
記信号接続用リードとを金属細線を介して電気的に接続
する第3の工程と、上記リードフレームのダイパッドの
下面の少なくとも一部と信号接続用リードの下面の少な
くとも一部とに封止テープを密着させながら、封止テー
プを封止金型に装着する第4の工程と、上記ダイパッ
ド,半導体チップ,信号接続用リード及び金属細線を封
止樹脂により封止する第5の工程と、上記封止テープを
除去する第6の工程とを備え、上記ダイパッドの下面の
少なくとも一部と上記信号接続用リードの下面の少なく
とも一部とが上記封止樹脂の裏面から露出しているとと
もに、上記ダイパッドの露出している部分の下面が上記
信号接続用リードの露出している部分の下面よりも下方
に位置している樹脂封止体を得る方法である。
According to the method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device of the present invention, an outer frame surrounding an area for mounting a semiconductor chip, a die pad for supporting the semiconductor chip, and the die pad connected to the outer frame. A first step of preparing a lead frame having a suspension lead and a signal connection lead connected to the outer frame, and the die pad being located below the signal connection lead; A second step of mounting a semiconductor chip having an electrode pad on the die pad, and a third step of electrically connecting the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead through a thin metal wire, The sealing tape is attached to the sealing mold while the sealing tape is adhered to at least a part of the lower surface of the die pad of the lead frame and at least a part of the lower surface of the signal connecting lead. And a fifth step of sealing the die pad, the semiconductor chip, the signal connection lead and the thin metal wire with a sealing resin, and a sixth step of removing the sealing tape. At least a part of the lower surface of the die pad and at least a part of the lower surface of the signal connecting lead are exposed from the back surface of the sealing resin, and the lower surface of the exposed portion of the die pad is the signal connecting lead. Is a method for obtaining a resin sealing body located below the lower surface of the exposed portion of the.

【0021】この方法により、樹脂封止型半導体装置を
実装基板上に搭載する際に、ダイパッドの下方における
はんだ等の大きな張力が樹脂封止型半導体装置のセルフ
アライメントの位置や時間を支配する。したがって、実
装時間の短縮と実装位置の精度の向上と実装性の向上と
を図ることができる。
According to this method, when the resin-sealed semiconductor device is mounted on the mounting substrate, a large tension of solder or the like below the die pad controls the position and time of self-alignment of the resin-sealed semiconductor device. Therefore, it is possible to reduce the mounting time, improve the accuracy of the mounting position, and improve the mountability.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明の樹脂封止型半導体装置
は、ダイパッドの下面を封止樹脂の裏面から露出させた
共通の構成を有しており、以下、その中の各種の実施形
態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention has a common structure in which the lower surface of the die pad is exposed from the rear surface of the encapsulating resin, and various embodiments will be described below. explain.

【0023】(第1の実施形態)図1は、第1の実施形
態に係る樹脂封止型半導体装置の断面図である。ただ
し、図1においては封止樹脂17を透明体として扱い、
吊りリードの図示は省略している。
(First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to the first embodiment. However, in FIG. 1, the sealing resin 17 is treated as a transparent body,
Illustration of the suspension leads is omitted.

【0024】図1に示すように、本実施形態の樹脂封止
型半導体装置は、信号接続用リード12と、半導体チッ
プを支持するためのダイパッド13と、そのダイパッド
13を支持するための吊りリードとからなるリードフレ
ームを備えている。そして、ダイパッド13上に半導体
チップ15が接着剤により接合されており、半導体チッ
プ15の電極パッド(図示せず)と信号接続用リード1
2とは、金属細線16により互いに電気的に接続されて
いる。そして、信号接続用リード12,ダイパッド1
3,吊りリード,半導体チップ15及び金属細線16
は、封止樹脂17内に封止されている。
As shown in FIG. 1, the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment has a signal connecting lead 12, a die pad 13 for supporting a semiconductor chip, and a suspension lead for supporting the die pad 13. It is equipped with a lead frame. The semiconductor chip 15 is bonded onto the die pad 13 with an adhesive, and the electrode pad (not shown) of the semiconductor chip 15 and the signal connection lead 1 are connected.
2 are electrically connected to each other by a thin metal wire 16. Then, the signal connecting lead 12 and the die pad 1
3, suspension lead, semiconductor chip 15 and thin metal wire 16
Are sealed in the sealing resin 17.

【0025】ここで、本実施形態の特徴は、ダイパッド
13の裏面側がハーフエッチ等により中央部で凸部13
aになりその周囲にフランジ部13bが存在するように
段付形状になっていて、この凸部13aのうち下部のみ
が封止樹脂の裏面から突出している点である。そのた
め、封止樹脂17により封止された状態では、封止樹脂
17がダイパッド13の凸部13aの周囲のフランジ部
13bの下方に薄く存在している。
Here, the feature of this embodiment is that the back surface side of the die pad 13 has a convex portion 13 at the central portion by half etching or the like.
It is a stepped shape so that it becomes a and there is a flange portion 13b around it, and only the lower part of this convex portion 13a protrudes from the back surface of the sealing resin. Therefore, in the state of being sealed by the sealing resin 17, the sealing resin 17 is thinly present below the flange portion 13b around the convex portion 13a of the die pad 13.

【0026】また、信号接続用リード12の下面側には
封止樹脂17は存在せず、信号接続用リード12の下面
が露出されており、この信号接続用リード12の下面が
実装基板との接続面となる。すなわち、信号接続用リー
ド12の下部が外部電極18となっている。
Further, the sealing resin 17 does not exist on the lower surface side of the signal connecting lead 12, the lower surface of the signal connecting lead 12 is exposed, and the lower surface of the signal connecting lead 12 serves as a mounting substrate. It becomes the connection surface. That is, the lower portion of the signal connection lead 12 is the external electrode 18.

【0027】そして、ダイパッド13の露出している凸
部13a及び外部電極18には本来的に樹脂封止工程に
おける樹脂のはみ出し部分である樹脂バリが存在せず、
かつダイパッド13の凸部13a及び外部電極18は封
止樹脂17の裏面よりも下方に少し突出している。この
ような樹脂バリの存在しないかつ下方に突出したダイパ
ッド13の凸部13a及び外部電極18の構造は、後述
する製造方法によって容易に実現できる。
The exposed convex portion 13a of the die pad 13 and the external electrode 18 originally do not have a resin burr which is a protruding portion of the resin in the resin sealing step,
In addition, the convex portion 13a of the die pad 13 and the external electrode 18 slightly project below the back surface of the sealing resin 17. Such a structure of the convex portion 13a of the die pad 13 and the external electrode 18 which does not have a resin burr and protrudes downward can be easily realized by a manufacturing method described later.

【0028】本実施形態の樹脂封止型半導体装置による
と、ダイパッド13の裏面側が中央部で凸部13aとな
る段付形状となっており、この凸部13aの下部のみが
封止樹脂から露出しているので、封止樹脂17がダイパ
ッド13のフランジ部13bの下方にも薄く存在してい
る。したがって、ダイパッド13に対する封止樹脂17
の保持力が増大し、樹脂封止型半導体装置としての信頼
性が向上する。
According to the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment, the back surface side of the die pad 13 has a stepped shape with the convex portion 13a at the central portion, and only the lower portion of the convex portion 13a is exposed from the sealing resin. Therefore, the sealing resin 17 is thinly present below the flange portion 13b of the die pad 13. Therefore, the sealing resin 17 for the die pad 13
Is increased, and the reliability of the resin-sealed semiconductor device is improved.

【0029】また、保持力が増大することで、封止樹脂
17とダイパッド13との密着性が向上するので、両者
の境界からの水分や湿気の侵入を阻むことができ、耐湿
性が向上する。したがって、樹脂封止型半導体装置の信
頼性がさらに向上する。
Further, since the holding force is increased, the adhesion between the sealing resin 17 and the die pad 13 is improved, so that it is possible to prevent the intrusion of moisture and humidity from the boundary between the two and to improve the moisture resistance. . Therefore, the reliability of the resin-sealed semiconductor device is further improved.

【0030】しかも、ダイパッド13の露出している凸
部13aの下面には樹脂バリが存在していないので、凸
部13aと実装基板との接合の信頼性や、放熱特性が向
上する。
Moreover, since there is no resin burr on the exposed lower surface of the convex portion 13a of the die pad 13, the reliability of the joint between the convex portion 13a and the mounting substrate and the heat dissipation characteristic are improved.

【0031】なお、本実施形態では、信号接続用リード
12の側方には外部電極端子となるアウターリードが存
在せず、インナーリードに相当する信号接続用リード1
2の下部が外部電極18となっているので、半導体装置
の小型化を図ることができる。しかも、信号接続用リー
ド12の下面つまり外部電極18の下面には樹脂バリが
存在していないので、実装基板の電極との接合の信頼性
が向上する。また、外部電極18が封止樹脂17の面よ
り突出して形成されているため、実装基板に樹脂封止型
半導体装置を実装する際の外部電極と実装基板の電極と
の接合において、外部電極18のスタンドオフ高さが予
め確保されていることになる。したがって、外部電極1
8をそのまま外部端子として用いることができ、実装基
板への実装のために外部電極18にはんだボールを付設
する必要はなく、製造工数、製造コスト的に有利とな
る。
In this embodiment, there is no outer lead serving as an external electrode terminal on the side of the signal connecting lead 12, and the signal connecting lead 1 corresponding to the inner lead is provided.
Since the lower portion of 2 serves as the external electrode 18, the semiconductor device can be downsized. Moreover, since the resin burr does not exist on the lower surface of the signal connection lead 12, that is, the lower surface of the external electrode 18, the reliability of the bonding with the electrode of the mounting substrate is improved. Further, since the external electrode 18 is formed so as to project from the surface of the sealing resin 17, the external electrode 18 is bonded to the electrode of the mounting substrate when mounting the resin-sealed semiconductor device on the mounting substrate. This means that the standoff height of is secured in advance. Therefore, the external electrode 1
8 can be used as an external terminal as it is, and it is not necessary to attach a solder ball to the external electrode 18 for mounting on the mounting board, which is advantageous in terms of manufacturing steps and manufacturing cost.

【0032】次に、本実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法について、図面を参照しながら説明する。図
2〜図6は、本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程を示す断面図である。
Next, a method of manufacturing the resin-sealed semiconductor device of this embodiment will be described with reference to the drawings. 2 to 6 are cross-sectional views showing the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment.

【0033】まず、図2に示す工程で、信号接続用リー
ド12と、半導体チップを支持するためのダイパッド1
3とが設けられているリードフレーム20を用意する。
図中、ダイパッド13は吊りリードによって支持されて
いるが、吊りリードはこの断面には現れないために図示
されていない。また、信号接続用リード12の外方はリ
ードフレーム20の外枠に接続されているが、外枠は信
号接続用リードと連続しているために、この段面では境
界が現れていない。ここで、ダイパッド13の裏面側
は、中央部をマスクしたハーフエッチにより、中央部が
凸部13aとなり、その周囲にフランジ部13bが存在
する段付形状に形成されている。さらに、用意するリー
ドフレーム20は、樹脂封止の際、封止樹脂の流出を止
めるタイバーを設けていないリードフレームである。
First, in the step shown in FIG. 2, the signal connecting leads 12 and the die pad 1 for supporting the semiconductor chip are formed.
A lead frame 20 provided with 3 and 3 is prepared.
In the figure, the die pad 13 is supported by suspension leads, but the suspension leads are not shown because they do not appear in this section. The outer side of the signal connecting lead 12 is connected to the outer frame of the lead frame 20, but since the outer frame is continuous with the signal connecting lead, no boundary appears on this step surface. Here, the back surface side of the die pad 13 is formed in a stepped shape in which the central portion becomes the convex portion 13a and the flange portion 13b exists around the convex portion 13a by half etching with the central portion masked. Further, the lead frame 20 to be prepared is a lead frame that is not provided with a tie bar that stops the outflow of the sealing resin during resin sealing.

【0034】また、本実施形態におけるリードフレーム
20は、銅(Cu)素材のフレームに対して、下地メッ
キとしてニッケル(Ni)層が、その上にパラジウム
(Pd)層が、最上層に薄膜の金(Au)層がそれぞれ
メッキされた3層の金属メッキ済みのリードフレームで
ある。ただし、銅(Cu)素材以外にも42アロイ材等
の素材を使用でき、また、ニッケル(Ni),パラジウ
ム(Pd),金(Au)以外の貴金属メッキが施されて
いてもよく、さらに、かならずしも3層メッキでなくて
もよい。
In addition, the lead frame 20 in the present embodiment has a nickel (Ni) layer as a base plating, a palladium (Pd) layer thereon, and a thin film on the uppermost layer, as compared with a frame made of a copper (Cu) material. 3 is a metal-plated lead frame in which gold (Au) layers are plated. However, other than copper (Cu) material, 42 alloy material and the like can be used, and may be plated with a noble metal other than nickel (Ni), palladium (Pd), and gold (Au). It is not always necessary to use three-layer plating.

【0035】次に、図3に示す工程で、用意したリード
フレームのダイパッド上に半導体チップ15を載置し
て、接着剤により両者を互いに接合する。この工程は、
いわゆるダイボンド工程である。なお、半導体チップを
支持する部材としてはリードフレームに限定されるもの
ではなく、他の半導体チップを支持できる部材、例えば
TABテープ、基板を用いてもよい。
Next, in the step shown in FIG. 3, the semiconductor chip 15 is placed on the die pad of the prepared lead frame and the two are bonded to each other with an adhesive. This process is
This is a so-called die-bonding process. The member that supports the semiconductor chip is not limited to the lead frame, and a member that can support another semiconductor chip, such as a TAB tape or a substrate, may be used.

【0036】そして、図4に示す工程で、ダイパッド1
3上に接合した半導体チップ15と信号接続用リード1
2とを金属細線16により電気的に接合する。この工程
は、いわゆるワイヤーボンド工程である。金属細線とし
ては、アルミニウム細線、金(Au)線などを適宜選択
して用いることができる。また、半導体チップ15と信
号接続用リード12との電気的な接続は、金属細線16
を介してでなくバンプなどを介して行なってもよい。
Then, in the process shown in FIG.
The semiconductor chip 15 and the signal connecting lead 1 bonded on
2 and 2 are electrically connected by a thin metal wire 16. This process is a so-called wire bond process. As the metal thin wire, an aluminum thin wire, a gold (Au) wire, or the like can be appropriately selected and used. In addition, the electrical connection between the semiconductor chip 15 and the signal connection lead 12 is made by the metal thin wire 16
It may be performed not through the bumps but through bumps or the like.

【0037】次に、図5に示す工程で、リードフレーム
のダイパッド13上に半導体チップ15が接合された状
態で、ダイパッド13の凸部の下面及び信号接続用リー
ド12の裏面に封止テープ21を貼り付ける。
Next, in the step shown in FIG. 5, with the semiconductor chip 15 bonded to the die pad 13 of the lead frame, the sealing tape 21 is formed on the lower surface of the convex portion of the die pad 13 and the back surface of the signal connecting lead 12. Paste.

【0038】この封止テープ21は、特にダイパッド1
3の凸部13aの下面側及び信号接続用リード12の裏
面側に樹脂封止時に封止樹脂が回り込まないようにする
マスク的な役割を果たさせるためのものであり、この封
止テープ21の存在によって、ダイパッド13の凸部1
3aの下面や、信号接続用リード12の裏面に樹脂バリ
が形成されるのを防止することができる。この封止テー
プ21は、ポリエチレンテレフタレート,ポリイミド,
ポリカーボネートなどを主成分とする樹脂をベースとし
たテープであり、樹脂封止後は容易に剥がすことがで
き、また樹脂封止時における高温環境に耐性があるもの
であればよい。本実施形態では、ポリエチレンテレフタ
レートを主成分としたテープを用い、厚みは50[μ
m]とした。
This sealing tape 21 is especially suitable for the die pad 1.
The sealing tape 21 serves to prevent the sealing resin from wrapping around the lower surface of the convex portion 13a of FIG. 3 and the rear surface of the signal connecting lead 12 during resin sealing. Of the die pad 13 due to the presence of
It is possible to prevent the resin burr from being formed on the lower surface of 3a or the back surface of the signal connecting lead 12. This sealing tape 21 is made of polyethylene terephthalate, polyimide,
It is a tape based on a resin containing polycarbonate as a main component as long as it can be easily peeled off after the resin is sealed and has resistance to a high temperature environment at the time of resin sealing. In this embodiment, a tape containing polyethylene terephthalate as a main component is used, and the thickness is 50 [μ
m].

【0039】次に、図6に示す工程で、半導体チップ1
5が接合され、封止テープ21が貼り付けられたリード
フレームを金型内に収納し、金型内に封止樹脂17を流
し込んで樹脂封止を行う。あるいは、金型内に封止テー
プ21を貼り付けることも可能である。この際、ダイパ
ッド13の凸部13aの下面側及び信号接続用リード1
2の裏面側に封止樹脂17が回り込まないように、金型
でリードフレームの信号接続用リード12の先端側(外
枠)を下方に押圧して、樹脂封止する。
Next, in the step shown in FIG. 6, the semiconductor chip 1
The lead frame to which 5 is bonded and the sealing tape 21 is attached is housed in a mold, and the sealing resin 17 is poured into the mold to perform resin sealing. Alternatively, the sealing tape 21 can be attached in the mold. At this time, the lower surface side of the convex portion 13a of the die pad 13 and the signal connecting lead 1
The tip end side (outer frame) of the signal connection lead 12 of the lead frame is pressed downward by a mold so that the sealing resin 17 does not wrap around on the back surface side of 2.

【0040】最後に、ダイパッド13の凸部13aの下
面及び信号接続用リード12の裏面に貼付した封止テー
プ21をピールオフにより除去する。これにより、ダイ
パッド13の裏面側においては凸部13aの下部のみが
封止樹脂の裏面よりも下方に突出した構造が得られ、封
止樹脂17の裏面より突出した外部電極18が形成され
る。そして、信号接続用リード12の先端側を、信号接
続用リード12の先端面と封止樹脂17の側面とがほぼ
同一面になるように切り離すことにより、図1に示すよ
うな樹脂封止型半導体装置が完成される。
Finally, the sealing tape 21 attached to the lower surface of the convex portion 13a of the die pad 13 and the back surface of the signal connecting lead 12 is removed by peeling off. As a result, on the back surface side of the die pad 13, a structure in which only the lower portion of the convex portion 13a projects below the back surface of the sealing resin is obtained, and the external electrode 18 projecting from the back surface of the sealing resin 17 is formed. Then, the tip end side of the signal connecting lead 12 is cut off so that the tip end surface of the signal connecting lead 12 and the side surface of the sealing resin 17 are substantially flush with each other, so that the resin sealing type as shown in FIG. The semiconductor device is completed.

【0041】本実施形態の製造方法によると、ダイパッ
ド13の凸部13aの一部のみが封止樹脂17の裏面か
ら突出し、かつ、凸部13aの周辺のフランジ部13b
の下方に封止樹脂17が存在している樹脂封止型半導体
装置を容易に製造することができる。
According to the manufacturing method of this embodiment, only a part of the protrusion 13a of the die pad 13 projects from the back surface of the sealing resin 17, and the flange 13b around the protrusion 13a.
It is possible to easily manufacture a resin-sealed semiconductor device in which the sealing resin 17 is present below.

【0042】しかも、本実施形態の製造方法によると、
樹脂封止工程の前に予めダイパッド13の凸部13aの
下面及び信号接続用リード12の裏面に封止テープ21
を貼付しているので、封止樹脂17が回り込むことがな
く、ダイパッド13の凸部13aや、外部電極となる信
号接続用リード12の裏面には樹脂バリの発生はない。
したがって、信号接続用リードの下面を露出させる従来
の樹脂封止型半導体装置の製造方法のごとく、ダイパッ
ド13の凸部13aの下面や外部電極18上に形成され
た樹脂バリをウォータージェットなどによって除去する
必要はない。すなわち、この樹脂バリを除去するための
面倒な工程の削除によって、樹脂封止型半導体装置の量
産工程における工程の簡略化が可能となる。また、従
来、ウォータージェットなどによる樹脂バリ除去工程に
おいて生じるおそれのあったリードフレームのニッケル
(Ni),パラジウム(Pd),金(Au)などの金属
メッキ層の剥がれや不純物の付着は解消できる。そのた
め、樹脂封止工程前における各金属層のプリメッキが可
能となる。
Moreover, according to the manufacturing method of the present embodiment,
Before the resin encapsulation step, the encapsulating tape 21 is previously formed on the lower surface of the convex portion 13a of the die pad 13 and the rear surface of the signal connecting lead 12.
Since the sealing resin 17 does not wrap around, resin burrs do not occur on the convex portion 13a of the die pad 13 and the back surface of the signal connection lead 12 that serves as an external electrode.
Therefore, the resin burrs formed on the lower surface of the convex portion 13a of the die pad 13 and the external electrode 18 are removed by a water jet or the like as in the conventional method of manufacturing a resin-sealed semiconductor device in which the lower surface of the signal connection lead is exposed. do not have to. That is, by omitting the troublesome process for removing the resin burr, it is possible to simplify the process in the mass production process of the resin-encapsulated semiconductor device. Further, it is possible to eliminate the peeling of the metal plating layer of nickel (Ni), palladium (Pd), gold (Au) or the like of the lead frame and the adhesion of impurities, which may occur in the resin burr removal process by a water jet or the like. Therefore, it is possible to pre-plat each metal layer before the resin sealing step.

【0043】なお、ウォータージェットによる樹脂バリ
除去工程を削除できるかわりに、封止テープを貼付する
工程が新たに必要となるが、封止テープ21を貼付する
工程の方が、ウォータージェット工程よりもコスト的に
安価であり、また工程管理も容易であるため、確実に工
程の簡略化が図れる。なによりも、従来必要であったウ
ォータージェット工程では、リードフレームの金属メッ
キが剥がれる、不純物が付着するという品質上のトラブ
ルが発生するが、本実施形態の方法では、封止テープの
貼付により、ウォータージェットが不要となって、メッ
キ剥がれをなくすことができる点は大きな工程上の利点
となる。また、封止テープの貼付状態などによって樹脂
バリが発生することがあるとしても、極めて薄い樹脂バ
リであるので、低い水圧でウォータージェット処理して
樹脂バリを除去でき、メッキ剥がれを防止できることか
ら金属層のプリメッキ工程は可能である。
Although the resin burr removing step by the water jet can be omitted, a step of attaching the sealing tape is newly required, but the step of attaching the sealing tape 21 is more preferable than the water jet step. Since the cost is low and the process control is easy, the process can be surely simplified. Above all, in the conventionally required water jet process, the metal plating of the lead frame is peeled off, and quality problems such as the adhesion of impurities occur, but in the method of the present embodiment, by applying the sealing tape, The fact that the water jet is unnecessary and the plating can be removed is a great process advantage. In addition, even if resin burrs may occur due to the sealing tape attachment state, etc., since it is an extremely thin resin burr, it is possible to remove the resin burrs by water jet processing with low water pressure and prevent plating peeling. A layer pre-plating process is possible.

【0044】なお、図6に示すように、樹脂封止工程に
おいては、封止金型の熱によって封止テープ21が軟化
するとともに熱収縮するので、ダイパッド13の凸部1
3a及び信号接続用リード12が封止テープ21に大き
く食い込み、ダイパッド13の凸部13aと封止樹脂1
7の裏面との間、信号接続用リード12の裏面と封止樹
脂17の裏面との間には、それぞれ段差が形成される。
したがって、ダイパッド13の凸部13a及び信号接続
用リード12は封止樹脂17の裏面から突出した構造と
なり、ダイパッド13の凸部13aのスタンドオフ高さ
や、信号接続用リード12の下部である外部電極18の
突出量(スタンドオフ高さ)を確保できる。例えば、本
実施形態では、封止テープ21の厚みを50μmとして
いるので、突出量を例えば20μm程度にできる。この
ように、封止テープ21の厚みの調整によって外部電極
18の封止樹脂からの突出量を適正量に維持できる。こ
のことは、外部電極18のスタンドオフ高さを封止テー
プ21の厚みの設定のみでコントロールでき、別途スタ
ンドオフ高さ量をコントロールのための手段または工程
を設けなくてもよいこと意味し、量産工程における工程
管理のコスト上、極めて有利な点である。この封止テー
プ21の厚みは、10〜150μm程度であることが好
ましい。
As shown in FIG. 6, in the resin sealing step, the sealing tape 21 is softened and thermally contracted by the heat of the sealing die, so that the convex portion 1 of the die pad 13 is formed.
3a and the lead 12 for signal connection largely dig into the sealing tape 21, and the convex portion 13a of the die pad 13 and the sealing resin 1
7, a step is formed between the back surface of the signal connecting lead 12 and the back surface of the sealing resin 17.
Therefore, the convex portion 13a of the die pad 13 and the signal connecting lead 12 have a structure protruding from the back surface of the sealing resin 17, and the standoff height of the convex portion 13a of the die pad 13 and the external electrode which is the lower portion of the signal connecting lead 12 are formed. A protrusion amount of 18 (standoff height) can be secured. For example, in this embodiment, since the thickness of the sealing tape 21 is 50 μm, the protrusion amount can be about 20 μm, for example. In this way, by adjusting the thickness of the sealing tape 21, the amount of protrusion of the external electrode 18 from the sealing resin can be maintained at an appropriate amount. This means that the standoff height of the external electrode 18 can be controlled only by setting the thickness of the sealing tape 21, and it is not necessary to separately provide a means or process for controlling the standoff height amount. This is an extremely advantageous point in the cost of process control in the mass production process. The thickness of the sealing tape 21 is preferably about 10 to 150 μm.

【0045】なお、用いる封止テープ21については、
所望する突出量により、所定の硬度,厚みおよび熱によ
る軟化特性を有する材質を選択することができる。
Regarding the sealing tape 21 used,
A material having a predetermined hardness, thickness, and heat-softening property can be selected according to a desired protrusion amount.

【0046】ただし、上記第1の実施形態において、封
止テープ21に加える圧力の調整によって、ダイパッド
13の凸部や外部電極18のスタンドオフ高さを調整し
てもよく、例えば、スタンドオフ高さをほぼ「0」にす
ることも可能である。その場合、ダイパッド13の裏面
側における凸部13aの周辺のフランジ部13bの下方
に厚く封止樹脂17が存在するので、ダイパッド13に
対する封止樹脂17の保持力がより向上する利点があ
る。
However, in the first embodiment, the standoff height of the protrusion of the die pad 13 or the external electrode 18 may be adjusted by adjusting the pressure applied to the sealing tape 21, for example, the standoff height. It is also possible to set the height to almost “0”. In that case, since the sealing resin 17 exists thickly below the flange portion 13b around the convex portion 13a on the back surface side of the die pad 13, there is an advantage that the holding force of the sealing resin 17 with respect to the die pad 13 is further improved.

【0047】(第2の実施形態)次に、第2の実施形態
について説明する。本実施形態における樹脂封止型半導
体装置の基本的な構造は、上記第1の実施形態における
図1に示す構造と同じであるが、ダイパッドの形状のみ
が異なる。そこで、本実施形態においては、ダイパッド
の形状のみについて説明し、他の部分についての説明は
省略する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment will be described. The basic structure of the resin-encapsulated semiconductor device in this embodiment is the same as the structure shown in FIG. 1 in the first embodiment, but only the shape of the die pad is different. Therefore, in the present embodiment, only the shape of the die pad will be described, and description of other parts will be omitted.

【0048】−第1の具体例− 図7(a)は本実施形態の第1の具体例に係るダイパッ
ド13の平面図、図7(b)は図7(a)に示すVIIb−
VIIb線における断面図である。図7(a),(b)に示
すように、本具体例に係るダイパッド13には、4つの
コーナー部にそれぞれ小円状の貫通孔30aが形成され
ている。ただし、この貫通孔30aは、半導体チップ1
5の搭載領域の外方に形成されている。また、ダイパッ
ド13の裏面側には凸部が形成されてないが、凸部を形
成しておいてもよい。
-First Specific Example- FIG. 7A is a plan view of a die pad 13 according to a first specific example of the present embodiment, and FIG. 7B is a VIIb- shown in FIG. 7A.
FIG. 7 is a sectional view taken along line VIIb. As shown in FIGS. 7A and 7B, the die pad 13 according to this specific example has small circular through holes 30a formed at four corners. However, the through hole 30a is formed in the semiconductor chip 1
5 is formed outside the mounting area. Further, although the convex portion is not formed on the back surface side of the die pad 13, the convex portion may be formed.

【0049】本実施形態の第1の具体例に係る樹脂封止
型半導体装置によると、ダイパッド13に貫通孔30a
が形成されているので、貫通孔30a内に封止樹脂が入
り込むことにより、ダイパッド13に対する封止樹脂1
7の保持力が大幅に向上する。また、その結果、ダイパ
ッド13と封止樹脂17との密着性が増大するので、両
者の境界部からの水分や湿気等の侵入を阻むことがで
き、耐湿性の向上を図ることができるのである。
According to the resin-encapsulated semiconductor device of the first specific example of this embodiment, the through hole 30a is formed in the die pad 13.
Since the sealing resin is formed in the through hole 30a, the sealing resin 1 for the die pad 13 is formed.
The holding power of 7 is greatly improved. Further, as a result, the adhesiveness between the die pad 13 and the sealing resin 17 is increased, so that it is possible to prevent the ingress of water, moisture and the like from the boundary portion between the two and to improve the moisture resistance. .

【0050】ここで、樹脂封止型半導体装置の製造工程
において、上記第1の実施形態のごとく封止テープをダ
イパッド13の下面に密着させて樹脂封止を行なうこと
で、貫通孔から樹脂が漏れることがない。すなわち、従
来のような樹脂封止方法では、封止樹脂から露出してい
るダイパッドに貫通孔を設けると、貫通孔から封止樹脂
がダイパッドの裏面側に漏れる。しかも、ダイパッドに
は封止金型の押圧力が加わらないことから、信号接続用
リードの裏面側に比べて封止樹脂の漏れる量が多く、製
品価値がなくなるおそれがあった。そのため、ダイパッ
ドを封止樹脂内に埋め込む場合はともかくダイパッドの
裏面を封止樹脂から露出させるタイプの樹脂封止型半導
体装置においては、ダイパッドに貫通孔を設ける構造は
採用しがたいという不具合があった。それに対し、本実
施形態では、封止テープをダイパッドの裏面に密着させ
て樹脂封止を行なう方法を採用したことで、不具合を招
くことなく、ダイパッド13に貫通孔30aを設けて封
止樹脂の保持力を高めることができるのである。
Here, in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device, the resin is sealed from the through-hole by sealing the resin by adhering the sealing tape to the lower surface of the die pad 13 as in the first embodiment. It never leaks. That is, in the conventional resin sealing method, when a through hole is provided in the die pad exposed from the sealing resin, the sealing resin leaks from the through hole to the back surface side of the die pad. Moreover, since the pressing force of the sealing die is not applied to the die pad, the sealing resin leaks more than the back surface side of the signal connecting lead, which may reduce the product value. Therefore, in the resin-sealed semiconductor device of the type in which the back surface of the die pad is exposed from the encapsulation resin regardless of the case where the die pad is embedded in the encapsulation resin, the structure in which the through hole is provided in the die pad is difficult to adopt. It was On the other hand, in the present embodiment, a method of sealing the resin by adhering the sealing tape to the back surface of the die pad is adopted, so that the through hole 30a is provided in the die pad 13 without causing a problem, and the sealing resin The holding power can be increased.

【0051】なお、図8の変形例に示すように、小円状
ではなく長穴状の貫通孔30bを設けてもよい。この場
合には、貫通孔30bの横断面積がより大きくなるの
で、ダイパッド13に対する封止樹脂17の保持力がさ
らに向上する。
As shown in the modified example of FIG. 8, the through hole 30b may be provided in the shape of an elongated hole instead of the shape of a small circle. In this case, since the cross-sectional area of the through hole 30b becomes larger, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the die pad 13 is further improved.

【0052】なお、半導体チップ15は、ダイパッド1
3からはみ出す程度に大きなサイズを有していもよい。
The semiconductor chip 15 is the die pad 1
It may have a size large enough to protrude from 3.

【0053】また、貫通孔でないブラインドホールを形
成しても封止樹脂17の保持力増大効果を得ることがで
きる。
Even if a blind hole that is not a through hole is formed, the effect of increasing the holding force of the sealing resin 17 can be obtained.

【0054】−第2の具体例− 図9(a)は本実施形態の第2の具体例に係るダイパッ
ド13の平面図、図9(b)は図9(a)に示すIXb-IX
b 線における断面図である。図9(a),(b)に示す
ように、本具体例に係るダイパッド13には、4つのコ
ーナー部にそれぞれ下方側が広い段付の貫通孔30cが
形成されている。この貫通孔30cは、半導体チップ1
5の搭載領域の外方に形成されている。また、ダイパッ
ド13の裏面側にはハーフエッチ等により凸部が形成さ
れている点は、上記第1の実施形態におけるダイパッド
13の構造と同じであるが、貫通孔30cは凸部に設け
られている。
-Second Specific Example- FIG. 9A is a plan view of a die pad 13 according to a second specific example of the present embodiment, and FIG. 9B is IXb-IX shown in FIG. 9A.
It is sectional drawing in line b. As shown in FIGS. 9A and 9B, in the die pad 13 according to the present specific example, stepped through holes 30c each having a wide lower side are formed at four corners. The through hole 30c is formed in the semiconductor chip 1
5 is formed outside the mounting area. Further, the point that a convex portion is formed on the back surface side of the die pad 13 by half etching or the like is the same as the structure of the die pad 13 in the first embodiment, but the through hole 30c is provided in the convex portion. There is.

【0055】本実施形態の第2の具体例に係る樹脂封止
型半導体装置によると、ダイパッド13に下方側が広い
段付の貫通孔30cが形成されているので、ダイパッド
13に対する封止樹脂17の保持力が大幅に向上する。
According to the resin-sealed semiconductor device of the second specific example of the present embodiment, since the die pad 13 has the stepped through hole 30c having a wide lower side, the sealing resin 17 for the die pad 13 is formed. The holding power is greatly improved.

【0056】なお、図10の変形例に示すように、小円
状ではなく長穴状の貫通孔30dを設けてもよい。この
場合には、貫通孔30dの横断面積がより大きくなるの
で、ダイパッド13に対する封止樹脂17の保持力がさ
らに向上する。特に、長穴状の貫通孔30dの場合、細
く長い形状にすることで、貫通孔30dよりも内側にお
けるダイパッド13の面積を広く確保できるので、搭載
する半導体チップの大きさの制限を緩和することができ
る。言い換えると、同じ大きさの半導体チップに対する
樹脂封止型半導体装置のサイズを小さくすることができ
る。
As shown in the modification of FIG. 10, the through hole 30d may be provided in the shape of an elongated hole instead of the small circle. In this case, since the cross-sectional area of the through hole 30d becomes larger, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the die pad 13 is further improved. In particular, in the case of the through hole 30d in the shape of an elongated hole, by making the shape long and thin, the area of the die pad 13 inside the through hole 30d can be secured to be large, so that the restriction on the size of the semiconductor chip to be mounted is relaxed. You can In other words, it is possible to reduce the size of the resin-sealed semiconductor device with respect to semiconductor chips of the same size.

【0057】なお、貫通孔30c又は30dは、必ずし
も半導体チップ15の搭載領域の外方に設けられている
必要はないが、その場合には、ダイパッド13の裏面側
から封止樹脂17が回り込める部分、つまり、凸部の周
辺領域に貫通孔30c又は30dを設けておくことが好
ましい。
The through hole 30c or 30d does not necessarily have to be provided outside the mounting area of the semiconductor chip 15, but in that case, the sealing resin 17 can flow from the back side of the die pad 13. It is preferable to provide the through hole 30c or 30d in a portion, that is, in the peripheral region of the convex portion.

【0058】また、ダイパッド上に半導体チップをバン
プを介してフリップチップ接続する構造とする場合に
は、半導体チップとダイパッドとの間に間隙を作ること
で、貫通孔の位置がどこにあっても必ず封止樹脂が回り
込む。したがって、貫通孔の位置には原則として制限は
ない。
In the case where the semiconductor chip is flip-chip connected to the die pad via the bump, a gap is formed between the semiconductor chip and the die pad to ensure that the through hole is located at any position. The sealing resin wraps around. Therefore, the position of the through hole is not limited in principle.

【0059】また、図9,図10に示す半導体チップ1
5は、貫通孔30c,30dよりも外方にはみ出す大き
さを有していてもよい。
Further, the semiconductor chip 1 shown in FIGS.
5 may have a size protruding outside the through holes 30c and 30d.

【0060】(第3の実施形態)図11(a)は、第3
の実施形態に係る樹脂封止型半導体装置の平面図であ
り、図11(b)は、図11(a)に示すXIb-XIb 線に
おける断面図である。ただし、図11(a)においては
封止樹脂17を透明体として扱い、半導体チップ15は
破線で示す輪郭を有するものとしており、金属細線16
の図示は省略している。
(Third Embodiment) FIG. 11A shows a third embodiment.
11B is a plan view of the resin-encapsulated semiconductor device according to the embodiment of FIG. 11, and FIG. 11B is a sectional view taken along line XIb-XIb shown in FIG. 11A. However, in FIG. 11A, the sealing resin 17 is treated as a transparent body, and the semiconductor chip 15 has a contour indicated by a broken line.
Are not shown.

【0061】図11(a)及び(b)に示すように、本
実施形態の樹脂封止型半導体装置は、信号接続用リード
12と、半導体チップを支持するためのダイパッド13
と、そのダイパッド13を支持するための吊りリード1
4とよりなるリードフレームを備えている。そして、ダ
イパッド13上に半導体チップ15が接着剤により接合
されており、半導体チップ15の電極パッド(図示せ
ず)と信号接続用リード12とは、金属細線16により
互いに電気的に接続されている。そして、信号接続用リ
ード12,ダイパッド13,吊りリード14,半導体チ
ップ15及び金属細線16は、封止樹脂17内に封止さ
れている。また、信号接続用リード12の裏面側におけ
る内方側領域はハーフエッチされている。逆に言うと、
信号接続用リード12のハーフエッチされていない領域
が凸部となっている。
As shown in FIGS. 11A and 11B, the resin-sealed semiconductor device of this embodiment has a signal connecting lead 12 and a die pad 13 for supporting a semiconductor chip.
And a suspension lead 1 for supporting the die pad 13
4 is provided with a lead frame. Then, the semiconductor chip 15 is bonded onto the die pad 13 with an adhesive, and the electrode pads (not shown) of the semiconductor chip 15 and the signal connecting leads 12 are electrically connected to each other by the thin metal wires 16. . The signal connecting leads 12, the die pad 13, the suspension leads 14, the semiconductor chip 15 and the thin metal wires 16 are sealed in a sealing resin 17. The inner region on the back surface side of the signal connecting lead 12 is half-etched. Conversely speaking,
An area of the signal connecting lead 12 which is not half-etched is a convex portion.

【0062】ここで、本実施形態に係る樹脂封止型半導
体装置の特徴部分について説明する。ダイパッド13
は、信号接続用リード12に対して下方に位置するよう
に、吊りリード14のディプレス部19によりダウンセ
ットされている。また、ダイパッド13の裏面側及び信
号接続用リード12の凸部の下面側には封止樹脂17は
存在していない。つまり、ダイパッド13の裏面が露出
されて放熱面となり、信号接続用リード12の凸部の下
面が露出されており、信号接続用リード12の凸部にお
ける下面を含む下部が外部電極18となっている。この
構造は、上記第1の実施形態で説明したように、ダイパ
ッド13及び信号接続用リード12の下面に封止テープ
を密着させて樹脂封止を行なうことにより、容易に実現
できる。そして、ダイパッド13の裏面及び外部電極1
8には本来的に樹脂封止工程における樹脂のはみ出し部
分である樹脂バリが存在せず、かつダイパッド13及び
外部電極18は封止樹脂17の裏面よりも下方に少し突
出している。このような樹脂バリの存在しないかつ下方
に突出したダイパッド13及び外部電極18の構造は、
上記第1の実施形態で説明したように、ダイパッド13
及び信号接続用リード12の下面に封止テープを密着さ
せて樹脂封止を行なうことにより、容易に実現できる。
Here, the characteristic portion of the resin-sealed semiconductor device according to this embodiment will be described. Die pad 13
Are down set by the depressing portion 19 of the suspension lead 14 so as to be located below the signal connecting lead 12. Further, the sealing resin 17 does not exist on the rear surface side of the die pad 13 and the lower surface side of the convex portion of the signal connecting lead 12. That is, the back surface of the die pad 13 is exposed to serve as a heat dissipation surface, the lower surface of the convex portion of the signal connecting lead 12 is exposed, and the lower portion including the lower surface of the convex portion of the signal connecting lead 12 becomes the external electrode 18. There is. As described in the first embodiment, this structure can be easily realized by bringing a sealing tape into close contact with the lower surfaces of the die pad 13 and the signal connecting lead 12 to perform resin sealing. Then, the back surface of the die pad 13 and the external electrode 1
8 does not originally have a resin burr which is a protruding portion of the resin in the resin sealing step, and the die pad 13 and the external electrode 18 slightly project below the back surface of the sealing resin 17. The structure of the die pad 13 and the external electrode 18 which do not have such resin burrs and protrude downward is as follows.
As described in the first embodiment, the die pad 13
Also, it can be easily realized by bringing a sealing tape into close contact with the lower surface of the signal connecting lead 12 to perform resin sealing.

【0063】本実施形態の樹脂封止型半導体装置による
と、ダイパッド13が信号接続用リード12(外部電極
18)に対して下方に位置するようにダウンセットされ
ているので、以下のような効果を発揮することができ
る。
According to the resin-sealed semiconductor device of the present embodiment, the die pad 13 is downset so as to be located below the signal connection lead 12 (external electrode 18), and therefore the following effects are obtained. Can be demonstrated.

【0064】図12は、本実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置を実装基板40上に搭載した状態を示す断面図
である。同図に示すように、実装基板40上の電極4
1,放熱用パッド42と、樹脂封止型半導体装置の外部
電極18,ダイパッド13とをそれぞれ位置合わせして
はんだ付けを行なう。その際、外部電極18−電極41
間に介在するはんだ43aと、ダイパッド13−放熱用
パッド42間に介在するはんだ43bとは厚みが異なる
ために、外部電極18−電極41間に作用する張力と、
ダイパッド13−放熱用パッド42間に作用する張力と
が互いに異なる。このように、樹脂封止型半導体装置の
中心部と周辺部とではんだの張力が異なる結果、実装基
板40に対する樹脂封止型半導体装置のセルフアライメ
ント性が向上し、より迅速にかつ正確な位置に樹脂封止
型半導体装置を実装できる。
FIG. 12 is a sectional view showing a state in which the resin-sealed semiconductor device according to this embodiment is mounted on the mounting substrate 40. As shown in FIG.
1, the heat radiation pad 42, the external electrode 18 of the resin-sealed semiconductor device, and the die pad 13 are aligned and soldered. At that time, the external electrode 18-the electrode 41
Since the thickness of the solder 43a interposed between the solder 43a and the solder 43b interposed between the die pad 13 and the heat dissipation pad 42 is different, the tension acting between the external electrode 18 and the electrode 41,
The tension applied between the die pad 13 and the heat radiation pad 42 is different from each other. As described above, as a result of the difference in the solder tension between the central portion and the peripheral portion of the resin-encapsulated semiconductor device, the self-alignment property of the resin-encapsulated semiconductor device with respect to the mounting substrate 40 is improved, and the position is swift and accurate. The resin-encapsulated semiconductor device can be mounted on.

【0065】また、樹脂封止型半導体装置の中央部にお
いて、面積の広いダイパッド13が実装基板40の放熱
用パッド42上に強力に接合されることで、接続後に外
部電極18−電極41間に種々の応力が作用する。した
がって、下面が露出することで抜け落ちやすくなる信号
接続用リード12の接続の安定化も図ることができ、全
体として信頼性が向上する。
Further, in the central portion of the resin-sealed semiconductor device, the die pad 13 having a large area is strongly bonded onto the heat dissipation pad 42 of the mounting substrate 40, so that the external electrode 18 and the electrode 41 are connected after the connection. Various stresses act. Therefore, it is possible to stabilize the connection of the signal connection lead 12 that is easily removed by exposing the lower surface, and the reliability is improved as a whole.

【0066】なお、本実施形態では、ダイパッド13の
下面が外部電極18の下面よりも低くなるようにしてい
るが、高低関係が逆であってもセルフアライメント性の
向上を図ることはできる。ただし、ダイパッド13の下
面の方が低い場合には、ダイパッド13−放熱用パッド
42間の間隙が小さくなるので、この広い部分の張力が
大きくなる結果、上述の効果がより顕著に得られる。
Although the lower surface of the die pad 13 is lower than the lower surface of the external electrode 18 in this embodiment, the self-alignment property can be improved even if the height relationship is reversed. However, when the lower surface of the die pad 13 is lower, the gap between the die pad 13 and the heat radiation pad 42 becomes smaller, so that the tension of this wide portion becomes large, and as a result, the above-mentioned effect is more remarkably obtained.

【0067】(第4の実施形態)次に、第4の実施形態
について説明する。本実施形態では、上記第1の実施形
態のごとく、リードフレームの下方に封止テープを敷い
て樹脂封止を行なう際の、ダイパッド13の変形を抑制
するための具体例について説明する。
(Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment will be described. In the present embodiment, as in the first embodiment, a specific example for suppressing deformation of the die pad 13 when a sealing tape is laid below the lead frame to perform resin sealing will be described.

【0068】−第1の具体例− 図13(a)は本実施形態の第1の具体例に係るリード
フレームの平面図であり、図13(b)は図13(a)
に示すXIIIb-XIIIb 線に示す断面におけるリードフレー
ムの断面図である。図13(a),(b)に示すよう
に、ダイパッド13の4つのコーナーから延びて、外枠
46に接続される吊りリード14が設けられており、こ
の吊りリード14にバネとして機能するコ字状の曲げ部
45が設けられている。また、外枠46の下面よりもダ
イパッド13の下面が低くなっており、両者間には所定
の高低差が存在している。
-First Specific Example- FIG. 13A is a plan view of a lead frame according to a first specific example of the present embodiment, and FIG. 13B is FIG. 13A.
FIG. 13 is a cross-sectional view of the lead frame taken along the line XIIIb-XIIIb shown in FIG. As shown in FIGS. 13 (a) and 13 (b), suspension leads 14 extending from the four corners of the die pad 13 and connected to the outer frame 46 are provided, and the suspension leads 14 function as springs. A bent portion 45 having a character shape is provided. Further, the lower surface of the die pad 13 is lower than the lower surface of the outer frame 46, and there is a predetermined height difference between them.

【0069】このように、ダイパッド13の下面位置を
外枠46の下面位置よりも低くしておくことにより、樹
脂封止工程でリードフレームの下面に封止テープを密着
させたときに、封止テープに対してダイパッド13から
も押圧力を作用させることができる。すなわち、ダイパ
ッド13の上方はダイキャビティとなっているので、封
止金型の上金型と下金型との間に加えられる型締め力は
そのままではダイパッド13にはあまり作用しない。し
たがって、ダイパッド13が封止テープに食い込んで封
止テープの裏面からダイパッド13の下部を突出させる
という第1の実施形態で説明した作用が小さくなるおそ
れがある。それに対し、本具体例の場合には、外枠46
の下面よりもダイパッド13の下面が低くなっているの
で、外枠46に封止金型の型締め力が加わると、吊りリ
ード14を介して押圧力がダイパッド13に加わり、ダ
イパッド13が封止テープに食い込むことで、ダイパッ
ド13の封止樹脂17からの突出量を大きく確保できる
ことになる。そして、リードフレームの吊りリード14
に曲げ部45を設けておくことにより、吊りリード14
の変形が曲げ部45において吸収されるので、ダイパッ
ド13の変形を抑制することができる。
By thus setting the lower surface position of the die pad 13 lower than the lower surface position of the outer frame 46, when the sealing tape is brought into close contact with the lower surface of the lead frame in the resin sealing step, sealing is performed. A pressing force can also be applied to the tape from the die pad 13. That is, since the die cavity is located above the die pad 13, the die clamping force applied between the upper die and the lower die of the sealing die does not act on the die pad 13 as it is. Therefore, the action described in the first embodiment in which the die pad 13 bites into the sealing tape and the lower portion of the die pad 13 projects from the back surface of the sealing tape may be reduced. On the other hand, in the case of this example, the outer frame 46
Since the lower surface of the die pad 13 is lower than the lower surface of the die pad, when the mold clamping force of the sealing die is applied to the outer frame 46, a pressing force is applied to the die pad 13 via the suspension leads 14 and the die pad 13 is sealed. By digging into the tape, a large amount of protrusion of the die pad 13 from the sealing resin 17 can be secured. And the suspension lead 14 of the lead frame
By providing the bent portion 45 on the suspension lead 14
The deformation of the die pad 13 is absorbed in the bent portion 45, so that the deformation of the die pad 13 can be suppressed.

【0070】なお、図13(b)に示す形状では、全体
に傾斜があることでダイパッド13がコ字状の曲げ部4
5よりも低くなっているが、コ字状の曲げ部45の両側
で段差を設けることにより、ダイパッド13を低くする
ことも可能である。
In the shape shown in FIG. 13B, the die pad 13 has a U-shaped bent portion 4 due to the entire inclination.
Although it is lower than 5, it is possible to lower the die pad 13 by providing steps on both sides of the U-shaped bent portion 45.

【0071】−第2の具体例− 図14(a)は本実施形態の第2の具体例に係るリード
フレームの平面図であり、図14(b)は図14(a)
のXIVb−XIVb線における断面図である。
-Second Specific Example- FIG. 14A is a plan view of a lead frame according to a second specific example of the present embodiment, and FIG. 14B is FIG. 14A.
FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line XIVb-XIVb in FIG.

【0072】図14(a),(b)に示すように、本具
体例のリードフレームにおいては、外枠46につながる
信号接続用リード12とダイパッド13との間に吊りリ
ード47が介設されている。すなわち、吊りリード47
及び信号接続用リード12を介して、外枠46によりダ
イパッド13を支持するように構成されている。そし
て、この吊りリード47には、バネ作用を持たせるため
のコ字状の曲げ部48が設けられている。ただし、本実
施形態では、信号接続用リード12の裏面の一部はハー
フエッチが施されており、ハーフエッチされていない部
分が凸部となっている。また、信号接続用リード12の
表側には信号接続用リード12が延びる方向に直交する
2つの溝が形成されている。
As shown in FIGS. 14A and 14B, in the lead frame of this specific example, the suspension lead 47 is interposed between the signal connection lead 12 connected to the outer frame 46 and the die pad 13. ing. That is, the suspension lead 47
The die pad 13 is supported by the outer frame 46 via the signal connection leads 12. The suspension lead 47 is provided with a U-shaped bent portion 48 for giving a spring effect. However, in the present embodiment, a part of the back surface of the signal connection lead 12 is half-etched, and the non-half-etched part is a convex portion. Further, two grooves that are orthogonal to the direction in which the signal connecting leads 12 extend are formed on the front side of the signal connecting leads 12.

【0073】図15(a),(b)は、このリードフレ
ームを用いた樹脂封止型半導体装置の製造工程の一部を
示す断面図である。
FIGS. 15A and 15B are sectional views showing a part of the manufacturing process of a resin-sealed semiconductor device using this lead frame.

【0074】まず、図15(a)に示すように、ダイパ
ッド13の上に半導体チップ15を搭載し、半導体チッ
プ15の電極パッドと信号接続用リード12の2つの溝
に挟まれる領域とを金属細線16により接続する。そし
て、リードフレームのダイパッド13に封止テープ21
を密着させる。
First, as shown in FIG. 15A, the semiconductor chip 15 is mounted on the die pad 13, and the electrode pad of the semiconductor chip 15 and the region sandwiched between the two grooves of the signal connecting lead 12 are made of metal. Connected by a thin wire 16. Then, the sealing tape 21 is attached to the die pad 13 of the lead frame.
To adhere.

【0075】次に、図15(b)に示すように、封止金
型50の上金型50aと下金型50bとの間にリードフ
レーム及び半導体チップ15を載置し、上金型50a−
下金型50b間の型締め力がリードフレームの外枠46
に加わる。そして、この型締め力によって外枠46が押
圧されると、外枠46よりも下方に位置しているダイパ
ッド13に、信号接続用リード12及び吊りリード48
を経て押圧力が伝えられる。したがって、ダイパッド1
3が封止テープ21に食い込むとともに、信号接続用リ
ード12の凸部と外枠46も封止テープ21に食い込
む。この状態で封止金型50のダイキャビティ内に封止
樹脂17を流し込んで、ダイパッド13や信号接続用リ
ード12などを封止樹脂17内に埋め込む。
Next, as shown in FIG. 15B, the lead frame and the semiconductor chip 15 are placed between the upper die 50a and the lower die 50b of the sealing die 50, and the upper die 50a. −
The mold clamping force between the lower molds 50b is the outer frame 46 of the lead frame.
Join in. When the outer frame 46 is pressed by this mold clamping force, the signal connection lead 12 and the suspension lead 48 are attached to the die pad 13 located below the outer frame 46.
The pressing force is transmitted via. Therefore, the die pad 1
3 bites into the sealing tape 21, and the convex portion of the signal connecting lead 12 and the outer frame 46 also bit into the sealing tape 21. In this state, the sealing resin 17 is poured into the die cavity of the sealing mold 50 to embed the die pad 13, the signal connecting leads 12 and the like in the sealing resin 17.

【0076】なお、本具体例では、封止金型において
も、外枠46(及び信号接続用リード12)に対応する
部位よりもダイパッド13に対応する部位が少し低く設
けられている。したがって、樹脂封止後には、ダイパッ
ド13と外枠46(信号接続用リード12)との高低差
はかなり小さくなるものの、ダイパッド13の下面の方
が下方に位置している。
In this specific example, also in the sealing die, the portion corresponding to the die pad 13 is provided slightly lower than the portion corresponding to the outer frame 46 (and the signal connecting leads 12). Therefore, after the resin sealing, although the height difference between the die pad 13 and the outer frame 46 (leads 12 for signal connection) is considerably reduced, the lower surface of the die pad 13 is located below.

【0077】その後、樹脂封止工程の終了後に、樹脂封
止体から封止テープ21を剥がし、さらに、外枠46と
信号接続用リード12との接続部を切断することで外枠
46を除去すると、ダイパッド13と信号接続用リード
12の凸部(外部電極)とが封止樹脂から露出した樹脂
封止型半導体装置が得られる。
After the resin sealing step is completed, the sealing tape 21 is peeled off from the resin sealing body, and the outer frame 46 is removed by cutting the connecting portion between the outer frame 46 and the signal connecting lead 12. Then, a resin-sealed semiconductor device is obtained in which the die pad 13 and the protrusions (external electrodes) of the signal connection leads 12 are exposed from the sealing resin.

【0078】本具体例によると、吊りリード47を信号
接続用リード12とダイパッド13の辺部との間に設け
たので、第1の具体例に比べ、外枠46に加えられる型
締め力をより効果的にダイパッド13に伝えることがで
き、よって、ダイパッド13の下面が封止樹脂から露出
した構造をより確実に実現することができる。
According to this example, since the suspension lead 47 is provided between the signal connecting lead 12 and the side portion of the die pad 13, the mold clamping force applied to the outer frame 46 is increased as compared with the first example. The structure can be more effectively transmitted to the die pad 13, and thus the structure in which the lower surface of the die pad 13 is exposed from the sealing resin can be realized more reliably.

【0079】また、形成された樹脂封止型半導体装置に
おいて、ダイパッド13の下面が信号接続用リード12
の下面よりも下方に位置しているので、上述のようなセ
ルフアライメント性の向上効果も得られる。
In the formed resin-encapsulated semiconductor device, the lower surface of the die pad 13 is provided with the signal connecting lead 12.
Since it is located below the lower surface of the, the above-described effect of improving the self-alignment property can be obtained.

【0080】−第3の具体例− 上記第2の具体例のように、信号接続用リード12とダ
イパッド13の辺部との間に吊りリード47を設けた場
合、半導体チップ15内に搭載される素子の種類によっ
ては(例えばバイポーラトランジスタなど)、吊りリー
ド47に接続されている信号接続用リード12を信号伝
達用に使用すると不具合が生じることがある。そこで、
本実施形態では、このような不具合を回避するための工
夫について説明する。
-Third Specific Example- When the suspension leads 47 are provided between the signal connecting leads 12 and the sides of the die pad 13 as in the second specific example, the suspension leads 47 are mounted in the semiconductor chip 15. Depending on the type of element (for example, a bipolar transistor) used, a problem may occur when the signal connection lead 12 connected to the suspension lead 47 is used for signal transmission. Therefore,
In this embodiment, a device for avoiding such a problem will be described.

【0081】図16は、本具体例における樹脂封止型半
導体装置の樹脂封止工程におけるリードフレームの一部
を示す図である。本具体例では、吊りリード47の一部
を封止樹脂から露出させる。つまり、封止金型内で吊り
リード47の曲げ部48の立ち上がり部49が封止テー
プ21に食い込むような形状にリードフレームを形成し
ておく。そして、樹脂封止工程の終了後に、図16の点
線に示すごとくこの立ち上がり部49をレーザー等によ
って切断する。このように吊りリード47の一部を切断
することで、吊りリード47につながっている信号接続
用リード12と、ダイパッド13との間が電気的に非導
通状態となるので、当該信号接続用リード12を信号伝
達用に使用しても何ら不具合が生じない。一方、封止樹
脂によって封止された後なので、吊りリード47の役割
は既に果たしており、このように切断されても何ら不具
合は生じない。また、樹脂封止工程の後も吊りリード4
7にバネ機能が残ったまま放置すると、封止樹脂内に残
留応力が存在することで、信頼性が低下するおそれもあ
るが、そのような不具合を確実に回避することができ
る。
FIG. 16 is a view showing a part of the lead frame in the resin sealing process of the resin sealing type semiconductor device in this example. In this specific example, a part of the suspension lead 47 is exposed from the sealing resin. That is, the lead frame is formed in a shape such that the rising portion 49 of the bent portion 48 of the suspension lead 47 bites into the sealing tape 21 in the sealing die. Then, after the resin sealing step is completed, this rising portion 49 is cut by a laser or the like as shown by the dotted line in FIG. By cutting a part of the suspension lead 47 in this manner, the signal connection lead 12 connected to the suspension lead 47 and the die pad 13 are brought into an electrically non-conductive state. Even if 12 is used for signal transmission, no trouble occurs. On the other hand, since it is after being sealed with the sealing resin, the function of the suspension lead 47 has already been fulfilled, and even if it is cut in this way, no problem occurs. In addition, the suspension lead 4 is used even after the resin sealing step.
If the spring function of 7 is left as it is, the residual stress exists in the sealing resin, which may reduce the reliability, but such a problem can be reliably avoided.

【0082】なお、樹脂封止工程の終了後に、封止テー
プ21をつけたままで封止テープ21の上から吊りリー
ド47の立ち上がり部49を切断してもよい。その場
合、切断部の周囲が封止テープ21によって覆われてい
るので、レーザーによる溶融物が周囲に飛散しても、封
止テープ21を剥がすことによって飛散物を樹脂封止型
半導体装置から容易に除去できるという利点がある。
After the resin sealing step, the rising portion 49 of the suspension lead 47 may be cut from above the sealing tape 21 with the sealing tape 21 still attached. In this case, since the periphery of the cut portion is covered with the sealing tape 21, even if the melted material due to the laser scatters around, the scattered material can be easily removed from the resin-sealed semiconductor device by peeling off the sealing tape 21. There is an advantage that it can be removed.

【0083】−第4の具体例− 上記第3の具体例のように吊りリード47の一部を切断
する場合、切断に手間取ることも考えられる。そこで、
本具体例では、吊りリードの切断を容易にするための工
夫について説明する。
-Fourth Specific Example- When cutting a part of the suspension lead 47 as in the third specific example, it may be time-consuming to cut. Therefore,
In this specific example, a device for facilitating the cutting of the suspension lead will be described.

【0084】図17は、第4の具体例に係るリードフレ
ームの一部を示す断面図である。同図に示すように、本
具体例における吊りリード47の曲げ部48の立ち上が
り部49において、表側に切り込みが設けられている。
FIG. 17 is a sectional view showing a part of the lead frame according to the fourth example. As shown in the figure, a cutout is provided on the front side at the rising portion 49 of the bent portion 48 of the suspension lead 47 in this example.

【0085】本具体例では、吊りリード47の立ち上が
り部49に切り込みが設けられていることによって、樹
脂封止工程の終了後に立ち上がり部49をレーザー等で
切断する作業を容易かつ迅速に行なうことができる。
In this example, since the notch is provided in the rising portion 49 of the suspension lead 47, the work of cutting the rising portion 49 with a laser or the like can be easily and quickly performed after the resin sealing step is completed. it can.

【0086】以上の各具体例で説明したように、本実施
形態における各具体例の製造工程によって得られる樹脂
封止型半導体装置は、図1に示す樹脂封止型半導体装置
と同様に、ダイパッド13及び信号接続用リード12が
部分的に封止樹脂から露出している。特に、本実施形態
の各具体例では、外枠とダイパッドとの間に高低差を設
けたので、外枠に加えられる型締め力が吊りリードを介
してダイパッドに確実に伝えられ、封止テープにダイパ
ッドを食い込ませることができ、ダイパッドの下部が封
止樹脂から露出した構造を確実に得ることができる。
As described in the above specific examples, the resin-sealed semiconductor device obtained by the manufacturing process of each specific example in the present embodiment has the same die pad as the resin-sealed semiconductor device shown in FIG. 13 and the signal connection lead 12 are partially exposed from the sealing resin. In particular, in each specific example of the present embodiment, since the height difference is provided between the outer frame and the die pad, the mold clamping force applied to the outer frame is reliably transmitted to the die pad through the suspension lead, and the sealing tape The die pad can be bitten into, and the structure in which the lower portion of the die pad is exposed from the sealing resin can be reliably obtained.

【0087】また、本実施形態の各具体例に関する各図
に示すように、第3の実施形態のようにダイパッドの下
面を信号接続用リードの下面よりも下方に位置させたい
場合にも、本実施形態の吊りリードの構造を採用するこ
とで、著効を発揮することができる。
Further, as shown in the drawings relating to each concrete example of the present embodiment, when it is desired to position the lower surface of the die pad below the lower surface of the signal connecting lead as in the third embodiment, Adopting the structure of the suspension lead of the embodiment can exert a remarkable effect.

【0088】なお、本実施形態においても、ダイパッド
13に図1に示すような凸部を形成し、この凸部のみを
封止樹脂から露出させる構造を採用することができる。
その方がダイパッド13に対する封止樹脂17の保持力
を高くすることができる点で、より好ましいといえる。
Also in this embodiment, it is possible to adopt a structure in which the die pad 13 is provided with a convex portion as shown in FIG. 1 and only the convex portion is exposed from the sealing resin.
This is more preferable because the holding force of the sealing resin 17 with respect to the die pad 13 can be increased.

【0089】(第5の実施形態)本実施形態では、ダイ
パッドの封止樹脂からの突出量を調整するための樹脂封
止方法について説明する。
(Fifth Embodiment) In this embodiment, a resin sealing method for adjusting the amount of protrusion of the die pad from the sealing resin will be described.

【0090】図18は、本実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の製造工程における樹脂封止工程を示す断面図
である。同図に示すように、上金型50aと下金型50
bとからなる封止金型を用い、ダイパッド13上に半導
体チップ15を搭載し、半導体チップの電極パッドと信
号接続用リード12とを金属細線16で接続したものを
封止金型の下金型50bに装着し、リードフレームの下
面に封止テープ21を密着させた状態で樹脂封止を行な
う。
FIG. 18 is a sectional view showing a resin encapsulation process in the process of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device according to this embodiment. As shown in the figure, the upper die 50a and the lower die 50
The semiconductor die 15 is mounted on the die pad 13 by using a sealing die composed of b, and the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead 12 are connected by the fine metal wire 16 is a lower die of the sealing die. It is mounted on the mold 50b, and resin sealing is performed with the sealing tape 21 in close contact with the lower surface of the lead frame.

【0091】ここで、本実施形態の製造方法の特徴は、
下金型50bにおいて、リードフレームの信号接続用リ
ード12(及び外枠46)に対向する領域には凹状の第
1の逃げ部52が、ダイパッド13に対向する領域には
凹状の第2の逃げ部53がそれぞれ設けられている点で
ある。
Here, the feature of the manufacturing method of the present embodiment is that
In the lower die 50b, a concave first relief portion 52 is provided in a region of the lead frame facing the signal connection lead 12 (and the outer frame 46), and a concave second relief portion 52 is provided in a region facing the die pad 13. The point is that each part 53 is provided.

【0092】このように封止金型に逃げ部52,53を
設けておくことにより、封止テープ21を逃げ部52,
53の方に逃すことで、信号接続用リード12及びダイ
パッド13の封止テープ21への食い込み量が小さくな
る。その結果、封止金型の型締め力だけでなく逃げ部5
2,53の深さによって、突出させようとする部分の突
出量を所望の値に調整することでき、樹脂バリの発生量
も最小化することができる。
By providing the relief parts 52, 53 in the sealing die in this way, the relief tape 52,
By escaping to the direction 53, the amount of the signal connecting lead 12 and the die pad 13 biting into the sealing tape 21 is reduced. As a result, not only the mold clamping force of the sealing mold but also the escape portion 5
Depending on the depth of 2, 53, the amount of protrusion of the portion to be protruded can be adjusted to a desired value, and the amount of resin burr generated can also be minimized.

【0093】(第6の実施形態)本実施形態では、ダイ
パッドの封止樹脂からの突出量を大きく確保するための
樹脂封止方法について説明する。
(Sixth Embodiment) In this embodiment, a resin sealing method for ensuring a large amount of protrusion of the die pad from the sealing resin will be described.

【0094】図19は、本実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の製造工程における樹脂封止工程を示す断面図
である。同図に示すように、上金型50aと下金型50
bとからなる封止金型を用い、ダイパッド13上に半導
体チップ15を搭載し、半導体チップの電極パッドと信
号接続用リード12とを金属細線16で接続したものを
封止金型の下金型50bに装着し、リードフレームの下
面に封止テープ21を密着させた状態で樹脂封止を行な
う。
FIG. 19 is a sectional view showing a resin encapsulation process in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device according to this embodiment. As shown in the figure, the upper die 50a and the lower die 50
The semiconductor die 15 is mounted on the die pad 13 by using a sealing die composed of b, and the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead 12 are connected by the fine metal wire 16 is a lower die of the sealing die. It is mounted on the mold 50b, and resin sealing is performed with the sealing tape 21 in close contact with the lower surface of the lead frame.

【0095】ここで、本実施形態の製造方法の特徴は、
封止テープ21におけるダイパッド13の下方に位置す
る部分には貫通孔25が形成され、下金型50bのダイ
パッド13に対向する領域には吸引孔54がそれぞれ設
けられている点である。この封止テープ21の貫通孔2
5は下金型50bの吸引孔54よりも大きく、吸引孔5
4が確実に貫通孔25の位置になるように制御しやすく
なっている。そして、吸引孔54は、真空引き装置に連
通されていて、真空引き装置の吸引作用によってダイパ
ッド13を吸引孔54の側に付勢し、封止テープ21へ
の食い込み量を大きくするように構成されている。
Here, the feature of the manufacturing method of the present embodiment is that
A through hole 25 is formed in a portion of the sealing tape 21 located below the die pad 13, and a suction hole 54 is provided in a region of the lower die 50b facing the die pad 13. Through hole 2 of this sealing tape 21
5 is larger than the suction hole 54 of the lower mold 50b,
It is easy to control so that 4 is surely located at the position of the through hole 25. The suction hole 54 is communicated with the vacuuming device, and the suction action of the vacuuming device biases the die pad 13 toward the suction hole 54 to increase the amount of bite into the sealing tape 21. Has been done.

【0096】本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
方法によると、封止テープ21に貫通孔25を、封止金
型に吸引孔54をそれぞれ設けておくことにより、ダイ
パッド13の封止テープ21への食い込み量が大きくな
る。その結果、面積が大きく、かつ封止金型の型締め力
の伝わりにくいダイパッド13を封止樹脂から大きく突
出させることが可能になる。
According to the method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment, the die pad 13 is sealed by providing the sealing tape 21 with the through hole 25 and the sealing die with the suction hole 54. The amount of bite into the tape 21 increases. As a result, the die pad 13 having a large area and in which the mold clamping force of the sealing mold is hard to be transmitted can be largely projected from the sealing resin.

【0097】ただし、ダイパッドだけでなく、封止樹脂
から確実に突出させたい部品がある場合にも本実施形態
の方法を適用することができる。
However, the method of the present embodiment can be applied not only to the die pad but also to a component that is to be surely projected from the sealing resin.

【0098】(その他の実施形態)上記各実施形態で
は、半導体チップの電極パッドと信号接続用リードとを
金属細線によって接続するようにしているが、本発明の
接続部材は金属細線に限定されるものではない。すなわ
ち、実施形態によっては、半導体チップを基板上にバン
プを介してフリップチップ実装してなるものを封止樹脂
内に封止するようにした樹脂封止型半導体装置であって
もよい。
(Other Embodiments) In each of the above-mentioned embodiments, the electrode pads of the semiconductor chip and the signal connecting leads are connected by the metal thin wires, but the connecting member of the present invention is limited to the metal thin wires. Not a thing. That is, depending on the embodiment, a resin-encapsulated semiconductor device in which a semiconductor chip formed by flip-chip mounting on a substrate via bumps is encapsulated in an encapsulating resin may be used.

【0099】なお、金型に真空引き用の穴を設け、封止
テープ21を真空引きしながら樹脂封止を行なうことに
より、封止テープのシワの発生を抑制し、封止樹脂の裏
面の平坦化を図ることもできる。
A hole for vacuuming is provided in the mold, and resin sealing is performed while vacuuming the sealing tape 21 to suppress the generation of wrinkles in the sealing tape, and to prevent the backside of the sealing resin. It can also be flattened.

【0100】[0100]

【発明の効果】本発明の樹脂封止型半導体装置及びその
製造方法によると、半導体装置の実装基板上への搭載時
におけるセルフアライメントに要する時間の短縮と位置
精度の向上と実装性の向上とを図ることができる。
According to the resin-encapsulated semiconductor device and the method of manufacturing the same of the present invention, the time required for self-alignment at the time of mounting the semiconductor device on a mounting substrate can be shortened, the positional accuracy can be improved, and the mountability can be improved. Can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る樹脂封止型半導
体装置の封止樹脂を透過して示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a resin encapsulation type semiconductor device according to a first embodiment of the present invention through a sealing resin.

【図2】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程におけるリードフレームを用意する工程を示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a step of preparing a lead frame in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図3】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程におけるダイパッド上に半導体チップを接合する工
程を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a step of joining a semiconductor chip onto a die pad in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図4】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程における金属細線を形成する工程を示す断面図であ
る。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of forming thin metal wires in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図5】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程における封止テープをリードフレームの下に敷く工
程を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a step of laying a sealing tape under a lead frame in the manufacturing process of the resin-sealed semiconductor device of the first embodiment.

【図6】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程における樹脂封止工程を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a resin encapsulation process in the process of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図7】本発明の第2の実施形態の第1の具体例に係る
リードフレームの平面図及び断面図である。
FIG. 7 is a plan view and a sectional view of a lead frame according to a first example of the second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態の第1の具体例の変形
例に係るリードフレームの平面図である。
FIG. 8 is a plan view of a lead frame according to a modification of the first example of the second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第2の実施形態の第2の具体例に係る
リードフレームの平面図及び断面図である。
FIG. 9 is a plan view and a cross-sectional view of a lead frame according to a second example of the second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第2の実施形態の第2の具体例の変
形例に係るリードフレームの平面図である。
FIG. 10 is a plan view of a lead frame according to a modification of the second specific example of the second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第3の実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の平面図及び断面図である。
FIG. 11 is a plan view and a cross-sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図12】第3の実施形態に係る樹脂封止型半導体装置
を実装基板上に搭載した状態を示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state in which the resin-sealed semiconductor device according to the third embodiment is mounted on a mounting board.

【図13】本発明の第4の実施形態の第1の具体例に係
るリードフレームの平面図及び断面図である。
FIG. 13 is a plan view and a cross-sectional view of a lead frame according to a first example of the fourth embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第4の実施形態の第2の具体例に係
るリードフレームの平面図及び断面図である。
FIG. 14 is a plan view and a sectional view of a lead frame according to a second example of the fourth embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第4の実施形態の第2の具体例に係
るリードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置の製造
工程の一部を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a part of a manufacturing process of a resin-sealed semiconductor device using a lead frame according to a second example of the fourth embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第4の実施形態の第3の具体例にお
ける樹脂封止型半導体装置の樹脂封止工程におけるリー
ドフレームの一部を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing a part of a lead frame in a resin-sealing process of a resin-sealed semiconductor device according to a third example of the fourth embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第4の実施形態の第4の具体例にお
ける樹脂封止型半導体装置の樹脂封止工程におけるリー
ドフレームの一部を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a part of a lead frame in a resin-sealing process of a resin-sealed semiconductor device in a fourth specific example of the fourth embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第5の実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の製造工程における樹脂封止工程を示す断面図
である。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a resin-sealing step in the manufacturing process of the resin-sealed semiconductor device according to the fifth embodiment of the present invention.

【図19】本発明の第6の実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の製造工程における樹脂封止工程を示す断面図
である。
FIG. 19 is a cross-sectional view showing a resin-sealing step in the manufacturing process of the resin-sealed semiconductor device according to the sixth embodiment of the present invention.

【図20】従来の裏面側に外部電極を有するタイプの樹
脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 20 is a cross-sectional view of a conventional resin-sealed semiconductor device of a type having an external electrode on the back surface side.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 信号接続用リード 13 ダイパッド 14 吊りリード 15 半導体チップ 16 金属細線 17 封止樹脂 18 外部電極 21 封止テープ 25 貫通孔 30 貫通孔 40 実装基板 41 電極 42 放熱パッド 43 はんだ 45 曲げ部 46 外枠 47 吊りリード 48 曲げ部 49 立ち上がり部 50a 上金型 50b 下金型 52 第1逃げ部 53 第2逃げ部 54 吸引孔 12 signal connection leads 13 die pad 14 Hanging lead 15 semiconductor chips 16 thin metal wires 17 Sealing resin 18 External electrode 21 sealing tape 25 through holes 30 through holes 40 mounting board 41 electrodes 42 Heat dissipation pad 43 Solder 45 Bend 46 Outer frame 47 hanging lead 48 Bend 49 Rise 50a Upper mold 50b Lower mold 52 First relief part 53 Second relief part 54 Suction hole

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電極パッドを有する半導体チップと、 上記半導体チップを支持するダイパッドと、 信号接続用リードと、 上記半導体チップの電極パッドと上記リードとを電気的
に接続する接続部材と、 上記ダイパッド,上記半導体チップ,信号接続用リード
及び接続部材を封止する封止樹脂とを備え、 上記ダイパッドの下部の少なくとも一部と上記信号接続
用リードの下部の少なくとも一部とは上記封止樹脂から
露出しており、 上記ダイパッドの露出している部分の下面と、上記信号
接続用リードの露出している部分の下面とは互いに高さ
位置が異なることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
1. A semiconductor chip having an electrode pad, a die pad supporting the semiconductor chip, a signal connecting lead, a connecting member electrically connecting the electrode pad of the semiconductor chip and the lead, and the die pad. A semiconductor chip, a signal connecting lead and a sealing resin for sealing the connecting member, wherein at least a part of the lower portion of the die pad and at least a part of the lower portion of the signal connecting lead are made of the sealing resin. A resin-encapsulated semiconductor device, wherein the height of the exposed lower surface of the die pad is different from that of the exposed lower surface of the signal connecting lead.
【請求項2】 請求項1記載の樹脂封止型半導体装置に
おいて、 上記信号接続用リードの少なくとも一部には、溝部が形
成されていることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
2. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, wherein a groove is formed in at least a part of the signal connection lead.
【請求項3】 請求項1又は2記載の樹脂封止型半導体
装置において、 上記ダイパッドの露出している部分の下面は、上記信号
接続用リードの露出している部分の下面よりも下方に位
置していることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
3. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, wherein the lower surface of the exposed portion of the die pad is located lower than the lower surface of the exposed portion of the signal connecting lead. A resin-encapsulated semiconductor device characterized in that
【請求項4】 請求項1〜3のうちいずれか1つに記載
の樹脂封止型半導体装置において、 上記ダイパッドの露出している部分の下面と、上記信号
接続用リードの露出している部分の下面との高さの差
は、10〜150μmであることを特徴とする樹脂封止
型半導体装置。
4. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, wherein the lower surface of the exposed portion of the die pad and the exposed portion of the signal connection lead. The height difference with the lower surface of the resin-molded semiconductor device is 10 to 150 μm.
【請求項5】 半導体チップを搭載する領域を囲む外枠
と、上記半導体チップを支持するためのダイパッドと、
上記ダイパッドを上記外枠に接続するための吊りリード
と、上記外枠に接続される信号接続用リードとを有し、
かつ上記ダイパッドが上記信号接続用リードよりも下方
に位置しているリードフレームを用意する第1の工程
と、 上記ダイパッドの上に、電極パッドを有する半導体チッ
プを搭載する第2の工程と、 上記半導体チップの電極パッドと上記信号接続用リード
とを金属細線を介して電気的に接続する第3の工程と、 上記リードフレームのダイパッドの下面の少なくとも一
部と信号接続用リードの下面の少なくとも一部とに封止
テープを密着させながら、封止テープを封止金型に装着
する第4の工程と、 上記ダイパッド,半導体チップ,信号接続用リード及び
金属細線を封止樹脂により封止する第5の工程と、 上記封止テープを除去する第6の工程とを備え、 上記ダイパッドの下面の少なくとも一部と上記信号接続
用リードの下面の少なくとも一部とが上記封止樹脂の裏
面から露出しているとともに、上記ダイパッドの露出し
ている部分の下面が上記信号接続用リードの露出してい
る部分の下面よりも下方に位置している樹脂封止体を得
ることを特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
5. An outer frame surrounding an area for mounting a semiconductor chip, and a die pad for supporting the semiconductor chip,
A suspension lead for connecting the die pad to the outer frame, and a signal connection lead connected to the outer frame,
And a first step of preparing a lead frame in which the die pad is located below the signal connecting leads, a second step of mounting a semiconductor chip having an electrode pad on the die pad, A third step of electrically connecting the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead through a thin metal wire, and at least a part of the lower surface of the die pad of the lead frame and at least one of the lower surface of the signal connecting lead. A fourth step of mounting the sealing tape on the sealing mold while closely contacting the sealing tape with the portion; and a step of sealing the die pad, the semiconductor chip, the signal connecting lead and the thin metal wire with a sealing resin. 5 and the sixth step of removing the sealing tape, and at least a part of the lower surface of the die pad and the lower surface of the signal connecting lead. And the lower surface of the exposed portion of the die pad is located below the lower surface of the exposed portion of the signal connection lead. A method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device, which comprises obtaining a stopper.
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