JP3507774B2

JP3507774B2 - 洗浄装置

Info

Publication number: JP3507774B2
Application number: JP2000217397A
Authority: JP
Inventors: 徹西尾; 尚久孫工; 剛照山本
Original assignee: Sharp Corp; Sony Corp; Tokiwa Engineering Co Ltd
Current assignee: Sharp Corp; Sony Corp; Tokiwa Engineering Co Ltd
Priority date: 2000-07-18
Filing date: 2000-07-18
Publication date: 2004-03-15
Anticipated expiration: 2020-07-18
Also published as: JP2002028601A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は洗浄装置に関する。
より詳しくは、フラットディスプレイ用の基板、半導体
ウェハ、電子回路基板、金属プレート、非金属プレート
など板状のワークを処理対象とする洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の洗浄装置は、種々の洗浄や乾燥な
どの処理工程毎にブースを設け、ローラを用いて処理対
象となる板状のワークを各ブースに搬送する、連続搬送
構造が知られていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
連続搬送構造の洗浄装置は、以下の解決すべき課題を抱
えている。第一に、板材をローラで受けて搬送する為、
搬送痕が残る。又は、搬送の過程でゴミなどが洗浄済み
の板材に再付着してしまう。第二に、搬送ローラがある
為、各処理に規制が生じ、効率的な設備設計ができな
い。例えば、板材の表面と裏面で洗浄処理の差が大きく
なる。換言すると、洗浄能力に限界がある。第三に、連
続搬送構造の場合、ワークを処理する途中で、処理速度
（時間）や位置を自在に変更することができない。第四
に、処理工程毎にブースを設ける為、装置の全体長が大
きくなってしまい、スペースに無駄が生じる。第五に、
設備の構造上、ワークを運ぶ搬送ユニットがある為に、
洗浄や乾燥などに用いる処理機器を直接目視で調整する
ことが不可能である。第六に、処理液を各処理工程の機
器に供給する配管や排水用の配管が複雑になり、保守や
流量管理が煩雑である。又、配管が長くなると処理液が
余分に必要となる。第七に、装置が長くなると、ワーク
を連続で枚葉処理する為、装置のトラブルが発生すると
複数のワークに亘り品質異常が発生する可能性がある。
又、連続搬送過程で、ワークの取り出し（撤去など）が
行えない。第八に、処理工程（プロセス）の手順が固定
されている為、処理工程の順番を必要に応じ入れ換える
ことができない。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題を解決する為に以下の手段を講じた。即ち、本発明に
係る洗浄装置は、基本的にブースと、案内部と、洗浄ヘ
ッド部と、乾燥ヘッド部と、駆動部とを備えている。ブ
ースは、処理対象となる板状のワークを取り入れる為に
閉じた空間を有する。案内部は、該取り入れたワークを
その表面及び裏面が該空間に露出した状態で案内固定す
る。洗浄ヘッド部は、該空間を移動しながら該固定され
たワークの表面及び裏面を同時に洗浄処理する。乾燥ヘ
ッド部は、該空間を移動しながら該固定されたワークの
表面及び裏面を同時に乾燥処理する。駆動部は、あらか
じめ設定可能な処理手順に従って該洗浄ヘッド部及び該
乾燥ヘッド部を順次駆動して該ワークに適した洗浄乾燥
処理を実行する。具体的には、前記駆動部は、所定の間
隙を介して薄板ガラスと電極が形成された厚板ガラスと
を接合し、厚板ガラスに取り付けたチップ管を介して該
間隙にイオン化可能な気体を封入したプラズマセルから
なるワークに適した洗浄及び乾燥を実行する。

【０００５】好ましくは、前記案内部は、該板状のワー
クの表面及び裏面に当接することなく端面に当接してワ
ークを案内固定する。又、前記洗浄ヘッド部は、該ワー
クの表面及び裏面に洗浄液を供給する為のシャワーノズ
ルと、該ワークの表面及び裏面をブラシングする為のブ
ラシロールを備えている。又、前記乾燥ヘッド部は、該
ワークの表面及び裏面に乾燥用の気体を供給する為のエ
アーナイフを備えている。例えば本洗浄装置は、処理対
象となる板状のフラットディスプレイ用ガラス基板を取
り入れる為に閉じた空間を有するブースと、該取り入れ
たフラットディスプレイ用ガラス基板をその表面及び裏
面が該空間に露出した状態で端面を支持して案内固定す
る為の案内部と、該取り入れたフラットディスプレイ用
ガラス基板を装置の中心部に出し入れするためのローデ
ィング／アンローディング用のヘッド部プッシャと、ブ
ラシロールとシャワーノズルが組み込まれていて、該空
間を移動しながら該固定されたフラットディスプレイ用
ガラス基板の表面及び裏面を同時に洗浄処理する為の洗
浄ヘッド部と、該空間を移動しながら該固定されたフラ
ットディスプレイ用ガラス基板の表面及び裏面を同時に
乾燥処理する為のエアーナイフを備えた乾燥ヘッド部
と、あらかじめ設定可能な処理手順に従って該洗浄ヘッ
ド部及び該乾燥ヘッド部を順次駆動して該フラットディ
スプレイ用ガラス基板に適した洗浄乾燥処理を実行する
駆動部とからなる。

【０００６】以上の様に、本発明に係る洗浄装置は、ク
リーンルームを含む室内環境下で、処理対象となるワー
ク（フラットプレート）を固定した状態で、材質に捕ら
われることなくブラシ洗浄処理、シャワー洗浄処理、水
切り処理、乾燥処理などの各種処理を行なう。本洗浄装
置の特徴並びに作用は以下の通りである。第一に、一箇
所で全ての処理を行なうコンパクト設計の為、省スペー
ス化が可能である。第二に、ワーク搬送用の駆動部や処
理ノズルなど必要な機能しか持たない為、省エネルギー
化が可能である。第三に、基板の裏面を受けて搬送を行
なうユニットが無い為、洗浄品質の向上及びクリーンな
洗浄化が可能である。換言すると、ワークが固定方式の
為、従来の様に搬送ローラなど洗浄槽内でワークにゴミ
などが再付着することがない。第四に、装置がコンパク
トに設計できる為、構成材料、処理機器、購入部品、作
業工数などを含めた製造コストの削減が可能になる。第
五に、洗浄ヘッド部や乾燥ヘッド部など処理機器の方が
可動である為、ワークの局部に対して処理条件をきめ細
かく設定することができる。又、処理手順を容易に変更
することが可能であり、処理の組み合わせが自由にな
る。第六に、構造がシンプルである為、処理機器の保守
や調整を直接行なうことができる。安全面においても有
利である。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態を詳細に説明する。図１は本発明に係る洗浄装置
の全体構成を示すブロック図である。左上のブロックが
平面図であり、左下のブロックが正面図である。これら
のブロックの右側に、それぞれ対応する側面図のブロッ
クを描いてある。図示する様に、本洗浄装置は、ブース
１と案内部２と洗浄ヘッド部３と乾燥ヘッド部４と駆動
部５とを含んでいる。ブース１は、処理対象となる板状
のワークを取り入れる為にほぼ直方体形状の閉じた空間
を有する。案内部２は、前面シャッタ６から取り込んだ
ワークを、その表面及び裏面がブース１の内部空間に露
出した状態で案内固定する。洗浄ヘッド部３は、ブース
１の内部空間を移動しながら、固定されたワークの表面
及び裏面を同時に洗浄処理する。乾燥ヘッド部４は、同
じくブース１の内部空間を移動しながら、固定されたワ
ークの表面及び裏面を同時に乾燥処理する。駆動部５
は、あらかじめ設定可能な処理手順に従って、洗浄ヘッ
ド部３及び乾燥ヘッド部４を順次駆動して、ワークに適
した洗浄乾燥処理を実行する。尚、ブース１の内部には
中間シャッタ７が設けられており、ワークの取り込み側
と処理側を物理的に隔てている。

【０００８】好ましくは、案内部２は、板状のワークの
表面及び裏面に当接することなく端面に当接してワーク
を案内固定する。洗浄ヘッド部３は、ワークの表面及び
裏面に洗浄液を供給する為のシャワーノズルと、ワーク
の表面及び裏面をブラシングする為のブラシロールを備
えている。乾燥ヘッド部４は、ワークの表面及び裏面に
乾燥用の気体を供給する為のエアーナイフを備えてい
る。

【０００９】図２は、図１に示した洗浄装置のＡ−Ａ断
面図である。尚、切断線Ａ−Ａは図１に示してある。以
下に示す切断線も全て図１に示してある。図示する様
に、洗浄ヘッド部３及び乾燥ヘッド部４は、テーブル８
に搭載された状態で、駆動部５により駆動される。案内
部２は両側にローラを配列した構成となっており、二点
鎖線で示す直方形の板状ワークの両端面を支持しなが
ら、ブース１の内部に案内固定する。案内部２は、更に
ワークを所定位置で固定する為のストッパ２１，２２を
備えている。又、ワークをブース１の内部に送り込む為
のプッシャ９を有する。

【００１０】図３は、本洗浄装置のＢ−Ｂ断面図であ
る。又、図示する、ａ’−ａ部及びｂ部の詳細図も合わ
せて示す。ブース１の天井部には、ブースシャワー１０
が取り付けてあり、槽内を定期的に自動でクリーニング
する。又、ブース１の床部には、装置内で発生した塵や
埃を取り除く為の排気ダクト１１が設けられている。前
面シャッタ６から取り込まれたワークは、中間シャッタ
７を通過して、ブース１の所定位置に固定される。これ
に対して、洗浄ヘッド部３は、図示の右側極限位置と左
側極限位置との間を移動可能である。同様に、乾燥ヘッ
ド部４も、右側の極限位置と左側の極限位置との間を移
動可能である。本実施形態では、ブース１の左側に設け
た前面シャッタ６を介してワークの取り入れ及び取り出
しを行なっている。これに代えて、ブース１の左側から
投入したワークを、ブース１の右側から取り出す構造と
してもよい。

【００１１】図４は、本洗浄装置のＣ−Ｃ断面図であ
る。前述した様に、洗浄ヘッド部３はテーブル８に搭載
されており、駆動部５により図示の両極限位置の間を移
動可能である。同様に、乾燥ヘッド部４もテーブル８に
搭載されており、駆動部５により図示の両極限位置の間
を移動可能である。

【００１２】図５は、本洗浄装置のＤ−Ｄ断面図であ
る。ブース１内で、洗浄ヘッド部３及び乾燥ヘッド部４
は駆動部５により往復移動可能である。

【００１３】図６は、本洗浄装置のＥ−Ｅ断面図であ
る。合わせて、その側面図も示してある。図示する様
に、ブース１の前面には開閉可能なシャッタ６が取り付
けられており、これを介して処理対象となるワークの取
り入れ及び取り出しを行なう。

【００１４】図７は、本洗浄装置のＦ−Ｆ断面図であ
る。図示する様に、基板を案内固定する為の案内部は、
チャック部２０より構成されている。チャック部２０
は、ワークの両端を保持可能な様に配列されており、詳
細図に示すようにローラを含んでいる。合わせて、ワー
クの投入部分に設けられたローラ２０’の詳細図も挙げ
ておく。

【００１５】図８は、本洗浄装置のＧ−Ｇ断面図であ
る。図示する様に、板状のワークの両端はチャック部２
０により案内固定された状態で処理される。例えば、テ
ーブル８に搭載された乾燥ヘッド部がワークの固定され
た場所まで移動し、乾燥処理を行なう。図１に示したス
トッパ２１，２２の詳細図も合わせて挙げておく。これ
らのストッパ２１，２２は、チャック部２０で支えられ
たワークを、所定の位置に固定する為のものである所定
の位置までは、プッシャ９で運ばれる。

【００１６】図９は、本洗浄装置のＨ−Ｈ断面図であ
る。乾燥ヘッド部４はテーブル８に搭載された状態で、
Ｘ軸（紙面と垂直な方向）に移送される。乾燥ヘッド部
４は、ワークの表面及び裏面を同時に乾燥する為、上下
一対のエアーナイフ４０Ｕ及び４０Ｄを備えている。エ
アーナイフ４０Ｕ，４０Ｄは、Ｚ軸方向（ワークの法線
方向）に調節可能である。以上の様に、乾燥ヘッド部４
はＸ軸方向の任意の位置でエアーナイフ４０Ｕ，４０Ｄ
を用い、水切り／乾燥が行なえる。又、上下一対のエア
ーナイフ４０Ｕ，４０ＤをＺ軸方向に調節して、ワーク
とノズルの間のクリアランスも自在に設定可能である。

【００１７】図１０は、本洗浄装置のＩ−Ｉ断面図であ
る。図示する様に、洗浄ヘッド部３は、テーブル８に搭
載された状態で、ワークの表面及び裏面を同時に洗浄す
る。ワークの表面及び裏面に近接して、上下一対のブラ
シ３２Ｕ，３２Ｄを備えており、ワークのブラシングを
行なう。その近傍には、上下一対のシャワー３１Ｕ，３
１Ｄが配されており、ブラシ３２Ｕ，３２Ｄに対して、
必要な洗浄液を供給する。これとは別に、上下一対のシ
ャワー用ノズル３０Ｕ，３０Ｄが設けられており、ワー
クの表面及び裏面に直接シャワーが行なえる様にしてい
る。ブラシロール３２Ｕ，３２Ｄは、ワークに対するブ
ラシ押し込み量、逃がし量と、送り速度及び回転速度を
調整可能である。ブラシロール３２Ｕ，３２Ｄは片持ち
支持の為、ブラシの交換が容易である。又、ブース１の
側面から実際にブラシの当り量を見ながら微調整を行な
うことができる。加えて、ブラシロールのＺ軸方向駆動
が、上下でセパレートの為、ブラシの当り量を最適化可
能である。ブラシロール３２Ｕ，３２Ｄの近傍にそれぞ
れブラシ用のシャワーノズル３１Ｕ，３１Ｄを配して、
ブラシのクリーニング及び潤滑を行なう様にしている。

【００１８】図１１は、中間シャッタ７の詳細構成を示
す。図示する様に、中間シャッタ７は上下に開閉可能な
一対のプレート７０Ｕ，７０Ｄからなり、ブラシ洗浄又
はシャワー洗浄を行なう時、乾燥ヘッド部側に処理水が
飛散することを防止する為に設けられている。換言する
と、中間シャッタ７は、乾燥処理と洗浄処理を隔てる為
に設けてあり、最小スペースで開閉を迅速に行なう構造
となっている。

【００１９】図１２は、乾燥ヘッド部４の詳細図であ
る。エアーナイフ４０Ｕ，４０ＤのＺ軸駆動が上下でセ
パレートの為、ワークの表面及び裏面に対して、それぞ
れエアーナイフ４０Ｕ，４０Ｄを最適な位置に設定可能
である。上下一対のエアーナイフ４０Ｕ，４０Ｄはそれ
ぞれ先端に取り付けられたノズル４１Ｕ，４１Ｄを介し
て、クリーンな温風を供給可能な構造としている。

【００２０】図１３は、洗浄ヘッド部３の詳細図であ
る。前述した様に、洗浄ヘッド部３は、上下一対のシャ
ワーノズル３０Ｕ，３０Ｄと、上下一対のブラシロール
３２Ｕ，３２Ｄを取り付けてあり、シャワー洗浄とブラ
シ洗浄で二通りの使用ができる構造となっている。特
に、シャワー洗浄用のシャワーノズル３０Ｕ，３０Ｄと
は別に、ブラシ用のシャワーノズル３１Ｕ，３１Ｄを備
えており、常にブラシのクリーニングを行なって、ワー
クへのゴミ再付着を防止している。

【００２１】図１４は、プッシャ９の詳細図である。前
述した様に、プッシャ９は、前面シャッタから取り込ん
だワークを洗浄装置の中心部へ移動させる為に使用する
ものである。洗浄ヘッド部や乾燥ヘッド部と同様に、テ
ーブルに搭載されてＸ軸方向に移動可能である。

【００２２】図１５は、駆動部の詳細図である。前述し
た様に、洗浄ヘッド部３及び乾燥ヘッド部４はテーブル
８に搭載された状態で、駆動部５によりＸ軸方向に往復
移送される。この時、駆動部５はコンピュータにより制
御されており、あらかじめプログラム可能な処理手順に
従って洗浄ヘッド部３及び乾燥ヘッド部４を順次駆動し
てワークに適した洗浄乾燥処理を実行する。

【００２３】図１６は、本洗浄装置に接続されるタンク
部の詳細図である。図示する様に、タンク部１５はコン
パクトな設計となっており、一時処理水を洗浄装置側に
供給する。タンク部１５は地上設置型あるいは地下埋設
型である。

【００２４】図１７は、洗浄装置を収納したブース１と
タンク部１５との接続関係を示す配管フロー図である。
図示する様に、タンク部１５は、洗浄ヘッド部に組み込
まれたシャワーノズル３０Ｕ，３０Ｄ，３１Ｕ，３１Ｄ
に、それぞれ必要な洗浄液を供給する。

【００２５】本洗浄装置は、板状のワークの表面と裏面
を洗浄することを目的としている。本装置を利用するこ
とで、フラットディスプレイの基板、半導体ウェハ、電
子回路基板、金属プレート、非金属プレートなど材質を
問わず小型から大型サイズの多様なワークを平置き又は
縦置きに固定した状態で、表面と裏面両方に対し必要な
箇所を洗浄並びに乾燥することができる。以下、本洗浄
装置と連続搬送方式の従来の洗浄装置を比較した結果を
示す。

【００２６】装置構成から見ると、従来の洗浄機では、
各処理工程毎にブースを設け、これらをつなぎ合わせた
構造となる為、設備機長が大きくなる。これに対し、本
発明に係る洗浄装置では単一のブースの中に全ての機能
を搭載している為、最短機長で構成が行なえる。例え
ば、対角寸法が４２インチのフラットディスプレイ用ガ
ラス基板を洗浄する場合を考察する。従来の連続搬送方
式の洗浄装置で、順にローディング（投入）、シャワ
ー、ブラシ洗浄、超音波リンス、超音波ノズルリンス、
シャワーリンス、エアーナイフ乾燥、アンローディング
（取り出し）を行なうと、設備機長は最短で８９５０ｍ
ｍとなる。上述した処理を本発明に係る洗浄装置で実施
すると、設備機長は４５００ｍｍで済む。但し、単一の
ブースには、エアーナイフを備えた乾燥ヘッド部、ロー
ディング／アンローディングヘッド部、ブラシロールと
シャワーノズルを備えた洗浄ヘッド部が組み込まれてい
るものとする。本発明に係る洗浄装置では、これらのヘ
ッド部を切り換えて各処理を行なう為、従来の洗浄装置
と同等仕様の処理を行なう場合、約半分の機長で済み、
省スペース化となる。

【００２７】従来の洗浄装置では、上述した処理工程の
場合、各処理毎に専用機能を持ったワークステーション
が必要であり、これに加えワークを搬送する為の駆動ユ
ニットも必要であり、投資コスト及び省エネルギーの面
で不利がある。上述した洗浄乾燥仕様の場合、従来の連
続搬送型洗浄装置では、搬送用のコンベアユニット、固
定シャワーユニット、固定ブラシ／シャワーユニット、
超音波ＤＩＰリンス槽、超音波ノズル、揺動シャワーユ
ニットなどが必要になる。又、各ユニットを仕切る為に
別々のエアーカーテンも必要である。これに対し、本発
明に係る洗浄装置は、単一のブース内に、エアーナイフ
を備えた乾燥ヘッド部、ローディング／アンローディン
グ用のヘッド部プッシャ、ブラシロール及びシャワーノ
ズルを備えたヘッド部を組み込めばよい。各ヘッドを共
用して処理を行なう為、無駄な機器が削減できる。又、
必要なヘッド部のみを駆動させる為、電力や水などエネ
ルギーや資源の消費を削減できる。搬送ユニットを取り
除くことができ、エアーカーテンの設置個数を少なくす
ることができ、シャワーノズルの設置数を削減可能であ
り且つシャワーノズルの吐出タイミングを最適化でき
る。

【００２８】従来の洗浄装置では、ワークとなる基板を
枚葉処理する場合、搬送コンベアを使用してワークを次
工程に送る。図１８に示す様に、この方法では、ワーク
の裏面に搬送ローラの痕が転写されてしまうという問題
を抱えている。これに対し、本発明に係る洗浄装置で
は、図１９に示す様に、処理対象となるワークを案内部
２のチャック部２０で端面支持する為、ワークの面上に
は痕が付かない。

【００２９】本発明に係る洗浄装置では、ワークを固定
する一方ヘッド部を駆動する方式である為、洗浄や乾燥
の各処理をきめ細かく調整できる。これに対し、従来の
洗浄装置では水切りなどの乾燥、ブラシ洗浄、シャワー
洗浄などの処理は一度設定した条件でしか処理できな
い。当初から、仕様を高精度に設定しないと理想的な洗
浄処理が行なえない。従来の洗浄装置では、エアーナイ
フのクリアランス及び送り速度が固定であり、ブラシ押
し込み量及びワーク送り量が固定であり、シャワー洗浄
時のワーク送り速度も固定である。これに対し、本発明
に係る洗浄装置では、ワークに対しエアーナイフのクリ
アランス及び送り速度を変更可能である。ブラシロール
についても、押し込み量を任意に調整可能であり、送り
速度も変更可能であり、回転速度も調整できる。更にシ
ャワーノズルについても、ワークに対する送り速度を変
更可能である。これらのツールは条件を代えて繰り返し
使用可能である。以上の様に、従来の連続的処理に比べ
本発明に係る洗浄装置は各処理をきめ細かく重点的に行
なうことができる。

【００３０】本発明に係る洗浄装置は構造がシンプルで
ある為、各ヘッド部の保守及び調整が目視で行なえる。
例えば、ブースを透明樹脂で作成し、各ヘッド部の動作
が外部より確認可能にする。ブラシロールの押し込み量
の調整はブラシロールが片持ち構造の為、ワークとの当
り量を実際に確認しながらセッティングすることができ
る。搬送用のベルトコンベアがない為、駆動部の発塵に
よるワークへの影響がない。ブラシロールの交換やヘッ
ドの調整がブースの側面から行なえる構造の為、保守性
に優れている。エアーナイフ吐出時におけるブース内の
圧力制御も、排気ダンパを持っており一定に保つことが
可能である。又洗浄時のミスト飛散も装置の下面に設け
た排気ダクトにより舞い上がり防止をしている。機長が
短い為、ブース内を自動でクリーニング（水洗浄）でき
る。

【００３１】最後に、図２０を参照して、本発明に係る
洗浄装置の処理対象となる、板状ワークの一例を説明す
る。図２０は、プラズマアドレス型の表示装置の製造方
法を示す工程図であり、その洗浄処理で本洗浄装置を使
用する。まず（Ａ）に示す様に、本装置で洗浄した下側
基板１０８の上にアノードＡ及びカソードＫとなる放電
電極１０９を形成する。その厚みや幅はデバイス設計に
より異なるが、本例の場合厚みは４０μｍで、幅は１０
０〜３００μｍである。電極の形成はニッケルペースト
を使用し、印刷法で行なった。尚、開口率を上げる目的
で、サンドブラスト法を使用する場合もある。サンドブ
ラスト法では予め下側基板１０８に全面的に導電ペース
トを印刷焼成した後、これを精密なマスクを介して選択
的に研削し、ストライプ状の放電電極１０９を得る。印
刷法の場合には、印刷後溶剤を揮発させる為の乾燥を行
ない、更に不要なバインダ樹脂を除去する為の仮焼成を
行なう。この後、導電ペースト中のニッケル粉を固定す
る為、ガラス粒子を溶かす焼成が行なわれる。この時の
加熱温度は約５００乃至６００℃に及ぶ。放電電極１０
９が形成された後同じく印刷法でガラスペーストにより
隔壁１１０を形成する。更に印刷法で接続用の端子電極
（図示せず）を形成する。場合によっては、放電電極１
０９とともに隔壁１１０や端子電極を一括で焼成するこ
とも可能である。

【００３２】続いて（Ｂ）に示す様に、放電電極１０９
の保護皮膜となる電着膜１１５を少なくともカソードＫ
を完全に被覆する様に形成する。材質としてはホウ化物
及び炭素の導電性粉末から選ばれる。電着で使用する電
着液は溶媒としてイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）な
どを使い、その中に被覆したい材料粉末やバインダにな
る低融点ガラス粒子を加え、これらの粉末に電荷を付与
する為のＭｇイオン等を混入した懸濁液になっている。

【００３３】続いて（Ｃ）に示す様に、薄板ガラスなど
からなる中間基板１０３をフリット１１１により下側基
板８に接合する。下側基板１０８と中間基板１０３に挟
まれた空間は隔壁１１０によって区画され、放電チャネ
ル１１２を構成する。この放電チャネル１１２にはイオ
ン化可能な気体が封入充填される。以上により、プラズ
マセル１０２が完成する。ここで、本洗浄装置を用いて
プラズマセル１０２の両面を洗浄する。

【００３４】最後に（Ｄ）に示す様に、プラズマセル１
０２の上に表示セル１０１を組み立ててプラズマアドレ
ス表示装置を完成する。表示セル１０１は上側基板１０
４を用いて組み立てられており、その内表面には信号電
極１０５が形成されている。上側基板１０４はシール材
１０６により中間基板１０３に接合している。上側基板
１０４と中間基板１０３の間には電気光学物質１０７と
して例えば液晶が封入充填される。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
一箇所で全ての処理を行なうコンパクト設計の為、省ス
ペース化が可能である。必要な機能（ワーク案内部、処
理ヘッドなど）しか持たない為、省エネルギー化ができ
る。ワークの裏面を受けて搬送を行なうユニットがない
為、洗浄品質の向上が可能である。装置がコンパクトに
設計できる為、製造コスト削減が可能となる。ワーク側
を固定する一方、処理ヘッド側が動く為、必要な部分に
対して処理条件の設定がきめ細かく行なえる。又、処理
手順を容易に変更可能である。構造がシンプルな為、処
理ヘッドの保守や調整が簡単に行なえる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る洗浄装置の全体構成を示すブロッ
ク図である。

【図２】洗浄装置のＡ−Ａ断面図である。

【図３】洗浄装置のＢ−Ｂ断面図である。

【図４】洗浄装置のＣ−Ｃ断面図である。

【図５】洗浄装置のＤ−Ｄ断面図である。

【図６】洗浄装置のＥ−Ｅ断面図である。

【図７】洗浄装置のＦ−Ｆ断面図である。

【図８】洗浄装置のＧ−Ｇ断面図である。

【図９】洗浄装置のＨ−Ｈ断面図である。

【図１０】洗浄装置のＩ−Ｉ断面図である。

【図１１】中間シャッタの詳細図である。

【図１２】乾燥ヘッド部の詳細図である。

【図１３】洗浄ヘッド部の詳細図である。

【図１４】プッシャの詳細図である。

【図１５】駆動部の詳細図である。

【図１６】タンク部の詳細図である。

【図１７】本発明に係る洗浄装置の配管図である。

【図１８】従来の洗浄装置の搬送ローラを示す模式図で
ある。

【図１９】本発明に係る洗浄装置のチャック部を示す詳
細図である。

【図２０】本発明に係る洗浄装置の処理対象となるワー
クの一例を示す工程図である。

【符号の説明】

１・・・ブース、２・・・案内部、３・・・洗浄ヘッド
部、４・・・乾燥ヘッド部、５・・・駆動部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/304 ６５１Ｈ０１Ｌ 21/304 ６５１Ｌ (72)発明者孫工尚久大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内 (72)発明者山本剛照愛知県名古屋市昭和区広路町字隼人15番 13 トキワエンジニアリング株式会社内 (56)参考文献特開平11−26408（ＪＰ，Ａ) 特開2000−100776（ＪＰ，Ａ) 特開平11−145098（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B08B 7/04 B08B 1/04 B08B 3/02 H01L 21/304 644 H01L 21/304 651

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】処理対象となる板状のワークを取り入れ
る為に閉じた空間を有するブースと、該取り入れたワークをその表面及び裏面が該空間に露出
した状態で案内固定する為の案内部と、該空間を移動しながら該固定されたワークの表面及び裏
面を同時に洗浄処理する為の洗浄ヘッド部と、該空間を移動しながら該固定されたワークの表面及び裏
面を同時に乾燥処理する為の乾燥ヘッド部と、あらかじめ設定可能な処理手順に従って該洗浄ヘッド部
及び該乾燥ヘッド部を順次駆動して該ワークに適した洗
浄乾燥処理を実行する駆動部とからなり、前記駆動部は、所定の間隙を介して薄板ガラスと電極が
形成された厚板ガラスとを接合し、厚板ガラスに取り付
けたチップ管を介して該間隙にイオン化可能な気体を封
入したプラズマセルからなるワークに適した洗浄及び乾
燥を実行する洗浄装置。
【請求項２】前記案内部は、該板状のワークの表面及
び裏面に当接することなく端面に当接してワークを案内
固定する請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】前記洗浄ヘッド部は、該ワークの表面及
び裏面に洗浄液を供給する為のシャワーノズルと、該ワ
ークの表面及び裏面をブラシングする為のブラシロール
を備えている請求項１記載の洗浄装置。
【請求項４】前記乾燥ヘッド部は、該ワークの表面及
び裏面に乾燥用の気体を供給する為のエアーナイフを備
えている請求項１記載の洗浄装置。
【請求項５】処理対象となる板状のフラットディスプ
レイ用ガラス基板を取り入れる為に閉じた空間を有する
ブースと、該取り入れたフラットディスプレイ用ガラス基板をその
表面及び裏面が該空間に露出した状態で端面を支持して
案内固定する為の案内部と、該取り入れたフラットディスプレイ用ガラス基板を装置
の中心部に出し入れするためのローディング／アンロー
ディング用のヘッド部プッシャと、ブラシロールとシャワーノズルが組み込まれていて、該
空間を移動しながら該固定されたフラットディスプレイ
用ガラス基板の表面及び裏面を同時に洗浄処理する為の
洗浄ヘッド部と、該空間を移動しながら該固定されたフラットディスプレ
イ用ガラス基板の表面及び裏面を同時に乾燥処理する為
のエアーナイフを備えた乾燥ヘッド部と、あらかじめ設定可能な処理手順に従って該洗浄ヘッド部
及び該乾燥ヘッド部を順次駆動して該フラットディスプ
レイ用ガラス基板に適した洗浄乾燥処理を実行する駆動
部とからなる洗浄装置。