JP3495001B2 - 異なる位置に設置した２か所の浴槽または異なる浴温の浴槽の浴槽水循環ろ過加熱装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽水を循環さ
せ、ろ過材を用いて浄化する浴槽水の循環ろ過装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来の浴槽水の循環ろ過装置は、旅館、
ホテル等の大浴場、露天風呂、温水プール等に使用され
る業務用であって、タイマー設定によりいつでも浴槽に
供給する湯を適温及び適湯面に制御し、さらにこの浴槽
水をろ過装置を通し清浄化し、いつでも心地よく入浴で
きる状態としている。この浴槽水の循環ろ過装置では、
浴槽水を毎日新しい水と入れ替えて清掃する必要はな
く、従って水道代および加熱燃料代が節約できる利点が
ある。

【０００３】上記した従来の浴槽水の循環ろ過装置を図
５に示す。浴槽４１の底部より浴槽水をろ過ポンプ４４
の吸入側で吸入して、ヘアキャッチャー４３に通して毛
髪や異物を除去する。このヘアキャッチャー４３は合成
樹脂バケットを内蔵している。

【０００４】ヘアキャッチャー４３を通った浴槽水はろ
過ポンプ４４によりろ過フィルター装置４５に送られて
内蔵のフィルターによりろ過されて清浄化される。浄化
された浴槽水は、次いで昇温三方弁４６に入り、その管
路の後端に設けた温度センサー４８で浴槽４１に供給す
る湯温である浴槽４１への流入温度を検知し、この検知
信号を制御盤４９内の電子サーモに受けて昇温三方弁４
６を制御する。浴槽４１の流入温度が適温であれば、昇
温三方弁４６は図で上方のバイパス管路を大きく開き、
浴槽４１の流入温度が低ければ図で下方の加熱管路を大
きく開いて加熱装置４７で加熱する。すなわち、浴槽４
１の温度が電子サーモ設定温度である例えば４０℃より
低い場合は、加熱装置４７側へ流入量を増加するように
昇温三方弁４６を動作し、温度センサー４８の検知温度
が電子サーモ設定温度に近づくように昇温三方弁４６を
比例調整する。浴槽４１の湯面は、湯面計５０内に浴槽
４１の湯面と同レベルに浴槽４１からの湯を入れ、その
レベルを湯面計５０内に設けた湯面レベルに合わせた長
さの異なる複数の電極棒で検知し、湯面が低下している
場合は制御盤４９で補給水弁５１を開閉して水を補給し
て一定の湯面に制御する。

【０００５】ところで、最近の入浴施設は、ジェット風
呂、気泡風呂、電気風呂、うたせ湯、温水プールなどと
多種小容量の浴槽が好まれ混在している。このためそれ
ぞれにろ過装置を必要とするのでそれらに合わせた数の
複数台のろ過装置が必要となっている。しかし、一方、
設備費を抑制するためにイニシャルコストダウン、設置
スペースの縮小などが求められている。さらに男女年齢
によりまた好みにより心地よく入浴できる湯温に差があ
り、そこで浴槽毎に湯温をことなる温度に調整できる装
置が求められている。

【０００６】さらに、老人ホームなどの異なる階に複数
の浴槽が設置されていたり、大きさの相違する浴槽が設
置されている場合、あるいは同一階に有って同一水平レ
ベルになっていても、複数の浴槽同士の距離が離れてい
る場合、あるいは浴槽水の温度を異なる複数の浴槽の場
合には、これらに浴槽水を別々の循環ろ過装置で供給し
ていた。しかし、コスト削減のために一つの循環ろ過装
置で適温及び適湯面に制御することが求められている。

【０００７】そこで、図６に示すように、同一水平レベ
ルの二つの浴槽４１ａ、浴槽４１ｂの場合には、浴槽４
１ａおよび浴槽４１ｂを連通管４２で接続して１台のろ
過循環装置により循環ろ過している。すなわち、浴槽４
１ａ、浴槽４１ｂを連通管４２で接続すると共に、浴槽
４１ａ、浴槽４１ｂの底部より浴槽水をろ過ポンプ４４
の吸入側で吸入して、合成樹脂バケットを内蔵している
ヘアキャッチャー４３に通して毛髪や異物を除去する。
ヘアキャッチャー４３を通った浴槽水はろ過ポンプ４４
によりろ過フィルター装置４５に送られて内蔵のフィル
ターによりろ過されて清浄化される。浄化された浴槽水
は、次いで昇温三方弁４６に入り、その管路の後端に設
けた温度センサー４８でそれぞれの浴槽４１ａおよび浴
槽４１ｂに供給する浴槽往温度を検知し、この検知信号
を制御盤４９の電子サーモに受けて昇温三方弁４６を制
御する。すなわち、制御盤４９の電子サーモによって昇
温三方弁４６を比例調整して、浴槽往温度が適温であれ
ば、昇温三方弁４６は加熱装置４７側の管路を閉じ他方
の管路を開き、浴槽往温度が低ければ加熱装置４７側の
管路を開き、かつ、他方の管路を閉じ、加熱装置４７で
加熱する。浴槽４１ａ、浴槽４１ｂの湯面は、一方の浴
槽４１ａの湯面のレベルを湯面計５０内に設けた長さの
異なる電極棒で検知し、湯面がかけ湯などで使用され減
少している場合は、制御盤４９で補給水弁５１を開閉し
て水を補給して一定に制御される。しかし、浴槽４１ａ
および浴槽４１ｂの間の距離が大きく離れている場合に
は、循環路の口径面積の２倍以上の口径面積を有する連
通管４２を必要とする。

【０００８】しかし、上記したように、複数の浴槽の大
きさが異なっていたり、あるいは同一水平面になく、異
なる階に設けられている場合には、それぞれの浴槽の湯
面レベルが異なるので、これらを同一管路に連通する
と、異なる階の浴槽間に水圧差が生じ、各浴槽内の湯面
を一つの循環ろ過装置で同一レベル高さになるように循
環供給することは出来なくなる問題があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、異なる大きさあるいは異なるレベル高さに
設置された複数の浴槽において、浴槽に循環する浴槽水
の湯の循環管路を共通化して一つの浴槽水循環ろ過加熱
装置とし、さらに各浴槽の湯温を任意の適温および適湯
面に制御することにより、設備スペースを縮小すると共
に設備コストおよび運転コストを削減できる装置を提供
することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する本
発明の手段は、請求項１の発明では、異なる位置に設置
した２か所の浴槽２６、１の両浴槽底部から排湯するそ
れぞれの排出管路３７、３６に流量調整バルブ１５、２
８とその後方の逆止弁１６、１７を有する流水量調整手
段を配備し、流水量調整手段を経た管路を合わせて１本
の管路とし、該管路にヘアキャッチャー２、ろ過ポンプ
３およびろ過フィルター装置４を設け、ヘアキャッチャ
ー２およびろ過ポンプ３間の管路に湯面計２７、１０の
検知に基づき開閉する補給水弁１１を有する補給水管路
を接続して浄化手段とし、浄化手段に続いて湯温三方弁
１３で分岐して一方の管路をバイパス管路８とし他方の
管路を加熱装置５を有する加熱管路７とした後に合一
し、合一した管路に温度センサー９を設けて湯温制御手
段とし、湯温制御手段を経た管路を分岐して、２か所の
浴槽用の管路６、２５とし、低い位置の低所浴槽用の管
路６の入り口側に落水防止電磁弁２９からなる落水防止
手段を配備し、該落水防止手段を経た低所浴槽用管路６
と他方の高所浴槽用管路２５の両管路に、２か所の浴槽
２６、１に付設した湯面計２７、１０の検知に基づき、
それぞれの湯面レベルを制御する湯面制御弁１８、２１
と流量調整弁１９、３５を設けた管路と、バイパス流量
調整弁２０、２２を設けた管路の並列管路からなる湯面
レベル制御手段をそれぞれ設け、かつ、上記の流水量調
整手段、浄化手段、湯温制御手段、落水防止手段および
湯面レベル制御手段を制御する制御盤１４を付設し、湯
面レベル制御手段を経た両管路２５、６を循環管路とし
て該２か所の浴槽２６、１へそれぞれ接続したことを特
徴とする異なる位置に設置した２か所の浴槽の浴槽水循
環ろ過加熱装置である。

【００１１】請求項２の発明では、請求項１の手段にお
ける異なる位置に設置した２か所の浴槽２６、１の浴槽
水ろ過加熱循環装置において、浄化手段に続く加熱装置
５を有する湯温制御手段は、浄化手段からの管路を分岐
した２管路とし、それぞれの管路にそれぞれ昇温三方弁
３８、１３を配備して該昇温三方弁３８、１３でさらに
２管路に調整可能に分岐し、該昇温三方弁３８、１３で
分岐した管路の一方の管路をそれぞれバイパス管路３
１、３２とし、他方の管路のそれぞれを合一して１つの
加熱装置５に配管して加熱管路とし、加熱装置５からの
加熱管路を再び分岐して２管路としてそれぞれに逆止弁
３３、３４を配備し、逆止弁３３、３４からの管路を再
び上記のそれぞれのバイパス管路３１、３２と合一し、
合一したそれぞれの管路に温度センサー３０ａ、３０ｂ
を設けた２系統からなる湯温制御手段とし、該２系統か
らなる湯温制御手段を経た管路のそれぞれを湯面レベル
制御手段への管路とし、２か所の浴槽２６、１の浴槽水
温度を個別に制御可能としたことを特徴とする異なる位
置に設置した２か所の浴槽の浴槽水循環ろ過加熱装置で
ある。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を参照
して説明する。図１に示すように、例えば、老人ホーム
において浴槽２６は高所の４階にあり、浴槽１は低所の
２階に設置されている場合のように、設置レベルの異な
る浴槽２６および浴槽１において、これらの浴槽の水路
を一括して共通の水路として循環するとき、同一レベル
に有る浴槽同士と同様に設備費を抑えるために、ろ過手
段や、加熱手段や、循環手段を、例えば１台のろ過フィ
ルター装置や加熱装置やろ過ポンプ等により共用しよう
とするとき、これらの両浴槽間の落差が大きいので、浴
槽２６の浴槽水は落ちて抜けてしまうこととなる。そこ
でそれらの水路に単にバルブなどを配設して調整して
も、浴槽２６と浴槽１の吸込みおよび吐出における抵抗
が相違変化するので、この抵抗変化により浴槽の循環流
量バランスが崩れ、浴槽２６の湯面は下がり、浴槽１の
湯面は上がって湯が溢れることとなるのである。

【００１３】そこで、本発明の請求項１の実施の形態で
は、図１に示すように、複数の浴槽、例えば高所の浴槽
２６および低所の浴槽１の各浴槽の底部からそれぞれ排
出する浴槽水をそれぞれの排出管路３７、３６にそれぞ
れ流量調整バルブ１５、２８、および、それらに続けて
他方の浴槽水の流入を防止する逆止弁１６、１７を設け
た流水量調整手段としてそれぞれの排出管路３７、３６
を流れる流水量を維持する。流水量調整手段に続けてこ
れらの管路を合体させて１本の管路とし、この１本の管
路に順に毛髪類を除去する合成樹脂バケットからなるヘ
アキャッチャー２、ろ過フィルター装置４に強制循環す
るろ過ポンプ３、内蔵するフィルターで浴槽水の湯垢な
どをろ過して浄化するろ過フィルター装置４を配設して
浄化手段とする。この浄化手段のヘアキャッチャー２と
ろ過フィルター装置４の間の管路には補給水弁１１を有
する補給水管が接続されており、浴槽から汲み出し掛け
湯として使用されて減った浴槽水を補っている。

【００１４】次いで、浄化手段に続けてこの１本の管路
に昇温三方弁１３を設けて出側を加熱管路７とバイパス
管路８の２管路に分岐する。この昇温三方弁１３の出側
の分岐弁の開閉度を調整することで、加熱装置５を有す
る側の加熱管路７と、単に浴槽水を流すためのバイパス
管路８のそれぞれの流量を調節することにより、再び両
管路を合一した時の湯温を制御する。すなわち、加熱管
路７に配設した加熱装置５で浴槽水を加熱すると共に、
この加熱管路７を再びバイパス管路８に合一して１本の
管路とし、この１本の管路に配設した温度センサー９で
混合された浴槽水の温度を検知する。そして、この温度
検知に基づき制御盤１４から昇温三方弁１３の開閉度を
フィードバック制御して加熱管路７とバイパス管路８の
各流量を調整することで、浴槽２６および浴槽１の浴槽
水の温度を一定温度に維持する湯温制御手段としてい
る。

【００１５】湯温制御手段に続けて、再び管路を高所用
管路と低所用管路に分岐する。そして低所用管路にの
み、その入口側に落水防止電磁弁２９を配設して落水防
止手段とする。すなわち、落水防止電磁弁２９はろ過ポ
ンプ３の停止時に高所の浴槽２６の浴槽水が抜けて低所
の浴槽１に流入することを防止するもので、ろ過ポンプ
３の停止を検知すると、制御盤１４からの制御により落
水防止電磁弁２９を閉じ、低所用管路への落水の流入を
防止する。一方、湯面計２７で高所の浴槽２６の湯面の
上昇を検知すると、制御盤１４からの制御により湯面制
御弁１８を閉じ、浴槽２６への流入をおさえる。また浴
槽２６の湯面の低下を検知すると、制御盤１４からの制
御により湯面制御弁１８を開け、浴槽２６への流入を図
る。モーターバルブからなる湯面制御弁１８と流量調整
弁１９を配設し、他方の管路にバイパス流量調整弁２０
を配設し、これらの管路を合一して循環フローメーター
バルブ２４に通して高所側の湯面レベル制御手段とす
る。同様に落水防止電磁弁２９以降の低所用管路の一方
の管路に制御盤１４で制御するモーターバルブからなる
湯面制御弁２１と流量調整弁３５を配設し、他方の管路
にバイパス流量調整弁２２を配設し、これらの管路を合
一して循環フローメーターバルブ２３に通して低所側の
湯面レベル制御手段とする。

【００１６】上記の手段において、さらに高所の浴槽２
６および低所の浴槽１の湯面は、図２に示すように、適
正湯面レベルの上位レベルＡと下位レベルＢと危険湯面
レベルの上位レベルＣと下位レベルＤに区分する。浴槽
２６に付設した湯面計２７と浴槽１に付設した湯面計１
０によりそれらの湯面レベルを検知する。湯面計２７は
それぞれ湯面レベル位置、すなわち、レベルＡ、レベル
Ｂ、レベルＣ、レベルＤ、その他の位置までの長さの電
極棒１２を複数有し、これらの長さの異なる電極棒１２
の先端に湯面が接触するとそのレベルを検知するもので
ある。湯面計２７の検知結果に基づき制御盤１４から浄
化手段の管路に配設した補給水弁１１の開閉およびろ過
ポンプ３の運転再開停止を制御すると共に、湯面レベル
制御手段における湯面制御弁１８および湯面制御弁２１
の各弁の開閉を制御する制御手段とする。

【００１７】次いで、請求項２に係る発明の実施の形態
について説明する。図３に示すように、相違するビルの
階に設置された高所の浴槽２６と低所の浴槽１におい
て、各浴槽底部よりそれぞれの排出管路３７、３６にそ
れぞれ流量調整バルブ１５、２８、および、それらに続
けて他の浴槽水の流入を防止する逆止弁１６、１７を設
けた流水量維持手段としてそれぞれの排出管路３７、３
６を流れる流水量を維持する。流水量維持手段に続けて
これらの管路を合体させて１本の管路とし、この１本の
管路に順に毛髪類を除去するヘアキャッチャー２、ろ過
フィルター装置４に強制循環するろ過ポンプ３、内蔵す
るフィルターで浴槽水を浄化するろ過フィルター装置４
を配設して浄化手段とする。

【００１８】浄化手段についで、ろ過フィルター装置４
の出口管路を高所側と低所側の２管路に分岐し、それぞ
れの管路に昇温三方弁３８と昇温三方弁１３を配設し
て、昇温三方弁３８の一方の出側管路をバイパス管路３
１とし、昇温三方弁１３の一方の出側管路をバイパス管
路３２とする。昇温三方弁３８の他方の出側管路と昇温
三方弁１３の他方の出側管路を共に合一して一基の加熱
装置５に接続する。そして加熱装置５から出る管路を再
び高所側と低所側の管路に分岐し、それぞれの管路に逆
流を阻止する逆止弁３３、３４を設けた後、逆止弁３３
の管路を再びバイパス管路３１に、逆止弁３４の管路を
再びバイパス管路３２に合一して高所側と低所側の２管
路とする。

【００１９】高所側の管路に温度センサー３０ａを設
け、低所側の管路に温度センサー３０ｂを設ける。浴槽
２６の浴槽水温度と浴槽１の浴槽水温度をそれぞれ好み
に合わせた異なる設定温度に調整するために、それぞれ
の温度センサー３０ａ、３０ｂにより加熱装置５からの
管路とバイパス管路を合一した後の管路の出口温度をそ
れぞれフィードバックして制御盤１４からそれぞれの昇
温三方弁３８、昇温三方弁１３を制御し、それぞれの浴
槽２６の浴槽水温度と浴槽１の浴槽水温度を設定温度に
する湯温制御手段とする。

【００２０】湯温制御手段に続けて、高所用管路と低所
用管路に分岐した管路において、低所用管路にのみ、入
口側に落水防止電磁弁２９からなる落水防止手段を配設
する。落水防止電磁弁２９は高所の浴槽２６の浴槽水が
抜けて低所の浴槽１に流入する落水を防止するもので、
ろ過ポンプ停止を検知すると、制御盤１４からの制御に
より落水防止電磁弁２９を閉じ、低所用管路への落水の
流入を防止する。高所用管路および落水防止電磁弁２９
以降の低所用管路は、さらにそれぞれが２管路に分岐す
る。すなわち、高所用管路の一方の管路に制御盤１４で
制御するモーターバルブからなる湯面制御弁１８と流量
調整弁１９を配設し、他方の管路にバイパス流量調整弁
２０を配設し、これらの管路を合一して循環フローメー
ターバルブ２４に通して高所側の湯面レベル制御手段と
する。同様に低所用管路の落水防止電磁弁２９以降の一
方の管路に制御盤１４で制御するモーターバルブからな
る湯面制御弁２１と流量調整弁３５を配設し、他方の管
路にバイパス流量調整弁２２を配設し、これらの管路を
合一して循環フローメーターバルブ２３に通して低所側
の湯面レベル制御手段とする。

【００２１】上記の手段において、さらに高所浴槽２６
および低所浴槽１の湯面は、図２に示すように、適正湯
面レベルの上位レベルＡと下位レベルＢと危険湯面レベ
ルの上位レベルＣと下位レベルＤに区分し、それぞれに
付設した湯面計２７と湯面計１０によりそれらのレベル
を検知し、検知結果に基づき制御盤１４から浄化手段の
管路に配設した補給水弁１１の開閉およびろ過ポンプ３
の運転再開停止を制御すると共に、湯面レベル制御手段
における湯面制御弁１８および湯面制御弁２１を制御す
る制御手段とする。

【００２２】次いで、上記の請求項１に係る実施の形態
の装置の湯面制御動作および運転手順を説明する。先
ず、図１において制御盤１４のスイッチをすべて自動に
すると、浴槽１および浴槽２６の湯面は低く、湯面計１
０および湯面計２７のレベルＤ（図２参照）より下にあ
るので、ろ過ポンプ３は停止している。浴槽１の湯面計
１０および浴槽２６の湯面計２７はＢレベル以下である
ので補給水弁１１を開く。補給水弁１１から補給された
水はろ過ポンプ３に送給され、昇温三方弁１３にて分岐
され、一方は加熱装置５で加熱され、他方はバイパス管
路８からの水が混合され、温度センサー９で出口温度が
検知され制御盤１４により昇温三方弁１３で分岐水量が
調整されて、その湯温が規定の浴槽水の湯温に制御され
る。温度センサー９を通過した湯は、ろ過ポンプ３が停
止しているため落水防止弁２９が閉なので、高所側管路
へ流入する。一方はバイパス流量調整弁２０にもう一方
は湯面制御弁１８、流量調整弁１９に通り、両者は合一
して循環フローメーターバルブ２４に通り、高所側の浴
槽２６へ送給される。浴槽２６の湯面が湯面計レベルＣ
に達すると、ろ過ポンプ３が運転を開始し、同時に落水
防止弁２９が開となって低所側管路へも送給され、管路
６により浴槽１へ送給される。

【００２３】以上のようにして浴槽２６または浴槽１の
湯面が、図２のレベルＡに到達すると、湯面計２７また
は湯面計１０で検知して制御盤１４から制御されて補給
水弁１１は閉じられ、さらに到達した方の湯面制御弁１
８または湯面制御弁２１が閉となる。例えば、浴槽１が
早く湯面上昇して、浴槽１がＡレベルに達すると、湯面
制御弁２１が閉となり、バイパス流量調整弁２２から絞
られた湯のみ送給される。湯面制御弁２１が閉となった
結果、浴槽１の湯面が徐々に低下して湯面計１０がレベ
ルＢ以下になると、湯面制御弁２１が開となり、再び湯
面は徐々に上昇する。浴槽２６も浴槽１と同様の動作を
繰り返す。従って、各湯面はＡ、Ｂ間に保持されること
となる。使用により掛け湯などで浴槽２６または浴槽１
の湯面が低下して、湯面計２７および湯面計１０のレベ
ルが両方ともＢレベル以下になると、制御盤１４からの
制御により補給水弁１１が開となり、別途設けた補給ラ
ンプが点灯し、湯面計２７または湯面計１０のいずれか
がＡレベルになると、補給水弁１１は閉となる。

【００２４】もし、浴槽２６または浴槽１のどちらかの
湯面が低下して湯面計２７または湯面計１０のレベルが
Ｄレベルより下がると、別途設けた渇水ランプが点灯す
る。浴槽２６および浴槽１の両方の湯面ともがＤレベル
より以下となると、別途設けた渇水ブザーを鳴動すると
共に、ろ過ポンプ３が停止される。浴槽２６または浴槽
１のどちらかの湯面がＣレベルに復活するとろ過ポンプ
３が運転再開される。以上においてろ過ポンプ３が運転
停止すると、落水防止電磁弁２９が閉となり、さらに逆
止弁１７により、高所にある浴槽２６から浴槽１への落
水を防止する。

【００２５】さらに、上記の請求項２に係る実施の形態
の装置の湯温設定温度の異なる浴槽２６と浴槽１の温度
制御動作および運転手順を説明する。なお、この請求項
２に係る実施の形態の装置における湯面制御動作および
運転手順は、上記の請求項１に係る実施の形態の装置の
制御動作および運転手順と同一であり省略する。もし、
浴槽１の浴温が制御盤１４に別途設けた浴槽１用の電子
サーモの設定温度の例えば４０℃より低い場合は、図３
に示す装置において、温度センサー３０ｂの出口温度検
知により、制御盤１４の電子サーモから浴槽１側の湯温
制御手段である昇温三方弁１３が動作されて加熱装置５
側の管路に比しバイパス管路３２側が絞られる結果、温
度センサー３０ｂで検知される湯温は加熱装置５から来
る湯量が増加すこととなるので上昇し、温度センサー３
０ｂの検知温度が４０℃になると、昇温三方弁１３を調
整されて加熱装置５側に比してバイパス管路３２の湯量
が増加されて、温度センサー３０ｂの出口温度が４０℃
に維持されるように制御される。

【００２６】同様に、浴槽２６の設定浴温の制御も、も
し浴槽２６の設定浴温の３８℃より低い場合、浴槽２６
側の湯温制御手段における昇温三方弁３８を温度センサ
ー３０ａにより制御盤１４の浴槽２６用の電子サーモか
ら浴槽２６側の湯温制御手段である昇温三方弁３８が動
作されて加熱装置５側の管路に比しバイパス管路３１側
が絞られる結果、温度センサー３０ａで検知される湯温
は加熱装置５から来る湯量が増加すこととなるので上昇
し、温度センサー３０ａの検知温度が３８℃になると、
昇温三方弁１３を調整されて加熱装置５側に比してバイ
パス管路３１の湯量が増加されて、温度センサー３０ｂ
の出口温度が３８℃に維持されるように制御される。

【００２７】図４に示すように、実機にて運転テストを
行った。４階相当の工場の屋上に湯量１５００リットル
の浴槽２６および湯面計２７を設置し、２階に湯量６０
０リットルの浴槽１と湯面計１０、並びに循環ポンプ、
各種バルブおよび制御盤などを一体化したユニットを設
置し、配管接続、制御盤配線をし、以下の手順にて実動
テストした。先ず、流量調整バルブ１５および流量調整
バルブ２８を全開、バイパス流量調整弁２０およびバイ
パス流量調整弁２２を全開、循環フローメーター調整バ
ルブ２４および循環フローメーター調整バルブ２３を全
開とし、一方、湯面制御弁１８および湯面制御弁２１を
全閉とし、制御盤１４のブレーカーをオンとし、表面ス
イッチを全て自動とし、両浴槽２６、浴槽１とも水を供
給して渇水警報ブザーが復旧して止むと、ろ過ポンプ３
の運転を開始する。

【００２８】流量調整弁１９および流量調整弁３５を閉
としておき、循環フローメーター調整バルブ２４により
浴槽２６の管路２５の流量を毎分５０リットルに設定す
ると共に循環フローメーター調整バルブ２３により浴槽
１の流量を毎分２０リットルに設定する。この設定は一
般に浴槽湯量の２倍を１時間に循環させると、ろ過本体
で適正浄化できることに基づく。この状態で、バイパス
流量調整弁２２にて２階の浴槽１の湯面が徐々に低下す
るように調整し、次に手動にて湯面制御弁２１を開と
し、流量調整弁３５にて調整して浴槽１の湯面が徐々に
上昇するように調整を行なった。同様に、バイパス流量
調整弁２０にて屋上の浴槽２６の湯面が徐々に低下する
ように調整し、次に手動にて湯面制御弁１８を開とし、
流量調整弁１９にて調整して浴槽２６の湯面が徐々に上
昇するように調整を行った。

【００２９】以上の調整の後、１日６時間で５日間運転
テストをしたが、両浴槽２６および浴槽１ともに、それ
らの湯面は、図２に示す、レベルＡおよびＢ間の２０ｍ
ｍ内で安定して制御でき、両浴槽ともレベルＢ以下にな
ると、補給水弁１１が開となり、どちらかの湯面がレベ
ルＡになると補給水弁１１は閉となった。補給水弁１１
を閉とし、浴槽２６、浴槽１を強制排水し、両浴槽とも
Ｃレベル以下になると警報を発してろ過ポンプ３が停止
となった。ろ過ポンプ３の停止により落水防止電磁弁２
９が閉となった結果、ろ過ポンプ３の停止後に屋上の浴
槽２６から２階の浴槽１への落水はなかった。

【００３０】なお、浴槽湯面に垢が浮く場合には、間欠
タイマーを設置して補給水弁１１を開けて強制補水し
て、湯面をＡレベルより上昇させて、浴槽壁面からオー
バーフローさせて垢を流し出すようにすることもでき
る。

【００３１】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明は、異な
る高さレベルあるいは異なる大きさに設置された複数の
浴槽やあるいは異なる設定温度の複数の浴槽を１つの循
環ろ過加熱装置により高所側の浴槽からの落水を防止し
て各浴槽の湯面高さおよび湯温を任意の設定適温および
適湯面に安定して制御することを可能とする装置で、設
備スペースを縮小することができ、その結果、設備コス
トおよび運転コストを大幅に削減できる、従来にない優
れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の２か所に設置した浴槽における異なる
レベルの湯面制御を可能とする循環ろ過 加熱装置の管路
配置を示す図である。

【図２】本発明における浴槽および付設の湯面計を模式
的に示す説明図である。

【図３】本発明の２か所に設置した浴槽における異なる
レベルの湯面制御および各浴槽ごとの湯温制御を可能と
する循環ろ過加熱装置の管路配置を示す図である。

【図４】本発明の実機運転テストを説明する浴槽および
循環ろ過装置の管路配置を模式的に示す図である。

【図５】従来の１か所に設置した浴槽における循環ろ過
加熱装置の管路配置を示す図である。

【図６】従来の２か所に設置した浴槽における循環ろ過
加熱装置の管路配置を示す図である。

【符号の説明】

１ 浴槽 ２ ヘアキャッチャー ３ ろ過ポンプ ４ ろ過フィルター装置 ５ 加熱装置 ６ 管路 ７ 加熱路 ８ バイパス管路 ９ 温度センサー １０ 湯面計 １１ 補給水弁 １２ 電極棒 １３ 昇温三方弁 １４ 制御盤 １５ 流量調整バルブ １６ 逆止弁 １７ 逆止弁 １８ 湯面制御弁 １９ 流量調整弁 ２０ バイパス流量調整弁 ２１ 湯面制御弁 ２２ バイパス流量調整弁 ２３ 循環フローメーターバルブ ２４ 循環フローメーターバルブ ２５ 管路 ２６ 浴槽 ２７ 湯面計 ２８ 流量調整バルブ ２９ 落水防止電磁弁 ３０ 温度センサー ３１ バイパス管路 ３２ バイパス管路 ３３ 逆止弁 ３４ 逆止弁 ３５ 流量調整弁 ３６ 排出管路 ３７ 排出管路 ３８ 昇温三方弁 ４１ 浴槽 ４２ 連通管 ４３ ヘアキャッチャー ４４ ろ過ポンプ ４５ ろ過フィルター装置 ４６ 昇温三方弁 ４７ 加熱装置 ４８ 温度センサー ４９ 制御盤 ５０ 湯面計 ５１ 補給水弁

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 異なる位置に設置した２か所の浴槽２
   ６、１の両浴槽底部から排湯するそれぞれの排出管路３
   ７、３６に流量調整バルブ１５、２８とその後方の逆止
   弁１６、１７を有する流水量調整手段を配備し、流水量
   調整手段を経た管路を合わせて１本の管路とし、該管路
   にヘアキャッチャー２、ろ過ポンプ３およびろ過フィル
   ター装置４を設け、ヘアキャッチャー２およびろ過ポン
   プ３間の管路に湯面計２７、１０の検知に基づき開閉す
   る補給水弁１１を有する補給水管路を接続して浄化手段
   とし、浄化手段に続いて湯温三方弁１３で分岐して一方
   の管路をバイパス管路８とし他方の管路を加熱装置５を
   有する加熱管路７とした後に合一し、合一した管路に温
   度センサー９を設けて湯温制御手段とし、湯温制御手段
   を経た管路を分岐して、２か所の浴槽用の管路２５、６
   とし、低い位置の低所浴槽用の管路６の入口側に落水防
   止電磁弁２９からなる落水防止手段を配備し、該落水防
   止手段を経た低所浴槽用管路６と他方の高所浴槽用管路
   ２５の両管路に２か所の浴槽２６、１に付設した湯面計
   ２７、１０の検知に基づきそれぞれの湯面レベルを制御
   する湯面制御弁１８、２１と流量調整弁１９、３５を設
   けた管路とバイパス流量調整弁２０、２２を設けた管路
   の並列管路からなる湯面レベル制御手段を設け、かつ、
   上記の流水量調整手段、浄化手段、湯温制御手段、落水
   防止手段および湯面レベル制御手段を制御する制御盤１
   ４を付設し、湯面レベル制御手段を経た両管路２５、６
   を循環管路として該２か所の浴槽２６、１へそれぞれ接
   続したことを特徴とする異なる位置に設置した２か所の
   浴槽の浴槽水循環ろ過加熱装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の異なる位置に設置した２
   か所の浴槽２６、１の浴槽水ろ過加熱循環装置におい
   て、浄化手段に続く加熱装置５を有する湯温制御手段
   は、浄化手段からの管路を分岐した２管路とし、それぞ
   れの管路にそれぞれ昇温三方弁３８、１３を配備して該
   昇温三方弁３８、１３でさらに２管路に分岐し、該昇温
   三方弁３８、１３で分岐した管路の一方の管路をそれぞ
   れバイパス管路３１、３２とし、他方の管路のそれぞれ
   を合一して１つの加熱装置５に配管して加熱管路とし、
   加熱装置５からの加熱管路を再び分岐して２管路として
   それぞれに逆止弁３３、３４を配備し、逆止弁３３、３
   ４からの管路を再び上記のそれぞれのバイパス管路３
   １、３２と合一し、合一したそれぞれの管路に温度セン
   サー３０ａ、３０ｂを設けた２系統からなる湯温制御手
   段とし、該２系統からなる湯温制御手段を経た管路のそ
   れぞれを湯面レベル制御手段への管路とし、２か所の浴
   槽２６、１の浴槽水温度を個別に制御可能としたことを
   特徴とする異なる位置に設置した２か所の浴槽の浴槽水
   循環ろ過加熱装置。