JP3445930B2 - Resin-sealed semiconductor device - Google Patents

Resin-sealed semiconductor device

Info

Publication number
JP3445930B2
JP3445930B2 JP6081298A JP6081298A JP3445930B2 JP 3445930 B2 JP3445930 B2 JP 3445930B2 JP 6081298 A JP6081298 A JP 6081298A JP 6081298 A JP6081298 A JP 6081298A JP 3445930 B2 JP3445930 B2 JP 3445930B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
die pad
lead
semiconductor device
sealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP6081298A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11260989A (en
Inventor
幸雄 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP6081298A priority Critical patent/JP3445930B2/en
Publication of JPH11260989A publication Critical patent/JPH11260989A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3445930B2 publication Critical patent/JP3445930B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16245Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/4826Connecting between the body and an opposite side of the item with respect to the body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73207Bump and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体チップ及び
半導体チップに接続される信号接続用リードを封止樹脂
により封止しダイパッドを封止樹脂内に埋設した樹脂封
止型半導体装置およびその製造方法に係り、特に薄型化
したものの改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor chip and signal connection leads connected to the semiconductor chip are sealed with a sealing resin, and a die pad is embedded in the sealing resin, and to manufacture the same. The present invention relates to a method, and more particularly to improvement of a thin type.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、電子機器に搭載される半導体部品を高密度に実装す
ることが要求され、それにともなって、半導体部品の小
型、薄型化が進んでいる。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to cope with miniaturization of electronic equipment, it has been required to mount semiconductor parts mounted on the electronic equipment at a high density, and accordingly, the miniaturization and thinning of semiconductor parts have been advanced. I'm out.

【0003】以下、従来の樹脂封止型半導体装置につい
て説明する。
A conventional resin-sealed semiconductor device will be described below.

【0004】図21は、従来の樹脂封止型半導体装置の
断面図である。図21に示すように、従来の樹脂封止型
半導体装置は、裏面側に外部電極を有するタイプの樹脂
封止型半導体装置である。
FIG. 21 is a sectional view of a conventional resin-sealed semiconductor device. As shown in FIG. 21, the conventional resin-encapsulated semiconductor device is a resin-encapsulated semiconductor device of a type having external electrodes on the back surface side.

【0005】従来の樹脂封止型半導体装置は、インナー
リード101と、インナーリード101に対してアップ
セットされたダイパッド102と、そのダイパッド10
2を支持する吊りリード(図示せず)とからなるリード
フレームとを備えている。そして、ダイパッド102上
に半導体チップ104が接着剤により接合されており、
半導体チップ104の電極パッド(図示せず)とインナ
ーリード101とは、金属細線105により電気的に接
続されている。そして、ダイパッド102,半導体チッ
プ104,インナーリード101の一部,吊りリード及
び金属細線105は封止樹脂106により封止されてい
る。この構造では、インナーリード101の裏面側には
封止樹脂106は存在せず、インナーリード101の裏
面側は露出されており、この露出面を含むインナーリー
ド101の下部が外部電極107となっている。なお、
封止樹脂106との密着性を確保するために、インナー
リード101の内方側の側面を表裏の面に対して直交す
るのではなく、上方に向かって拡大するようにテーパ状
にしている。
A conventional resin-sealed semiconductor device includes an inner lead 101, a die pad 102 upset with respect to the inner lead 101, and the die pad 10.
And a lead frame composed of a suspension lead (not shown) that supports the wire 2. Then, the semiconductor chip 104 is bonded onto the die pad 102 with an adhesive,
The electrode pads (not shown) of the semiconductor chip 104 and the inner leads 101 are electrically connected by the fine metal wires 105. The die pad 102, the semiconductor chip 104, a part of the inner lead 101, the suspension lead and the thin metal wire 105 are sealed with a sealing resin 106. In this structure, the sealing resin 106 does not exist on the back surface side of the inner lead 101, the back surface side of the inner lead 101 is exposed, and the lower portion of the inner lead 101 including this exposed surface becomes the external electrode 107. There is. In addition,
In order to ensure adhesion with the sealing resin 106, the inner side surface of the inner lead 101 is not orthogonal to the front and back surfaces, but is tapered so as to expand upward.

【0006】また、吊りリードをディプレスすることに
より、ダイパッド102がインナーリード101に対し
てアップセットされている。そのため、封止樹脂106
がダイパッドの裏面側にも薄く形成されている。
The die pad 102 is upset with respect to the inner lead 101 by depressing the suspension leads. Therefore, the sealing resin 106
Is also thinly formed on the back side of the die pad.

【0007】図21に示す構造を有する樹脂封止型半導
体装置の製造工程においては、まず、インナーリード1
01や、アップセットされたダイパッド102を有する
リードフレームを用意し、機械的又は化学的加工を行な
って、インナーリードの側面をテーパ状にする。次に、
用意したリードフレームのダイパッド102の上に半導
体チップ104を接着剤により接合した後、半導体チッ
プ104とインナーリード101とを金属細線105に
より電気的に接続する。金属細線105には、アルミニ
ウム細線、金(Au)線などが適宜用いられる。次に、
ダイパッド102,半導体チップ104,インナーリー
ド101,吊りリード及び金属細線105を封止樹脂1
06により封止する。この場合、半導体チップ104が
接合されたリードフレームが封止金型内に収納されて、
トランスファーモールドされるが、特にリードフレーム
の裏面が封止金型の上金型又は下金型に接触した状態
で、樹脂封止が行なわれる。最後に、樹脂封止後に封止
樹脂106から外方に突出しているアウターリードを切
断して、樹脂封止型半導体装置が完成する。
In the manufacturing process of the resin-sealed semiconductor device having the structure shown in FIG. 21, first, the inner lead 1
01 or a lead frame having an upset die pad 102 is prepared and mechanically or chemically processed to taper the side surfaces of the inner leads. next,
After the semiconductor chip 104 is bonded on the die pad 102 of the prepared lead frame with an adhesive, the semiconductor chip 104 and the inner lead 101 are electrically connected by the fine metal wire 105. As the metal thin wire 105, an aluminum thin wire, a gold (Au) wire, or the like is appropriately used. next,
The die pad 102, the semiconductor chip 104, the inner lead 101, the suspension lead and the thin metal wire 105 are sealed with the resin 1.
Seal with 06. In this case, the lead frame to which the semiconductor chip 104 is bonded is housed in the sealing mold,
Although transfer molding is performed, resin sealing is performed particularly in a state where the back surface of the lead frame is in contact with the upper mold or the lower mold of the sealing mold. Finally, the outer leads protruding outward from the sealing resin 106 after resin sealing are cut to complete the resin-sealed semiconductor device.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の樹脂封止型半導体装置においては、ダイパッドの下
方に封止樹脂が存在しているために、半導体装置全体の
薄型化を実現するためには、半導体チップ104の厚み
を薄くしたり、半導体チップ104上の電極とインナー
リード101とを接続する金属細線105の高さを低く
したり、あるいは金属細線105の形状を特殊なものと
するなどの必要があった。その結果、樹脂封止型半導体
装置の生産性が悪化し、これが薄型化を阻害する要因と
なっていた。
However, in the conventional resin-encapsulated semiconductor device described above, since the encapsulating resin exists below the die pad, it is necessary to reduce the thickness of the entire semiconductor device. The thickness of the semiconductor chip 104 may be reduced, the height of the metal thin wire 105 connecting the electrode on the semiconductor chip 104 and the inner lead 101 may be lowered, or the shape of the metal thin wire 105 may be special. There was a need. As a result, the productivity of the resin-encapsulated semiconductor device deteriorates, which is a factor that hinders the reduction in thickness.

【0009】また、外部電極の下面には、実装基板への
実装性を悪化させる樹脂バリが形成されるので、これを
除去するべくウォータージェット等の工程を導入する必
要があり、樹脂封止型半導体装置の生産性をますます悪
化させていた。
Further, since resin burrs that deteriorate the mountability on the mounting substrate are formed on the lower surface of the external electrodes, it is necessary to introduce a process such as a water jet to remove the burrs. The productivity of semiconductor devices has been getting worse.

【0010】本発明は、上記諸点に鑑みなされたもので
あって、その目的は、外部電極を封止樹脂の裏面に設け
るとともに、半導体チップを封止樹脂内に埋設させた構
造を有しながら、薄型化に適した樹脂封止型半導体装
提供することにある。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an external electrode on the back surface of a sealing resin and to have a structure in which a semiconductor chip is embedded in the sealing resin. the resin-sealed semiconductor equipment suitable for thinning
To provide.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】発明の第1の樹脂封止
型半導体装置は、ダイパッドと、上記ダイパッドを支持
するための複数の吊りリードと、信号接続用リードと、
主面上に電極パッドを有し、主面を下方に向けた状態で
上記ダイパッドの下面で支持され、上記ダイパッドより
も面積が大きい半導体チップと、上記半導体チップの電
極パッドと上記信号接続用リードとを電気的に接続する
接続部材と、上記ダイパッド,上記半導体チップ,上記
信号接続用リード及び上記接続部材を封止する封止樹脂
とを備え、上記信号接続用リードの一部は上記封止樹脂
の裏面側で露出し外部端子として機能しており、上記ダ
イパッドは上記封止樹脂内に埋設されており、上記ダイ
パッドと、上記吊りリードの上記半導体チップを搭載し
ている領域とは、ハーフエッチにより薄く形成され、か
つ、互いに同じ厚みを有している
The first resin-encapsulated semiconductor device of the present invention In order to achieve the above object, according a da Ipaddo, a plurality of suspension leads for supporting the die pad, a lead signal connection,
An electrode pad on a main surface, is supported by the bottom surface of the die pad in a state with its major surface downward, from the die pad
A semiconductor chip having a large area, a connecting member for electrically connecting the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead, the die pad, the semiconductor chip, the signal connecting lead and the connecting member. and a sealing resin for, the portion of the signal connecting leads are functioning as external terminals exposed on the back surface side of the sealing resin, the die pad is embedded in the sealing resin, the Die
The pad and the semiconductor chip of the suspension lead are mounted.
The area that is formed is thinly formed by half etching.
The two have the same thickness .

【0012】上記ダイパッドと吊りリードの上記半導体
チップを搭載している領域とは、下面側からハーフエッ
チされていることが好ましい。
The semiconductor of the die pad and the suspension lead
The area where the chip is mounted is the half-edge from the bottom side.
It is preferable that

【0013】上記各吊りリードが、上記ダイパッドと上
記信号接続用リードとの間に介設されていることによ
り、各吊りリードがダイパッドのコーナー部と外枠との
間に設けられている構造に比べて各吊りリードの長さを
大幅に短縮できるので、吊りリードの強度を大きく確保
することができる。したがって、大面積のダイパッドが
必要とされるときにも、封止樹脂の流れ等によるダイパ
ッドの変形を抑制することができる。特に薄型化された
樹脂封止型半導体装置においては、ダイパッドの変形に
よりダイパッドが封止樹脂から露出するおそれが増大す
るが、本発明により、このような不具合を防止すること
ができる。
Each of the above-mentioned suspension leads is arranged above the die pad.
Since the suspension leads are provided between the signal connection leads, the suspension leads of the suspension leads are different from those of the suspension lead provided between the corner portion of the die pad and the outer frame. Since the length can be greatly shortened, the strength of the suspension lead can be largely secured. Therefore, even when a large area die pad is required, it is possible to suppress the deformation of the die pad due to the flow of the sealing resin or the like. Particularly in a thin resin-encapsulated semiconductor device, deformation of the die pad increases the risk of exposing the die pad from the encapsulating resin, but the present invention can prevent such a problem.

【0014】記各吊りリードには、一部に曲げ部が設
けられていることにより、樹脂封止工程後のいずれかの
時点で吊りリードの一部を削除するなどの処理が可能と
なる。
[0014] The upper SL each hanging lead, can be processed, such as more and this provided some bending unit, to remove some of the suspension lead at any time after the resin sealing step Becomes

【0015】記各吊りリードは、上記一部において切
断されていることにより、ダイパッドと吊りリードとの
間の電気的な導通を回避することが可能となり、バイポ
ーラトランジスタを搭載した半導体チップにも適用でき
る構造となる。
The upper SL Each hanging leads, semiconductor chips and more that you have been cut in some above, it is possible to avoid electrical conduction between the lead hanging the die pad, equipped with bipolar transistors The structure can be applied to.

【0016】記各吊りリードの切断されている部分の
近傍が薄くなっていることにより、レーザーカットなど
による吊りリードの一部の切断が容易な構造となる。
[0016] More and this the vicinity of the cut has been that portion of the upper Symbol each hanging lead is thin, some of the cutting of the suspension lead by a laser cutting is facilitated structure.

【0017】本発明の第2の樹脂封止型半導体装置は、
イパッドと、上記ダイパッドを支持するための複数の
吊りリードと、信号接続用リードと、主面上に電極パッ
ドを有し、主面を下方に向けた状態で上記ダイパッドの
下面で支持される半導体チップと、上記半導体チップの
電極パッドと上記信号接続用リードとを電気的に接続す
る接続部材と、上記ダイパッド,上記半導体チップ,信
号接続用リード及び接続部材を封止する封止樹脂とを備
え、上記信号接続用リードの一部は上記封止樹脂の裏面
側で露出し外部端子として機能しており、上記ダイパッ
ドは上記封止樹脂内に埋設されており、上記各吊りリー
ドの一部は上記封止樹脂の裏面側で露出していて、この
露出している一部が補強用外部端子として機能し、上記
第2の樹脂封止型半導体装置において、上記各吊りリー
ド中の上記補強用外部端子の下面と、上記信号接続用リ
ード中の外部端子の下面とは、高さ位置が互いに異なっ
ているている。
A second resin-encapsulated semiconductor device of the present invention is
And da Ipaddo, a plurality of suspension leads for supporting the die pad, a lead signal connection, the electrode pads on the main surface, is supported by the bottom surface of the die pad in a state with its main surface down A semiconductor chip, a connecting member for electrically connecting the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead, and a sealing resin for sealing the die pad, the semiconductor chip, the signal connecting lead and the connecting member. A part of the signal connection lead is exposed on the back surface side of the sealing resin and functions as an external terminal, the die pad is embedded in the sealing resin, and a part of each suspension lead is provided. is not exposed at the back surface side of the sealing resin, a part which is the exposed functions as an external terminal for reinforcement, the
In the second resin-sealed semiconductor device, each hanging
Of the reinforcing external terminal in the
The bottom surface of the external terminal is
Are running.

【0018】これにより、この樹脂封止型半導体装置を
実装基板上に実装する際の接続強度が向上する。例え
ば、はんだにより実装基板上の電極と樹脂封止型半導体
装置の外部電極との間を接続する種類のものでは、樹脂
封止型半導体装置の補強用外部端子と実装基板上のダミ
ー端子などとの間にもはんだを介在させることで、両者
の接続強度が向上する。そして、例えば溶融したはんだ
を介して樹脂封止型半導体装置を実装基板に搭載する場
合におけるセルフアライメント性が向上するので、実装
時間の短縮と実装位置精度の向上とが実現する。
This improves the connection strength when the resin-sealed semiconductor device is mounted on the mounting board. For example, in the type in which the electrodes on the mounting board and the external electrodes of the resin-sealed semiconductor device are connected by solder, the external terminals for reinforcement of the resin-sealed semiconductor device and the dummy terminals on the mounting board are used. By interposing solder between them, the connection strength between the two is improved. Then, for example, the self-alignment property when the resin-sealed semiconductor device is mounted on the mounting substrate via the molten solder is improved, so that the mounting time is shortened and the mounting position accuracy is improved.

【0019】[0019]

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【0022】[0022]

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】本発明の樹脂封止型半導体装置
は、ダイパッドを封止樹脂内に埋設させた共通の構成を
有しており、以下、その中の各種の実施形態について説
明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The resin-encapsulated semiconductor device of the present invention has a common structure in which a die pad is embedded in an encapsulating resin, and various embodiments will be described below.

【0026】(第1の実施形態) 図1は、第1の実施形態に係る樹脂封止型半導体装置の
断面図である。ただし、図1においては封止樹脂17を
透明体として扱い、各吊りリードの図示は省略してい
る。
(First Embodiment) FIG. 1 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to the first embodiment. However, in FIG. 1, the sealing resin 17 is treated as a transparent body, and illustration of each suspension lead is omitted.

【0027】図1に示すように、本実施形態の樹脂封止
型半導体装置は、信号接続用リード12と、半導体チッ
プを支持するためのダイパッド13と、そのダイパッド
13を支持するための吊りリードとからなるリードフレ
ームを備えている。そして、ダイパッド13の下面に
は、主面上に電極パッド(図示せず)を配列させた半導
体チップ15が主面を下方に向けて接着剤により接合さ
れており、半導体チップ15の電極パッドと信号接続用
リード12の下面とは、金属細線16により互いに電気
的に接続されている。そして、信号接続用リード12,
ダイパッド13,吊りリード,半導体チップ15及び金
属細線16は、封止樹脂17内に封止されている。
As shown in FIG. 1, the resin-sealed semiconductor device according to the present embodiment has a signal connecting lead 12, a die pad 13 for supporting a semiconductor chip, and a suspension lead for supporting the die pad 13. It is equipped with a lead frame. A semiconductor chip 15 having electrode pads (not shown) arranged on the main surface is bonded to the lower surface of the die pad 13 with an adhesive with the main surface facing downward. The lower surface of the signal connecting lead 12 is electrically connected to each other by a thin metal wire 16. Then, the signal connecting leads 12,
The die pad 13, the suspension leads, the semiconductor chip 15, and the thin metal wires 16 are sealed in a sealing resin 17.

【0028】ここで、本実施形態の第1の特徴は、ダイ
パッド13の厚みがハーフエッチ等により薄くなってい
て、ダイパッド13がアップセットされているととも
に、ダイパッド13が封止樹脂17内に埋設されている
点である。そのため、封止樹脂17により封止された状
態では、封止樹脂17がダイパッド13の上方に薄く存
在している。
Here, the first feature of this embodiment is that the thickness of the die pad 13 is thinned by half etching or the like, the die pad 13 is upset, and the die pad 13 is embedded in the sealing resin 17. That is the point. Therefore, in the state of being sealed with the sealing resin 17, the sealing resin 17 is thin above the die pad 13.

【0029】また、本実施形態の第2の特徴は、信号接
続用リード12の半導体チップ15に近接した内方部分
は、下面側がハーフエッチされて薄くなっており、この
内方部分の下面の高さ位置は外方部分の下面の高さ位置
よりも上方にあって、上記金属細線16は、信号接続用
リード12の内方部分の下面と半導体チップの電極パッ
ドとの間を接続するように構成されている点である。
The second feature of the present embodiment is that the inner surface of the signal connecting lead 12 close to the semiconductor chip 15 is half-etched on the lower surface to make it thinner. The height position is higher than the height position of the lower surface of the outer portion, and the metal thin wire 16 connects between the lower surface of the inner portion of the signal connecting lead 12 and the electrode pad of the semiconductor chip. It is a point that is configured in.

【0030】さらに、本実施形態の第3の特徴は、信号
接続用リード12の外方部分の下面が封止樹脂17の裏
面側で露出しており、この信号接続用リード12の外方
部分の下面が実装基板との接続面となっている点、すな
わち、信号接続用リード12の外方部分の下部が外部電
極18となっている点である。そして、封止樹脂から露
出している外部電極18には本来的に樹脂封止工程にお
ける樹脂のはみ出し部分である樹脂バリが存在せず、か
つ外部電極18は封止樹脂17の裏面よりも下方に少し
突出している。このような樹脂バリの存在しないかつ下
方に突出した外部電極18の構造は、後述する製造方法
によって容易に実現できる。
Further, the third feature of this embodiment is that the lower surface of the outer portion of the signal connecting lead 12 is exposed on the back surface side of the sealing resin 17, and the outer portion of the signal connecting lead 12 is exposed. Is the connection surface with the mounting substrate, that is, the lower part of the outer portion of the signal connection lead 12 is the external electrode 18. The external electrode 18 exposed from the sealing resin does not originally have a resin burr that is a resin protruding portion in the resin sealing step, and the external electrode 18 is lower than the back surface of the sealing resin 17. A little overhanging. Such a structure of the external electrode 18 having no resin burr and protruding downward can be easily realized by the manufacturing method described later.

【0031】本実施形態の樹脂封止型半導体装置による
と、ダイパッド13が封止樹脂17内に埋設されている
ので、封止樹脂17がダイパッド13の上方にも薄く存
在している。したがって、ダイパッドの上面や下面を封
止樹脂から露出させたものに比べて、ダイパッド13に
対する封止樹脂17の保持力が増大し、樹脂封止型半導
体装置としての信頼性が向上する。
According to the resin-sealed semiconductor device of this embodiment, since the die pad 13 is embedded in the sealing resin 17, the sealing resin 17 also exists thinly above the die pad 13. Therefore, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the die pad 13 is increased, and the reliability of the resin-sealed semiconductor device is improved, as compared with the case where the upper and lower surfaces of the die pad are exposed from the sealing resin.

【0032】しかも、ハーフエッチ等によりダイパッド
13の厚みが薄くなっているので、半導体チップ15の
厚みを薄くしなくても、樹脂封止型半導体装置全体の薄
型化を図ることができる利点がある。すなわち、半導体
チップを薄くすることで生じる,半導体チップ15内に
設けられているトランジスタ等の半導体素子の種類や数
に対する制限を緩和でき、高い性能を維持できるととも
に、応用分野も拡大する。
Moreover, since the die pad 13 is thinned by half-etching or the like, there is an advantage that the entire resin-sealed semiconductor device can be thinned without thinning the semiconductor chip 15. . That is, restrictions on the type and number of semiconductor elements such as transistors provided in the semiconductor chip 15 which are caused by thinning the semiconductor chip 15 can be relaxed, high performance can be maintained, and the application field is expanded.

【0033】さらに、信号接続用リード12の内方部分
が下面側からハーフエッチされて内方部分の下面と半導
体チップ13の下方を向いている主面上の電極パッドと
が金属細線16によって接続される構造となっているの
で、狭いスペースを効率よく活用して金属細線16を封
止樹脂からはみ出させないように形成できる構造とな
る。
Further, the inner portion of the signal connecting lead 12 is half-etched from the lower surface side so that the lower surface of the inner portion and the electrode pad on the main surface of the semiconductor chip 13 facing downward are connected by the fine metal wire 16. With such a structure, the narrow space can be efficiently utilized so that the thin metal wire 16 can be formed so as not to protrude from the sealing resin.

【0034】なお、本実施形態では、封止樹脂17の側
方には外部電極端子となるアウターリードが存在せず、
インナーリードに相当する信号接続用リード12の下部
が外部電極18となっているので、半導体装置の小型化
を図ることができる。しかも、外部電極18の下面には
樹脂バリが存在していないので、実装基板の電極との接
合の信頼性が向上する。また、外部電極18が封止樹脂
17の面より突出して形成されているため、実装基板に
樹脂封止型半導体装置を実装する際の外部電極と実装基
板の電極との接合において、外部電極18のスタンドオ
フ高さが予め確保されていることになる。したがって、
外部電極18をそのまま外部端子として用いることがで
き、実装基板への実装のために外部電極18にはんだボ
ールを付設する必要はなく、製造工数、製造コスト的に
有利となる。
In this embodiment, there is no outer lead as an external electrode terminal on the side of the sealing resin 17,
Since the lower portion of the signal connecting lead 12 corresponding to the inner lead is the external electrode 18, the semiconductor device can be downsized. Moreover, since there is no resin burr on the lower surface of the external electrode 18, the reliability of bonding with the electrode of the mounting substrate is improved. Further, since the external electrode 18 is formed so as to project from the surface of the sealing resin 17, the external electrode 18 is bonded to the electrode of the mounting substrate when mounting the resin-sealed semiconductor device on the mounting substrate. This means that the standoff height of is secured in advance. Therefore,
The external electrode 18 can be used as it is as an external terminal, and it is not necessary to attach a solder ball to the external electrode 18 for mounting on the mounting substrate, which is advantageous in terms of manufacturing steps and manufacturing cost.

【0035】次に、本実施形態の樹脂封止型半導体装置
の製造方法について、図面を参照しながら説明する。図
2〜図6は、本実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程を示す断面図である。
Next, a method of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment will be described with reference to the drawings. 2 to 6 are cross-sectional views showing the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of this embodiment.

【0036】まず、図2に示す工程で、信号接続用リー
ド12と、半導体チップを支持するためのダイパッド1
3とが設けられているリードフレーム20を用意する。
図中、ダイパッド13は吊りリードによって支持されて
いるが、吊りリードはこの断面には現れないために図示
されていない。そして、吊りリードが上方に曲げられる
ことで、ダイパッド13は外枠よりも上方に位置するよ
うにアップセットされている。また、信号接続用リード
12の外方はリードフレーム20の外枠に接続されてい
るが、外枠は信号接続用リードと連続しているために、
この段面では境界が現れていない。ここで、ダイパッド
13は、ハーフエッチにより全体が薄くなっている。さ
らに、用意するリードフレーム20は、樹脂封止の際、
封止樹脂の流出を止めるタイバーを設けていないリード
フレームである。
First, in the step shown in FIG. 2, the signal connecting leads 12 and the die pad 1 for supporting the semiconductor chip are formed.
A lead frame 20 provided with 3 and 3 is prepared.
In the figure, the die pad 13 is supported by suspension leads, but the suspension leads are not shown because they do not appear in this section. By bending the suspension leads upward, the die pad 13 is upset so as to be located above the outer frame. The outer side of the signal connecting lead 12 is connected to the outer frame of the lead frame 20, but since the outer frame is continuous with the signal connecting lead,
No boundary appears on this step. Here, the die pad 13 is entirely thinned by half etching. Furthermore, the lead frame 20 to be prepared is
The lead frame does not have a tie bar for stopping the outflow of the sealing resin.

【0037】また、本実施形態におけるリードフレーム
20は、銅(Cu)素材のフレームに対して、下地メッ
キとしてニッケル(Ni)層が、その上にパラジウム
(Pd)層が、最上層に薄膜の金(Au)層がそれぞれ
メッキされた3層の金属メッキ済みのリードフレームで
ある。ただし、銅(Cu)素材以外にも42アロイ材等
の素材を使用でき、また、ニッケル(Ni),パラジウ
ム(Pd),金(Au)以外の貴金属メッキが施されて
いてもよく、さらに、かならずしも3層メッキでなくて
もよい。
In addition, the lead frame 20 in the present embodiment has a nickel (Ni) layer as a base plating, a palladium (Pd) layer thereon, and a thin film as the uppermost layer, with respect to a frame made of a copper (Cu) material. 3 is a metal-plated lead frame in which gold (Au) layers are plated. However, other than copper (Cu) material, 42 alloy material and the like can be used, and may be plated with a noble metal other than nickel (Ni), palladium (Pd), and gold (Au). It is not always necessary to use three-layer plating.

【0038】次に、図3に示す工程で、用意したリード
フレームのダイパッド13の下面に半導体チップ15を
載置して、接着剤により両者を互いに接合する。この工
程は、いわゆるダイボンド工程である。なお、半導体チ
ップを支持する部材としてはリードフレームに限定され
るものではなく、他の半導体チップを支持できる部材、
例えばTABテープ、基板を用いてもよい。
Next, in the step shown in FIG. 3, the semiconductor chip 15 is placed on the lower surface of the die pad 13 of the prepared lead frame, and the two are bonded to each other with an adhesive. This process is a so-called die bonding process. Incidentally, the member for supporting the semiconductor chip is not limited to the lead frame, a member capable of supporting other semiconductor chips,
For example, a TAB tape or a substrate may be used.

【0039】そして、図4に示す工程で、ダイパッド1
3の下面に接合した半導体チップ15の下方を向いてい
る主面上の電極パッドと信号接続用リード12の内方部
分の下面とを金属細線16により電気的に接合する。こ
の工程は、いわゆるワイヤーボンド工程である。金属細
線としては、アルミニウム細線、金(Au)線などを適
宜選択して用いることができる。
Then, in the process shown in FIG. 4, the die pad 1
The electrode pads on the main surface of the semiconductor chip 15 which is bonded to the lower surface of the lower surface 3 of the semiconductor chip 15 and the lower surface of the inner portion of the signal connecting lead 12 are electrically bonded to each other by the fine metal wires 16. This process is a so-called wire bond process. As the metal thin wire, an aluminum thin wire, a gold (Au) wire, or the like can be appropriately selected and used.

【0040】次に、図5に示す工程で、リードフレーム
のダイパッド13に半導体チップ15が接合された状態
で、信号接続用リード12の外部電極18の下面に封止
テープ21を貼り付ける。
Next, in a step shown in FIG. 5, with the semiconductor chip 15 bonded to the die pad 13 of the lead frame, the sealing tape 21 is attached to the lower surface of the external electrode 18 of the signal connecting lead 12.

【0041】この封止テープ21は、特に信号接続用リ
ード12の外部電極18の下面側に樹脂封止時に封止樹
脂が回り込まないようにするマスク的な役割を果たさせ
るためのものであり、この封止テープ21の存在によっ
て、外部電極18の下面に樹脂バリが形成されるのを防
止することができる。この封止テープ21は、ポリエチ
レンテレフタレート,ポリイミド,ポリカーボネートな
どを主成分とする樹脂をベースとしたテープであり、樹
脂封止後は容易に剥がすことができ、また樹脂封止時に
おける高温環境に耐性があるものであればよい。本実施
形態では、ポリエチレンテレフタレートを主成分とした
テープを用い、厚みは50[μm]とした。
The sealing tape 21 serves to serve as a mask for preventing the sealing resin from wrapping around around the lower surface of the external electrode 18 of the signal connection lead 12 during resin sealing. Due to the presence of the sealing tape 21, it is possible to prevent the resin burr from being formed on the lower surface of the external electrode 18. This sealing tape 21 is a resin-based tape containing polyethylene terephthalate, polyimide, polycarbonate or the like as a main component, and can be easily peeled off after resin sealing and is resistant to a high temperature environment during resin sealing. If there is In this embodiment, a tape containing polyethylene terephthalate as a main component is used, and the thickness is 50 [μm].

【0042】次に、図6に示す工程で、半導体チップ1
5が接合され、封止テープ21が貼り付けられたリード
フレームを金型内に収納し、金型内に封止樹脂17を流
し込んで樹脂封止を行う。あるいは、金型内に封止テー
プ21を貼り付けることも可能である。この際、外部電
極18の下面側に封止樹脂17が回り込まないように、
金型でリードフレームの信号接続用リード12の外方側
(外枠)を下方に押圧して、樹脂封止する。また、ダイ
パッド13の上面と金型面との間には、空隙があり、封
止樹脂17がダイパッド13の上方にも十分行き渡るよ
うに樹脂封止工程を行なう。
Next, in the step shown in FIG. 6, the semiconductor chip 1
The lead frame to which 5 is bonded and the sealing tape 21 is attached is housed in a mold, and the sealing resin 17 is poured into the mold to perform resin sealing. Alternatively, the sealing tape 21 can be attached in the mold. At this time, so that the sealing resin 17 does not go around to the lower surface side of the external electrode 18,
The outer side (outer frame) of the lead 12 for signal connection of the lead frame is pressed downward with a die to seal with resin. Further, there is a gap between the upper surface of the die pad 13 and the die surface, and the resin sealing step is performed so that the sealing resin 17 is sufficiently spread over the die pad 13.

【0043】最後に、外部電極18の下面に貼付した封
止テープ21をピールオフにより除去する。これによ
り、ダイパッド13の上方には封止樹脂17が存在した
構造が得られる。また、封止樹脂17の裏面側には封止
樹脂17の下面から下方に突出した外部電極18が形成
される。そして、信号接続用リード12の先端側を、信
号接続用リード12の先端面と封止樹脂17の側面とが
ほぼ同一面になるように切り離すことにより、図1に示
すような樹脂封止型半導体装置が完成される。
Finally, the sealing tape 21 attached to the lower surface of the external electrode 18 is removed by peeling off. As a result, a structure in which the sealing resin 17 exists above the die pad 13 is obtained. An external electrode 18 protruding downward from the lower surface of the sealing resin 17 is formed on the back surface side of the sealing resin 17. Then, the tip end side of the signal connecting lead 12 is cut off so that the tip end surface of the signal connecting lead 12 and the side surface of the sealing resin 17 are substantially flush with each other, so that the resin sealing type as shown in FIG. The semiconductor device is completed.

【0044】本実施形態の製造方法によると、ダイパッ
ド13の全体が薄く形成され、かつ、ダイパッド13の
上方に封止樹脂17が存在している樹脂封止型半導体装
置を容易に製造することができる。
According to the manufacturing method of this embodiment, it is possible to easily manufacture the resin-sealed semiconductor device in which the entire die pad 13 is formed thin and the sealing resin 17 is present above the die pad 13. it can.

【0045】しかも、本実施形態の製造方法によると、
樹脂封止工程の前に予め信号接続用リード12の外部電
極18の下面に封止テープ21を貼付しているので、封
止樹脂17が回り込むことがなく、外部電極18の下面
には樹脂バリの発生はない。したがって、信号接続用リ
ードの下面を露出させる従来の樹脂封止型半導体装置の
製造方法のごとく、外部電極18上に形成された樹脂バ
リをウォータージェットなどによって除去する必要はな
い。すなわち、この樹脂バリを除去するための面倒な工
程の削除によって、樹脂封止型半導体装置の量産工程に
おける工程の簡略化が可能となる。また、従来、ウォー
タージェットなどによる樹脂バリ除去工程において生じ
るおそれのあったリードフレームのニッケル(Ni),
パラジウム(Pd),金(Au)などの金属メッキ層の
剥がれや不純物の付着は解消できる。そのため、樹脂封
止工程前における各金属層のプリメッキが可能となる。
Moreover, according to the manufacturing method of the present embodiment,
Since the sealing tape 21 is attached to the lower surface of the external electrode 18 of the signal connecting lead 12 in advance before the resin sealing step, the sealing resin 17 does not go around and the lower surface of the external electrode 18 has a resin burr. Does not occur. Therefore, it is not necessary to remove the resin burr formed on the external electrode 18 by a water jet or the like unlike the conventional method for manufacturing a resin-sealed semiconductor device in which the lower surface of the signal connection lead is exposed. That is, by omitting the troublesome process for removing the resin burr, it is possible to simplify the process in the mass production process of the resin-encapsulated semiconductor device. Further, conventionally, nickel (Ni) in the lead frame, which may be generated in the resin burr removal process using a water jet,
Peeling off of metal plating layers such as palladium (Pd) and gold (Au) and adhesion of impurities can be eliminated. Therefore, it is possible to pre-plat each metal layer before the resin sealing step.

【0046】なお、ウォータージェットによる樹脂バリ
除去工程を削除できるかわりに、封止テープを貼付する
工程が新たに必要となるが、封止テープ21を貼付する
工程の方が、ウォータージェット工程よりもコスト的に
安価であり、また工程管理も容易であるため、確実に工
程の簡略化が図れる。なによりも、従来必要であったウ
ォータージェット工程では、リードフレームの金属メッ
キが剥がれる、不純物が付着するという品質上のトラブ
ルが発生するが、本実施形態の方法では、封止テープの
貼付により、ウォータージェットが不要となって、メッ
キ剥がれをなくすことができる点は大きな工程上の利点
となる。また、封止テープの貼付状態などによって樹脂
バリが発生することがあるとしても、極めて薄い樹脂バ
リであるので、低い水圧でウォータージェット処理して
樹脂バリを除去でき、メッキ剥がれを防止できることか
ら金属層のプリメッキ工程は可能である。
Although the resin burr removing step by the water jet can be omitted, a step of attaching the sealing tape is newly required, but the step of attaching the sealing tape 21 is more preferable than the water jet step. Since the cost is low and the process control is easy, the process can be surely simplified. Above all, in the conventionally required water jet process, the metal plating of the lead frame is peeled off, and quality problems such as the adhesion of impurities occur, but in the method of the present embodiment, by applying the sealing tape, The fact that the water jet is unnecessary and the plating can be removed is a great process advantage. In addition, even if resin burrs may occur due to the sealing tape attachment state, etc., since it is an extremely thin resin burr, it is possible to remove the resin burrs by water jet processing with low water pressure and prevent plating peeling. A layer pre-plating process is possible.

【0047】なお、樹脂封止工程の終了後に、封止テー
プ21をつけたままで封止テープ21の上からレーザー
を照射して信号接続用リード12の封止樹脂17の側方
にから突出している部分を切断してもよい。このよう
に、リードフレームの切断部分の周囲が封止テープによ
って覆われているので、レーザーによる溶融物が周囲に
飛散しても、封止テープを剥がすことによって飛散物を
樹脂封止型半導体装置から容易に除去できるという利点
がある。
After the resin sealing step, the laser beam is radiated from above the sealing tape 21 with the sealing tape 21 still attached to the side surface of the sealing resin 17 of the signal connection lead 12 so as to project. You may cut the existing part. In this way, since the periphery of the cut portion of the lead frame is covered with the sealing tape, even if the melted material due to the laser scatters around, the scattered tape can be peeled off to remove the scattered material from the resin-sealed semiconductor device. There is an advantage that it can be easily removed from.

【0048】なお、図6に示すように、樹脂封止工程に
おいては、封止金型の熱によって封止テープ21が軟化
するとともに熱収縮するので、外部電極18が封止テー
プ21に大きく食い込み、外部電極18の下面と封止樹
脂17の裏面との間には段差が形成される。したがっ
て、外部電極18は封止樹脂17の裏面から突出した構
造となり、外部電極18の突出量(スタンドオフ高さ)
を確保できる。例えば、本実施形態では、封止テープ2
1の厚みを50μmとしているので、スタンドオフ高さ
を例えば20μm程度にできる。このように、封止テー
プ21の厚みの調整によって外部電極18のスタンドオ
フ高さを適正量に維持できる。このことは、外部電極1
8のスタンドオフ高さを封止テープ21の厚みの設定の
みでコントロールでき、別途スタンドオフ高さ量をコン
トロールのための手段または工程を設けなくてもよいこ
と意味し、量産工程における工程管理のコスト上、極め
て有利な点である。この封止テープ21の厚みは、10
〜150μm程度であることが好ましい。
As shown in FIG. 6, in the resin sealing step, the sealing tape 21 is softened and thermally contracted by the heat of the sealing die, so that the external electrode 18 greatly cuts into the sealing tape 21. A step is formed between the lower surface of the external electrode 18 and the back surface of the sealing resin 17. Therefore, the external electrode 18 has a structure protruding from the back surface of the sealing resin 17, and the protruding amount of the external electrode 18 (standoff height).
Can be secured. For example, in this embodiment, the sealing tape 2
Since the thickness of 1 is 50 μm, the standoff height can be set to about 20 μm, for example. Thus, the standoff height of the external electrode 18 can be maintained at an appropriate amount by adjusting the thickness of the sealing tape 21. This means that the external electrode 1
8 means that the standoff height can be controlled only by setting the thickness of the sealing tape 21, and no means or process for controlling the standoff height amount needs to be separately provided. This is an extremely advantageous point in terms of cost. The thickness of this sealing tape 21 is 10
It is preferably about 150 μm.

【0049】なお、用いる封止テープ21については、
所望するスタンドオフ高さに応じて、所定の硬度,厚み
および熱による軟化特性を有する材質を選択することが
できる。
Regarding the sealing tape 21 used,
A material having a predetermined hardness, thickness, and heat-softening property can be selected according to a desired standoff height.

【0050】ただし、上記第1の実施形態において、封
止テープ21に加える圧力の調整によって、外部電極1
8のスタンドオフ高さを調整してもよく、例えば、スタ
ンドオフ高さをほぼ「0」にすることも可能である。
However, in the first embodiment, the external electrode 1 is adjusted by adjusting the pressure applied to the sealing tape 21.
The standoff height of 8 may be adjusted, for example, it is also possible to make the standoff height almost "0".

【0051】(第2の実施形態) 次に、第2の実施形態について説明する。本実施形態に
おける樹脂封止型半導体装置は、各実施形態におけるい
ずれの構造を有していてもよいが、ダイパッドの形状や
ダイパッドと吊りリードとの接続部の形状のみが異な
る。そこで、本実施形態においては、ダイパッドやそれ
につながる吊りリードを除く他の部分についての説明は
省略する。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment will be described. The resin-encapsulated semiconductor device in this embodiment may have any structure in each embodiment, but is different only in the shape of the die pad and the shape of the connecting portion between the die pad and the suspension lead. Therefore, in the present embodiment, description of other parts except the die pad and the suspension leads connected thereto is omitted.

【0052】−第1の具体例− 図7(a)は本実施形態の第1の具体例に係るダイパッ
ド13の平面図、図7(b)は図7(a)に示すVIIb−
VIIb線における断面図である。図7(a),(b)に示
すように、本具体例に係るダイパッド13は、ハーフエ
ッチにより厚みが薄く形成されているとともに(本実施
形態では、下面側からハーフエッチされている)、半導
体チップ15よりも面積が小さい。また、ダイパッド1
3を支持する吊りリード14の厚みもダイパッド13に
つながる部分では、ダイパッド13と同じ厚みに形成さ
れている。ただし、ダイパッド13から離れた部位から
外方においては、ハーフエッチされていない。
-First Specific Example- FIG. 7A is a plan view of a die pad 13 according to a first specific example of the present embodiment, and FIG. 7B is a VIIb-shown in FIG. 7A.
FIG. 7 is a sectional view taken along line VIIb. As shown in FIGS. 7A and 7B, the die pad 13 according to the present specific example is formed to have a small thickness by half etching (in the present embodiment, half etching is performed from the lower surface side). The area is smaller than that of the semiconductor chip 15. Also, die pad 1
The thickness of the suspension lead 14 that supports 3 is also the same as that of the die pad 13 in the portion connected to the die pad 13. However, half etching is not performed outside the portion away from the die pad 13.

【0053】本実施形態の第1の具体例に係る樹脂封止
型半導体装置によると、ダイパッド13よりも半導体チ
ップ15の方が大面積となっているので、ダイパッド1
3の側方かつ半導体チップ15の上の領域に封止樹脂が
存在することにより、半導体チップ15に対する封止樹
脂17の保持力が大幅に向上する。その結果、半導体チ
ップ15と接着されているダイパッド13に対する封止
樹脂17の保持力も向上するので、樹脂封止型半導体装
置の薄型化を図りつつ、信頼性の向上を図ることができ
る。
According to the resin-sealed semiconductor device of the first specific example of the present embodiment, the semiconductor chip 15 has a larger area than the die pad 13, so that the die pad 1
The presence of the sealing resin on the side of 3 and in the region above the semiconductor chip 15 significantly improves the holding force of the sealing resin 17 with respect to the semiconductor chip 15. As a result, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the die pad 13 bonded to the semiconductor chip 15 is also improved, so that it is possible to improve the reliability while reducing the thickness of the resin-sealed semiconductor device.

【0054】また、吊りリード14の厚みもダイパッド
13厚みと同じ厚みになっていることにより、樹脂封止
型半導体装置全体の薄型化をより確実に実現することが
できる。その場合、吊りリード14は下面側からハーフ
エッチされている方が、ダイパッド13よりも面積の大
きい半導体チップ15を搭載しても吊りリード14と半
導体チップ15との干渉を容易に回避できる利点があ
る。
Further, since the thickness of the suspension lead 14 is the same as the thickness of the die pad 13, it is possible to surely realize the thinning of the entire resin-sealed semiconductor device. In that case, it is advantageous that the suspension leads 14 are half-etched from the lower surface side, even if the semiconductor chip 15 having a larger area than the die pad 13 is mounted, interference between the suspension leads 14 and the semiconductor chip 15 can be easily avoided. is there.

【0055】また、図8は、本具体例の変形例に係る樹
脂封止型半導体装置のダイパッドおよび吊りリードのみ
を示す平面図である。本具体例に係るダイパッド13の
平面形状は、図7(a)に示すような矩形である必要は
なく、図8に示すような形状でもよい。すなわち、中央
部に設けられた単一の円板や、中央部の円板にさらに各
コーナー部に設けた4つの円板(破線参照)を加えたも
のからなるダイパッド13であってもよい。
FIG. 8 is a plan view showing only the die pad and the suspension leads of the resin-sealed semiconductor device according to the modified example of this specific example. The plane shape of the die pad 13 according to this specific example does not have to be a rectangle as shown in FIG. 7A, but may be a shape as shown in FIG. That is, the die pad 13 may be a single disc provided in the central portion or a disc in the central portion to which four discs (see broken lines) provided in each corner are further added.

【0056】−第2の具体例− 図9(a)は本実施形態の第2の具体例に係るダイパッ
ド13の平面図、図9(b)は図9(a)に示すIXb-IX
b 線における断面図である。図9(a),(b)に示す
ように、本具体例に係るダイパッド13には、中央部に
矩形状の開口30aが形成されている。この開口30a
は、半導体チップ15の搭載領域の内方に形成されてい
る。また、ダイパッド13はハーフエッチ等により全体
が薄く形成されている。
-Second Specific Example- FIG. 9A is a plan view of a die pad 13 according to a second specific example of the present embodiment, and FIG. 9B is IXb-IX shown in FIG. 9A.
It is sectional drawing in line b. As shown in FIGS. 9A and 9B, the die pad 13 according to this specific example has a rectangular opening 30a formed in the central portion. This opening 30a
Are formed inside the mounting region of the semiconductor chip 15. Further, the die pad 13 is thinly formed by half etching or the like.

【0057】本実施形態の第2の具体例に係る樹脂封止
型半導体装置によると、ダイパッド13に開口30aが
形成されているので、開口30aの内方かつ半導体チッ
プ15の上方となる領域に封止樹脂17が存在すること
になり、半導体チップ15およびダイパッド13に対す
る封止樹脂17の保持力が大幅に向上する。
In the resin-sealed semiconductor device according to the second specific example of the present embodiment, since the opening 30a is formed in the die pad 13, the area inside the opening 30a and above the semiconductor chip 15 is formed. Since the sealing resin 17 is present, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the semiconductor chip 15 and the die pad 13 is significantly improved.

【0058】なお、図10(a)の変形例に示すよう
に、コーナー部で円状の領域を有するフレームによって
囲まれる開口30bや、コーナー部で矩形状の領域を有
するフレームによって囲まれる開口30cを有するダイ
パッド13であってもよい。
As shown in the modification of FIG. 10A, an opening 30b surrounded by a frame having a circular area at a corner and an opening 30c surrounded by a frame having a rectangular area at a corner. It may be the die pad 13 having.

【0059】(第3の実施形態) 次に、信号接続用リードの構造に関する第3の実施形態
の各具体例について説明する。
(Third Embodiment) Next, each specific example of the third embodiment relating to the structure of the signal connecting lead will be described.

【0060】−第1の具体例− 図11は、第3の実施形態の第1の具体例に係る樹脂封
止型半導体装置の断面図である。同図に示すように、信
号接続用リード12の内方部分は、下面側からハーフエ
ッチされて外方部分よりも薄くなっており、この内方部
分の下面と半導体チップ15との間に金属細線16が設
けられている。そして、信号接続用リード12の外方部
分の上面、つまり外部電極18の上方には、2つの溝部
31が設けられている。さらに、図示しないが、信号接
続用リード12の外方部分のうちこの溝部が形成されて
いる部分は下方よりも幅が広くなっている。
-First Specific Example- FIG. 11 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a first specific example of the third embodiment. As shown in the figure, the inner portion of the signal connection lead 12 is half-etched from the lower surface side to be thinner than the outer portion, and the metal between the lower surface of the inner portion and the semiconductor chip 15 is reduced. A thin wire 16 is provided. Two groove portions 31 are provided on the upper surface of the outer portion of the signal connecting lead 12, that is, above the external electrode 18. Further, although not shown, a portion of the outer portion of the signal connecting lead 12 where the groove is formed is wider than the lower portion.

【0061】本具体例のように、信号接続用リード12
の内方部分を下面側からハーフエッチすることにより、
内方部分の下面の高さ位置がその外方部分の下面の高さ
位置よりも上方になるので、全体の厚みを厚くしなくて
も、封止樹脂17の裏面との間にある程度の空間を確保
することができる。したがって、金属細線16の一端を
信号接続用リード12の内方部分の下面に接続しても、
金属細線16を封止樹脂17内に確実に埋設することが
できる。
As in this example, the signal connecting lead 12
By half-etching the inner part of the from the bottom side,
Since the height position of the lower surface of the inner portion is higher than the height position of the lower surface of the outer portion, a certain amount of space is provided between the lower surface of the inner portion and the back surface of the sealing resin 17 without increasing the overall thickness. Can be secured. Therefore, even if one end of the thin metal wire 16 is connected to the lower surface of the inner portion of the signal connecting lead 12,
The thin metal wire 16 can be reliably embedded in the sealing resin 17.

【0062】つまり、樹脂封止型半導体装置の薄型を図
りつつ、金属細線16が封止樹脂17から露出するのを
防止することができる。
That is, it is possible to prevent the thin metal wires 16 from being exposed from the sealing resin 17 while making the resin-sealed semiconductor device thin.

【0063】しかも、信号接続用リード12の内方部分
の下側に封止樹脂17が回り込むことで、信号接続用リ
ード12に対する封止樹脂17の保持力も増大する。
Moreover, since the sealing resin 17 wraps around the inner side of the signal connecting lead 12, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the signal connecting lead 12 also increases.

【0064】また、信号接続用リード12の外方部分の
上面に溝部31を設けることにより、信号接続用リード
12に対する封止樹脂17の保持力が増大し、かつ、信
号接続用リード12の外方部分の上部の幅を下部よりも
広くすることにより、封止樹脂17の保持力がさらに増
大することになる。
Further, by providing the groove portion 31 on the upper surface of the outer portion of the signal connecting lead 12, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the signal connecting lead 12 is increased, and the outside of the signal connecting lead 12 is increased. By making the width of the upper part of the one part wider than that of the lower part, the holding force of the sealing resin 17 is further increased.

【0065】−第2の具体例− 図12は、第2の具体例に係る樹脂封止型半導体装置の
断面図である。同図に示すように、本具体例では、信号
接続用リード12の内方部分に下面側からハーフエッチ
が施されているとともに、この内方部分がアップセット
され、アップセットされた部分の下面に金属細線16の
一端が接続されている。
-Second Specific Example- FIG. 12 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a second specific example. As shown in the figure, in this specific example, the inner portion of the signal connecting lead 12 is half-etched from the lower surface side, and the inner portion is upset, and the lower surface of the upset portion is One end of the thin metal wire 16 is connected to.

【0066】この具体例では、第1の具体例に比べて信
号接続用リード12の内方部分を半導体チップ15に近
づけることができるので、金属細線16の信頼性が向上
する。また、信号接続用リード12の内方部分の下方に
十分なスペースが確保されるので、金属細線16を封止
樹脂17内に確実に埋設でき、金属細線16が封止樹脂
17から露出するのをより確実に防止することができ
る。
In this specific example, the inner portion of the signal connecting lead 12 can be brought closer to the semiconductor chip 15 as compared with the first specific example, so the reliability of the metal thin wire 16 is improved. Further, since a sufficient space is secured below the inner portion of the signal connecting lead 12, the thin metal wire 16 can be reliably embedded in the sealing resin 17, and the thin metal wire 16 is exposed from the sealing resin 17. Can be prevented more reliably.

【0067】−第3の具体例− 図13は、第3の具体例に係る樹脂封止型半導体装置の
断面図である。同図に示すように、本具体例では、信号
接続用リード12にはハーフエッチが施されていない
が、信号接続用リード12の内方部分がその外方部分よ
りもアップセットされている。
-Third Specific Example- FIG. 13 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a third specific example. As shown in the figure, in this specific example, the signal connecting lead 12 is not half-etched, but the inner portion of the signal connecting lead 12 is set up more than the outer portion thereof.

【0068】本具体例によっても、信号接続用リード1
2の内方部分を半導体チップ15に近づけることができ
るので、金属細線16のワイヤボンディングの信頼性が
向上する。また、信号接続用リード12の内方部分の下
方に十分なスペースが確保されるので、金属細線16を
封止樹脂17内に確実に埋設でき、金属細線16が封止
樹脂17から露出するのを確実に防止することができ
る。
Also in this example, the signal connecting lead 1 is used.
Since the inner part of 2 can be brought close to the semiconductor chip 15, the reliability of the wire bonding of the thin metal wires 16 is improved. Further, since a sufficient space is secured below the inner portion of the signal connecting lead 12, the thin metal wire 16 can be reliably embedded in the sealing resin 17, and the thin metal wire 16 is exposed from the sealing resin 17. Can be reliably prevented.

【0069】−第4の具体例− 図14は、第4の具体例に係る樹脂封止型半導体装置の
断面図である。同図に示すように、本具体例では、信号
接続用リード12に下面側からハーフエッチが施され、
かつ、信号接続用リード12の内方部分は半導体チップ
15の下方領域まで延びている。また、半導体チップ1
5の主面上の電極パッド(図示せず)は、半導体チップ
の外周付近ではなく、中央部に近い領域に配列されてい
る。そして、半導体チップの電極パッドと信号接続用リ
ード12の内方部分の下面との間に金属細線16が設け
られている。
-Fourth Specific Example- FIG. 14 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a fourth specific example. As shown in the figure, in this specific example, the signal connecting leads 12 are half-etched from the lower surface side,
In addition, the inner portion of the signal connecting lead 12 extends to a region below the semiconductor chip 15. In addition, the semiconductor chip 1
The electrode pads (not shown) on the main surface of No. 5 are arranged not in the vicinity of the outer periphery of the semiconductor chip but in a region near the center thereof. Then, a thin metal wire 16 is provided between the electrode pad of the semiconductor chip and the lower surface of the inner portion of the signal connecting lead 12.

【0070】本具体例では、信号接続用リード12の内
方部分を半導体チップ15の電極パッドが配列された位
置に近づけることができるので、金属細線16の長さを
短くすることができる。したがって、樹脂封止型半導体
装置の薄型化を図りつつ、金属細線16のワイヤボンデ
ィングの信頼性および特性の向上を図ることができる。
In this example, since the inner portion of the signal connecting lead 12 can be brought close to the position where the electrode pads of the semiconductor chip 15 are arranged, the length of the thin metal wire 16 can be shortened. Therefore, it is possible to improve the reliability and characteristics of wire bonding of the thin metal wires 16 while making the resin-sealed semiconductor device thinner.

【0071】なお、この第4の具体例において信号接続
用リード12の内方部分をアップセットするようにして
もよいことはいうまでもない。
Needless to say, in the fourth specific example, the inner portion of the signal connecting lead 12 may be upset.

【0072】(第4の実施形態) 次に、第4の実施形態について説明する。本実施形態で
は、さらに薄型化を図るためのダイパッド13の構造に
関する具体例について説明する。
(Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment will be described. In this embodiment, a specific example of the structure of the die pad 13 for further thinning will be described.

【0073】−第1の具体例− 図15は、第4の実施形態の第1の具体例に係る樹脂封
止型半導体装置の断面図である。同図に示すように、ダ
イパッド13は半導体チップ15の辺部のみに設けら
れ、しかも半導体チップ15の主面側つまり下面側から
半導体チップ15を支持している。そして、信号接続用
リード12の内方部分は、下面側からハーフエッチされ
て外方部分よりも薄くなっており、半導体チップ15の
下方領域まで延びている。また、半導体チップ15の主
面において中央部に電極パッドが配列されており、この
電極パッドと信号接続用リード12の内方部分の下面と
の間に金属細線16が設けられている。
-First Specific Example- FIG. 15 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a first specific example of the fourth embodiment. As shown in the figure, the die pad 13 is provided only on the side of the semiconductor chip 15, and supports the semiconductor chip 15 from the main surface side, that is, the lower surface side of the semiconductor chip 15. The inner portion of the signal connection lead 12 is half-etched from the lower surface side to be thinner than the outer portion, and extends to the lower region of the semiconductor chip 15. Further, an electrode pad is arranged in the central portion of the main surface of the semiconductor chip 15, and a thin metal wire 16 is provided between the electrode pad and the lower surface of the inner portion of the signal connecting lead 12.

【0074】図17(a),(b)は、ダイパッド13
の平面形状の例を示す平面図である。図17(a)に示
すようにダイパッドの辺部のうちコーナー付近だけに各
々孤立した4つの矩形状部分からなるダイパッドを設け
てもよいし、図17(b)に示すように2つの辺部に沿
って延びる2つの帯状部分からなるダイパッド13であ
ってもよい。また、図10(a),(b)に示すような
平面形状を有するダイパッド13により半導体チップ1
5の主面側を支持してもよい。
17A and 17B show the die pad 13
It is a top view which shows the example of the planar shape of. As shown in FIG. 17A, a die pad including four rectangular portions isolated from each other may be provided only in the vicinity of a corner of the side portion of the die pad, or as shown in FIG. 17B, two side portions may be provided. It may be a die pad 13 composed of two strip-shaped portions extending along. Further, the semiconductor chip 1 is formed by the die pad 13 having a planar shape as shown in FIGS.
The main surface side of 5 may be supported.

【0075】本具体例のように、ダイパッド13により
半導体チップ15をその主面の辺部において支持すると
ともに、信号接続用リード12の内方部分を半導体チッ
プ15の下方領域まで延ばして、金蔵細線16をこの内
方部分の下面に接続させる構成とすることで、半導体チ
ップと信号接続用リード12との間のスペースを非常に
有効に利用することができる。その結果、樹脂封止型半
導体装置全体の厚みをより薄くかつ小型にすることがで
きる。
As in this example, the die pad 13 supports the semiconductor chip 15 at the side of the main surface thereof, and the inner portion of the signal connection lead 12 is extended to the lower region of the semiconductor chip 15 so that the metal wire With the structure in which 16 is connected to the lower surface of this inner portion, the space between the semiconductor chip and the signal connecting lead 12 can be used very effectively. As a result, the overall thickness of the resin-sealed semiconductor device can be made thinner and smaller.

【0076】その場合、信号接続用リード12の内方部
分を下面側からハーフエッチすることにより、内方部分
の下面の高さ位置がその外方部分の下面の高さ位置より
も上方になるので、全体の厚みを厚くしなくても、封止
樹脂17の裏面との間にある程度の空間を確保すること
ができる。したがって、金属細線16の一端を信号接続
用リード12の内方部分の下面に接続しても、金属細線
16を封止樹脂17内に確実に埋設することができる。
In this case, the height position of the lower surface of the inner portion is higher than the height position of the lower surface of the outer portion by half-etching the inner portion of the signal connecting lead 12 from the lower surface side. Therefore, it is possible to secure a certain amount of space with the back surface of the sealing resin 17 without increasing the overall thickness. Therefore, even if one end of the thin metal wire 16 is connected to the lower surface of the inner portion of the signal connecting lead 12, the thin metal wire 16 can be reliably embedded in the sealing resin 17.

【0077】つまり、樹脂封止型半導体装置の薄型を図
りつつ、金属細線16が封止樹脂17から露出するのを
防止することができる。
That is, it is possible to prevent the thin metal wires 16 from being exposed from the sealing resin 17 while making the resin-sealed semiconductor device thin.

【0078】しかも、信号接続用リード12の内方部分
の下側に封止樹脂17が回り込むことで、信号接続用リ
ード12に対する封止樹脂17の保持力も増大する。
Moreover, since the sealing resin 17 wraps around the inner side of the signal connecting lead 12, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the signal connecting lead 12 also increases.

【0079】また、信号接続用リード12の外方部分の
上面に溝部31を設けることにより、信号接続用リード
12に対する封止樹脂17の保持力が増大し、かつ、信
号接続用リード12の外方部分の上部の幅を下部よりも
広くすることにより、封止樹脂17の保持力がさらに増
大することになる。
Further, by providing the groove portion 31 on the upper surface of the outer portion of the signal connecting lead 12, the holding force of the sealing resin 17 with respect to the signal connecting lead 12 is increased, and the outside of the signal connecting lead 12 is increased. By making the width of the upper part of the one part wider than that of the lower part, the holding force of the sealing resin 17 is further increased.

【0080】−第2の具体例− 図16は、第2の具体例に係る樹脂封止型半導体装置の
断面図である。同図に示すように、本具体例において
も、ダイパッド13は半導体チップ15の辺部のみに設
けられ、しかも半導体チップ15の主面側つまり下面側
から半導体チップ15を支持している。そして、本具体
例では、上記第1の具体例とは異なり、信号接続用リー
ド12の内方部分に下面側からハーフエッチが施されて
いるとともに、この内方部分がアップセットされ、アッ
プセットされた部分の下面に金属細線16の一端が接続
されている。
-Second Specific Example- FIG. 16 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a second specific example. As shown in the figure, also in this example, the die pad 13 is provided only on the side portion of the semiconductor chip 15, and moreover, supports the semiconductor chip 15 from the main surface side, that is, the lower surface side of the semiconductor chip 15. In the present specific example, unlike the first specific example, the inner portion of the signal connecting lead 12 is half-etched from the lower surface side, and the inner portion is upset and upset. One end of the thin metal wire 16 is connected to the lower surface of the cut portion.

【0081】この具体例では、第1の具体例に比べて信
号接続用リード12の内方部分を半導体チップ15に近
づけることができるので、金属細線16の信頼性が向上
する。また、信号接続用リード12の内方部分の下方に
十分なスペースが確保されるので、金属細線12が封止
樹脂17内に確実に埋設でき、金属細線16が封止樹脂
17から露出するのをより確実に防止することができ
る。
In this specific example, the inner portion of the signal connecting lead 12 can be brought closer to the semiconductor chip 15 as compared with the first specific example, so that the reliability of the thin metal wire 16 is improved. Further, since a sufficient space is secured below the inner portion of the signal connecting lead 12, the thin metal wire 12 can be reliably embedded in the sealing resin 17, and the thin metal wire 16 is exposed from the sealing resin 17. Can be prevented more reliably.

【0082】なお、本具体例においても、バイパッド1
3の平面形状は、図17(a)に示すようにダイパッド
の辺部のうちコーナー付近だけに各々孤立した4つの矩
形状部分からなるものであってもよいし、図17(b)
に示すように2つの辺部に沿って延びる2つの帯状部分
からなるダイパッド13であってもよい。また、図10
(a),(b)に示すような平面形状を有するダイパッ
ド13により半導体チップ15の主面側を支持してもよ
い。
In this specific example as well, the bipad 1
The plane shape of 3 may be formed by four rectangular portions isolated from each other only near the corners of the side portions of the die pad as shown in FIG.
Alternatively, the die pad 13 may include two strip-shaped portions extending along two sides as shown in FIG. In addition, FIG.
The main surface side of the semiconductor chip 15 may be supported by the die pad 13 having a planar shape as shown in (a) and (b).

【0083】(第5の実施形態) 次に、吊りリード14の構造に関する第5の実施形態の
樹脂封止型半導体装置について説明する。本実施形態に
おける樹脂封止型半導体装置は、各実施形態におけるい
ずれの構造を有していてもよいが、吊りリードの形状の
みが異なる。そこで、本実施形態においては、吊りリー
ドおよびそれにつながるダイパッドを除く他の部分につ
いての説明は省略する。
(Fifth Embodiment) Next, a resin-sealed semiconductor device according to a fifth embodiment of the structure of the suspension lead 14 will be described. The resin-encapsulated semiconductor device in this embodiment may have any structure in each embodiment, but is different only in the shape of the suspension lead. Therefore, in the present embodiment, the description of the other parts except the suspension lead and the die pad connected thereto is omitted.

【0084】図18(a)は、本実施形態に係るリード
フレームの平面図であり、図18(b)は図18(a)
に示すXVIIIb-XVIIIb 線に示す断面におけるリードフレ
ームの断面図である。図18(a),(b)に示すよう
に、外枠46につながる信号接続用リード12とダイパ
ッド13との間に吊りリード14が介設されている。す
なわち、吊りリード14及び信号接続用リード12を介
して、外枠46によりダイパッド13を支持するように
構成されている。この吊りリード14には吊りリード1
4の一部を封止樹脂から露出させるためのコ字状の曲げ
部45が設けられている。また、外枠46よりもダイパ
ッド13の方が高くなるようにダイパッド13がアップ
セットされている。本実施形態では、このアップセット
量は40〜80μm程度である。また、本実施形態で
は、信号接続用リード12の内方側部分は裏面側からハ
ーフエッチが施されており、吊りリード14およびダイ
パッド13は全体的にハーフエッチされて薄くなってい
る。また、信号接続用リード12の表側には信号接続用
リード12が延びる方向に直交する2つの溝が形成され
ている。
FIG. 18 (a) is a plan view of the lead frame according to this embodiment, and FIG. 18 (b) is FIG. 18 (a).
FIG. 9 is a cross-sectional view of the lead frame taken along the line XVIIIb-XVIIIb shown in FIG. As shown in FIGS. 18A and 18B, the suspension lead 14 is provided between the signal connection lead 12 connected to the outer frame 46 and the die pad 13. That is, the die pad 13 is configured to be supported by the outer frame 46 via the suspension leads 14 and the signal connection leads 12. This suspension lead 14 has a suspension lead 1
A U-shaped bent portion 45 for exposing a part of the resin 4 from the sealing resin is provided. Further, the die pad 13 is upset so that the die pad 13 is higher than the outer frame 46. In this embodiment, the upset amount is about 40 to 80 μm. Further, in this embodiment, the inner side portion of the signal connecting lead 12 is half-etched from the back surface side, and the suspension lead 14 and the die pad 13 are half-etched and thinned as a whole. Further, two grooves that are orthogonal to the direction in which the signal connecting leads 12 extend are formed on the front side of the signal connecting leads 12.

【0085】このように、信号接続用リード12とダイ
パッド13の辺部との間に吊りリード14を介設するこ
とにより、吊りリード14をコーナー部に設けるよりも
短くでき、吊りリード14の強度を向上させることがで
きる。また、曲げ部によりダイパッド位置を支えること
により、さらに安定させることができる。したがって、
樹脂封止工程において封止樹脂17の流れによるダイパ
ッドの変形を抑制する機能をより高めることができ、大
面積のダイパッドが必要とされるときにも、封止樹脂の
流れ等によるダイパッドの変形を抑制することができ
る。特に、薄型化された樹脂封止型半導体装置において
は、ダイパッドの変形によりダイパッドが封止樹脂から
はみ出るおそれが増大するが、本具体例により、このよ
うな不具合を効果的に防止することができる。
As described above, by providing the suspension lead 14 between the signal connecting lead 12 and the side portion of the die pad 13, the suspension lead 14 can be shorter than the suspension lead 14 provided at the corner portion, and the suspension lead 14 has a high strength. Can be improved. Further, by supporting the die pad position by the bent portion, it is possible to further stabilize the die pad position. Therefore,
The function of suppressing the deformation of the die pad due to the flow of the sealing resin 17 in the resin sealing step can be further enhanced, and the deformation of the die pad due to the flow of the sealing resin or the like can be performed even when a large area die pad is required. Can be suppressed. In particular, in a thin resin-encapsulated semiconductor device, deformation of the die pad increases the risk of the die pad protruding from the encapsulation resin, but this specific example can effectively prevent such a problem. .

【0086】また、吊りリード14の一部にこのような
曲げ部45を設けることで、樹脂封止工程の後に、レー
ザーなどによって露出している吊りリード14の一部を
切断することができるので、ダイパッド13と吊りリー
ド14の外方側に接続される信号接続用リード12とを
電気的に分離できるなどの利点がある。すなわち、吊り
リード14の一部を樹脂封止工程の後に切断することに
より、例えば信号接続用リード12とダイパッド13と
の電気的な接続を断つことができ、バイポーラトランジ
スタを搭載した半導体チップについても、このような構
造を適用できるという利点がある。
By providing such a bent portion 45 in a part of the suspension lead 14, it is possible to cut a part of the suspension lead 14 exposed by a laser or the like after the resin sealing step. The advantage is that the die pad 13 and the signal connecting lead 12 connected to the outside of the suspension lead 14 can be electrically separated. That is, by cutting a part of the suspension lead 14 after the resin sealing step, for example, the electrical connection between the signal connection lead 12 and the die pad 13 can be cut off, and also for the semiconductor chip on which the bipolar transistor is mounted. There is an advantage that such a structure can be applied.

【0087】また、樹脂封止工程の前に曲げ部45の露
出させようとする面に封止テープを密着させておき、樹
脂封止工程の終了後に、封止テープをつけたままで封止
テープ21の上から吊りリード14の曲げ部45の一部
を切断してもよい。このように、吊りリード14の一部
を切断しておくことで、形成される樹脂封止型半導体装
置においては上述の効果が得られる。しかも、曲げ部4
5の周囲が封止テープによって覆われているので、レー
ザーによる溶融物が周囲に飛散しても、封止テープを剥
がすことによって飛散物を樹脂封止型半導体装置から容
易に除去できるという利点がある。
Further, before the resin sealing step, the sealing tape is brought into close contact with the surface of the bent portion 45 to be exposed, and after the resin sealing step is completed, the sealing tape is still attached and the sealing tape is attached. A part of the bent portion 45 of the suspension lead 14 may be cut from above 21. By cutting a part of the suspension lead 14 in this manner, the above-described effects can be obtained in the resin-sealed semiconductor device to be formed. Moreover, the bent portion 4
Since the periphery of 5 is covered with the sealing tape, even if the melted material due to the laser scatters around, the scattered material can be easily removed from the resin-sealed semiconductor device by peeling off the sealing tape. is there.

【0088】(第6の実施形態) 次に、第6の実施形態について説明する。本実施形態で
は、吊りリードを補強用外部端子として用いるための構
造について説明する。
(Sixth Embodiment) Next, a sixth embodiment will be described. In this embodiment, a structure for using the suspension lead as a reinforcing external terminal will be described.

【0089】図19は、第6の実施形態に係る樹脂封止
型半導体装置の裏面の構造を示す平面図である。
FIG. 19 is a plan view showing the structure of the back surface of the resin-sealed semiconductor device according to the sixth embodiment.

【0090】同図に示すように、本実施形態の樹脂封止
型半導体装置は、裏面に信号接続用リードにつながる外
部電極18を露出させているとともに、4カ所のコーナ
ー部においてダイパッド13を支持するための吊りリー
ド14の外方側端部を露出させており、この部分が補強
用外部端子49として機能する。すなわち、樹脂封止型
半導体装置を実装基板上に搭載する場合に、はんだ等で
実装基板側の電極と樹脂封止型半導体装置の外部電極1
8とが接続される。その際、補強用外部端子49と実装
基板側のダミー端子などとの間にもはんだ等を介在させ
ることにより、実装強度を極めて高めることができる。
また、補強用外部端子49が存在することで、はんだの
張力によるセルフアライメント作用が顕著となり、実装
に要する時間の短縮や実装される位置精度の向上をも図
ることができる。
As shown in the figure, in the resin-sealed semiconductor device of this embodiment, the external electrodes 18 connected to the signal connection leads are exposed on the back surface and the die pad 13 is supported at four corners. The outer end of the suspension lead 14 for exposing is exposed, and this portion functions as a reinforcing external terminal 49. That is, when the resin-sealed semiconductor device is mounted on the mounting substrate, the electrodes on the mounting substrate side and the external electrodes 1 of the resin-sealed semiconductor device are soldered or the like.
And 8 are connected. At that time, the mounting strength can be extremely increased by interposing solder or the like between the reinforcing external terminal 49 and the dummy terminal on the mounting substrate side.
Further, the presence of the reinforcing external terminal 49 makes the self-alignment action due to the tension of the solder remarkable, so that the time required for mounting can be shortened and the mounting position accuracy can be improved.

【0091】本実施形態における外部端子として機能す
る吊りリード14に対しても、上記第5の実施形態にお
ける各具体例および変形例の構造が適用できることはい
うまでもない。
It goes without saying that the structure of each of the concrete examples and modified examples of the fifth embodiment can be applied to the suspension lead 14 functioning as an external terminal in this embodiment.

【0092】なお、補強用外部端子49と外部電極18
との高さ位置を変えておくことで、アライメント性をさ
らに向上させることができ、実装に要する時間の短縮や
実装される位置精度の向上効果を顕著に発揮することが
できる。その場合、上記補強用外部端子49の露出して
いる部分の下面と、上記外部電極18の露出している部
分の下面との高さの差は、10〜150μmであること
が好ましい。
The reinforcing external terminal 49 and the external electrode 18
By changing the height position of and, it is possible to further improve the alignment property, and it is possible to shorten the time required for mounting and significantly improve the positional accuracy of mounting. In that case, the height difference between the lower surface of the exposed portion of the reinforcing external terminal 49 and the lower surface of the exposed portion of the external electrode 18 is preferably 10 to 150 μm.

【0093】なお、本発明における外部電極18は必ず
しも樹脂封止型半導体装置の裏面の4つの辺部に設けら
れている必要はなく、いずれか2つの平行な辺部に沿っ
てのみ設けられていてもよい。
The external electrodes 18 in the present invention are not necessarily provided on the four sides of the back surface of the resin-encapsulated semiconductor device, but are provided only along any two parallel sides. May be.

【0094】(第7の実施形態) 本実施形態では、外部電極の封止樹脂からの突出量を調
整するための樹脂封止方法について説明する。
(Seventh Embodiment) In this embodiment, a resin sealing method for adjusting the protrusion amount of the external electrode from the sealing resin will be described.

【0095】図20は、本実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の製造工程における樹脂封止工程を示す断面図
である。同図に示すように、上金型50aと下金型50
bとからなる封止金型を用い、ダイパッド13上に半導
体チップ15を搭載し、半導体チップの電極パッドと信
号接続用リード12とを金属細線16で接続したものを
封止金型の下金型50bに装着し、リードフレームの下
面に封止テープ21を密着させた状態で樹脂封止を行な
う。
FIG. 20 is a sectional view showing a resin encapsulation process in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device according to this embodiment. As shown in the figure, the upper die 50a and the lower die 50
The semiconductor die 15 is mounted on the die pad 13 by using a sealing die composed of b, and the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead 12 are connected by the fine metal wire 16 is a lower die of the sealing die. It is mounted on the mold 50b, and resin sealing is performed with the sealing tape 21 in close contact with the lower surface of the lead frame.

【0096】ここで、本実施形態の製造方法の特徴は、
下金型50bにおいて、リードフレームの信号接続用リ
ード12の外方部分である外部電極18(及び外枠4
6)に対向する領域には凹状の逃げ部52が設けられて
いる点である。
Here, the feature of the manufacturing method of the present embodiment is that
In the lower die 50b, the external electrode 18 (and the outer frame 4) which is an outer portion of the lead 12 for signal connection of the lead frame.
It is a point that a concave escape portion 52 is provided in a region facing 6).

【0097】このように封止金型に逃げ部52を設けて
おくことにより、封止テープ21を逃げ部52の方に逃
すことで、信号接続用リード12の封止テープ21への
食い込み量が小さくなる。その結果、封止金型の型締め
力だけでなく逃げ部52の深さによって、突出させよう
とする部分の突出量を所望の値に調整することでき、樹
脂バリの発生量も最小化することができる。
By thus providing the escape portion 52 in the sealing die, the sealing tape 21 is allowed to escape toward the escape portion 52, so that the amount of the signal connecting lead 12 biting into the sealing tape 21. Becomes smaller. As a result, the amount of protrusion of the portion to be protruded can be adjusted to a desired value by not only the mold clamping force of the sealing mold but also the depth of the escape portion 52, and the amount of resin burr generated is also minimized. be able to.

【0098】同様に、上記各実施形態において露出させ
る部分(例えば曲げ部)に対向する金型面に逃げ部を設
けることにより、当該露出部分の封止樹脂からの突出量
の調節や、樹脂バリの発生量の最小化を図ることができ
る。
Similarly, in each of the above-described embodiments, by providing a relief portion on the mold surface facing the exposed portion (for example, the bent portion), the amount of protrusion of the exposed portion from the sealing resin and the resin burr can be adjusted. Can be minimized.

【0099】ただし、封止金型の上金型と下金型との間
の型締め力の調整や、上金型−下金型間の寸法よりもリ
ードフレームの寸法を大きめにする場合の寸法の設定量
によって、上記各実施形態において露出させる部分の突
出量を調節してもよい。
However, in the case of adjusting the mold clamping force between the upper mold and the lower mold of the sealing mold and making the size of the lead frame larger than the size between the upper mold and the lower mold. The amount of protrusion of the exposed portion in each of the above-described embodiments may be adjusted according to the set amount of dimensions.

【0100】(その他の実施形態) なお、金型に真空引き用の穴を設け、封止テープ21を
真空引きしながら樹脂封止を行なうことにより、封止テ
ープのシワの発生を抑制し、封止樹脂の裏面の平坦化を
図ることもできる。
(Other Embodiments) By providing a hole for vacuuming in the die and performing resin sealing while vacuuming the sealing tape 21, generation of wrinkles in the sealing tape is suppressed, The back surface of the sealing resin can be flattened.

【0101】[0101]

【発明の効果】本発明の樹脂封止型半導体装置による
と、大面積のダイパッドが必要とされるときにも、ダイ
パッドの変形による封止樹脂からの露出を防止する機能
の高い薄型化された樹脂封止型半導体装置の提供を図る
ことができる。
According to the resin-sealed semiconductor equipment of the present invention, even when a die pad of a large area is required, a high thickness of the ability to prevent exposure of the sealing resin due to the deformation of the die pad It is possible to provide a resin-encapsulated semiconductor device that has been completed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る樹脂封止型半導
体装置の封止樹脂を透過して示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a resin encapsulation type semiconductor device according to a first embodiment of the present invention through a sealing resin.

【図2】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程におけるリードフレームを用意する工程を示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a step of preparing a lead frame in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図3】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程におけるダイパッドに半導体チップを接合する工程
を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a step of joining a semiconductor chip to a die pad in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図4】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程における金属細線を形成する工程を示す断面図であ
る。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of forming thin metal wires in the manufacturing process of the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図5】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程における封止テープをリードフレームの下に敷く工
程を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a step of laying a sealing tape under a lead frame in the manufacturing process of the resin-sealed semiconductor device of the first embodiment.

【図6】第1の実施形態の樹脂封止型半導体装置の製造
工程における樹脂封止工程を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a resin encapsulation process in the process of manufacturing the resin-encapsulated semiconductor device of the first embodiment.

【図7】本発明の第2の実施形態の第1の具体例に係る
リードフレームの平面図及び断面図である。
FIG. 7 is a plan view and a sectional view of a lead frame according to a first example of the second embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態の第1の具体例の変形
例に係るリードフレームの平面図である。
FIG. 8 is a plan view of a lead frame according to a modification of the first example of the second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第2の実施形態の第2の具体例に係る
リードフレームの平面図及び断面図である。
FIG. 9 is a plan view and a cross-sectional view of a lead frame according to a second example of the second embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第2の実施形態の第2の具体例の変
形例に係るリードフレームの平面図である。
FIG. 10 is a plan view of a lead frame according to a modification of the second specific example of the second embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第3の実施形態の第1の具体例に係
る樹脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 11 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a first example of the third embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第3の実施形態の第2の具体例に係
る樹脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 12 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a second specific example of the third embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第3の実施形態の第3の具体例に係
る樹脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 13 is a sectional view of a resin-encapsulated semiconductor device according to a third example of the third embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第3の実施形態の第4の具体例に係
る樹脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 14 is a sectional view of a resin-encapsulated semiconductor device according to a fourth example of the third embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第4の実施形態の第1の具体例に係
る樹脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a first example of the fourth embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第4の実施形態の第2の具体例に係
る樹脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 16 is a sectional view of a resin-sealed semiconductor device according to a second example of the fourth embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第4の実施形態の第1および第2の
の具体例に係る樹脂封止型半導体装置のダイパッドの平
面形状を示す平面図である。
FIG. 17 is a plan view showing a planar shape of a die pad of a resin-encapsulated semiconductor device according to first and second specific examples of a fourth embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第5の実施形態に係るリードフレー
ムの平面図及び断面図である。
FIG. 18 is a plan view and a sectional view of a lead frame according to a fifth embodiment of the present invention.

【図19】本発明の第6の実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の裏面の構造を示す平面図である。
FIG. 19 is a plan view showing the structure of the back surface of the resin-sealed semiconductor device according to the sixth embodiment of the present invention.

【図20】本発明の第7の実施形態に係る樹脂封止型半
導体装置の製造工程における樹脂封止工程を示す断面図
である。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing a resin-sealing step in a manufacturing process of a resin-sealed semiconductor device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図21】従来の裏面側に外部電極を有するタイプの樹
脂封止型半導体装置の断面図である。
FIG. 21 is a cross-sectional view of a conventional resin-sealed semiconductor device of a type having an external electrode on the back surface side.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 信号接続用リード 13 ダイパッド 14 吊りリード 15 半導体チップ 16 金属細線 17 封止樹脂 18 外部電極 21 封止テープ 30 開口 31 溝部 45 曲げ部 46 外枠 49 補強用外部端子 50a 上金型 50b 下金型 52 逃げ部 12 signal connection leads 13 die pad 14 Hanging lead 15 semiconductor chips 16 thin metal wires 17 Sealing resin 18 External electrode 21 sealing tape 30 openings 31 groove 45 Bend 46 Outer frame 49 External terminal for reinforcement 50a Upper mold 50b Lower mold 52 Runaway

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ダイパッドと、 上記ダイパッドを支持するための複数の吊りリードと、 信号接続用リードと、 主面上に電極パッドを有し、主面を下方に向けた状態で
上記ダイパッドの下面で支持され、上記ダイパッドより
も面積が大きい半導体チップと、 上記半導体チップの電極パッドと上記信号接続用リード
とを電気的に接続する接続部材と、 上記ダイパッド,上記半導体チップ,上記信号接続用リ
ード及び上記接続部材を封止する封止樹脂とを備え、 上記信号接続用リードの一部は上記封止樹脂の裏面側で
露出し外部端子として機能しており、 上記ダイパッドは上記封止樹脂内に埋設されており、 上記ダイパッドと、上記吊りリードの上記半導体チップ
を搭載している領域とは、ハーフエッチにより薄く形成
され、かつ、互いに同じ厚みを有していることを特徴と
する樹脂封止型半導体装置。
1. A lower surface of the die pad having a die pad, a plurality of suspension leads for supporting the die pad, a signal connecting lead, an electrode pad on a main surface, and a main surface facing downward. A semiconductor chip having an area larger than that of the die pad, a connecting member for electrically connecting the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead, the die pad, the semiconductor chip, the signal connecting lead And a sealing resin that seals the connection member, a part of the signal connecting lead is exposed on the back surface side of the sealing resin and functions as an external terminal, and the die pad is in the sealing resin. The die pad and the region of the suspension lead on which the semiconductor chip is mounted are thinly formed by half-etching and are the same as each other. Resin-sealed semiconductor device, characterized by having himself.
【請求項2】 請求項1記載の樹脂封止型半導体装置に
おいて、 上記ダイパッドと吊りリードの上記半導体チップを搭載
している領域とは、下面側からハーフエッチされている
ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
2. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, wherein the die pad and the region of the suspension lead on which the semiconductor chip is mounted are half-etched from the lower surface side. Sealed semiconductor device.
【請求項3】 請求項1記載の樹脂封止型半導体装置に
おいて、 上記各吊りリードは、上記ダイパッドと上記信号接続用
リードとの間に介設されていることを特徴とする樹脂封
止型半導体装置。
3. The resin-sealed semiconductor device according to claim 1, wherein each of the suspension leads is interposed between the die pad and the signal connection lead. Semiconductor device.
【請求項4】 請求項1記載の樹脂封止型半導体装置に
おいて、 上記各吊りリードには、一部に曲げ部が設けられている
ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
4. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein each of the suspension leads is partially provided with a bent portion.
【請求項5】 請求項4記載の樹脂封止型半導体装置に
おいて、 上記各吊りリードは、上記一部において切断されている
ことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
5. The resin-sealed semiconductor device according to claim 4, wherein each of the suspension leads is cut at the part.
【請求項6】 請求項5記載の樹脂封止型半導体装置に
おいて、 上記各吊りリードの切断されている部分の近傍が薄くな
っていることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
6. The resin-sealed semiconductor device according to claim 5, wherein the vicinity of the cut portion of each suspension lead is thin.
【請求項7】 ダイパッドと、 上記ダイパッドを支持するための複数の吊りリードと、 信号接続用リードと、 主面上に電極パッドを有し、主面を下方に向けた状態で
上記ダイパッドの下面で支持される半導体チップと、 上記半導体チップの電極パッドと上記信号接続用リード
とを電気的に接続する接続部材と、 上記ダイパッド,上記半導体チップ,信号接続用リード
及び接続部材を封止する封止樹脂とを備え、 上記信号接続用リードの一部は上記封止樹脂の裏面側で
露出し外部端子として機能しており、 上記ダイパッドは上記封止樹脂内に埋設されており、 上記各吊りリードの一部は上記封止樹脂の裏面側で露出
していて、この露出している一部が補強用外部端子とし
て機能し、 上記各吊りリード中の上記補強用外部端子の下面と、上
記信号接続用リード中の外部端子の下面とは、高さ位置
が互いに異なっていることを特徴とする樹脂封止型半導
体装置。
7. A bottom surface of the die pad having a die pad, a plurality of suspension leads for supporting the die pad, signal connecting leads, and an electrode pad on the main surface, with the main surface facing downward. And a connecting member for electrically connecting the electrode pad of the semiconductor chip and the signal connecting lead, and a seal for sealing the die pad, the semiconductor chip, the signal connecting lead and the connecting member. A part of the signal connecting lead is exposed on the back surface side of the sealing resin and functions as an external terminal, and the die pad is embedded in the sealing resin. Part of the lead is exposed on the back surface side of the sealing resin, and this exposed part functions as a reinforcing external terminal, and the lower surface of the reinforcing external terminal in each of the suspension leads and the above The resin-encapsulated semiconductor device is characterized in that the height position is different from the lower surface of the external terminal in the signal connecting lead.
JP6081298A 1998-03-12 1998-03-12 Resin-sealed semiconductor device Expired - Fee Related JP3445930B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6081298A JP3445930B2 (en) 1998-03-12 1998-03-12 Resin-sealed semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6081298A JP3445930B2 (en) 1998-03-12 1998-03-12 Resin-sealed semiconductor device

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003146054A Division JP4066050B2 (en) 2003-05-23 2003-05-23 Resin-sealed semiconductor device and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11260989A JPH11260989A (en) 1999-09-24
JP3445930B2 true JP3445930B2 (en) 2003-09-16

Family

ID=13153144

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6081298A Expired - Fee Related JP3445930B2 (en) 1998-03-12 1998-03-12 Resin-sealed semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3445930B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011049959A2 (en) * 2009-10-19 2011-04-28 Texas Instruments Incorporated Methods and devices for manufacturing cantilever leads in a semiconductor package

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3883784B2 (en) * 2000-05-24 2007-02-21 三洋電機株式会社 Plate-shaped body and method for manufacturing semiconductor device
KR100701402B1 (en) * 2001-03-19 2007-03-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 Semiconductor package
JP2007157826A (en) * 2005-12-01 2007-06-21 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor device, manufacturing method thereof, and lead frame thereof
MY144694A (en) 2006-06-22 2011-10-31 Dainippon Printing Co Ltd Resin-sealed semiconductor device, manufacturing method thereof, base material for the semiconductor device, and layered and resin-sealed semiconductor device
CN109192715B (en) * 2018-09-20 2024-03-22 江苏长电科技股份有限公司 Lead frame structure, packaging structure and manufacturing method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011049959A2 (en) * 2009-10-19 2011-04-28 Texas Instruments Incorporated Methods and devices for manufacturing cantilever leads in a semiconductor package
WO2011049959A3 (en) * 2009-10-19 2011-08-18 Texas Instruments Incorporated Methods and devices for manufacturing cantilever leads in a semiconductor package
US8216885B2 (en) 2009-10-19 2012-07-10 Texas Instruments Incorporated Methods and devices for manufacturing cantilever leads in a semiconductor package

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11260989A (en) 1999-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3461720B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP4388586B2 (en) Semiconductor device
JP3285815B2 (en) Lead frame, resin-encapsulated semiconductor device and method of manufacturing the same
JP3562311B2 (en) Method for manufacturing lead frame and resin-encapsulated semiconductor device
KR100500919B1 (en) Resin sealed semiconductor device and method for manufacturing the same
US7397113B2 (en) Semiconductor device
JP2003243600A (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
JP3470111B2 (en) Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device
JP3405202B2 (en) Lead frame, resin-sealed semiconductor device using the same, and method of manufacturing the same
JP3458057B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP3445930B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP4066050B2 (en) Resin-sealed semiconductor device and manufacturing method thereof
JP3507819B2 (en) Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
JP3443406B2 (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2005191158A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP2006216993A (en) Resin sealed semiconductor device
JP3007632B1 (en) Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
JP4764608B2 (en) Semiconductor device
JP2001077285A (en) Lead frame and manufacture of resin-sealed semiconductor device using the same
JP2001077275A (en) Lead frame and manufacture of resin-sealed semiconductor device using the same
JP3499655B2 (en) Semiconductor device
JP2004207758A (en) Resin sealed semiconductor device
JP2004146853A (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2001077284A (en) Lead frame and manufacture of resin-sealed semiconductor device using the same
JP2003100955A (en) Semiconductor device and its manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030617

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080627

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees